JPH08172188A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH08172188A
JPH08172188A JP6314950A JP31495094A JPH08172188A JP H08172188 A JPH08172188 A JP H08172188A JP 6314950 A JP6314950 A JP 6314950A JP 31495094 A JP31495094 A JP 31495094A JP H08172188 A JPH08172188 A JP H08172188A
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JP
Japan
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transistor
voltage
semiconductor device
terminal
junction diode
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Application number
JP6314950A
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English (en)
Inventor
Katsuhiro Shimazu
津 勝 広 島
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】モニター用トランジスタに印加される過電圧を
所望の電圧範囲にクランプして、モニター用トランジス
タを保護することができるとともに、所望の電圧範囲内
でその電気的測定を行うことができる半導体装置の提
供。 【構成】印加される過電圧からモニター用トランジスタ
を保護する保護回路を有する半導体装置であって、同一
方向に直列接続された複数個のPN接合ダイオードを有
する第1の保護回路と、1個または同一方向に直列接続
された複数個のPN接合ダイオードを有する第2の保護
回路とを備え、前記第1および第2の保護回路の一方の
入力端および他方の出力端は電源または接地に接続さ
れ、前記第1および第2の保護回路の一方の出力端およ
び他方の入力端は前記モニター用トランジスタの保護す
べき端子に接続されていることにより、上記目的を達成
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、静電気放電に対する耐
性を向上させる保護回路を有する半導体装置に関し、詳
しくは、トランジスタの電気的特性をチェックするため
のモニター用トランジスタに用いられる保護回路を有す
る半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置は、静電気放電によるストレ
スにより劣化したり、さらには破壊されてしまうことも
ある。このため、半導体装置の入力、出力および入出力
などの外部端子には、例えばトランジスタなどの内部回
路を静電気放電から保護するための入出力保護回路が用
いられる。
【0003】以下に、図6を用いて、従来の保護回路を
有する半導体装置の一例について説明する。この半導体
装置52は、外部端子54が入力端に接続されたインバ
ータ56と、入力端が接地され、出力端がインバータ5
6の入力端に接続されたPN接合ダイオード44と、入
力端がインバータ56の入力端に接続され、出力端が電
源に接続されたPN接合ダイオード50とを有する。こ
こで、PN接合ダイオード44、50は、半導体装置5
2の内部回路であるインバータ56を保護するための保
護回路である。なお、説明を容易にするために、PN接
合ダイオード44、50の順方向降下電圧は0Vである
として以下の説明を続ける。
【0004】この半導体装置52において、外部端子5
4に接地電圧よりも小さい電圧が印加されるとPN接合
ダイオード44がオンし、接地側からPN接合ダイオー
ド44を通して外部端子54側へ電流が放電されるた
め、外部端子54は接地電圧に固定される。同様に、外
部端子54に電源電圧よりも大きい電圧が印加されると
PN接合ダイオード50がオンし、外部端子54側から
PN接合ダイオード50を通して電源側へ電流が放電さ
れるため、外部端子54は電源電圧に固定される。一
方、保護回路であるPN接合ダイオード44、50を備
えていない場合には、例えばインバータ56を構成する
トランジスタのゲート酸化膜の耐圧以上の電圧が外部端
子54に印加されると、ゲート酸化膜が破壊されること
もある。
【0005】このように、保護回路を備えることによ
り、たとえ外部端子54に接地電圧よりも小さい電圧ま
たは電源電圧よりも大きい電圧が印加されても、PN接
合ダイオード44、50を通して電流を放電することが
できるため、外部端子54の電圧は接地電圧から電源電
圧の範囲にクランプされ、内部回路であるインバータ5
6を保護することができる。
【0006】ところで半導体装置は、その製品としての
製造歩留りを向上させるために、製品として生産される
前に試作される。さらに製品製造時においても、構成要
素である種々の半導体素子が、モニター用途のために、
製品とともに同一半導体基板に製造される。例えば、製
品とともにモニター用トランジスタを作成し、その動作
速度、消費電力、電気的特性等を測定して、結果を製造
工程にフィードバックするなどしている。一般的に、こ
のモニター用トランジスタは、そのゲート端、ソース
端、ドレイン端および基板が測定用の外部端子に接続さ
れて、ウエハー上のそれぞれの半導体チップの中や、あ
るいはウエハー上の半導体チップ同志の境界線であるス
クライブライン上に作成される。
【0007】このモニター用トランジスタは、そのゲー
ト端、ソース端、ドレイン端および基板に接続された測
定用の外部端子に、例えば金属針が圧着されて電気的特
性が測定される。例えば、電源電圧や基板バイアス電圧
を変化させたり、ゲート端およびドレイン端間の電圧を
変化させたり、あるいは規格以上または規格以下の電圧
を印加するなどして、その特性が測定される。従って、
上述する内部回路用の保護回路をモニター用トランジス
タのゲート端に接続すると、ゲート端の電圧が接地電圧
から電源電圧までの範囲にクランプされてしまい、様々
な電気的特性を測定することができないため、モニター
用トランジスタには内部回路用の保護回路を用いること
はできない。
【0008】しかしながら、モニター用トランジスタに
も何らかの保護回路を接続しなければ、半導体装置の製
造工程、例えばイオンエッチング工程、プラズマCVD
(化学気相成長法)工程、スパッタリング工程などのよ
うに、真空中でプラズマ処理を行うような工程におい
て、外部端子を通してモニター用トランジスタのゲート
端に電気的刺激が印加され、ゲート酸化膜が損傷を受け
てしまう場合がある。このため、モニター用トランジス
タの電気的特性が変動したり、破壊されるなどの問題を
発生する。モニター用トランジスタは、その電気的特性
を測定するためのものであるから、その電気的特性が変
動するとモニターの意味をなさなくなってしまう。
【0009】このため、モニター用トランジスタには、
内部回路用の保護回路とは異なる保護回路が用いられ
る。ここで図7は、モニター用トランジスタに用いられ
る従来の保護回路を有する半導体装置の一例の構成回路
図である。この半導体装置40は、ゲート端、ソース
端、ドレイン端および基板がそれぞれ外部端子12、1
4、16、18に接続されたN型MOSトランジスタ4
2と、入力端が接地され、出力端がN型MOSトランジ
スタ42のゲート端に接続されたPN接合ダイオード4
4とを有する。ここで、PN接合ダイオード44は、モ
ニター用トランジスタであるN型MOSトランジスタ4
2を保護するための保護回路である。なお、説明を容易
にするために、PN接合ダイオード44の順方向降下電
圧は0Vであるとして以下の説明を続ける。
【0010】この半導体装置40において、ゲート端の
外部端子12に接地電圧よりも小さい電圧が印加される
とPN接合ダイオード44がオンし、接地側からPN接
合ダイオード44を通してゲート端の外部端子12側へ
電流が放電されるため、N型MOSトランジスタ42の
ゲート端は接地電圧に固定される。一方、ゲート端の外
部端子12にPN接合ダイオード44の逆方向耐圧(ブ
レークダウン電圧)以上の電圧が印加されるとPN接合
ダイオード44がブレークダウンし、ゲート端の外部端
子12側からPN接合ダイオード44を通して接地側へ
電流が放電されるため、N型MOSトランジスタ42の
ゲート端はPN接合ダイオード44のブレークダウン電
圧に固定される。
【0011】また、図8は、モニター用トランジスタに
用いられる従来の保護回路を有する半導体装置の別の例
の構成回路図である。この半導体装置46は、ゲート
端、ソース端、ドレイン端および基板がそれぞれ外部端
子12、14、16、18に接続されたP型MOSトラ
ンジスタ48と、入力端がP型MOSトランジスタ48
のゲート端に接続され、出力端が電源に接続されたPN
接合ダイオード50とを有する。ここで、PN接合ダイ
オード50は、モニター用トランジスタであるP型MO
Sトランジスタ48を保護するための保護回路である。
同様に、説明を容易にするために、PN接合ダイオード
50の順方向降下電圧は0Vであるとして以下の説明を
続ける。
【0012】この半導体装置46において、ゲート端の
外部端子12に電源電圧よりも大きい電圧が印加される
とPN接合ダイオード50がオンし、ゲート端の外部端
子12側からPN接合ダイオード50を通して電源側へ
電流が放電されるため、P型MOSトランジスタ48の
ゲート端は電源電圧に固定される。一方、ゲート端の外
部端子12に電源電圧よりもPN接合ダイオード50の
ブレークダウン電圧以上低い電圧が印加されるとPN接
合ダイオード50がブレークダウンし、電源側からPN
接合ダイオード50を通してゲート端の外部端子12側
へ電流が放電されるため、P型MOSトランジスタ48
のゲート端は(電源電圧−ブレークダウン電圧)に固定
される。
【0013】このように、モニター用トランジスタのゲ
ート端の外部端子12に接地電圧よりも小さい電圧また
は電源電圧よりも大きい電圧が印加されても、PN接合
ダイオード44、50を通して電流を放電することによ
り、モニター用トランジスタのゲート端が所定の電圧範
囲にクランプされるため、PN接合ダイオード44、5
0のブレークダウン電圧よりも、モニター用トランジス
タのゲート酸化膜の耐圧の方が大きければ、モニター用
トランジスタを保護することができる。
【0014】ところが、半導体装置が微細化されるとと
もに、トランジスタのゲート酸化膜の膜厚も薄くなるた
め、その耐圧も低くなってしまい、PN接合ダイオード
のブレークダウン電圧よりもモニター用トランジスタの
ゲート酸化膜の耐圧の方が小さくなってしまう。このた
め、モニター用トランジスタのゲート端の外部端子12
に接地電圧よりも小さい電圧または電源電圧よりも大き
い電圧が印加されると、PN接合ダイオードがブレーク
ダウンして電流を放電する前に、モニター用トランジス
タのゲート端にゲート酸化膜の耐圧以上の電圧が印加さ
れてしまい、上述する保護回路を備えていない場合と同
様に、モニター用トランジスタの特性が変動したり、破
壊されるなどの問題を発生する。
【0015】この問題点を解決するために、例えばPN
接合ダイオードのブレークダウン電圧を低くすることが
考えられる。勿論、PN接合ダイオードを構成するP型
およびN型活性領域の不純物濃度等を変更することによ
り、PN接合ダイオードのブレークダウン電圧を多少調
整することはできる。しかしながら、モニター用トラン
ジスタのゲート酸化膜の耐圧よりもPN接合ダイオード
のブレークダウン電圧の方が小さくなるよう調整するの
は非常に困難なことである。なぜならば、これらのPN
接合ダイオードは、製品を構成するPN接合と同じも
の、例えばドレインと基板とのPN接合等を利用するこ
とにより構成されるからである。従って、自由にブレー
クダウン電圧を調整するのは困難である。新たなPN接
合ダイオードを作るとなると、製品本来の製造工程を変
えたり、新たな製造工程を付加しなければならないので
不都合である。このように、モニター用トランジスタの
ゲート酸化膜が薄膜化されると、従来の保護回路を用い
ることができなくなってしまう。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
従来技術に基づく種々の問題点をかえりみて、同一方向
に直列接続されたPN接合ダイオードを有する保護回路
を備え、PN接合ダイオードの個数を変更して、その順
方向降下電圧を適宜変更することにより、モニター用ト
ランジスタに印加される過電圧を所望の電圧範囲にクラ
ンプして、モニター用トランジスタを保護することがで
きるとともに、所望の電圧範囲内でその電気的測定を行
うことができる半導体装置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、印加される過電圧からモニター用トラン
ジスタを保護する保護回路を有する半導体装置であっ
て、同一方向に直列接続された複数個のPN接合ダイオ
ードを有する第1の保護回路と、1個または同一方向に
直列接続された複数個のPN接合ダイオードを有する第
2の保護回路とを備え、前記第1および第2の保護回路
の一方の入力端および他方の出力端は電源または接地に
接続され、前記第1および第2の保護回路の一方の出力
端および他方の入力端は前記モニター用トランジスタの
保護すべき端子に接続されていることを特徴とする半導
体装置を提供するものである。
【0018】ここで、前記第1の保護回路は、その入力
端が前記モニター用トランジスタの保護すべき端子に接
続され、その出力端が接地され、前記第2の保護回路
は、その入力端が接地され、その出力端が前記モニター
用トランジスタの保護すべき端子に接続され、前記モニ
ター用トランジスタはN型MOSトランジスタであるの
が好ましい。
【0019】また、前記第1の保護回路は、その入力端
が電源に接続され、その出力端が前記モニター用トラン
ジスタの保護すべき端子に接続され、前記第2の保護回
路は、その入力端が前記モニター用トランジスタの保護
すべき端子に接続され、その出力端が電源に接続され、
前記モニター用トランジスタはP型MOSトランジスタ
であるのが好ましい。
【0020】
【発明の作用】本発明の半導体装置は、モニター用トラ
ンジスタに印加される過電圧を所望の電圧範囲にクラン
プする保護回路を有するものである。この保護回路がn
個のPN接合ダイオードを有する場合、m個目のPN接
合ダイオードの出力端は(m+1)個目の入力端に直列
接続され、1個目のPN接合ダイオードの入力端および
n個目のPN接合ダイオードの出力端がそれぞれ保護回
路の入力端および出力端として用いられる。同様に、保
護回路が1個のPN接合ダイオードを有する場合、PN
接合ダイオードの入力端および出力端がそれぞれ保護回
路の入力端および出力端として用いられる。また、2つ
の保護回路は、その一方の入力端および他方の出力端が
モニター用トランジスタの保護すべき端子に接続され、
一方の出力端および他方の入力端が電源または接地に接
続されて、PN接合ダイオードの順方向降下電圧を利用
して、モニター用トランジスタに印加される電圧の上限
および下限を決定する。従って、本発明の半導体装置に
よれば、保護回路が有するPN接合ダイオードの個数を
適宜選択することにより、その順方向降下電圧を微調整
することができるため、モニター用トランジスタに印加
される過電圧を所望の電圧範囲にクランプすることがで
きる。このため、過電圧が印加されるモニター用トラン
ジスタを保護することができるとともに、所望の電圧範
囲内において、その電気的特性を測定することもでき
る。
【0021】
【実施例】以下に、添付の図面に示す好適実施例に基づ
いて、本発明の半導体装置を詳細に説明する。
【0022】図1は、本発明の半導体装置の一実施例の
構成回路図である。この半導体装置10は、ゲート端、
ソース端、ドレイン端および基板が、それぞれ測定用の
外部端子12、14、16、18に接続されたN型MO
Sトランジスタ20と、入力端が接地され、出力端がN
型MOSトランジスタ20のゲート端12に接続された
PN接合ダイオード22と、同一方向に直列接続され、
その入力端がN型MOSトランジスタ20のゲート端1
2に接続され、出力端が接地された複数個のPN接合ダ
イオード24とを有する。ここで、PN接合ダイオード
22および24は、モニター用トランジスタであるN型
MOSトランジスタ20を保護するための保護回路であ
る。なお、説明を容易にするために、PN接合ダイオー
ド22の順方向降下電圧は0Vであるとして以下の説明
を続ける。
【0023】この半導体装置10において、N型MOS
トランジスタ20のゲート端の外部端子12に接地電圧
よりも小さい電圧が印加されるとPN接合ダイオード2
2がオンし、接地側からPN接合ダイオード22を通し
てゲート端の外部端子12側へ電流が放電されるため、
N型MOSトランジスタ20のゲート端は接地電圧に固
定される。同様に、N型MOSトランジスタ20のゲー
ト端の外部端子12に、PN接合ダイオード24の順方
向降下電圧よりも大きい電圧が印加されるとPN接合ダ
イオード24がオンし、ゲート端の外部端子12側から
PN接合ダイオード24を通して接地側へ電流が放電さ
れるため、N型MOSトランジスタ20のゲート端はP
N接合ダイオード24の順方向降下電圧に固定される。
【0024】このように、N型MOSトランジスタ20
のゲート端に保護回路を備えることにより、PN接合ダ
イオード22、24を通して電流を放電することができ
る。従って、N型MOSトランジスタ20のゲート端の
電圧が、接地電圧からPN接合ダイオード24の順方向
降下電圧の範囲にクランプされるため、PN接合ダイオ
ード24の個数を適宜選択し、その順方向降下電圧をN
型MOSトランジスタ20のゲート酸化膜の耐圧よりも
小さくすることにより、モニター用トランジスタである
N型MOSトランジスタ20を保護することができる。
また、N型MOSトランジスタ20のゲート端は、接地
電圧からPN接合ダイオード24の順方向降下電圧の範
囲で変化させることができるため、N型MOSトランジ
スタ20の電気的測定を何ら問題なく行うことができ
る。
【0025】ここで、図2は、本発明の半導体装置に用
いられる多段接続PN接合ダイオードの順方向特性の一
実施例のグラフである。このグラフは、上述する本発明
の半導体装置10において、同一方向に直列接続された
PN接合ダイオード24の個数が1個、2個、4個、8
個、12個および16個の場合の、N型MOSトランジ
スタ20のゲート端に印加される電圧と、PN接合ダイ
オード24を流れる電流との関係を示すものである。な
お、このグラフにおいて、横軸はN型MOSトランジス
タ20のゲート端に印加される電圧であり、縦軸はPN
接合ダイオード24を通して流れる電流である。
【0026】このグラフに示すように、PN接合ダイオ
ード24の1個あたりの順方向降下電圧は約0.55V
であり、同一方向(順方向)に複数個のPN接合ダイオ
ード24が直列接続されると、ほぼPN接合ダイオード
24の個数倍の順方向降下電圧を有することが判る。例
えば、PN接合ダイオード24の順方向降下電圧は、そ
の個数が1個、2個、4個、8個、12個および16個
の場合、それぞれ0.55V、1.1V、2.2V、
4.4V、6.6Vおよび8.8Vとなる。従って、P
N接合ダイオード24の個数を適宜選択することによ
り、PN接合ダイオードの1個あたりの順方向降下電圧
である約0.55V単位で、PN接合ダイオード24の
順方向降下電圧を容易に微調整することができる。
【0027】また、図3は、本発明の半導体装置に用い
られる保護回路の順方向特性と、モニター用トランジス
タのゲート酸化膜の耐圧との関係を示す一実施例のグラ
フである。なお、このグラフには、比較例として、図7
に示す従来の半導体装置40に用いられる保護回路の特
性と、従来のモニター用トランジスタのゲート酸化膜の
耐圧との関係が同様に示されている。このグラフにおい
て、波形Aは本発明の半導体装置10に用いられる保護
回路であるPN接合ダイオード(12個直列接続)24
の順方向特性を表し、以下同様に、波形Bは薄膜化され
たゲート酸化膜(膜厚10nm)の耐圧特性、波形C1
およびC2は従来の半導体装置40に用いられる保護回
路であるPN接合ダイオード22の逆方向特性およびそ
の順方向特性、波形Dは従来の厚いゲート酸化膜(膜厚
14nm)の耐圧特性を表す。
【0028】このグラフに示すように、従来の半導体装
置40であっても、モニター用トランジスタのゲート酸
化膜の膜厚が厚い場合、例えばモニター用トランジスタ
のゲート酸化膜の膜厚が14nmの場合には、モニター
用トランジスタのゲート酸化膜の耐圧よりも、PN接合
ダイオード22の逆方向耐圧、即ち、ブレークダウン電
圧の方が小さいため、モニター用トランジスタのゲート
端にたとえ過電圧が印加されても、その電圧をPN接合
ダイオード22のブレークダウン電圧にクランプして、
モニター用トランジスタを保護することができる。
【0029】しかしながら、半導体装置が微細化され
て、モニター用トランジスタのゲート酸化膜の膜厚が薄
膜化されると、例えばモニター用トランジスタのゲート
酸化膜の膜厚が10nmになると、PN接合ダイオード
22のブレークダウン電圧よりも、モニター用トランジ
スタのゲート酸化膜の耐圧の方が小さくなるため、モニ
ター用トランジスタのゲート端にゲート酸化膜の耐圧を
越える過電圧が印加された場合、PN接合ダイオード2
2がブレークダウンするよりも前に、モニター用トラン
ジスタのゲート酸化膜が破壊されてしまう場合があるこ
とは従来技術において既に述べた通りである。このた
め、モニター用トランジスタのゲート酸化膜が薄膜化さ
れると、従来の保護回路ではモニター用トランジスタを
保護することはできなかった。
【0030】これに対し、本発明の半導体装置10にお
いては、上述するように、PN接合ダイオード24の個
数を適宜選択することにより、その順方向降下電圧を容
易に微調整することができる。例えばPN接合ダイオー
ド24の個数を12個にすれば、たとえモニター用トラ
ンジスタのゲート酸化膜が薄膜化されても、モニター用
トランジスタの薄膜化されたゲート酸化膜の耐圧より
も、PN接合ダイオード24の順方向降下電圧の方が小
さいため、モニター用トランジスタのゲート端に過電圧
が印加されても、その電圧をPN接合ダイオード24の
順方向降下電圧にクランプして、モニター用トランジス
タを保護することができる。また、将来的にゲート酸化
膜がさらに薄膜化されることは明らかであるが、その場
合であっても本発明の半導体装置においては、容易に適
用可能であることは言うまでもないことである。
【0031】次に、図4は、図1に示す本発明の半導体
装置の一実施例のレイアウト断面模式図である。この半
導体装置10はP型基板17を用いて形成され、ゲート
電極11、ソース領域13およびドレイン領域15から
なるN型MOSトランジスタ20と、P型基板17およ
びこのP型基板17の中に形成されたN型活性領域30
からなるPN接合ダイオード22と、P型基板17の中
に形成された複数個のNウェル領域26の中に形成され
たP型活性領域28およびN型活性領域30からなる複
数個のPN接合ダイオード24とを備えている。
【0032】この半導体装置10において、PN接合ダ
イオード22の出力端であるN型活性領域30は、N型
MOSトランジスタ20のゲート電極11に接続され、
その入力端であるP型基板17は接地されている。ま
た、N型MOSトランジスタ20のゲート電極11は、
第1のPN接合ダイオード24の入力端であるP型活性
領域28に接続され、その出力端であるN型活性領域3
0は、第2のPN接合ダイオード24の入力端であるP
型活性領域28に接続されている。また、以下同様に、
第m番目のPN接合ダイオード24の出力端であるN型
活性領域30は、第m+1番目のPN接合ダイオード2
4の入力端であるP型活性領域28に接続され、最後の
PN接合ダイオード24の出力端であるN型活性領域3
0は、P型基板17の中に形成されたP型活性領域28
に接続されて接地されている。
【0033】このように、例えばP型基板17を用い
て、N型MOSトランジスタ20およびPN接合ダイオ
ード22、24を形成することにより、図1に示す本発
明の半導体装置10を形成することができる。なお、本
発明の半導体装置は上述する実施例に限定されるもので
はなく、N型基板を用いても良いし、P型MOSトラン
ジスタを形成しても良い。また、MOSトランジスタお
よびPN接合ダイオードは、従来公知のどのような構造
であっても良いし、どのような方法を用いて形成しても
良いことは言うまでもない。
【0034】また、図5は、本発明の半導体装置の別の
実施例の構成回路図である。この半導体装置32は、ゲ
ート端、ソース端、ドレイン端および基板が、それぞれ
測定用の外部端子12、14、16、18に接続された
P型MOSトランジスタ34と、入力端がP型MOSト
ランジスタ34のゲート端に接続され、出力端が電源に
接続されたPN接合ダイオード36と、同一方向に直列
接続され、入力端が電源に接続され、出力端がP型MO
Sトランジスタ34のゲート端に接続された複数個のP
N接合ダイオード38とを有する。ここで、PN接合ダ
イオード36および38は、モニター用トランジスタで
あるP型MOSトランジスタ34を保護するための保護
回路である。なお、説明を容易にするために、PN接合
ダイオード36の順方向降下電圧は0Vであるとして以
下の説明を続ける。
【0035】この半導体装置32において、P型MOS
トランジスタ34のゲート端の外部端子12に電源電圧
よりも大きい電圧が印加されるとPN接合ダイオード3
6がオンし、ゲート端の外部端子12側からPN接合ダ
イオード36を通して電源側へ電流が放電され、P型M
OSトランジスタ34のゲート端は電源電圧に固定され
る。同様に、P型MOSトランジスタ34のゲート端の
外部端子12に、電源電圧よりもPN接合ダイオード3
8の順方向降下電圧以上低い電圧が印加されるとPN接
合ダイオード38がオンし、電源側からPN接合ダイオ
ード38を通してゲート端の外部端子12側へ電流が放
電されるため、P型MOSトランジスタ34のゲート端
は、(電源電圧−PN接合ダイオード38の順方向降下
電圧)に固定される。
【0036】このように、P型MOSトランジスタ34
のゲート端に保護回路を備えることにより、PN接合ダ
イオード36、38を通して電流を放電することができ
る。従って、P型MOSトランジスタ34のゲート端の
電圧が、電源電圧から(電源電圧−PN接合ダイオード
38の順方向降下電圧)の範囲にクランプされるため、
PN接合ダイオード38の個数を適宜選択し、その順方
向降下電圧をP型MOSトランジスタ38のゲート酸化
膜の耐圧よりも小さくすることにより、モニター用トラ
ンジスタであるP型MOSトランジスタ34を保護する
ことができるとともに、その電気的特性を測定すること
もできる。
【0037】なお、具体的な実施例に基づいて本発明の
半導体装置を説明したが、本発明は上述する実施例に限
定されない。また、図示していないが、上述する実施例
以外であっても、例えば図1に示す半導体装置10にお
いて、PN接合ダイオード22の入力端またはPN接合
ダイオード24の出力端の一方あるいは両方を電源に接
続しても良いし、同様に、図5に示す半導体装置32に
おいて、PN接合ダイオード36の出力端またはPN接
合ダイオード38の入力端の一方あるいは両方を接地し
ても良い。また、これらの半導体装置10、32におい
て、PN接合ダイオード22、36は、PN接合ダイオ
ード24、38と同様に同一方向に複数個のPN接合ダ
イオードを直列接続して、その順方向降下電圧を適宜変
更しても良いなどクランプしようとする電圧範囲に応じ
て適宜変更可能であることは言うまでもない。
【0038】
【発明の効果】以上詳細に説明した様に、本発明の半導
体装置は、モニター用トランジスタに印加される過電圧
を所望の電圧範囲、即ち、モニター用トランジスタに印
加される電圧の上限および下限を決定する2つの保護回
路を、同一方向に直列接続されたPN接合ダイオードを
用いて構成するものである。本発明の半導体装置におい
ては、2つの保護回路に用いられるPN接合ダイオード
の個数を適宜変更して、その順方向降下電圧を変更する
ことにより、モニター用トランジスタに印加される電圧
を所望の電圧範囲にクランプすることができる。従っ
て、本発明の半導体装置によれば、保護回路が、例えば
モニター用トランジスタのゲート酸化膜の耐圧よりも小
さい電圧で動作を開始するようPN接合ダイオードの個
数を選択することにより、モニター用トランジスタが印
加される過電圧により破壊されることを防止することが
できるとともに、所望の電圧範囲内においてその電気的
測定をすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の一実施例の構成回路図で
ある。
【図2】本発明の半導体装置に用いられる多段接続PN
接合ダイオードの順方向特性の一実施例のグラフであ
る。
【図3】本発明の半導体装置に用いられる保護回路の特
性とモニター用トランジスタのゲート酸化膜耐圧との関
係を示す一実施例のグラフである。
【図4】図1に示す本発明の半導体装置の一実施例のレ
イアウト断面模式図である。
【図5】本発明の半導体装置の別の実施例の構成回路図
である。
【図6】内部回路に用いられる従来の保護回路を有する
半導体装置の一例の構成回路図である。
【図7】モニター用トランジスタに用いられる従来の保
護回路を有する半導体装置の一例の構成回路図である。
【図8】モニター用トランジスタに用いられる従来の保
護回路を有する半導体装置の別の例の構成回路図であ
る。
【符号の説明】
10、32、40、46、52 半導体装置 11 ゲート電極 13 ソース領域 15 ドレイン電極 17 基板 12、14、16、18、54 外部端子 20、42 N型MOSトランジスタ 22、24、36、38、44、50 PN接合ダイオ
ード 26 Nウェル領域 28 P型活性領域 30 N型活性領域 34、48 P型MOSトランジスタ 56 インバータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/8234 27/088 H01L 27/08 102 F

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】印加される過電圧からモニター用トランジ
    スタを保護する保護回路を有する半導体装置であって、 同一方向に直列接続された複数個のPN接合ダイオード
    を有する第1の保護回路と、1個または同一方向に直列
    接続された複数個のPN接合ダイオードを有する第2の
    保護回路とを備え、前記第1および第2の保護回路の一
    方の入力端および他方の出力端は電源または接地に接続
    され、前記第1および第2の保護回路の一方の出力端お
    よび他方の入力端は前記モニター用トランジスタの保護
    すべき端子に接続されていることを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】前記第1の保護回路は、その入力端が前記
    モニター用トランジスタの保護すべき端子に接続され、
    その出力端が接地され、前記第2の保護回路は、その入
    力端が接地され、その出力端が前記モニター用トランジ
    スタの保護すべき端子に接続され、前記モニター用トラ
    ンジスタはN型MOSトランジスタである請求項1に記
    載の半導体装置。
  3. 【請求項3】前記第1の保護回路は、その入力端が電源
    に接続され、その出力端が前記モニター用トランジスタ
    の保護すべき端子に接続され、前記第2の保護回路は、
    その入力端が前記モニター用トランジスタの保護すべき
    端子に接続され、その出力端が電源に接続され、前記モ
    ニター用トランジスタはP型MOSトランジスタである
    請求項1に記載の半導体装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044049A1 (fr) * 1999-01-19 2000-07-27 Seiko Epson Corporation Circuit de protection contre l'electricite statique, et circuit integre
US6631061B2 (en) * 1999-12-24 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Semiconductor integrated device
JP2007535127A (ja) * 2003-10-31 2007-11-29 ラティス セミコンダクタ コーポレイション 横型高電圧接合デバイス
JP2009021461A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7525778B2 (en) 2003-11-06 2009-04-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having protection elements for preventing MOS transistors from plasma damage
JP2009224803A (ja) * 1999-05-05 2009-10-01 Siliconix Inc 電圧クランプされたゲートを備えるパワーmosfet
CN103426883A (zh) * 2012-05-20 2013-12-04 朱江 一种可调节电势分布的半导体装置及其制备方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044049A1 (fr) * 1999-01-19 2000-07-27 Seiko Epson Corporation Circuit de protection contre l'electricite statique, et circuit integre
US6671146B1 (en) 1999-01-19 2003-12-30 Seiko Epson Corporation Electrostatic protection circuit and semiconductor integrated circuit using the same
JP2009224803A (ja) * 1999-05-05 2009-10-01 Siliconix Inc 電圧クランプされたゲートを備えるパワーmosfet
US6631061B2 (en) * 1999-12-24 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Semiconductor integrated device
JP2007535127A (ja) * 2003-10-31 2007-11-29 ラティス セミコンダクタ コーポレイション 横型高電圧接合デバイス
US7525778B2 (en) 2003-11-06 2009-04-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having protection elements for preventing MOS transistors from plasma damage
JP2009021461A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Renesas Technology Corp 半導体装置
CN103426883A (zh) * 2012-05-20 2013-12-04 朱江 一种可调节电势分布的半导体装置及其制备方法
CN103426883B (zh) * 2012-05-20 2016-08-24 朱江 一种可调节电势分布的半导体装置及其制备方法

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Effective date: 19991130