JPH08158049A

JPH08158049A - 洗浄パレット

Info

Publication number: JPH08158049A
Application number: JP29634494A
Authority: JP
Inventors: Mitsuo Goto; 光夫後藤
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1994-11-30
Filing date: 1994-11-30
Publication date: 1996-06-18

Abstract

(57)【要約】【目的】パレット片間に液たまりすることなく、その
まま成膜用基板パレットとして使用できるようにする。【構成】略台形板状の２枚のパレット片１ａ，１ｂを
突き合わせてなり、上軸２および下軸３を軸として反転
できるようになっている。そして、両パレット片１ａ，
１ｂ間には、基板（レンズ）４の両面を露呈させて搭載
する複数の円形室状の基板室５を形成する。また、両パ
レット片１ａ，１ｂ間には、隙間６を均一に形成す
る。。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、スパッタリングや真空
蒸着等により成膜する際、洗浄用基板パレットおよび成
膜用基板パレットとして使用する洗浄パレットに係り、
特にプラスチックレンズ、ガラスレンズ、プリズム等の
光学素子の洗浄・成膜に好適な洗浄パレットに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、スパッタリングまたは真空蒸着に
おいて、生産性の向上を図るために、パレット式の基板
ホルダーを用いて反転成膜を可能とするケースが増加し
つつある。例えば、実開平２−３３２５５号公報に記載
されているパレット式反転蒸着装置において、反転パレ
ットはレンズ等の被成膜物（基板）をその表裏両面が露
呈するように搭載できる板状に構成されている。すなわ
ち、この反転パレットは、図８に示すようなもので、板
状の２枚のパレット片１ａ，１ｂを突き合わせ、両パレ
ット片１ａ，１ｂ間に基板４を固定するための基板室５
を設けて構成されている。また、この反転パレットは、
成膜用基板ホルダーとして用いられる他に、被成膜基板
を洗浄する際の洗浄用パレットとしても用いられる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の反転パレットを洗浄パレットとして使用した際、パ
レット１ａ，１ｂ片間に侵入した洗浄液をうまくすすげ
なかった。そして、パレット１ａ，１ｂ片間に残った洗
浄液は、洗浄後に基板４の表面に流れ出し基板４にシミ
を発生させる原因となっていた。さらに、パレット１
ａ，１ｂ片間に洗浄液が残ったままの状態で成膜を行う
と、洗浄液が真空引きにより気化して成膜装置内に充満
することにより、十分な真空度が得られず、成膜時間が
伸びる原因となっていた。

【０００４】また、近年、オゾン層破壊物質の国際的な
規制の高まりにより従来使用していた洗浄液であるＣＦ
Ｃ（フロン）−１１３の使用が制限され、純水やＩＰＡ
蒸気が使用されている。これらの代替洗浄液は、フロン
に比べて格段に乾燥性が劣り、上記不具合がさらに悪化
している。

【０００５】本発明は、かかる従来の問題点を解決する
ためになされたもので、請求項１に係る発明は、パレッ
ト片間に液たまりすることなく、そのまま成膜用基板パ
レットとして使用できる洗浄パレットを提供することを
目的とする。

【０００６】請求項２に係る発明は、より効果的に液た
まりを除去し得る洗浄パレットを提供することを目的と
する。

【０００７】請求項３に係る発明は、確実に液たまりの
除去を可能とした洗浄パレットを提供することを目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、板状のパレット片を突き合
わせてなり、両パレット片間に基板の両面を露呈させて
搭載する複数の基板室を備え、基板の両面に成膜可能な
パレットにおいて、両パレット片間に隙間を形成した。

【０００９】請求項２に係る発明は、請求項１に係る発
明において、少なくともいずれか一方のパレット片の内
面に、基板室を連結するように延在する複数の平行な溝
を形成したことを特徴とする。

【００１０】請求項３に係る発明は、請求項１または２
に係る発明において、両パレット片間に形成した隙間を
０．３ｍｍ以上としたことを特徴とする。

【００１１】

【作用】パレットを使ってレンズ等の光学素子（基板）
を洗浄する際、洗浄液に浸漬するとパレット片の隙間や
基板室からパレット内に洗浄液が侵入する。請求項１に
係る発明の洗浄パレットによれば、洗浄の各工程におい
て洗浄液から引き上げると、侵入した洗浄液はパレット
片間の隙間を通り、下方に向かってパレット外に流れ落
ちる。また、パレット片間に隙間を設けたことにより、
パレット内部の通気性も良くなるため、温度乾燥するこ
とで液たまりを残すことなく乾燥できる。

【００１２】また、洗浄パレットは立てて洗浄するた
め、基板室壁面は液面に対して平行になり、その部分に
液たまりしやすい。さらに、基板室に基板が充填される
壁面と基板とのわずかな隙間に入り込んだ洗浄液はさら
に出にくくなる。請求項２に係る発明の洗浄パレットに
よれば、基板室を連結するように延在する複数の平行な
溝を形成したことにより、洗浄液はパレット片間の隙間
の他にも溝を伝わってパレット外に流れ落ちる。

【００１３】なお、パレット片の隙間では、毛細管現象
により入り込んだ洗浄液は出難く、液たまりになり易い
が、隙間を０．３ｍｍ以上とすることにより確実に良好
な洗浄を行うことができる。また、隙間の上限は基板の
縁肉の厚さが許す限り広くできる。

【００１４】

【実施例】［実施例１］（構成）本実施例の洗浄パレットは、図１および図２に
示すようなもので、略台形板状の２枚のパレット片１
ａ，１ｂを突き合わせてなり、上軸２および下軸３を軸
として反転できるようになっている。そして、両パレッ
ト片１ａ，１ｂ間には、図１に示すような基板（レン
ズ）４の両面を露呈させて搭載する複数の円形室状の基
板室５が形成されている。また、両パレット片１ａ，１
ｂ間には、０．５ｍｍの隙間６が均一に形成されてい
る。この隙間６は、一方のパレット片１ａの四隅に突設
したスペーサ７により形成されている。スペーサ７は、
一部が一方のパレット１ａに埋設される大径部７ａと、
他方のパレット１ｂに挿入される小径部７ｂとからなっ
ている。隙間６は、パレット１ｂがスペーサ７の大径部
７ｂとの段部に係合することで形成されている。なお、
パレット１ｂには、スペーサ７の小径部７ｂが嵌入され
る穴９が形成されており、スペーサ７の小径部７ｂは、
位置出しピンとしても機能する。

【００１５】両パレット片１ａ，１ｂは、軸台１０ａ，
１０ｂを介してネジ止めすることで一体化される。１１
は、そのためのネジ穴である。基板室５外面のテーパー
部１２は、成膜の時にレンズ表面に均一に蒸着物を照射
するための逃げとなっている。テーパー部１２の狭い方
の内径Ｎは、基板（レンズ）４の機能面よりも大きくな
っている。

【００１６】（作用）上記構成の洗浄パレットを用いる
にあたって、洗浄後は図２に示すような矢印Ａ方向に引
き上げる。このとき、パレット片１ａ，１ｂ間の隙間６
や基板室５に侵入した洗浄液は、隙間６を介してＡ方向
と逆の方向（下方向）へ流れ、パレット外へ除去され
る。また、パレット片１ａ，１ｂ間に隙間６を形成した
ことにより、パレット内部の通気性が良くなり洗浄後の
温風乾燥においても容易に一部残存液を乾燥し得る。し
たがって、この洗浄パレットは、そのまま引き続き成膜
用基板ホルダーとしても使用できる。

【００１７】［実施例２］（構成）本実施例の洗浄パレットは、図３〜図５に示す
ようなもので、実施例１とほぼ同一に構成されている。
その違いは、一方のパレット片１ｂの内面に、各基板室
５を連結するように延在するコ字状の複数の溝１３がそ
れぞれ平行となるように形成されていることである。ま
た、両パレット片１ａ，１ｂ間には、０．３ｍｍの隙間
６が均一に形成されている。基板室５の一方のパレット
片１ｂ側の深さＬが６ｍｍであるに対し、溝の深さＭは
４ｍｍと浅めに構成されている。

【００１８】（作用）上記構成の洗浄パレットを用いる
にあたって、洗浄後は図３に示すような矢印Ｂ方向に引
き上げる。このとき、パレット片１ａ，１ｂ間の隙間６
や基板室５に侵入した洗浄液は、隙間６や溝１３を介し
てＢ方向と逆の方向（下方向）へ流れ、パレット外へ除
去される。基板室５の洗浄液は、基板固定部５ａにある
基板室壁面５ｂにたまりがちであるが、溝１３を設けた
ことにより容易に下方に流れ出すことができる。

【００１９】溝１３の深さはパレット片の強度、レンズ
縁肉厚さ、液のこりの除去性を鑑みて任意に設定でき
る。もっとも液のこりがないようにするには、溝の深さ
Ｍを基板室の深さＬよりも深くすることにより達成され
る。

【００２０】［実施例３］（構成）本実施例の洗浄パレットは、図６〜図７に示す
ようなもので、矩形板状の２枚のパレット片１０１ａ，
１０１ｂを突き合わせてなり、実施例１と同様に上軸１
０２および下軸１０３を軸として反転できるようになっ
ている。そして、両パレット片１０１ａ，１０１ｂ間に
は、図７に示すような基板（レンズ）１０４の両面を露
呈させて搭載する複数の円形室状の基板室１０５が形成
されている。両パレット片１０１ａ，１０１ｂ間には、
１ｍｍの隙間１０６が均一に形成されている。１０７は
前記隙間１０６および基板室１０５を形成するための圧
入ピンで、一方のパレット片１０１ｂに圧入にて設けて
ある。圧入ピン１０７は、一つの基板室１０５について
その周囲に３個設けられており、基板１０４がずれない
ようになっている。圧入ピン１０７の他端は他方のパレ
ット片１０１ａに当てつけてあり、その長さを変えるこ
とにより隙間１０６を変更することができる。基板室１
０５外面のテーパー部１１２は、成膜の時に基板１０４
の表面に均一に蒸着物を照射するための逃げとなってい
る。なお、一つの基板室１０５における圧入ピン１０７
の数は３個に限定されるものではなく、ずり落ち防止の
ために、小径のレンズに対しては４個以上設けるべきで
ある。

【００２１】（作用）上記構成の洗浄パレットを用いる
にあたって、洗浄後は図６に示すような矢印Ｃ方向に引
き上げる。このとき、パレット片１０１ａ，１０１ｂの
隙間１０６や基板室１０５に侵入した洗浄液は、隙間１
０６を介してＣ方向と逆の方向（下方向）へ流れ、パレ
ット外へ除去される。前記各実施例とは異なり、基板室
１０５に基板室壁面がないので洗浄液が容易に流れ落ち
る。また、パレット片１０１ａ，１０１ｂの構造も簡単
であるから製作が容易となる。

【００２２】なお、本発明においては、実施例３のごと
く、板状のパレット片を突き合わせてなり、両パレット
片間に基板の両面を露呈させて搭載する複数の基板室を
備え、基板の両面に成膜可能なパレットにおいて、一方
のパレット片に一つの基板室に少なくとも３個以上の棒
状部材を設けて基板室の外周規制部材としてもよい。

【００２３】

【発明の効果】以上のように、請求項１に係る洗浄パレ
ットとによれば、スパッタリングや真空蒸着に使用する
反転パレットとして使用する際、今まで問題となってい
た液たまりをすることなく、洗浄を終えることができ、
そのまま成膜用基板パレットとして使用しても何ら不具
合を生じることがない。

【００２４】請求項２に係る発明によれば、更に効率的
に液たまりを取り除くことができる。

【００２５】請求項３に係る発明のように、隙間を０．
３ｍｍ以上確保すれば、確実に液たまりを除去すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の洗浄パレットを示す要部断面図であ
る。

【図２】実施例１の洗浄パレットを示す斜視図である。

【図３】実施例２の洗浄パレットを示す平面図である。

【図４】実施例２の洗浄パレットを示す要部断面図であ
る。

【図５】実施例２の洗浄パレットを示す要部断面図であ
る。

【図６】実施例３の洗浄パレットを示す平面図である。

【図７】実施例３の洗浄パレットを示す要部断面図であ
る。

【図８】従来の反転パレットを示す要部断面図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ，１０１ａ，１０１ｂパレット片４，１０４基板５，１０５基板室６，１０６隙間７スペーサ１３溝１０７圧入ピン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】板状のパレット片を突き合わせてなり、
両パレット片間に基板の両面を露呈させて搭載する複数
の基板室を備え、基板の両面に成膜可能なパレットにお
いて、両パレット片間に隙間を形成したことを特徴とす
る洗浄パレット。
【請求項２】少なくともいずれか一方のパレット片の
内面に、基板室を連結するように延在する複数の平行な
溝を形成したことを特徴とする請求項１記載の洗浄パレ
ット。
【請求項３】両パレット片間に形成した隙間を０．３
ｍｍ以上としたことを特徴とする請求項１または２記載
の洗浄パレット。