JPH08161708A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 トラック欠けの発生を抑え、基板の各溝部間
の突き合わせ面の鏡面加工を容易とし、製造歩留りを向
上させ、生産性も向上させる。 【構成】 ブロック２１に複数のトラック幅規制溝２２
を形成する際、その間隔をＡ（ｍｍ），Ｂ（ｍｍ）の２
種類とし、これらを交互に配するとともに、比率Ａ／Ｂ
を１／１０〜１／４とする。そして、上記トラック幅規
制溝２２間の突き合わせ面２１ａを鏡面加工して一対の
磁気コア半体ブロックを形成し、これらを前記突き合わ
せ面２１ａを相対向させてトラック位置合わせしながら
ギャップ接合した後、所定の幅に分断する。なお、上記
突き合わせ面２１ａを鏡面加工した後に、少なくとも突
き合わせ面２１ａに金属磁性膜を形成しても良い。さら
に、上記トラック幅規制溝２２を番手２０００〜６００
０の砥石による研削により形成し、このときの研削断面
積を０．０５ｍｍ² 以下とすることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー等に搭載される高密度記録用磁気ヘッドを製造
する磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）等の
磁気記録再生装置に組み込まれる磁気ヘッドとしては、
例えば単結晶フェライトや多結晶フェライト，単結晶フ
ェライトと多結晶フェライトの接合材等によって磁気コ
ア半体を構成したフェライトヘッドが一般的である。

【０００３】また、上記磁気記録再生装置においては、
高密度記録化等を目的として、磁気記録媒体の高保磁力
化が進められている。そして、上記のような磁気記録媒
体用の磁気ヘッドとして磁気コア半体に高飽和磁束密度
の金属磁性体を用いた磁気ヘッドが種々開発されてい
る。このような磁気ヘッドの代表的なものとしては、耐
摩耗性の良好なフェライト等のセラミックスの磁性材料
よりなる磁気コア基板と金属磁性体の複合型の磁気ヘッ
ド、いわゆるメタル・イン・ギャップ（Ｍｅｔａｌ ｉ
ｎ ｇａｐ）ヘッド（以下、ＭＩＧヘッドと略する。）
が挙げられる。

【０００４】上記ＭＩＧヘッドは、フェライト等の磁性
材料よりなる磁気コア基板の対向面に金属磁性膜が被着
形成された一対の磁気コア半体が、上記金属磁性膜同士
を突き合わせるようにして接合一体化されたものであ
り、当該金属磁性膜の突合わせ面間には磁気ギャップが
形成されている。この時、磁気コア基板の対向面の磁気
ギャップに相当する位置には磁気ギャップと平行なギャ
ップ形成面が形成されており、上記ギャップ形成面の両
端には、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック
幅規制溝が設けられている。従って、磁気コア基板の対
向面にその形状に沿って被着形成される金属磁性膜は、
ギャップ形成面上において磁気ギャップと平行となる。
また、上記トラック幅規制溝により一対の磁気コア半体
間に形成される溝部には融着ガラスが充填され、一対の
磁気コア半体は接合一体化されている。

【０００５】そして、上述のようなフェライトヘッド
は、次に示されるような方法によって製造される。先
ず、磁性フェライトよりなる基板の一主面に基板の突き
合わせ面の幅、すなわち後工程において形成される磁気
ギャップのトラック幅を規制するためのトラック幅規制
溝を機械加工により複数形成する。次に、トラック幅規
制溝を形成した面に、コイルを巻装するための巻線溝、
ガラス融着接合を行うためのガラス溝をトラック幅規制
溝と直行するように機械加工によって形成する。その結
果、各溝部間に突き合わせ面が形成されることとなる。

【０００６】次に、上記突き合わせ面にポリッシング等
により鏡面加工を行い、一対の磁気コア半体ブロックを
形成する。なお、上記ポリッシングとは、研磨用の研磨
材を水またはオイル等で混合して液化させたスラリー状
砥粒、すなわち研磨液を平坦な面を有する定盤（ポリッ
シャー）と被加工物（ワーク）の間に供給し、加工圧力
を加えながら定盤の回転運動を利用して研磨材の切刃で
被加工物から必要量の取り代を取り除き、定盤の持つ平
面度を転写する方法である。

【０００７】次に、上記一対の磁気コア半体ブロックの
接合を行う。一対の磁気コア半体ブロックの接合を行う
にあたっては、トラック幅規制溝同士，巻線溝同士，ガ
ラス溝同士の位置合わせを行い、それぞれの突き合わせ
面を相対向させてトラック位置合わせした上で、巻線溝
間、ガラス溝間に融着ガラスを配し、溶融充填する。そ
の結果、トラック幅規制溝間にも融着ガラスが充填さ
れ、一対の磁気コア半体ブロックのギャップ接合がなさ
れ、突き合わせ面間に磁気ギャップが形成される。

【０００８】さらに、接合一体化した一対の磁気コア半
体ブロックを所定のアジマス角に傾斜させ、当たり幅加
工を行った上で、所定のチップ厚（幅）に分断してフェ
ライトヘッドを完成する。上述のＭＩＧヘッドも上記フ
ェライトヘッドと同様の製造工程を経て製造される。す
なわち、各溝部間の突き合わせ面を鏡面加工した一対の
磁気コア半体ブロックの少なくとも突き合わせ面に金属
磁性膜をそれぞれ形成し、これら一対の磁気コア半体ブ
ロック同士を金属磁性膜を突き合わせるようにしてギャ
ップ接合した後、所定のチップ厚に分断する。なお、上
記金属磁性膜はスパッタリング法，蒸着法等の真空薄膜
形成法により形成すれば良い。従って、上記ＭＩＧヘッ
ドにおいては、金属磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャ
ップが形成されることとなる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記フェラ
イトヘッド及びＭＩＧヘッドにおいては、高密度記録化
等を目的として、トラック幅を１６μｍ以下程度とする
狭トラック幅化も進められている。しかしながら、上記
のような製造方法により、トラック幅が１６μｍ以下程
度のフェライトヘッド及びＭＩＧヘッドを製造すること
は困難である。

【００１０】これは、以下のような理由による。すなわ
ち、フェライト等のセラミックスを研削する場合には、
研削による欠けを防止するために、番手２０００以上の
微細砥石により研削を行うことが好ましく、基板にトラ
ック幅規制溝を形成する場合にも上記微細砥石を使用し
ている。しかしながら、上記微細砥石は砥石目づまり等
を起こし易く、長時間にわたって使用していると、研削
能力が著しく低下してしまい、結果的にトラック幅規制
溝間のトラック形成部分の脆性破壊によるトラック欠け
を引き起こしてしまう。そして、このことは磁気ヘッド
の製造歩留を低下させ、生産性を低下させてしまう。

【００１１】また、上記フェライトヘッド及びＭＩＧヘ
ッドを製造する場合、基板の突き合わせ面をポリッシン
グ等により鏡面加工するが、この鏡面加工の研磨速度
は、定盤（ポリッシャー）と被加工物（ワーク）間の接
触面圧の変化及び接触面積の変化により変化するため、
研磨量を規制することが難しく、このことから上記工程
は非常に煩雑である。従って、この工程が原因となっ
て、磁気ヘッドの製造歩留りの低下や生産性の低下が生
じることもある。

【００１２】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、トラック欠けの発生を抑え、基板の
各溝部間の突き合わせ面の鏡面加工を容易とし、製造歩
留りを向上させ、生産性も向上させる磁気ヘッドの製造
方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明者等が鋭意検討した結果、ポリッシング等に
より鏡面加工する場合、被加工面が小さすぎると研磨速
度を一定として研磨量を規定することが困難であること
を見い出した。すなわち、本発明は、磁性基板の一主面
に複数のトラック幅規制溝を形成し、これらトラック幅
規制溝間の突き合わせ面を鏡面加工して一対の磁気コア
半体ブロックを形成し、上記一対の磁気コア半体ブロッ
クを前記突き合わせ面を相対向させてトラック位置合わ
せしながらギャップ接合した後、所定の幅に分断して磁
気ヘッドを得る磁気ヘッドの製造方法において、上記複
数のトラック幅規制溝間の間隔をＡ（ｍｍ），Ｂ（ｍ
ｍ）の２種類とし、これらを交互に配するとともに、そ
の比率Ａ／Ｂを１／１０〜１／４とすることを特徴とす
るものである。

【００１４】そして、上記本発明の磁気ヘッドの製造方
法において、間隔Ａを磁気ヘッドのトラック幅形成部分
とすれば、鏡面加工の際の被加工面が従来の磁気ヘッド
の製造方法における被加工面よりも大となり、研磨速度
を一定とし、研磨量を規定することが可能となる。な
お、本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、突き合
わせ面を鏡面加工した後に、少なくとも該突き合わせ面
に金属磁性膜を形成しても良い。

【００１５】本発明者等がさらに検討した結果、微細砥
石により研削加工を行う場合、その研削断面積が研削能
力に大きく関わることを見い出した。すなわち、上記本
発明の磁気ヘッドの製造方法においては、トラック幅規
制溝を番手２０００〜６０００の砥石による研削により
形成するものとし、このときの研削断面積を０．０５ｍ
ｍ² 以下とすることが好ましい。

【００１６】また、これまで述べた本発明の磁気ヘッド
の製造方法は、トラック幅が１６μｍ以下の磁気ヘッド
の製造に適用して好適である。

【００１７】

【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁
性基板の一主面に複数のトラック幅規制溝を形成する
際、複数のトラック幅規制溝間の間隔をＡ（ｍｍ），Ｂ
（ｍｍ）の２種類とし、これらを交互に配するととも
に、その比率Ａ／Ｂを１／１０〜１／４としているた
め、間隔Ａを磁気ヘッドのトラック幅形成部分とすれ
ば、鏡面加工の際の被加工面が従来の磁気ヘッドの製造
方法における被加工面よりも大となり、鏡面加工の研磨
速度が一定となる。

【００１８】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いて、トラック幅規制溝を番手２０００〜６０００の砥
石による研削により形成するものとし、このときの研削
断面積を０．０５ｍｍ² 以下とすれば、砥石の研削能力
を低下させることなく研削が行われる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。先ず、本実施
例の磁気ヘッドの製造方法によって製造される磁気ヘッ
ドについて説明する。なお、本実施例においては、ＭＩ
Ｇヘッドを製造するものとする。

【００２０】上記磁気ヘッドは図１に示すように、フェ
ライト等の酸化物磁性材料等よりなる磁気コア基板３，
４の対向面に金属磁性膜５，６が被着形成された一対の
磁気コア半体１，２が、上記金属磁性膜５，６を突き合
わせるようにして接合一体化されたものであり、当該金
属磁性膜５，６の突合わせ面間には記録又は再生、或い
はその両方として動作する磁気ギャップｇ₁ が形成され
ている。

【００２１】このとき、磁気コア基板３，４の対向面の
磁気ギャップｇ₁ に相当する位置には磁気ギャップｇ₁
と平行なギャップ形成面３ａ，４ａが形成されており、
その両端には、磁気ギャップｇ₁ のトラック幅を規制す
るためのトラック幅規制溝７，８が設けられている。す
なわち、磁気コア基板３，４の対向面にその形状に沿っ
て被着形成される金属磁性膜５，６は、ギャップ形成面
３ａ，４ａ上において磁気ギャップｇ₁ と平行となる。
また、トラック幅規制溝７，８によって磁気コア基板
３，４のギャップ形成面３ａ，４ａの幅が規制されてい
ることから、金属磁性膜５，６の突き合わせ面の幅も自
ずから規制されることとなる。従って、金属磁性膜５，
６の突き合わせ面間に形成される磁気ギャップｇ₁ のト
ラック幅も規制されることとなる。本実施例において
は、特にトラック幅を１６μｍ以下とし、高密度記録化
に対応できる磁気ヘッドを製造するものである。

【００２２】また、上記磁気ヘッドにおいては、磁気コ
ア基板３，４にはコイルを巻回するための巻線溝１１，
１２及びガラス融着接合を行うためのガラス溝１３，１
４が設けられ、巻線溝１１，１２間及びガラス溝１３，
１４間には融着ガラス１５，１６が充填されており、巻
線溝１１，１２に隣接するトラック幅規制溝７，８間に
も融着ガラス１５が充填され、磁気コア半体１，２が接
合一体化されている。

【００２３】さらに上記磁気ヘッドにおいては、磁気コ
ア基板３，４の巻線溝１１，１２と相対向する位置にコ
イルの巻回状態を良好なものとし、断線等を防止するた
めの巻線補助溝１７，１８が設けられている。そして、
この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体に対する当た
りを確保するために磁気記録媒体と摺接する磁気記録媒
体摺動面に段差が設けられている。

【００２４】次いで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。先ず、図２に示すように、フェライ
ト等の酸化物磁性材料よりなり、磁気コア基板となるブ
ロック２１（磁性基板）を用意し、研削盤により面出し
を行う。上記ブロック２１の構成材料の具体例として
は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトの単結晶やＭｎ−Ｚｎ系フ
ェライトの多結晶、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライトの単結晶或
いは多結晶、またこれらの単結晶と多結晶の接合基板が
挙げられるが、ここでは、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトの単
結晶を用いるものとした。

【００２５】次に、図３に示すように、上記ブロック２
１の一主面に磁気コア基板の突き合わせ面の幅、すなわ
ち後工程において形成される磁気ギャップｇ₁ のトラッ
ク幅を規制するためのトラック幅規制溝２２を機械加工
により複数形成する。なお、上記機械加工は砥石を用い
た研削により行った。その結果、複数のトラック幅規制
溝２２間に突き合わせ面２１ａが形成されることとな
る。

【００２６】このとき、本実施例においては、図４に示
すように、上記複数のトラック幅規制溝２２間の間隔
を、比較的狭く実際にトラック幅を規制し、トラック幅
と同等とされるＡ（ｍｍ）と比較的広くトラック幅とは
関係のないＢ（ｍｍ）の２種類とし、これらを交互に配
するとともに、その比率Ａ／Ｂを１／１０〜１／４とす
る。

【００２７】また、上記トラック幅規制溝２２の形状
は、断面略半円形状とし、上記磁気ギャップｇ₁ のエッ
ジ部の開き角が９０゜以上となるようにする。なお、こ
こでは、エッジ部の開き角を１２０゜とするために、図
４中に示すように、ブロック２１の突き合わせ面２１ａ
と垂直な線ａと断面略半円形状のトラック幅規制溝２２
の開口部近傍の接線ｂのなす角θが３０゜となるように
砥石成形を行い、研削を行ってトラック幅規制溝を設け
た。

【００２８】さらに、本実施例においては、上記砥石と
して番手２０００〜６０００の砥石を用い、図４中の破
線による斜線部で示す研削断面積Ｓを０．０５ｍｍ² 以
下とし、ここでは砥石として番手２０００のレジノイド
系ダイヤモンド砥石を使用するものとし、研削断面積Ｓ
を０．０５ｍｍ² とした。従って、砥石の研削能力を低
下させることなく研削が行われ、トラック幅規制溝２２
間の間隔Ａを有するトラック形成部分の脆性破壊による
トラック欠けを引き起こし難く、磁気ヘッドの製造歩留
が向上し、生産性も向上する。

【００２９】次いで、図５に示すように、コイルを巻装
するための断面略台形形状の巻線溝２３、ガラス融着接
合を行うための断面略コ字状をなすガラス溝２４をトラ
ック幅規制溝２２と直交するように機械加工によって交
互に２個ずつ形成する。このとき、巻線溝２３の一方の
側面２３ａは、後工程において形成される磁気ギャップ
ｇ₁ の深さ（デプス）を規制することとなるため傾斜面
とする。なお、巻線溝２３の他方の側面２３ｂは、傾斜
面または垂直面のいずれでも良い。

【００３０】次に、図６に示すような各溝部の形成によ
り残された図中斜線部で示すブロック２１の突き合わせ
面２１ａ全体をポリッシング等により鏡面加工する。上
記ポリッシングを行うポリッシャーとしては、図７に示
すような回転軸Ｏを中心に図中矢印Ｍ方向に回転し、加
工面４１ａに溝部４３が形成されている定盤（ポリッシ
ャー）４１が挙げられる。

【００３１】上記ポリッシャーにより鏡面加工を行う際
には、図８に示すように、被加工物４４の鏡面加工面４
４ａが定盤４１の加工面４１ａに対向するように上記被
加工物４４を固定ホルダー４２により保持し、定盤４
１，被加工物４４間にスラリー４５を供給しながら定盤
４１を回転させれば良い。このとき、上記定盤４１の加
工面４１ａには溝部４３が形成されており、供給された
スラリー４５が保持される。

【００３２】なお、上記定盤４１としては錫（Ｓｎ）定
盤、Ｓｎ−ケメット定盤、Ｓｎ−Ｎｉ定盤、Ｓｎ−Ｎｉ
定盤、Ｓｎ−Ｓｂ定盤等の仕上げ面を向上させる比較的
柔らかい定盤が好ましい。また、スラリー４５として
は、溶媒として親水基を有する溶剤或いは非親水基を有
する溶剤或いは両極性の溶剤を用い、これに研磨材を分
散させたものが挙げられる。

【００３３】上記親水基を有する溶剤としては、水酸化
ナトリウム水溶液，Ｈ₂ Ｏ，Ｈ₂ Ｏ ₂ ，ＫＯＨ，ＨＣｌ
等の分散性の高い溶剤が挙げられる。一方、非親水基を
有する溶剤としては、鉱油を基油とした溶剤（ＪＩＳ
１種，２種 １〜６号）等が挙げられる。さらに、両極
性の溶剤としては、エマルジョン（Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ型）
やケミカルソリューション、シンセティックタイプ等の
化学油剤等が挙げられる。そして、これらに酸化防止
剤、研磨材の分散性を向上させる活性剤（アルコール
系：グリセリン，ポリエチレングリコール）等の添加剤
を添加することがより好ましく、非親水基を有する溶剤
には極圧剤等を添加することがより好ましい。

【００３４】上記研磨材としては、粒径が０．５μｍ以
下のダイヤモンド，ＳｉＣ，ＳｉＯ ₂ ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ｍ
ｇＯ等の微細砥粒が挙げられる。なお、ここでは、定盤
４１として錫定盤を使用し、スラリー４５として研磨材
として粒径が０．１μｍ以下のＳｉＯ₂ を使用し、溶媒
としてＨ₂ Ｏを主成分とする溶剤を使用するスラリーを
使用し、初期加圧を０．１〜０．５ｋｇｆとし、フロー
トポリッシュにて鏡面加工を行うものとした。

【００３５】このとき、本実施例においては、前述のよ
うに、ブロック２１に設けられる複数のトラック幅規制
溝２２間の間隔を、比較的狭く実際にトラック幅を規制
するＡ（ｍｍ）と比較的広くトラック幅とは関係のない
Ｂ（ｍｍ）の２種類とし、これらを交互に配するととも
に、その比率Ａ／Ｂを１／１０〜１／４としており、各
溝部の形成により残された図６中斜線部で示すブロック
２１の突き合わせ面２１ａの面積が従来の磁気ヘッドの
製造方法に従って製造を行った場合よりも大となり、鏡
面加工の際の被加工面が大きくなる。従って、鏡面加工
の研磨速度を一定とし、研磨量の規定を容易とし、上記
鏡面加工工程を容易なものとし、製造歩留りを向上し、
生産性も向上することができる。

【００３６】そして、上記ブロック２１を固定ホルダー
４２に保持させたままで所定の位置で切断し、一対のブ
ロック半体を形成する。続いて、上記一対のブロック半
体を固定ホルダー４２より取り外し、洗浄する。次い
で、図９に示すように（図中には一方のブロック半体２
５のみを示す。）、トラック幅規制溝２２，巻線溝２
３，ガラス溝２４の形成されたブロック半体２５の少な
くとも突き合わせ面２５ａに、金属磁性膜２６をスパッ
タリング法，蒸着法等の真空薄膜形成法により形成す
る。この際、金属磁性膜２６とブロック半体２５の付着
力を向上させるために、図１０に示すように、これらの
間に下地膜２７を介在させても良い。

【００３７】上記金属磁性膜２６としては、センダスト
（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＯ，Ｔｉを添加した結
晶質磁性金属膜、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ及びこれに
Ｏ，Ｎを添加した結晶質磁性金属膜、或いはＦｅ系，Ｃ
ｏ系の微結晶磁性金属膜が挙げられ、これらの合金膜，
積層膜を用いても良い。また、下地膜２７としては、Ｓ
ｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄等の窒化
物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これら
の積層膜を用いても良い。なお、ここでは、金属磁性膜
２６としてＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ膜を形成し、下地膜
２７としてＣｒ膜を形成した。

【００３８】次に、図１１に示すように、上記金属磁性
膜２６上に所定のギャップ長を形成できるギャップ膜２
８を形成し、磁気コア半体ブロック２９を形成する。こ
こでは、ギャップ膜２８としてＳｉＯ₂ 膜を形成するこ
ととした。なお、このとき、上記金属磁性膜２６の上に
図示しない反応防止膜を設けても良く、該反応防止膜に
よって後工程において溶融充填される融着ガラスの金属
磁性膜２６への侵食を防止する構造としても良い。上記
反応防止膜としては、ＺｒＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物
膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金
属膜が挙げられ、これらの積層膜を用いても良い。

【００３９】さらに、上記金属磁性膜２６のエッジ部の
だれによりギャップエッジ近傍の漏洩磁界が大きくなる
ことを防ぐために、突き合わせ面２５ａ上の金属磁性膜
２６に鏡面加工を行っても良い。上述のように反応防止
膜を形成している場合には、該反応防止膜を含んで鏡面
加工を行う。このように金属磁性膜に鏡面加工を行う
と、ガードバンドレス記録における隣接イレーズ対策に
大きな効果を発揮する。

【００４０】次に、図１２に示すように、上記のように
して得られた磁気コア半体ブロック２９とこれと同様に
形成される磁気コア半体ブロック３９の接合を行う。こ
の際、各磁気コア半体ブロック半体２９，３９の突き合
わせ面には、上述のように所定のギャップ長を形成でき
るような図示しないギャップ膜がそれぞれ形成されてい
る。

【００４１】なお、上記磁気コア半体ブロック２９，３
９の接合を行うにあたっては、図１２中に示すように、
それぞれに形成される金属磁性膜２６，３６を対向させ
るようにして、トラック幅規制溝２２同士、巻線溝２３
同士、ガラス溝２４同士の位置合わせを行って突き合わ
せ面を相対向させてトラック位置合わせした上で、巻線
溝２３間、ガラス溝２４間に融着ガラス３０，３１をそ
れぞれ配し、図中に示すように溶融充填し、図中矢印Ｐ
方向に加圧して磁気半体コアブロック２９，３９をギャ
ップ接合する。そして、金属磁性膜２６，３６の突き合
わせ面間には、磁気ギャップｇ₁ が形成される。

【００４２】ただし、本実施例においては、複数のトラ
ック幅規制溝２２間の間隔を、比較的狭く実際にトラッ
ク幅を規制し、トラック幅と同等とされるＡ（ｍｍ）と
比較的広くトラック幅とは関係のないＢ（ｍｍ）の２種
類とし、これらを交互に配するようにしているため、所
定のトラック幅を有する磁気ギャップｇ₁ は、トラック
幅規制溝２２間の間隔がＡとされる部分にのみ形成され
ることとなる。

【００４３】最後に、磁気コア半体ブロック２９，３０
の巻線溝２３に相対向する位置に巻線補助溝を形成し、
これらの磁気記録媒体摺動面に円筒研削を施し、所定の
アジマス角に傾斜させ、当たり幅加工を行い、所定のチ
ップ厚（幅）に分断して図１に示すような磁気ヘッドを
完成する。従って、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、トラック幅規制溝を形成する際、砥石として
番手２０００〜６０００の砥石を用い、研削断面積Ｓを
０．０５ｍｍ² 以下としているため、砥石の研削能力を
低下させることなく研削が行われ、トラック幅規制溝間
の間隔Ａを有するトラック形成部分の脆性破壊によるト
ラック欠けを引き起こし難く、磁気ヘッドの製造歩留が
向上し、生産性も向上する。

【００４４】また、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、複数のトラック幅規制溝間の間隔を、比較的
狭く実際にトラック幅を規制するＡ（ｍｍ）と比較的広
くトラック幅とは関係のないＢ（ｍｍ）の２種類とし、
これらを交互に配するとともに、その比率Ａ／Ｂを１／
１０〜１／４としているため、、各溝部の形成により残
された突き合わせ面の面積が従来の磁気ヘッドの製造方
法に従って製造を行った場合よりも大となり、鏡面加工
の際の被加工面が大きくなる。従って、鏡面加工の研磨
速度を一定とし、研磨量の規定を容易とし、上記鏡面加
工工程を容易なものとし、製造歩留りを向上し、生産性
も向上することが可能となる。

【００４５】なお、上記本実施例においては、本発明を
ＭＩＧヘッドの製造に適用した例について述べたが、本
発明がフェライトヘッドの製造にも適用可能であること
は言うまでもない。次に、本発明の効果を確認するべ
く、以下のような実験を行った。実験例１ 先ず、砥石の粗さ（番手）と研削断面積Ｓがトラック欠
けに及ぼす影響について調査した。

【００４６】すなわち、ポリッシング等により研削して
変質層を取り除いたフェライト単結晶よりなる基板表面
に、番手１０００及び２０００のレジノイド系ダイヤモ
ンド砥石により研削断面積Ｓを変化させて溝入れをして
トラック幅規制溝を形成し、トラック欠けの発生率を調
査した。なお、測定個数を４００とし、砥石は十分にツ
ルーイングするものとし、周速を１５００ｍ／ｍｉｎと
した。結果を図１３に示す。なお、図１３の横軸は研削
断面積Ｓを示し、縦軸はトラック欠け発生率を示し、図
中破線により番手１０００の砥石を用いた場合の結果を
示し、図中実線により番手２０００の砥石を用いた場合
の結果を示す。

【００４７】図１３を見ると、番手２０００のレジノイ
ド系ダイヤモンド砥石を使用した場合、研削断面積Ｓが
０．０５ｍｍ² よりも大きくなると、急激にトラック欠
けが発生することがわかる。一方、番手１０００のレジ
ノイド系ダイヤモンド砥石を使用した場合、番手２００
０の砥石よりもトラック欠けの発生が抑えられているよ
うに見える。しかし、上記研削面を走差型電子顕微鏡に
より観察したところ、脆性的な貝状破砕が見られ、実用
上好ましくないことが確認された。

【００４８】同様に番手２０００のレジノイド系ダイヤ
モンド砥石を使用した場合の研削面を走差型電子顕微鏡
により観察したところ、延性流動的でなめらかであり、
実用上好ましいことが確認された。従って、これらの結
果から、本発明のように番手２０００以上の砥石を使用
することが実用上好ましいことがわかる。しかしなが
ら、本発明のように番手２０００以上の砥石を使用する
場合には、以下のような理由から研削断面積Ｓを０．０
５ｍｍ² 以下に規定する必要がある。

【００４９】すなわち、上述のように、番手１０００の
レジノイド系ダイヤモンド砥石を使用した場合には、砥
石中の研削砥粒の粒径が比較的大きいことから、脆性的
な破壊により研磨が進んでおり、研削断面積が研削能力
に影響しないものと思われる。一方、番手２０００のレ
ジノイド系ダイヤモンド砥石を使用する場合には、研削
断面積Ｓ０．０５ｍｍ² が結合材が樹脂である番手２０
００のレジノイド系ダイヤモンド砥石を使用する場合の
限界であり、研削断面積Ｓが０．０５ｍｍ² よりも大と
なると、刃先の摩耗、目潰れ、摩擦熱による砥石中の結
合材への研削砥粒の沈降等が発生し、これにより被研削
材（基板）の靱性を越える程に研削抵抗が増加してトラ
ック欠けが生じてしまうと考えられるためである。

【００５０】さらに、上記実験例の結果から、番手２０
００のレジノイド系ダイヤモンド砥石を使用し、研削断
面積Ｓを０．０５ｍｍ² 以下とすることにより、トラッ
ク欠けを３０％以下に抑えることが可能であることも確
認された。実験例２ 次に、トラック幅規制溝間の間隔が突き合わせ面の鏡面
加工時の研磨レート及びトラックばらつきに及ぼす影響
を調査した。なお、上記トラックばらつきは、トラック
幅規制溝間の間隔が所定の大きさとなるまで鏡面加工し
た時の上記間隔のばらつきを示す。

【００５１】先ず、従来の磁気ヘッドの製造方法のよう
に、複数のトラック幅規制溝間の間隔をトラック幅と同
等として複数のトラック幅規制溝をフェライト単結晶よ
りなる基板に形成し、上記トラック幅規制溝間の突き合
わせ面を、上述の本実施例の磁気ヘッドの製造方法で述
べた条件下でダイヤポリッシュにより鏡面加工した場合
の加工時間と研磨量（研磨深さ）の関係を調査した。な
お、初期加圧を０．５ｋｇｆとした。結果を図１４に示
す。図１４中横軸は加工時間を示し、縦軸は研磨量を示
す。

【００５２】図１４から従来の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、加工時間と研磨量が比例しておらず、鏡面加
工の際の研磨速度が一定でないことが確認された。ま
た、このとき、鏡面加工前の定盤との接触面圧が１２．
３ＭＰａであるのに対し、鏡面加工後の定盤との接触面
圧は０．９８ＭＰａであった。そして、トラックばらつ
きを調査したところ、δ＝１．０μｍであった。すなわ
ち、これらの結果から、トラック幅規制溝間の間隔を上
記のようにすると、鏡面加工の際の被加工面が小さく、
接触面圧が変化するため、研磨速度が一定とならず、ト
ラックばらつきも大きいことが確認された。

【００５３】次に、上述の本実施例の磁気ヘッドの製造
方法のように、複数のトラック幅規制溝間の間隔を、比
較的狭く実際にトラック幅を規制してトラック幅と同等
とされるＡ（ｍｍ）と比較的広くトラック幅とは関係の
ないＢ（ｍｍ）の２種類とし、これらを交互に配すると
ともに、その比率Ａ／Ｂが１／６となるようにフェライ
ト単結晶よりなる基板に複数のトラック幅規制溝を形成
し、上記トラック幅規制溝間間の突き合わせ面を上述の
本実施例の磁気ヘッドの製造方法の条件下でポリッシン
グにより鏡面加工した場合の加工時間と研磨量（研磨深
さ）の関係を調査した。なお、初期加圧を０．５ｋｇｆ
とした。結果を図１５に示す。図１５中横軸は加工時間
を示し、縦軸は研磨量を示す。

【００５４】図１５から本実施例の磁気ヘッドの製造方
法においては、加工時間と研磨量が比例関係にあり、鏡
面加工の際の研磨速度が一定であることが確認された。
また、このとき、鏡面加工前の定盤との接触面圧が３．
９ＭＰａであるのに対し、鏡面加工後の定盤との接触面
圧は０．６８ＭＰａであった。そして、トラックばらつ
きを調査したところ、δ＝０．５μｍであった。すなわ
ち、これらの結果から、トラック幅規制溝間の間隔を上
記のようにすることで、鏡面加工の際の被加工面が比較
的大きくなり、接触面圧が低減され、研磨速度が安定化
され、トラックばらつきがδ＝０．５μｍ以下に抑えら
れることが確認された。また、このことから、本発明の
磁気ヘッドの製造方法においては、製造歩留りが向上
し、生産性も向上することが確認された。

【００５５】実験例３ 次に、上記比率Ａ／Ｂを１／１０〜１まで変化させて複
数のトラック幅規制溝を形成した基板のトラック幅規制
溝間の突き合わせ面を鏡面加工した場合のトラックばら
つきについて調査した。結果を図１６に示す。図１６中
横軸はＡ／Ｂを示し、縦軸はトラックばらつきδを示
す。

【００５６】その結果、比率Ａ／Ｂが１／４よりも大き
いと、トラックばらつきδが急激に増加してしまうこと
が確認された。一方、比率Ａ／Ｂが１／４以下において
は、被加工面が十分に確保され、接触面圧と研磨速度の
低減効果によりトラックばらつきが減少するものと考え
られる。しかしながら、比率Ａ／Ｂが１／１０よりも小
さいと、１枚の基板により製造できる磁気ヘッドの数が
著しく低減し、生産性が著しく低下し、実用上好ましく
ない。

【００５７】すなわち、本発明の磁気ヘッドの製造方法
のように、複数のトラック幅規制溝間の間隔を、比較的
狭く実際にトラック幅を規制するＡ（ｍｍ）と比較的広
くトラック幅とは関係のないＢ（ｍｍ）の２種類とし、
これらを交互に配するとともに、その比率Ａ／Ｂを１／
１０〜１／４とすれば、研磨速度が一定となって研磨量
が規定され、トラックばらつきが抑えられ、製造歩留り
が向上し、生産性も向上することが確認された。

【００５８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁性基板の一主
面に複数のトラック幅規制溝を形成する際、複数のトラ
ック幅規制溝間の間隔をＡ（ｍｍ），Ｂ（ｍｍ）の２種
類とし、これらを交互に配するとともに、その比率Ａ／
Ｂを１／１０〜１／４としているため、間隔Ａを磁気ヘ
ッドのトラック幅形成部分とすれば、鏡面加工の際の被
加工面が従来の磁気ヘッドの製造方法における被加工面
よりも大となり、鏡面加工の研磨速度が一定となり、研
磨量も規定され、上記鏡面加工工程が容易となり、製造
歩留りが向上し、生産性も向上する。

【００５９】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いて、トラック幅規制溝を番手２０００〜６０００の砥
石による研削により形成するものとし、このときの研削
断面積を０．０５ｍｍ² 以下とすれば、砥石の研削能力
を低下させることなく研削が行われ、トラック欠けの発
生が起こり難く、製造歩留りが向上し、生産性も向上す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法により
製造される磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、ブロックを用意する工程を示す斜
視図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、トラック幅規制溝を形成する工程
を示す斜視図である。

【図４】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、トラック幅規制溝形成部分を拡大
して示す模式図である。

【図５】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、巻線溝，ガラス溝を形成する工程
を示す斜視図である。

【図６】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、ブロックの突き合わせ面を鏡面加
工する工程を示す斜視図である。

【図７】定盤の一例を示す模式図である。

【図８】定盤により鏡面加工を行う様子を示す模式図で
ある。

【図９】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、金属磁性膜を形成する工程を示す
斜視図である。

【図１０】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工
程順に示すものであり、金属磁性膜近傍を拡大して示す
断面図である。

【図１１】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工
程順に示すものであり、ギャップ膜を形成する工程を示
す断面図である。

【図１２】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工
程順に示すものであり、一対の磁気コア半体ブロックを
接合する工程を示す斜視図である。

【図１３】研削断面積Ｓとトラック欠け発生率の関係を
示す特性図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドの製造方法における加工時
間と研磨量の関係を示す特性図である。

【図１５】本発明の磁気ヘッドの製造方法における加工
時間と研磨量の関係を示す特性図である。

【図１６】比率Ａ／Ｂとトラックばらつきδの関係を示
す特性図である。

【符号の説明】

２１ ブロック ２１ａ，２５ａ 突き合わせ面 ２２ トラック幅規制溝 ２５ ブロック半体 ２６，３６ 金属磁性膜 ２９，３９ 磁気コア半体ブロック

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性基板の一主面に複数のトラック幅規
   制溝を形成し、これらトラック幅規制溝間の突き合わせ
   面を鏡面加工して一対の磁気コア半体ブロックを形成
   し、上記一対の磁気コア半体ブロックを前記突き合わせ
   面を相対向させてトラック位置合わせしながらギャップ
   接合した後、所定の幅に分断して磁気ヘッドを得る磁気
   ヘッドの製造方法において、 上記複数のトラック幅規制溝間の間隔をＡ（ｍｍ），Ｂ
   （ｍｍ）の２種類とし、これらを交互に配するととも
   に、その比率Ａ／Ｂを１／１０〜１／４とすることを特
   徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 突き合わせ面を鏡面加工した後に、少な
   くとも該突き合わせ面に金属磁性膜を形成することを特
   徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 トラック幅規制溝を番手２０００〜６０
   ００の砥石による研削により形成するものとし、このと
   きの研削断面積を０．０５ｍｍ² 以下とすることを特徴
   とする請求項１又は２記載の磁気ヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】 製造される磁気ヘッドのトラック幅が１
   ６μｍ以下であることを特徴とする請求項３記載の磁気
   ヘッドの製造方法。