JPH0815624A - 画像形成装置の光ビーム間隔調整方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録材料に記録される画像に直接対応して感
光体を主走査する２つの光ビームの間隔を適正間隔にす
る。 【構成】 照射された光ビームＡ、Ｂで感光体を同時に
主走査し（Ａ１、Ｂ１）、次の主走査の際は光ビーム
Ａ、Ｂを点灯させずに感光体を副走査する（Ａ２、Ｂ
２）第１のパターン（図３（ａ））と、一方の光ビーム
のみで感光体を主走査し（Ａ１、Ｂ１）、次の主走査の
際は、他方の光ビームのみで感光体を主走査する（Ａ
２、Ｂ２）第２のパターン（図３（ｂ））とを形成して
現像する。そして、両パターンの濃度を検出することに
より光ビーム間隔が不適正か否か検出し、第１のパター
ン及び第２のパターンの線画像のパターンの濃度が互い
に略等しくなるように光ビームＡ、Ｂの光路長を調整し
て、光ビームのビーム間隔を適正間隔にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、画像形成装置の光ビー
ム間隔調整方法に係わり、より詳しくは、２つの光ビー
ムと相対的に移動する感光体を同時に２次元走査して画
像を形成する画像形成装置の光ビーム間隔調整方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】複写機、プリンタ等の画像形成装置にお
いて、高速化あるいは高解像度化を図るために、次のよ
うな画像形成装置が提案されている（特開昭５１−１０
０７４２号公報、特開昭５４−６６１３１号公報）。す
なわち、この画像形成装置では、半導体レーザーを複数
配列し、配列された複数の光源から発光した光ビームを
集束レンズによって平行光線として回転多面鏡等の偏向
器に入射させる。偏向器に入射した光ビームは、この偏
向器によって主走査方向に偏向され、偏向された光ビー
ムは、副走査方向に移動している感光体を主走査して、
画像を形成している。

【０００３】このような画像形成装置において、感光体
に適正画質の画像を形成するためには、感光体を主走査
する複数の光ビームの間隔を等しくすることが必要とな
る。

【０００４】このような事実に鑑み、複数の光ビームの
各々の間隔を調整する装置として、次のような装置が提
案されている（特開昭５６−４２２４８号公報、特開昭
５８−４８０１６号公報、特開平４−１０１１１２号公
報等）。

【０００５】すなわち、例えば、特開平４−１０１１１
２号公報には、副走査方向に列状に複数配列された半導
体レーザから成る発光部とこの発光部から発光したレー
ザビームを偏向する回転多面鏡との間の光路中に、前群
と後群の２つのレンズ群からなる調整部材を設け、この
２つのレンズ群の間隔を相対的に変化させることにより
焦点距離を変化させ、これにより、結像倍率を変化させ
て半導体レーザビームの走査間隔を所望の値に調整する
マルチビーム走査光学系が開示されている。

【０００６】これらの方法を用いて２ビームの間隔を調
整するためには、まず２ビームの間隔を検出することが
必要になる。そこで、ビーム間隔測定方法に関して、次
のような装置が提案されている（特開昭６０−１６６９
１６号公報、特開昭６１−１６９０７５号公報等）。

【０００７】まず、特開昭６０−１６６９１６号公報に
は、次の光走査装置が開示されている。すなわち、２つ
の光源の一方の光源からＰ偏光ビームと、他方の光源か
らＳ偏光ビームを互いに垂直な方向から、結合レンズを
介して偏向ビームスプリッタに入射させる。偏向ビーム
スプリッタは、Ｐ偏光ビームを通過させ、Ｓ偏光ビーム
を直角方向に反射させて、４つの受光部からなる光検出
器に入射させる。そして、４つの受光部は、Ｐ偏光ビー
ム、Ｓ偏光ビームの光スポットが各々２つの受光部に入
るように配置されており、Ｐ偏光ビームの光スポットが
入る２つの受光部及びＳ偏光ビームの光スポットが入る
２つの受光部からの作動出力が０となるように、光源あ
るいは結合レンズにサーボをかけて、各光ビームの光ス
ポットの間隔を調整する。

【０００８】また、特開昭６１−１６９０７５号公報に
は、次のレーザビームプリンタが開示されている。すな
わち、感光ドラムの回転軸方向の側部に隣接した箇所
に、レーザビームの主走査方向に直交する方向（副走査
方向）に多数配列された受光素子（ＣＣＤ）からなる固
体撮影素子を配置させる。感光ドラムを走査した副走査
方向にある間隔をもった２本のレーザビームは固体撮影
素子に入射し、固体撮影素子には、２本のレーザビーム
の軌跡情報が蓄積される。固体撮影素子は、クロック信
号を入力したとき１ビット毎に、蓄積されたレーザビー
ムの軌跡情報を電圧情報としてシフトレジスタに出力す
る。シフトレジスタのビット数は、固体撮影素子のビッ
ト数（前記受光素子数）と対応しており、よって、シフ
トレジスタは、固体撮影素子のビット数分レーザビーム
の軌跡情報を格納する。このとき、シフトレジスタは、
所定のキャリ信号を入力し、格納したレーザビームの軌
跡情報をラッチ回路にラッチさせる。ラッチ回路から、
レーザビームの軌跡情報に対応したディジタル情報が複
数配列されたＬＥＤに出力され、２本のレーザビームの
間隔に対応した間隔を有するＬＥＤが発光する。これに
より、２本のレーザビームの間隔が認識される。そし
て、発光するＬＥＤが所定の間隔となる、すなわち、２
本のレーザビームが所定の間隔となるように、各レーザ
ビーム発生器間のなす角を調節している。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところが、特開昭６０
−１６６９１６号公報に記載の光走査装置は、光偏向器
前のレーザビーム間隔を調整しているので、光偏向器以
後の部品によって、レーザビーム間隔の変動が生ずる場
合がある。従って、調整されたレーザビーム間隔と感光
体上でのレーザビーム間隔とが必ずしも１対１に対応し
ない。よって、感光体上のレーザビーム間隔が適正な間
隔となっていない場合がある。

【００１０】また、特開昭６１−１６９０７５号公報に
記載のレーザビームプリンタは、感光体測部に固体撮像
素子を設置しているが、固体撮像素子の１ビットは１０
ミクロンと大きく、十分な精度でレーザビームの間隔を
検出しているわけではない。また、固体撮像素子を傾け
て精度を上げたとしてもその角度を正確に設定しなけれ
ばならないといった問題があった。

【００１１】本発明は、以上の問題点を解決するために
なされたものであって、記録材料に記録される画像に直
接対応して感光体を主走査する２つの光ビームの各々の
間隔を略等しくすることの可能な画像形成装置の光ビー
ム間隔調整方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
請求項１記載の発明は、照射された２つの光ビームを偏
向することにより同時に主走査すると共に前記２つの光
ビームと前記感光体との少なくとも一方を相対的に移動
させて副走査して感光体に静電潜像を形成し、前記静電
潜像を現像して記録材料上に画像を形成する画像形成装
置の前記感光体上における前記光ビームの間隔を調整す
るにあたって、前記２つの光ビームを連続点灯させた主
走査と前記２つの光ビームを連続消灯させた主走査との
組合せによって、２つの光ビームの１部が重なって主走
査される領域と２つの光ビームとも主走査されない領域
とが交互に配列された第１のパターンを形成する、と共
に、一方の光ビームを連続点灯させかつ他方の光ビーム
を連続消灯させた主走査と一方の光ビームを連続消灯さ
せかつ他方の光ビームを連続点灯させた主走査との組合
せによって、２つの光ビームの１部が重なって主走査さ
れる領域と２つの光ビームとも主走査されない領域とが
交互に配列された第２のパターンを形成し、形成された
第１のパターン及び第２のパターンを現像し、現像され
たそれぞれのパターンの濃度を検出し、前記検出された
パターンの濃度がそれぞれ略等しくなるように、前記光
ビームの間隔を調整するようにしている。

【００１３】請求項２記載の発明は、照射された２つの
光ビームを偏向することにより同時に主走査すると共に
前記２つの光ビームと前記感光体との少なくとも一方を
相対的に移動させて副走査して感光体に静電潜像を形成
し、前記静電潜像を現像して記録材料上に画像を形成す
る画像形成装置の前記感光体上における前記光ビームの
間隔を調整するにあたって、前記２つの光ビームを連続
点灯させた主走査と前記２つの光ビームを連続消灯させ
た主走査との組合せによって、２つの光ビームの１部が
重なって主走査される領域と２つの光ビームとも主走査
されない領域とが交互に配列された第１のパターンを感
光体上に形成する、と共に、一方の光ビームを連続点灯
させかつ他方の光ビームを連続消灯させた主走査と一方
の光ビームを連続消灯させかつ他方の光ビームを連続点
灯させた主走査との組合せによって、２つの光ビームの
１部が重なって主走査される領域と２つの光ビームとも
主走査されない領域とが交互に配列された第２のパター
ンを感光体上に形成し、前記第１のパターンと前記第２
のパターンとが形成された感光体のそれぞれの表面電位
を検出し、前記表面電位が略等しくなるように、前記光
ビームの前記感光体上の間隔を調整するようにしてい
る。

【００１４】請求項３記載の発明は、請求項１又は請求
項２記載の発明において、前記感光体への前記２つの光
ビームの少なくとも副走査方向に対する入射角が予めそ
れぞれ異なるようにし、前記２つの光ビームの光路長を
調整することにより前記２つの光ビームの前記感光体上
の間隔を調整するようにしている。

【００１５】

【作用】請求項１記載の発明では、画像形成装置は、照
射された２つの光ビームを偏向することにより同時に主
走査すると共に２つの光ビームと感光体との少なくとも
一方を相対的に移動させて副走査して感光体に静電潜像
を形成し、静電潜像を現像して画像を形成する。なお、
副走査には、２つの光ビームを感光体に対して移動させ
る場合、感光体を２つの光ビームに対して移動させる場
合及び２つ光ビームと感光体との双方を相対的に移動さ
せる場合の３態様がある。

【００１６】ここで、本発明は、この画像形成装置の光
ビーム間隔の調整を次のように行っている。

【００１７】すなわち、まず、この画像形成装置で２つ
の光ビームを連続点灯させて主走査し、２つの光ビーム
と感光体との少なくとも一方を相対的に移動させて副走
査した場合、２つの光ビーム間隔が適正であれば、１部
が重なった２つの光ビームよって形成される１本の線画
像の副走査方向の幅と、副走査するために２つの光ビー
ムと感光体との少なくとも一方を相対的に移動させたと
きの移動距離である副走査間隔とが一致する。

【００１８】ここで、本発明の第１のパターンは、２つ
の光ビームを連続点灯させた主走査と２つの光ビームを
連続消灯させた主走査との組合せによって、２つの光ビ
ームの１部が重なって主走査される領域と２つの光ビー
ムとも主走査されない領域とを交互に配列して形成され
ている。このように、２つの光ビームの１部を重ねて主
走査すると前述した１本の線画像が得られる。

【００１９】また、第２のパターンは、一方の光ビーム
を連続点灯させかつ他方の光ビームを連続消灯させた主
走査と一方の光ビームを連続消灯させかつ他方の光ビー
ムを連続点灯させた主走査との組合せによって、２つの
光ビームの１部が重なって主走査される領域と２つの光
ビームとも主走査されない領域とを交互に配列して形成
されている。このように、２つの光ビームの１部を重ね
て主走査すると１本の線画像が得られる。

【００２０】前述したように、２つの光ビームの間隔が
適正であれば、これら２つのパターンによって形成され
る各々の１本の線画像の副走査方向の幅が等しくなり、
それらは共に副走査間隔と一致する。しかし、２つの光
ビームの間隔が適正でなければ、これら２つのパターン
における各々の１本の線画像の副走査方向の幅が異なる
ことになる。すなわち、２つの光ビーム間隔が適正間隔
より狭い場合には、第１のパターンにおける１本の線画
像の副走査方向の幅が、副走査間隔より狭くなると共
に、第２のパターンにおける１本の線画像の副走査方向
の幅より狭くなる。なお、この場合、第１のパターンに
おける１本の線画像の副走査方向の幅が副走査間隔より
狭くなった分だけ第２のパターンにおける１本の線画像
の副走査方向の幅が副走査間隔より広がる。また、２つ
の光ビーム間隔が適正間隔より広い場合には、第１のパ
ターンにおける１本の線画像の副走査方向の幅が、副走
査間隔より広くなると共に、第２のパターンにおける１
本の線画像の副走査方向の幅より広くなる。なお、この
場合、第１のパターンにおける１本の線画像の副走査方
向の幅が副走査間隔より広くなった分だけ第２のパター
ンにおける１本の線画像の副走査方向の幅が副走査間隔
より狭くなる。よって、第２のパターンにおける１本の
線画像の副走査方向の幅は、第１のパターンにおける線
画像間距離に等しくなり、同様に、第１のパターンにお
ける１本の線画像の副走査方向の幅は、第２のパターン
における線画像間距離に等しくなる。

【００２１】そして、形成された第１のパターン及び第
２のパターンのそれぞれのパターンの濃度を検出すれ
ば、それぞれのパターンの濃度は各々のパターンにおけ
る１本の線画像の副走査方向の幅に対応することから、
第１のパターン及び第２のパターンにおける１本の線画
像の副走査方向の幅がそれぞれ等しいか否か認識するこ
とができる。これにより、それぞれのパターンにおける
１本の線画像の副走査方向の幅が、副走査間隔より狭
か、広いかを認識することができ、よって、２つの光ビ
ームの間隔が適正であるか否かを認識することができ
る。

【００２２】そこで、本発明は、形成された第１のパタ
ーン及び第２のパターンを現像し、現像されたそれぞれ
のパターンの濃度を検出する。そして、検出されたパタ
ーンの濃度がそれぞれ略等しくなるように、光ビームの
間隔を調整するようにしている。

【００２３】また、この際、第１のパターンの濃度と第
２のパターンの濃度とを略等しくする光ビーム間隔の調
整は、検出された第１のパターンの濃度が第２のパター
ンの濃度より高い場合には、第１のパターンの濃度を減
らすと共に第２のパターンの濃度を増やす方向、すなわ
ち、２つの光ビームの間隔を狭くする方向で行い、一
方、検出された第１のパターンの濃度が第２のパターン
の濃度より低い場合には、第１のパターンの濃度を増や
すと共に第２のパターンの濃度を減らす方向、すなわ
ち、２つの光ビームの間隔を広くする方向で行えばよ
い。

【００２４】このように、第１のパターン及び第２のパ
ターンのそれぞれのパターンの濃度を検出して比較すれ
ば、第１及び第２のパターンのそれぞれによって形成さ
れた各々の１本の線画像の副走査方向の幅が、副走査間
隔より狭いか、広いかを容易に認識することができ、比
較結果に応じて第１のパターンの濃度又は第２のパター
ンの濃度を減らすか増やすか、すなわち、２つの光ビー
ムの間隔を狭くするか広めるかを容易に認識することが
できることから、それぞれのパターンの濃度を略等しく
する光ビーム間隔の調整を容易に行うことができる。

【００２５】以上説明したように請求項１記載の発明
は、第１のパターンと第２のパターンとが形成されたそ
れぞれのパターンの濃度が略等しくなるように、光ビー
ムの間隔を調整することから、現像される画像に直接対
応した光ビーム間隔の調整を行うことができ、適正画質
の画像を形成することができる。

【００２６】請求項２記載の発明では、画像形成装置
は、照射された２つの光ビームを偏向することにより同
時に主走査すると共に２つの光ビームと感光体との少な
くとも一方を相対的に移動させて副走査して感光体に静
電潜像を形成し、静電潜像を現像して記録材料上に画像
を形成する。なお、副走査には、前述したように３態様
がある。

【００２７】ここで、本発明は、この画像形成装置の光
ビーム間隔の調整を次のように行っている。

【００２８】すなわち、画像形成装置の感光体上におけ
る光ビームの間隔を調整するにあたって本発明は、前述
した理由により第１のパターンを形成すると共に第２の
パターンを形成している。

【００２９】そして、第１のパターンと第２のパターン
とが形成された感光体のそれぞれの表面電位を検出し、
検出された表面電位が略等しくなるように、光ビームの
感光体上の間隔を調整する。

【００３０】ここで、本発明が感光体のそれぞれの表面
電位を検出することとしているのは次の理由からであ
る。

【００３１】すなわち、前述したように、第１のパター
ン及び第２のパターンにより線画像が得られる。これら
のパターンは、それぞれ感光体に静電潜像が形成され、
形成された静電潜像を現像して形成される。よって、静
電潜像が形成された感光体の表面電位は、現像された第
１のパターン及び第２のパターンのパターンの濃度に対
応する。よって、第１のパターン及び第２のパターンの
表面電位を検出すれば、第１のパターン及び第２のパタ
ーンにおける１本の線画像の副走査方向の幅が、一致す
るか異なるかをを検出することができ、２つの光ビーム
の間隔が適正であるか否を検出することができる。

【００３２】また、この際本発明も請求項１記載の発明
と同様に、第１のパターンの表面電位と第２のパターン
の表面電位とを略等しくする光ビーム間隔の調整は、検
出された第１のパターンの表面電位と第２のパターンの
表面電位とを比較し、第１のパターンの表面電位が第２
のパターンの表面電位より高い場合には第１のパターン
の表面電位を減らすと共に第２のパターンの表面電位を
増やす方向、すなわち、２つの光ビームの間隔を広める
方向で行い、一方、検出された第１のパターンの表面電
位が第２のパターンの表面電位より低い場合には第１の
パターンの表面電位を増やすと共に第２のパターンの表
面電位を減らす方向、すなわち、２つの光ビームの間隔
を狭くする方向で行えばよい。

【００３３】このように、第１のパターン及び第２のパ
ターンのそれぞれのパターンの表面電位を検出して比較
すれば、第１の及び第２のパターンのそれぞれによって
形成された各々の１本の線画像の副走査方向の幅が、副
走査間隔より狭いか、広いかを容易に認識することがで
き、比較結果に応じて第１のパターンが形成された表面
電位又は第２のパターンが形成された表面電位を減らす
か増やすか、すなわち、２つの光ビームの間隔を狭くす
るか広めるかを容易に認識することができることから、
それぞれのパターンが形成された感光体上の表面電位を
略等しくする光ビーム間隔の調整を容易に行うことがで
きる。

【００３４】なお、第１のパターン及び第２のパターン
のそれぞれのパターンの表面電位の平均値を検出しても
同様の効果を得ることができる。

【００３５】以上説明したように請求項２記載の発明
は、第１のパターンと第２のパターンが形成された感光
体上のそれぞれの表面電位が略等しくなるように、光ビ
ームの感光体上の間隔を調整することから、現像される
画像に直接対応した光ビーム間隔の調整を行うことがで
き、適正画質の画像を形成することができる。

【００３６】請求項３記載の発明では、請求項１又は請
求項２記載の発明において、前記感光体への前記２つの
光ビームの少なくとも副走査方向に対する入射角が予め
それぞれ異なるようにし、前記２つの光ビームの光路長
を調整することにより前記２つの光ビームの前記感光体
上の間隔を調整する。

【００３７】ここで、感光体への２つの光ビームの入射
角には、２つ光ビームがそれぞれ異なる角度でかつ互い
に接近するように感光体に入射する場合（第１の入射
角）と、２つの光ビームがそれぞれ異なる角度でかつ互
いに離れるように感光体に入射する場合（第２の入射
角）がある。

【００３８】まず、感光体への２つ光ビームの入射角が
第１の入射角の場合において、光ビームの感光体上の間
隔を調整するための２つの光ビームの光路長の調整は、
次のように行う。

【００３９】すなわち、請求項１記載の発明において検
出された第１のパターンの濃度が第２のパターンの濃度
より高い場合には、２つの光ビームの間隔が適正間隔よ
り広いので、２つの光ビームの光路長を長くして２つの
光ビームの間隔を狭くし、検出された第１のパターンの
濃度が第２のパターンの濃度より低い場合には、２つの
光ビームの間隔が適正間隔より狭いので、２つの光ビー
ムの光路長を短くして２つの光ビームの間隔を広くす
る。

【００４０】次に、感光体への２つ光ビームの入射角が
第２の入射角の場合において、光ビームの感光体上の間
隔を調整するための２つの光ビームの光路長の調整は、
次のように行う。

【００４１】すなわち、請求項１記載の発明において検
出された第１のパターンの濃度が第２のパターンの濃度
より高い場合には、２つの光ビームの間隔が適正間隔よ
り広いので、２つの光ビームの光路長を短くして２つの
光ビームの間隔を狭くし、検出された第１のパターンの
濃度が第２のパターンの濃度より低い場合には、２つの
光ビームの間隔が適正間隔より狭いので、光源から感光
体までの光路長を長くして２つの光ビームの間隔を広く
する。

【００４２】このように、第１のパターン及び第２のパ
ターンのそれぞれのパターンの濃度を検出して比較すれ
ば、第１及び第２のパターンのそれぞれによって形成さ
れた各々の１本の線画像の副走査方向の幅が、副走査間
隔より狭か広いかを容易に認識することができ、比較結
果に応じて２つの光ビームの間隔を狭くするか広める
か、すなわち、光ビームの光路長を短くするか長くする
かを容易に認識することができ、光ビーム間隔の調整を
容易に行うことができる。

【００４３】また、請求項２記載の発明において検出さ
れた第１のパターンの表面電位と第２のパターンの表面
電位とを比較し、第１のパターンの表面電位が第２のパ
ターンの表面電位より高い場合には、２つの光ビームの
間隔が適正間隔より狭いので、第１の入射角の場合には
２つ光ビームの光路長を長くし、第２の入射角の場合に
は２つの光ビームの光路長を短くして、２つの光ビーム
の間隔を広くする。また、検出された第１のパターンの
表面電位が第２のパターンの表面電位より低い場合に
は、２つの光ビームの間隔が適正間隔より広いので、第
１の入射角の場合には２つ光ビームの光路長を短くし、
第２の入射角の場合には２つの光ビームの光路長を長く
して、２つの光ビームの間隔を短くする。

【００４４】このように、第１のパターン及び第２のパ
ターンのそれぞれのパターンの表面電位を検出して比較
すれば、第１及び第２のパターンのそれぞれによって形
成された各々の１本の線画像の副走査方向の幅が、副走
査間隔より狭か広いかを容易に認識することができ、比
較結果に応じて２つの光ビームの間隔を狭くするか広め
るか、すなわち、２つの光ビームの光路長を短くするか
長くするかを容易に認識することができ、光ビーム間隔
の調整を容易に行うことができる。

【００４５】以上説明したように請求項３記載の発明
は、感光体への光ビームの少なくとも副走査方向に対す
る入射角が予めそれぞれ異なるようにした２つの光ビー
ムの光路長を調整することから、感光体上の光ビームの
入射位置を調整でき、光ビームの感光体上の間隔が略等
しくなるようにすることができる。

【００４６】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１には、画像形成装置の概略が示されて
いる。

【００４７】図１に示すように画像形成装置は、レーザ
走査ユニット１２と現像転写部４０とから構成されてい
る。レーザ走査ユニット１２は、ユニットケース３０内
に、半導体レーザアレイ６０、半導体レーザアレイ６０
からの光ビームＡ、Ｂを平行にするコリメータレンズ３
３及び半導体レーザアレイ６０からの光ビームＡ、Ｂを
主走査方向と対応する方向に等角速度で偏向させるポリ
ゴンミラー、すなわち、光偏向器３５を備えている。ま
た、レーザ走査ユニット１２は、光偏向器３５によって
主走査と対応する方向に等角速度で偏向された光ビーム
Ａ、Ｂを、感光体１０上に結像させると共に感光体１０
上で等速度に主走査させるｆθレンズ（結像レンズに相
当）３６を備えている。さらに、ｆθレンズ３６を通過
した光ビームＡ、Ｂの光路中に、所定の位置関係で配置
された、感光体１０の走査線位置に向けてビームＡ、Ｂ
を反射させる反射ミラー３７、３８を備えている。な
お、反射ミラー３８はシリンドリカル状ミラーであ。ま
た、ユニットケース３０には光導出口として、光ビーム
Ａ、Ｂに対してそれぞれ、シーリング用光学ウインドウ
４１が装着されている。

【００４８】現像転写部４０は、感光体１０を予め帯電
する帯電コロトロン１１及び感光体１０上に書き込まれ
た潜像を現像してトナー像を形成する現像器１３、感光
体１０上のトナー像の電荷の極性を揃え、かつ、感光体
１０上の電荷を除去する転写前処理コロトロン１５を備
えている。また、現像転写部４０は、感光体１０上のト
ナー像を記録用紙１７に転写させる転写コロトロン１
６、転写工程後に記録用紙１７の帯電電荷を除去し、感
光体１０に静電吸着した記録用紙１７を剥離する除電コ
ロトロン１８、感光体１０上の残留トナーを徐電するク
リーナ１９及び感光体１０上の残留電荷を除去する除電
ランプ２０を備えている。なお、感光体１０は、図示し
ない駆動手段によって、光ビームＡ、Ｂの主走査方向と
直交する方向に回転移動（副走査）するようになってい
る。

【００４９】次に、このように構成された画像形成装置
の画像の現像、転写の作用を説明する。

【００５０】まず、帯電器１１によって感光体１０の表
面を所定電位Ｖ０に一様に帯電する（図２ａ）。次に、
レーザ走査ユニット１２からの光ビームＡ、Ｂによっ
て、感光体１０を主走査する。感光体１０の主走査は、
次のように行われる。まず、半導体レーザアレイ６０、
半導体レーザアレイ６０から記録する画像に対応するよ
うに発せられたの光ビームＡ、Ｂは、コリメータレンズ
３３によって、平行にされる。平行にされた光ビーム
Ａ、Ｂは、光偏向器３５によって、主走査方向と対応す
る方向に等角速度で偏向される。その後、ｆθレンズ３
６を通過した光ビームＡ、Ｂは、反射ミラー３７、３８
によって感光体１０の走査線位置に向けて反射され、シ
ーリング用光学ウインドウ４１から、感光体１０に結像
しかつ感光体１０を等速度で主走査する。

【００５１】ここで、光ビームＡ、Ｂが照射された感光
体１０上の領域の電荷は中和され、光ビームＡ若しくは
光ビームＢが照射されない感光体１０上の領域の電荷は
そのまま残ることになる。これにより、感光体１０上
で、電荷が残る領域の電位Ｖ０と電荷が中和した領域の
電位Ｖ１との電位差Ｈを有する潜像Ｚが形成される。

【００５２】現像器１３によって、現像バイアスＶ_B が
印加された状態で潜像Ｚの電荷を反転させ、帯電したト
ナーを感光体１０に吹き付ける。これにより、潜像Ｚに
対応したトナー像Ｔが形成される（図２ｂ）。

【００５３】転写前処理コロトロン１５によって、トナ
ー像Ｔの極性を揃えた後に（第２図ｃ）、転写コロトロ
ン１６にて記録用紙１７側へトナー像Ｔを一括転写させ
る。

【００５４】次に、このように構成された画像形成装置
の光ビームの間隔を調整する本実施例の作用を説明す
る。

【００５５】半導体レーザアレイ６０から照射される光
ビームＡ、Ｂは、そのエネルギー密度（以下、レーザパ
ワーＰという）はガウス分布となっており、最も強い部
分（光ビームの中心部分）のレーザパワーＰを１とし、
光ビームの中心部分をＸ軸の中心とすると、他の部分の
レーザパワーＰは、Ｘが正の部分はＰ＝１／ｅ^x 、Ｘが
負の部分は、Ｐ＝ｅ^x で与えられる。

【００５６】図３（ａ）、（ｂ）には、光ビームＡ、Ｂ
の第１のパターンと第２のパターンとの２種類のパター
ンが示されている。なお、図３（ａ）、（ｂ）に示す実
線は、光ビームの中心部分（レーザパワーＰが最も強い
部分）の走査線であり、点線は、主走査された場合の光
ビームの中心部分の走査線の想像線である。

【００５７】図３（ａ）には、第１のパターンが示され
ている。この図３（ａ）に示すように第１のパターン
は、光ビームＡ、Ｂを連続点灯（ＯＮ）させた主走査と
光ビームＡ、Ｂを連続消灯（ＯＦＦ）させた主走査との
組合せによって、２つの光ビームＡ、Ｂの１部が重なっ
て主走査される領域Ｒ１と２つの光ビームＡ、Ｂとも主
走査されない領域Ｒ２とを交互に配列するものである。
すなわち、まず第１のパターンは、２つの光ビームＡ、
Ｂを点灯させ（２ＯＮ）、光ビームＡ、Ｂで感光体１０
を同時に主走査し（図３（ａ）のＡ１、Ｂ１）、次の主
走査の時間だけ２つの光ビームＡ、Ｂを消灯して（２Ｏ
ＦＦ）に感光体１０を副走査する（図３（ａ）のＡ２、
Ｂ２）。そして、これを連続させる（Ａ３、Ｂ３、Ａ
４、Ｂ４、・・・）。すなわち、隣り合った光ビーム
Ａ、Ｂの組合せによる２ＯＮ２ＯＦＦのパターンであ
る。なお、２つの光ビームＡ、Ｂを連続点灯させて主走
査すると１本の線画像が得られる。

【００５８】また、図３（ｂ）には、第２のパターンが
示されている。この図３（ｂ）に示すように第２のパタ
ーンは、一方の光ビーム、例えば、光ビームＢを連続点
灯させかつ他方の光ビーム、例えば、光ビームＡを連続
消灯させた主走査と、一方の光ビーム、例えば、光ビー
ムＢを連続消灯させかつ他方の光ビーム、例えば、光ビ
ームＡを連続点灯させた主走査との組合せによって、２
つの光ビームＡ、Ｂの１部が重なって主走査される領域
Ｒ１と２つの光ビームＡ、Ｂとも主走査されない領域Ｒ
２とを交互に配列するものである。すなわち、第２のパ
ターンは、光ビームＡ、Ｂのいずれか、図３（ｂ）では
光ビームＢのみを点灯させて、感光体１０を主走査し
（図３（ｂ）のＡ１、Ｂ１）、次の主走査の際は、前回
の主走査で点灯させなかった光ビーム、図３（ｂ）では
光ビームＡを点灯させて、感光体１０を主走査する（図
３（ｂ）のＡ２、Ｂ２）。そして、これを連続させる
（Ａ３、Ｂ３、Ａ４、Ｂ４、・・・）。すなわち、隣り
合った光ビームＢ、Ａの組合せによる２ＯＮ２ＯＦＦの
パターンである。なお、１本の線画像は、一方の光ビー
ムを連続点灯させかつ他方の光ビームを連続消灯させた
主走査と、一方の光ビームを連続消灯させかつ他方の光
ビームを連続点灯させた主走査とにより形成される。

【００５９】ここで、図３に示されているように、光ビ
ームＡによる走査線（光ビームの中心部分）とこの光ビ
ームＡの次の主走査による走査線との中央に光ビームＢ
による走査線（光ビームの中心部分）があれば、１本の
線画像の副走査方向の幅が、２つの光ビームＡ、Ｂに対
して感光体１０を移動させて副走査する副走査間隔と一
致し、第１のパターン及び第２のパターンのいずれでも
記録材料に記録された線画像のパターンの濃度は、同じ
になる。ところが、例えば、光ビームＡと光ビームＢと
の間隔が適正間隔より狭くなっていると、図３（ａ）に
対応するパターンでは、図４（ａ）に示されているよう
に、１本の線画像を形成する光ビームＡ、Ｂの中心部分
の走査線間隔Ｓ１は、光ビームＢと光ビームＡとのそれ
Ｓ２より狭くなる。他方、図３（ｂ）に対応するパター
ンでは、図４（ｂ）に示されているように、１本の線画
像を形成する光ビームＢ、Ａの中心部分の走査線間隔Ｓ
２は、光ビームＡ、ＢのそれＳ１より広くなっている。

【００６０】次に、間隔が適正な光ビーム及び間隔が適
正でない光ビームのレーザパワーＰについて考えてみ
る。

【００６１】図５には、図３（ａ）示されている第１の
パターンが形成されたときの適正間隔の光ビームＡ、Ｂ
のレーザパワーＰの分布が示されている。なお、図５
は、前述したＸ軸を感光体１０の副走査方向にとってい
る。この図５に示されるように、現像バイアスＶ_B に基
づいて形成される線画像（光ビームＡ、Ｂの２ＯＮ時、
Ａ１、Ｂ１、Ａ３、Ｂ３、Ａ５、Ｂ５、・・・）におけ
る１本の副走査方向の幅はＬ０となっている。そして、
光ビームＡ、Ｂを２ＯＦＦすると共に副走査して次の光
ビームＡ、Ｂの２ＯＮによって形成される線画像までの
幅もＬ０となる。なお、この場合、形成された線画像間
距離は、副走査間隔に対応する。よって、２つの光ビー
ム間隔が適正であれば形成されるパターンの濃度は、全
体の５０％となる。

【００６２】一方、図６及び図７には、間隔が適正でな
い光ビームＡ、Ｂの第１のパターン（図６）及び第２の
パターン（図７）が形成されたときのレーザパワーＰの
分布が示されている。

【００６３】これらの図６及び図７に示すように、第１
のパターンにおける１本の線画像を形成する光ビームＡ
と光ビームＢとの間隔が適正間隔より狭くなっていると
狭くなった分だけ第１のパターンにおける１本の線画像
を形成する光ビームＡと光ビームＢとの間隔が適正間隔
より狭くなり、第２のパターンにおける１本の線画像を
形成する光ビームＢと光ビームＡとの間隔が適正間隔よ
り広くなる。すなわち、図６では、１本の線画像の副走
査方向の幅は、Ｌ０より狭いＬ１となり、線画像間距離
は、Ｌ０より広いＬ２となる。図７では、１本の線画像
の副走査方向の幅は、Ｌ０より広いＬ２となり、線画像
間距離は、Ｌ０より狭いＬ１となる。よって、第１のパ
ターンの濃度は全体の５０％より低いものとなり、第２
のパターンの濃度は全体の５０％より高いものとなる。

【００６４】図８には、第１のパターン及び第２のパタ
ーンが交互に繰り返されて形成された線画像が示されて
いる。この線画像の領域Ｒ３は第２のパターンであり、
領域Ｒ４は第１のパターンである。このように、交互に
繰り返して形成された第１のパターン及び第２のパター
ンの線画像の濃度が異なれば、光ビームＡ、Ｂの間隔が
適正でないことが理解される。すなわち、光ビームＡ、
Ｂの間隔が適正間隔より狭い場合には、前述したよう
に、第１のパターンの濃度が第２のパターンの濃度より
低くなる。一方、光ビームＡ、Ｂの間隔が適正間隔より
広い場合には、第１のパターンの濃度が第２のパターン
の濃度より高くなる。よって、第１のパターンの濃度と
第２のパターンの濃度とを検出すると、１本の線画像の
副走査方向の幅が副走査間隔より短いか長いかを容易に
認識することができ、２つの光ビームの間隔が適正であ
るか否かを容易に認識することができる。

【００６５】また、交互に形成された第１のパターンと
第２のパターンとにより形成される線画像は記録用紙１
７に記録される画像に直接対応するものであることか
ら、光ビームＡ、Ｂの間隔が適正でないことを、記録さ
れる画像に直接対応して認識することができる。

【００６６】以上から、図８に示した、第１のパターン
及び第２のパターンを交互に繰り返して形成された線画
像のパターンの濃度に差がなくなるように、すなわち、
第１のパターンの濃度が第２のパターンの濃度より高い
場合には、第１のパターンの濃度を減らすと共に第２の
パターンの濃度を増やす方向で、一方、第１のパターン
の濃度が第２のパターンより低い場合には、第１のパタ
ーンの濃度を減らすと共に第２のパターンの濃度を増や
す方向で光ビームＡ、Ｂの間隔を調整すれば、記録され
る画像に直接対応した光ビームＡ、Ｂ間隔の調整を容易
に行うことができる。

【００６７】ここで、第１のパターン及び第２のパター
ンのそれぞれの濃度を検出するためには、例えば、この
線画像のパターンの濃度を検出する濃度計を用いればよ
い。ここで、線画像のパターンの濃度を検出する濃度計
を設置して、線画像のパターンの濃度を検出する位置と
しては図１の現像器１３と転写前処理コロトロン１５の
間でもよく、トナーの転写が終了した後の記録用紙１７
上でもよい。

【００６８】一方、検出対象は線画像のパターンの濃度
に限らず、レーザビームＡ、Ｂの感光体１０への入射位
置と現像器１３の間で感光体の表面電位を測定しても同
様の効果が得られる。なお、この場合は、電位計を、レ
ーザビームＡ、Ｂの感光体１０への入射位置と現像器１
３との間に設置すればよい。なお、表面電位を測定し、
それぞれのパターンの表面電位の平均値を算出して比較
しても同様の効果を得ることができる。

【００６９】次に、以上の方法によって検出された光ビ
ームＡ、Ｂの不適正な間隔を調整する方法について、図
９ないし図１１を参照して説明する。

【００７０】この方法は、２つの光ビームＡ、Ｂの入射
角を予めそれぞれ異なるようにし、２つの光ビームＡ、
Ｂの光路長を調整することにより行う。なお、２つの光
ビームＡ、Ｂのそれぞれの入射角は、半導体レーザアレ
イ６０の取り付け位置やその他の部品（光学系等）を予
め調整して、異なるようにしておく。

【００７１】すなわち、図９に示すように、光ビーム
Ａ、Ｂを、互いに離れるようにそれぞれ副走査方向に対
して異なる入射角ｉ１、入射角ｉ２で感光体１０に入射
させ、２つの光ビームＡ、Ｂの光路長を変化させると、
光路長に応じて光ビームＡ、Ｂの感光体１０への入射位
置が異なるようになる。

【００７２】そこで、第１のパターンに基づく線画像の
パターンの濃度と第２のパターンに基づく線画像のパタ
ーンの濃度とが略等しくなるように、若しくは第１のパ
ターンに基づく感光体１０の表面電位と第２のパターン
に基づく感光体１０の表面電位とが略等しくなるよう
に、偏向器３５から感光体１０までの光路長を変化させ
て、２つの光ビームＡ、Ｂの間隔を適正間隔にする。す
なわち、検出された第１のパターンの濃度が第２のパタ
ーンの濃度より高い場合には、２つの光ビームＡ、Ｂの
間隔が適正間隔より広いので、２つの光ビームＡ、Ｂの
光路長を短くすることにより感光体１０への入射位置を
変化させて２つの光ビームＡ、Ｂの間隔を狭くして適正
間隔にする。また、検出された第１のパターンの濃度が
第２のパターンの濃度より低い場合には、２つの光ビー
ムＡ、Ｂの間隔が適正間隔より狭いので、２つの光ビー
ムＡ、Ｂの光路長を長くすることにより光ビームＡ、Ｂ
の感光体１０への入射位置を変化させて２つの光ビーム
の間隔を広くして適正間隔にする。

【００７３】また、検出された第１のパターンの感光体
１０上の表面電位と第２のパターンの感光体１０上の表
面電位とを比較し、第１のパターンの表面電位が第２の
パターンの表面電位より高い場合には、２つの光ビーム
Ａ、Ｂの間隔が適正間隔より狭いので、２つの光ビーム
Ａ、Ｂの光路長を長くすることにより光ビームＡ、Ｂの
感光体１０への入射位置を変化させて２つの光ビーム
Ａ、Ｂの間隔を広くして適正間隔にする。また、検出さ
れた第１のパターンの表面電位が第２のパターンの表面
電位より低い場合には、２つの光ビームＡ、Ｂの間隔が
適正間隔より広いので、２つの光ビームＡ、Ｂの光路長
を短くすることにより感光体１０への入射位置を変化さ
せて２つの光ビームＡ、Ｂの間隔を狭くして適正間隔に
する。

【００７４】このように、第１のパターン及び第２のパ
ターンのそれぞれのパターンの濃度又は感光体上の表面
電位を検出して比較すれば、光ビームＡ、Ｂを連続点灯
させて形成された１本の線画像の副走査方向の幅が、副
走査間隔より狭か広いかを容易に認識することができ、
比較結果に応じて２つの光ビームＡ、Ｂの間隔を狭くす
るか又は広めるか、２つの光ビームＡ、Ｂの光路長を短
くするか長くするかを容易に認識することができ、光ビ
ーム間隔を適正間隔にする調整を容易に行うことができ
る。

【００７５】なお、表面電位の平均値を算出して第１の
パターンと第２のパターンとのそれぞれが略等しくなる
ようにしてもよい。

【００７６】ここで、半導体レーザアレイ６０からの光
ビームＡ、Ｂを、互いに離れるようにそれぞれ異なる入
射角ｉ１、入射角ｉ２で感光体１０に入射させている
が、これに限定するものでなく、半導体レーザアレイ６
０からの光ビームＡ、Ｂを、互いに接近するようにそれ
ぞれ異なる入射角で感光体１０に入射させるようにして
もよい。この場合、２つの光ビームの間隔の調整は、検
出された第１のパターンの濃度が第２のパターンの濃度
より高い場合や、検出された第１のパターンの感光体１
０上の表面電位と第２のパターンの感光体１０上の表面
電位とを比較し、第１のパターンの表面電位が第２のパ
ターンの表面電位より低い場合には、２つの光ビーム
Ａ、Ｂの間隔が適正間隔より広いので、光ビームＡ、Ｂ
の光路長を短くすることにより感光体１０への入射位置
を変化させて２つの光ビームＡ、Ｂの間隔を狭くして適
正間隔にする。また、検出された第１のパターンの濃度
が第２のパターンの濃度より低い場合や、検出された第
１のパターンの表面電位が第２のパターンの表面電位よ
り高い場合には、２つの光ビームＡ、Ｂの間隔が適正間
隔より狭いので、光ビームＡ、Ｂの光路長を長くするこ
とにより光ビームＡ、Ｂの感光体１０への入射位置を変
化させて２つの光ビームの間隔を広くして適正間隔にす
る。

【００７７】ここで、偏向器３５から感光体１０までの
光路長を変化させる方法としては、図１０に示すよう
に、レーザ走査ユニット１２全体を感光体１０に対して
前後（矢印Ｍ方向）に移動させてもよい。また、第１１
図のようにレーザ走査ユニット内の反射ミラー６６、６
８、７０を移動させてもよい以上説明した実施例によれ
は、第１のパターンと第２のパターンとが形成されたそ
れぞれのパターンの濃度が互いに等しくなるように、若
しくは第１のパターンと第２のパターンとが形成された
感光体のそれぞれの表面電位が互いに略等しくなるよう
に、前記光ビームの副走査方向の間隔を調整することか
ら、記録材料に形成される画像に直接対応して光ビーム
の間隔を調整することができ、適正画質の画像を形成す
ることができる。

【００７８】また、複数の光源の各々の感光体への光ビ
ームの少なくとも副走査方向の入射角が予めそれぞれ異
なるようにし、複数の光源の各々から前記感光体までの
光路長を調整することから、感光体への入射位置を調整
でき、これにより、光ビームの副走査方向の間隔が略等
しくなるようにすることができる。この結果、適正画質
の画像を形成することができる。

【００７９】以上説明した実施例では、感光体１０への
光ビームの入射角を予めそれぞれ副走査方向に対して異
なるようにして、光ビームＡ、Ｂ光路長を調整すること
により光ビームＡ、Ｂの間隔を調整するようにしている
が、これに限定されるものでなく、次のように行うこと
もできる。

【００８０】すなわち、各光ビームＡ、Ｂの光路中にプ
リズムを設け、頂角、屈折率及び光ビームＡ、Ｂの該プ
リズムへの入射角の少なくとも１つを調整することによ
り光ビームＡ、Ｂの間隔を調整してもよい。

【００８１】また、図１に示した半導体レーザアレイ６
０と光偏向器３５との間の光ビームＡ、Ｂの光路中に、
コリメータレンズ３３に代えて、又はコリメータレンズ
３３と共に、前群と後群との２群からなるコリメータレ
ンズを、又は、２枚の副走査方向にパワーを有するシリ
ンダレンズを配置させて、これらのレンズの位置を変え
ることにより光ビームＡ、Ｂの間隔を調整してもよい。

【００８２】さらに、図１に示した半導体レーザアレイ
６０と光偏向器３５との間の光ビームＡ、Ｂの光路中
に、コリメータレンズ３３に代えて、又はコリメータレ
ンズ３３と共に、主走査方向と直交する面内においての
み結像倍率を変化させることのできる１群は固定され、
他の２つの群が移動可能の３群のレンズ系から構成され
たアフォーカルビームエキスパンダを使用して、２群の
位置を調節して光ビームＡ、Ｂの間隔を調整してもよ
い。

【００８３】以上説明した実施例では、感光体を移動さ
せて副走査する例について説明したが、これに限定する
ものでなく、２つ光ビームを移動させて、又は、２つの
光ビームと感光体とを移動させて、副走査してもよい。

【００８４】また、前述した実施例では、光偏向器とし
てのポリゴンミラー及びｆθレンズを用いているが、こ
れに限定するものでなく、例えば、光偏向器として正弦
振動するガルバノメータミラーを用いてもよく、この場
合、ｆθレンズに代えて、アークサインの歪みを有する
レンズを用いるようにしてもよい。

【００８５】また、前述した実施例では、２つの光ビー
ムを発生させる光源としては、半導体レーザアレイを例
にして説明したが、これに限定するものでなく、光ビー
ムを発生させる２個の半導体レーザを用いるようにして
もよい。

【００８６】

【発明の効果】以上説明したように請求項１記載の発明
は、形成された前記第１のパターン及び前記第２のパタ
ーンのそれぞれの濃度が略等しくなるように、前記光ビ
ームの間隔を調整することから、現像された画像に直接
対応した光ビームの間隔の調整を行うことができ、適正
画質の画像を形成することができる、という効果を有す
る。

【００８７】請求項２記載の発明は、前記第１のパター
ンと前記第２のパターンが形成された感光体上のそれぞ
れの表面電位が略等しくなるように、前記光ビームの前
記感光体上の間隔を調整することから、現像される画像
に直接対応した光ビームの間隔の調整を行うことがで
き、適正画質の画像を形成することができる、という効
果を有する。

【００８８】請求項３記載の発明は、感光体への２つの
光ビームの少なくとも副走査方向の入射角が予めそれぞ
れ異なるようにし、２つの光ビームの光路長を調整する
ことから、感光体上の光ビームの入射位置を調整でき、
光ビームの感光体上の間隔が略等しくなるようにするこ
とができる、という効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例で光ビーム間隔が調整される画像形成
装置の概略構成図である。

【図２】画像形成装置における画像形成のための現像、
転写の作用を示した説明図である。

【図３】（ａ）は第１のパターンを、（ｂ）は第２のパ
ターンを説明する説明図である。

【図４】（ａ）は光ビーム間隔が不適正な場合における
第１のパターンにおける走査線を、（ｂ）は光ビーム間
隔が不適正な場合における第２のパターンにおける走査
線を示した図である。

【図５】間隔が適正な場合の光ビームのレーザパワーの
分布図である。

【図６】間隔が不適正な光ビームの形成された第１のパ
ターンのレーザパワーの分布図である。

【図７】間隔が不適正な光ビームの形成された第２のパ
ターンのレーザパワーの分布図である。

【図８】第１のパターンと第２のパターンとを交互にそ
れぞれ形成して形成された線画像を示した図である。

【図９】感光体への入射位置が異なるようにしたときの
光ビームの光路を示した図である。

【図１０】偏向器から感光体までの光路長を変化させる
第１の方法を示す説明図である。

【図１１】偏向器から感光体までの光路長を変化させる
第２の方法を示す説明図である。

【符号の説明】

１０ 感光体 １１ 帯電コロトロン １２ レーザ走査ユニット １３ 現像器 １７ 記録用紙 ３５ 偏向器 ６０ 半導体レーザ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 照射された２つの光ビームを偏向するこ
   とにより同時に主走査すると共に前記２つの光ビームと
   前記感光体との少なくとも一方を相対的に移動させて副
   走査して感光体に静電潜像を形成し、前記静電潜像を現
   像して記録材料上に画像を形成する画像形成装置の前記
   感光体上における前記光ビームの間隔を調整するにあた
   って、 前記２つの光ビームを連続点灯させた主走査と前記２つ
   の光ビームを連続消灯させた主走査との組合せによっ
   て、２つの光ビームの１部が重なって主走査される領域
   と２つの光ビームとも主走査されない領域とが交互に配
   列された第１のパターンを形成する、と共に、一方の光
   ビームを連続点灯させかつ他方の光ビームを連続消灯さ
   せた主走査と一方の光ビームを連続消灯させかつ他方の
   光ビームを連続点灯させた主走査との組合せによって、
   ２つの光ビームの１部が重なって主走査される領域と２
   つの光ビームとも主走査されない領域とが交互に配列さ
   れた第２のパターンを形成し、 形成された第１のパターン及び第２のパターンを現像
   し、 現像されたそれぞれのパターンの濃度を検出し、 前記検出されたパターンの濃度がそれぞれ略等しくなる
   ように、前記光ビームの間隔を調整する、 画像形成装置の光ビーム間隔調整方法。
2. 【請求項２】 照射された２つの光ビームを偏向するこ
   とにより同時に主走査すると共に前記２つの光ビームと
   前記感光体との少なくとも一方を相対的に移動させて副
   走査して感光体に静電潜像を形成し、前記静電潜像を現
   像して記録材料上に画像を形成する画像形成装置の前記
   感光体上における前記光ビームの間隔を調整するにあた
   って、 前記２つの光ビームを連続点灯させた主走査と前記２つ
   の光ビームを連続消灯させた主走査との組合せによっ
   て、２つの光ビームの１部が重なって主走査される領域
   と２つの光ビームとも主走査されない領域とが交互に配
   列された第１のパターンを感光体上に形成する、と共
   に、一方の光ビームを連続点灯させかつ他方の光ビーム
   を連続消灯させた主走査と一方の光ビームを連続消灯さ
   せかつ他方の光ビームを連続点灯させた主走査との組合
   せによって、２つの光ビームの１部が重なって主走査さ
   れる領域と２つの光ビームとも主走査されない領域とが
   交互に配列された第２のパターンを感光体上に形成し、 前記第１のパターンと前記第２のパターンとが形成され
   た感光体のそれぞれの表面電位を検出し、 前記表面電位が略等しくなるように、前記光ビームの前
   記感光体上の間隔を調整する、 画像形成装置の光ビーム間隔調整方法。
3. 【請求項３】 前記感光体への前記２つの光ビームの少
   なくとも副走査方向に対する入射角が予めそれぞれ異な
   るようにし、前記２つの光ビームの光路長を調整するこ
   とにより前記２つの光ビームの前記感光体上の間隔を調
   整することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の画
   像形成装置の光ビーム間隔調整方法。