JPH08145984A - 非金属介在物の検査装置 - Google Patents
非金属介在物の検査装置Info
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- JPH08145984A JPH08145984A JP6286746A JP28674694A JPH08145984A JP H08145984 A JPH08145984 A JP H08145984A JP 6286746 A JP6286746 A JP 6286746A JP 28674694 A JP28674694 A JP 28674694A JP H08145984 A JPH08145984 A JP H08145984A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 撮像装置１１により撮像された画像データに
関する濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段
１２２ｃ、及びこれら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、
予め設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別す
るしきい値ＫCO、σCOとを比較することにより非金属介
在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手段
１２２ｄを含んで分別装置１２が構成されている非金属
介在物の検査装置１０。 【効果】 非金属介在物と誤認要因との濃度プロファイ
ルにはそれぞれ差異があり、誤認要因に比べて非金属介
在物の濃度勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方が小さく、こ
のため、これらを容易に自動的に分別することができ
る。この結果、誤認要因を除外し、非金属介在物のみに
関して測定・分類を行なうことができ、定量解析を正確
に実施することができる。
関する濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段
１２２ｃ、及びこれら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、
予め設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別す
るしきい値ＫCO、σCOとを比較することにより非金属介
在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手段
１２２ｄを含んで分別装置１２が構成されている非金属
介在物の検査装置１０。 【効果】 非金属介在物と誤認要因との濃度プロファイ
ルにはそれぞれ差異があり、誤認要因に比べて非金属介
在物の濃度勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方が小さく、こ
のため、これらを容易に自動的に分別することができ
る。この結果、誤認要因を除外し、非金属介在物のみに
関して測定・分類を行なうことができ、定量解析を正確
に実施することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は非金属介在物の検査装置
に関し、より詳細には、例えば鋼材等の金属材料中にお
ける酸化物系、硫化物系、炭窒化物系、珪酸塩系等の非
金属介在物を検出・分類する際に使用する画像処理技術
を用いた非金属介在物の検査装置に関する。
に関し、より詳細には、例えば鋼材等の金属材料中にお
ける酸化物系、硫化物系、炭窒化物系、珪酸塩系等の非
金属介在物を検出・分類する際に使用する画像処理技術
を用いた非金属介在物の検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属材料中に存在する例えば酸化物系、
硫化物系、炭窒化物系、珪酸塩系等の非金属介在物は機
械的諸特性に影響を及ぼすため、これらの定量解析を行
うことは品質管理上大変重要である。非金属介在物の検
査方法としてはＡＳＴＭ法、ＪＩＳ法、ミシュラン法な
どが知られているが、従来の方法はいずれも光学顕微鏡
を用いて目視により測定していたため、検査速度が遅
く、また測定誤差が生じ易いという問題があった。これ
らの問題に対処するため、最近では画像処理技術を用い
て自動的に非金属介在物の検出・分類を行なう検査装置
が開発されている。
硫化物系、炭窒化物系、珪酸塩系等の非金属介在物は機
械的諸特性に影響を及ぼすため、これらの定量解析を行
うことは品質管理上大変重要である。非金属介在物の検
査方法としてはＡＳＴＭ法、ＪＩＳ法、ミシュラン法な
どが知られているが、従来の方法はいずれも光学顕微鏡
を用いて目視により測定していたため、検査速度が遅
く、また測定誤差が生じ易いという問題があった。これ
らの問題に対処するため、最近では画像処理技術を用い
て自動的に非金属介在物の検出・分類を行なう検査装置
が開発されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、水分や酸素
に対するマトリックスの親和力が強い場合、被検査体表
面にシミ、錆等が発生し易く、また測定環境によっては
塵埃等が付着し易い。上記した従来の画像処理技術を用
いた非金属介在物の検査装置においては、これらのし
み、錆、塵埃等のような非金属介在物とは異なるもの
（以下、これらを単に誤認要因と記す）と非金属介在物
とが判別され難く（以下、非金属介在物と誤認要因とを
総称して対象物と記す）、この誤認要因までをも非金属
介在物として検出してしまい、定量解析を正確に行うの
が困難であるという課題があった。
に対するマトリックスの親和力が強い場合、被検査体表
面にシミ、錆等が発生し易く、また測定環境によっては
塵埃等が付着し易い。上記した従来の画像処理技術を用
いた非金属介在物の検査装置においては、これらのし
み、錆、塵埃等のような非金属介在物とは異なるもの
（以下、これらを単に誤認要因と記す）と非金属介在物
とが判別され難く（以下、非金属介在物と誤認要因とを
総称して対象物と記す）、この誤認要因までをも非金属
介在物として検出してしまい、定量解析を正確に行うの
が困難であるという課題があった。
【０００４】本発明はこのような課題に鑑みなされたも
のであり、非金属介在物と誤認要因とを自動的に分別す
ることができ、非金属介在物の定量解析を正確に行うこ
とができる非金属介在物の検査装置を提供することを目
的としている。
のであり、非金属介在物と誤認要因とを自動的に分別す
ることができ、非金属介在物の定量解析を正確に行うこ
とができる非金属介在物の検査装置を提供することを目
的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係る非金属介在物の検査装置は、被検査体を
撮像する撮像装置と、該撮像装置の撮像結果に基づいて
被検査体中の非金属介在物及び非金属介在物誤認要因を
分別する分別装置と、該分別装置の分別結果を出力する
出力装置とで構成される非金属介在物の検査装置であっ
て、前記撮像装置により撮像された画像データに関する
濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段、及び
これら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、予め設定してお
いた非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値
ＫCO、σCOとを比較することにより非金属介在物である
か誤認要因であるかを判断する比較判断手段を含んで前
記分別装置が構成されていることを特徴としている
（１）。
に本発明に係る非金属介在物の検査装置は、被検査体を
撮像する撮像装置と、該撮像装置の撮像結果に基づいて
被検査体中の非金属介在物及び非金属介在物誤認要因を
分別する分別装置と、該分別装置の分別結果を出力する
出力装置とで構成される非金属介在物の検査装置であっ
て、前記撮像装置により撮像された画像データに関する
濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段、及び
これら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、予め設定してお
いた非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値
ＫCO、σCOとを比較することにより非金属介在物である
か誤認要因であるかを判断する比較判断手段を含んで前
記分別装置が構成されていることを特徴としている
（１）。
【０００６】なお濃度勾配Ｋとは、ｍ＋１個の画素に対
する対象物ｍ個目の画素濃度と境界近傍におけるマトリ
ックスの画素濃度との濃度差をいう。
する対象物ｍ個目の画素濃度と境界近傍におけるマトリ
ックスの画素濃度との濃度差をいう。
【０００７】また本発明に係る非金属介在物の検査装置
は、被検査体を撮像する撮像装置と、該撮像装置の撮像
結果に基づいて被検査体中の非金属介在物及び誤認要因
を分別する分別装置と、該分別装置の分別結果を出力す
る出力装置とで構成される非金属介在物の検査装置であ
って、前記撮像装置により撮像された画像データに関す
る濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏
差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒストグラム
形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予め設定し
ておいた非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値
ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金属介在物
であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手段を含
んで前記分別装置が構成されていることを特徴としてい
る（２）。
は、被検査体を撮像する撮像装置と、該撮像装置の撮像
結果に基づいて被検査体中の非金属介在物及び誤認要因
を分別する分別装置と、該分別装置の分別結果を出力す
る出力装置とで構成される非金属介在物の検査装置であ
って、前記撮像装置により撮像された画像データに関す
る濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏
差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒストグラム
形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予め設定し
ておいた非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値
ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金属介在物
であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手段を含
んで前記分別装置が構成されていることを特徴としてい
る（２）。
【０００８】
【作用】上記構成の非金属介在物の検査装置（１）によ
れば、撮像装置により撮像された画像データに関する濃
度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段、及びこ
れら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、予め設定しておい
た非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値ＫCO、
σCOとを比較することにより非金属介在物であるか誤認
要因であるかを判断する比較判断手段を含んで分別装置
が構成されており、前記非金属介在物と前記誤認要因と
の濃度プロファイルにはそれぞれ差異があり、前記誤認
要因に比べて前記非金属介在物における前記濃度勾配Ｋ
及び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金
属介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別し得る
こととなる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属
介在物のみに関して測定・分類を行ない得ることとな
り、定量解析を正確に実施し得ることとなる。
れば、撮像装置により撮像された画像データに関する濃
度勾配Ｋ、濃度標準偏差σを算出する算出手段、及びこ
れら濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σと、予め設定しておい
た非金属介在物及び誤認要因を分別するしきい値ＫCO、
σCOとを比較することにより非金属介在物であるか誤認
要因であるかを判断する比較判断手段を含んで分別装置
が構成されており、前記非金属介在物と前記誤認要因と
の濃度プロファイルにはそれぞれ差異があり、前記誤認
要因に比べて前記非金属介在物における前記濃度勾配Ｋ
及び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金
属介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別し得る
こととなる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属
介在物のみに関して測定・分類を行ない得ることとな
り、定量解析を正確に実施し得ることとなる。
【０００９】また上記構成の非金属介在物の検査装置
（２）によれば、撮像装置により撮像された画像データ
に関する濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度
標準偏差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒスト
グラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予め
設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別するし
きい値ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金属
介在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手
段を含んで分別装置が構成されており、前記非金属介在
物と前記誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ差
異があり、例えば該濃度ヒストグラムより算出される正
規分布曲線式等を用いて前記濃度ヒストグラム形状Ｈに
近似させると、前記誤認要因に比べて前記非金属介在物
における前記濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ及
び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金属
介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別し得るこ
ととなる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属介
在物のみに関して測定・分類を行ない得ることとなり、
定量解析を正確に実施し得ることとなる。
（２）によれば、撮像装置により撮像された画像データ
に関する濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度
標準偏差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒスト
グラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予め
設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別するし
きい値ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金属
介在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断手
段を含んで分別装置が構成されており、前記非金属介在
物と前記誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ差
異があり、例えば該濃度ヒストグラムより算出される正
規分布曲線式等を用いて前記濃度ヒストグラム形状Ｈに
近似させると、前記誤認要因に比べて前記非金属介在物
における前記濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ及
び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金属
介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別し得るこ
ととなる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属介
在物のみに関して測定・分類を行ない得ることとなり、
定量解析を正確に実施し得ることとなる。
【００１０】
【実施例及び比較例】以下、本発明に係る非金属介在物
の検査装置の実施例を図面に基づいて説明する。
の検査装置の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１１】図１は本発明に係る非金属介在物の検査装
置の実施例１を示したブロック図であり、図中３０は被
検査体を示している。被検査体３０はＸ−Ｙステージ１
１５上に載置され、Ｘ−Ｙステージ１１５はステージコ
ントローラ１１６に接続されており、ステージコントロ
ーラ１１６の制御により、被検査体３０がＸ−Ｙステー
ジ１１５を介してＸ軸またはＹ軸方向に所定量移動し得
るようになっている。一方、Ｘ−Ｙステージ１１５上方
には光学顕微鏡１１１が配設され、光学顕微鏡１１１上
には照明用光源１１３を介して工業用ＴＶカメラ１１２
が接続されており、照明用光源１１３により照射された
被検査体３０表面が光学顕微鏡１１１により所定倍率に
拡大され、この画像が工業用ＴＶカメラ１１２により撮
像されるようになっている。また光学顕微鏡１１１はオ
ートフォーカスコントローラ１１４に接続されており、
オートフォーカスコントローラ１１４の制御により、被
検査体３０表面に関する光学顕微鏡１１１の焦点が自動
的に調整されるようになっている。これら光学的顕微鏡
１１１、工業用ＴＶカメラ１１２、Ｘ−Ｙステージ１１
５等を含んで撮像装置１１が構成されている。
置の実施例１を示したブロック図であり、図中３０は被
検査体を示している。被検査体３０はＸ−Ｙステージ１
１５上に載置され、Ｘ−Ｙステージ１１５はステージコ
ントローラ１１６に接続されており、ステージコントロ
ーラ１１６の制御により、被検査体３０がＸ−Ｙステー
ジ１１５を介してＸ軸またはＹ軸方向に所定量移動し得
るようになっている。一方、Ｘ−Ｙステージ１１５上方
には光学顕微鏡１１１が配設され、光学顕微鏡１１１上
には照明用光源１１３を介して工業用ＴＶカメラ１１２
が接続されており、照明用光源１１３により照射された
被検査体３０表面が光学顕微鏡１１１により所定倍率に
拡大され、この画像が工業用ＴＶカメラ１１２により撮
像されるようになっている。また光学顕微鏡１１１はオ
ートフォーカスコントローラ１１４に接続されており、
オートフォーカスコントローラ１１４の制御により、被
検査体３０表面に関する光学顕微鏡１１１の焦点が自動
的に調整されるようになっている。これら光学的顕微鏡
１１１、工業用ＴＶカメラ１１２、Ｘ−Ｙステージ１１
５等を含んで撮像装置１１が構成されている。
【００１２】また工業用ＴＶカメラ１１２はＡ／Ｄ変換
器１２１ａ等を含んで構成された画像処理部１２１に接
続されており、工業用ＴＶカメラ１１２により撮像・変
換された画面単位における一連の画素濃度（アナログ）
信号が画像処理部１２１において多値化された一連の画
素濃度（デジタル）信号に変換される。また画像処理部
１２１はＣＰＵ１２２ａ、メモリ１２２ｂ、算出手段１
２２ｃ、比較判断手段１２２ｄ等を含んで構成された情
報処理部１２２に接続され、情報処理部１２２はオート
フォーカスコントローラ１１４、ステージコントローラ
１１６に接続されている。そして情報処理部１２２によ
りこれらコントローラ１１４、１１６が制御され、また
画像処理部１２１からの映像信号の取り込み指示が行な
われると共に、画面単位における一連の画素濃度信号デ
ータ、予め設定された非金属介在物の分類データ、しき
い値ＫCO、σCO等が記憶されるようになっている。また
所定走査線Ａ、Ｂ、…（図３）ごとの濃度プロファイル
が取り出せると共に、対象物３２（図３）の長さや幅、
対象物３２間の距離の検出、これに基づく非金属介在物
の分類決定等のデータ処理が行なわれるようになってい
る。さらに算出手段１２２ｃにより濃度勾配Ｋと濃度標
準偏差σとが算出され、比較判断手段１２２ｄにより濃
度勾配Ｋ、濃度標準偏差σとしきい値ＫCO、σCOとがそ
れぞれ比較され、対象物３２が非金属介在物であるか誤
認要因であるかが判断されるようになっている。これら
画像処理部１２１、情報処理部１２２等を含んで分別装
置１２が構成されている。
器１２１ａ等を含んで構成された画像処理部１２１に接
続されており、工業用ＴＶカメラ１１２により撮像・変
換された画面単位における一連の画素濃度（アナログ）
信号が画像処理部１２１において多値化された一連の画
素濃度（デジタル）信号に変換される。また画像処理部
１２１はＣＰＵ１２２ａ、メモリ１２２ｂ、算出手段１
２２ｃ、比較判断手段１２２ｄ等を含んで構成された情
報処理部１２２に接続され、情報処理部１２２はオート
フォーカスコントローラ１１４、ステージコントローラ
１１６に接続されている。そして情報処理部１２２によ
りこれらコントローラ１１４、１１６が制御され、また
画像処理部１２１からの映像信号の取り込み指示が行な
われると共に、画面単位における一連の画素濃度信号デ
ータ、予め設定された非金属介在物の分類データ、しき
い値ＫCO、σCO等が記憶されるようになっている。また
所定走査線Ａ、Ｂ、…（図３）ごとの濃度プロファイル
が取り出せると共に、対象物３２（図３）の長さや幅、
対象物３２間の距離の検出、これに基づく非金属介在物
の分類決定等のデータ処理が行なわれるようになってい
る。さらに算出手段１２２ｃにより濃度勾配Ｋと濃度標
準偏差σとが算出され、比較判断手段１２２ｄにより濃
度勾配Ｋ、濃度標準偏差σとしきい値ＫCO、σCOとがそ
れぞれ比較され、対象物３２が非金属介在物であるか誤
認要因であるかが判断されるようになっている。これら
画像処理部１２１、情報処理部１２２等を含んで分別装
置１２が構成されている。
【００１３】また画像処理部１２１は画像モニタ１３１
ａ及びビデオプリンタ１３１ｂに接続されており、撮像
装置１１により撮像された映像が画像モニタ１３１ａ及
びビデオプリンタ１３１ｂに出力されるようになってい
る。また情報処理部１２２はモニタディスプレイ１３２
及びプリンタ１３３に接続され、情報処理部１２２によ
り処理された検査結果等が出力されるようになってお
り、これら画像モニタ１３１ａ、モニタディスプレイ１
３２、プリンタ１３３等を含んで出力装置１３が構成さ
れている。これら撮像装置１１、分別装置１２、出力装
置１３により非金属介在物の検査装置１０が構成されて
いる。
ａ及びビデオプリンタ１３１ｂに接続されており、撮像
装置１１により撮像された映像が画像モニタ１３１ａ及
びビデオプリンタ１３１ｂに出力されるようになってい
る。また情報処理部１２２はモニタディスプレイ１３２
及びプリンタ１３３に接続され、情報処理部１２２によ
り処理された検査結果等が出力されるようになってお
り、これら画像モニタ１３１ａ、モニタディスプレイ１
３２、プリンタ１３３等を含んで出力装置１３が構成さ
れている。これら撮像装置１１、分別装置１２、出力装
置１３により非金属介在物の検査装置１０が構成されて
いる。
【００１４】次に、このように構成された検査装置１０
を用いて被検査体３０表面を撮像し、撮像された対象物
３２が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別した
後、非金属介在物の定量解析を行なう際の動作を図１〜
３に基づいて説明する。図２は撮像された対象物が非金
属介在物か、あるいは誤認要因かを分別する分別装置１
２の動作を示したフローチャートである。メモリ１２２
ｂには図３に示したマトリックス３１と対象物３２とに
関する画素Ｎi(ｉ＝０、１、２、…）ごとの画素濃度Ｃ
i(ｉ＝０、１、２、…）データが既に記憶されている。
まずＣＰＵ１２２ａにおいてこの画素濃度Ｃi データが
走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度プロファイルとして取り出
される（Ｓ１）。次に算出手段１２２ｃにおいて、対象
物３２の境界近傍におけるマトリックス３１（画素Ｎ
0 ）の画素濃度Ｃ0 と対象物３２内に所定画素数ｍほど
入った箇所の画素濃度Ｃm とが算出された後、これらの
値が数１に導入されて各走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度勾
配Ｋが算出される。
を用いて被検査体３０表面を撮像し、撮像された対象物
３２が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別した
後、非金属介在物の定量解析を行なう際の動作を図１〜
３に基づいて説明する。図２は撮像された対象物が非金
属介在物か、あるいは誤認要因かを分別する分別装置１
２の動作を示したフローチャートである。メモリ１２２
ｂには図３に示したマトリックス３１と対象物３２とに
関する画素Ｎi(ｉ＝０、１、２、…）ごとの画素濃度Ｃ
i(ｉ＝０、１、２、…）データが既に記憶されている。
まずＣＰＵ１２２ａにおいてこの画素濃度Ｃi データが
走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度プロファイルとして取り出
される（Ｓ１）。次に算出手段１２２ｃにおいて、対象
物３２の境界近傍におけるマトリックス３１（画素Ｎ
0 ）の画素濃度Ｃ0 と対象物３２内に所定画素数ｍほど
入った箇所の画素濃度Ｃm とが算出された後、これらの
値が数１に導入されて各走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度勾
配Ｋが算出される。
【００１５】
【数１】
【００１６】また算出手段１２２ｃにおいて、数２に基
づき対象物３２内の濃度平均値Ｘが算出された後、数３
に基づき各走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度標準偏差σが算
出される（Ｓ２）。
づき対象物３２内の濃度平均値Ｘが算出された後、数３
に基づき各走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度標準偏差σが算
出される（Ｓ２）。
【００１７】
【数２】
【００１８】
【数３】
【００１９】次にメモリ１２２ｂに予め設定・記憶され
たしきい値ＫCO、σCOが呼び出された後（Ｓ３）、比較
判断手段１２２ｄにおいて濃度勾配Ｋがしきい値ＫCO以
下であるか否かが判断され（Ｓ４）、しきい値ＫCO以下
でないと判断されるとＳ７に進んで、否定回数が入力さ
れてカウント値Ｂが積算される。一方、しきい値ＫCO以
下であると判断されると、次に濃度標準偏差σがしきい
値σCO以下であるか否かが判断され（Ｓ５）、しきい値
σCO以下でないと判断されるとＳ７に進んで、否定回数
が入力されてカウント値Ｂに加算される。他方、しきい
値σCO以下であると判断されるとＳ６に進んで、Ｓ４、
Ｓ５の肯定回数がそれぞれ入力されてカウント値Ａが積
算される。次にカウント値ＡがＢより多いか否かが判断
され（Ｓ８）、多くないと判断された場合、この対象物
３２を誤認要因であるとみなして検査対象から除外する
（Ｓ９）一方、多いと判断された場合、この対象物３２
に関して通常の検査を行ない、非金属介在物の定量解析
を実施する（Ｓ１０）。
たしきい値ＫCO、σCOが呼び出された後（Ｓ３）、比較
判断手段１２２ｄにおいて濃度勾配Ｋがしきい値ＫCO以
下であるか否かが判断され（Ｓ４）、しきい値ＫCO以下
でないと判断されるとＳ７に進んで、否定回数が入力さ
れてカウント値Ｂが積算される。一方、しきい値ＫCO以
下であると判断されると、次に濃度標準偏差σがしきい
値σCO以下であるか否かが判断され（Ｓ５）、しきい値
σCO以下でないと判断されるとＳ７に進んで、否定回数
が入力されてカウント値Ｂに加算される。他方、しきい
値σCO以下であると判断されるとＳ６に進んで、Ｓ４、
Ｓ５の肯定回数がそれぞれ入力されてカウント値Ａが積
算される。次にカウント値ＡがＢより多いか否かが判断
され（Ｓ８）、多くないと判断された場合、この対象物
３２を誤認要因であるとみなして検査対象から除外する
（Ｓ９）一方、多いと判断された場合、この対象物３２
に関して通常の検査を行ない、非金属介在物の定量解析
を実施する（Ｓ１０）。
【００２０】以下に、実施例１に係る検査装置１０を用
いて対象物を検査した結果について説明する。図６は対
象物のミクロ写真をスケッチした図であり、（ａ）は非
金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は錆、（ｄ）は塵埃
を示している。また図７は濃度プロファイルの一例を示
した曲線図であり、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシ
ミ、（ｃ）は塵埃の場合を示している。分別条件として
は画素数ｍを６個、しきい値ＫCOを２０、しきい値σCO
を３０に設定した。なお比較例として算出手段１２２
ｃ、比較判断手段１２２ｄを備えていない従来の検査装
置を用いて検査を行なった。この結果、比較例の装置の
場合ではシミ、錆、塵埃の誤認率はそれぞれ約３０％、
８５％、４７％であったが、実施例に係る装置の場合で
はそれぞれ約２％、５％、２％であった。
いて対象物を検査した結果について説明する。図６は対
象物のミクロ写真をスケッチした図であり、（ａ）は非
金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は錆、（ｄ）は塵埃
を示している。また図７は濃度プロファイルの一例を示
した曲線図であり、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシ
ミ、（ｃ）は塵埃の場合を示している。分別条件として
は画素数ｍを６個、しきい値ＫCOを２０、しきい値σCO
を３０に設定した。なお比較例として算出手段１２２
ｃ、比較判断手段１２２ｄを備えていない従来の検査装
置を用いて検査を行なった。この結果、比較例の装置の
場合ではシミ、錆、塵埃の誤認率はそれぞれ約３０％、
８５％、４７％であったが、実施例に係る装置の場合で
はそれぞれ約２％、５％、２％であった。
【００２１】上記結果及び説明から明らかなように、実
施例１に係る非金属介在物の検査装置１０では、非金属
介在物と誤認要因との濃度プロファイルにはそれぞれ差
異があり、誤認要因に比べて非金属介在物における濃度
勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方が小さいため、非金属介
在物と誤認要因とが容易に自動的に分別される。この結
果、誤認要因を除外し、非金属介在物のみに関して測定
・分類を行なうことができ、定量解析を確実に実施する
ことができる。
施例１に係る非金属介在物の検査装置１０では、非金属
介在物と誤認要因との濃度プロファイルにはそれぞれ差
異があり、誤認要因に比べて非金属介在物における濃度
勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方が小さいため、非金属介
在物と誤認要因とが容易に自動的に分別される。この結
果、誤認要因を除外し、非金属介在物のみに関して測定
・分類を行なうことができ、定量解析を確実に実施する
ことができる。
【００２２】また、本発明に係る非金属介在物の検査装
置の実施例２を図１に示したブロック図に併せて記載し
てあり、実施例１のものと異なる構成部品については部
品番号を括弧で示している。情報処理部２２２はＣＰＵ
１２２ａ、メモリ２２２ｂ、算出手段２２２ｃ、比較判
断手段２２２ｄ等を含んで構成されており、メモリ２２
２ｂにはしきい値ＨCO、ＸCO、σCOが記憶されている。
また算出手段２２２ｃにより濃度ヒストラム形状Ｈ、濃
度平均値Ｘ、濃度標準偏差σが算出され、比較判断手段
２２２ｄにより濃度ヒストラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、
濃度標準偏差σとしきい値ＫCO、ＸCO、σCOとがそれぞ
れ比較され、対象物３２（図３）が非金属介在物である
か誤認要因であるかが判断されるようになっている。そ
の他の構成は実施例１のものと同様であるので、ここで
はその構成の詳細な説明は省略することとする。これら
画像処理部１２１、情報処理部２２２等を含んで分別装
置２２が構成され、撮像装置１１、分別装置２２、出力
装置１３を含んで非金属介在物の検査装置２０が構成さ
れている。
置の実施例２を図１に示したブロック図に併せて記載し
てあり、実施例１のものと異なる構成部品については部
品番号を括弧で示している。情報処理部２２２はＣＰＵ
１２２ａ、メモリ２２２ｂ、算出手段２２２ｃ、比較判
断手段２２２ｄ等を含んで構成されており、メモリ２２
２ｂにはしきい値ＨCO、ＸCO、σCOが記憶されている。
また算出手段２２２ｃにより濃度ヒストラム形状Ｈ、濃
度平均値Ｘ、濃度標準偏差σが算出され、比較判断手段
２２２ｄにより濃度ヒストラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、
濃度標準偏差σとしきい値ＫCO、ＸCO、σCOとがそれぞ
れ比較され、対象物３２（図３）が非金属介在物である
か誤認要因であるかが判断されるようになっている。そ
の他の構成は実施例１のものと同様であるので、ここで
はその構成の詳細な説明は省略することとする。これら
画像処理部１２１、情報処理部２２２等を含んで分別装
置２２が構成され、撮像装置１１、分別装置２２、出力
装置１３を含んで非金属介在物の検査装置２０が構成さ
れている。
【００２３】次に、このように構成された検査装置２０
を用いて被検査体３０表面を撮像し、撮像された対象物
３２が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別した
後、非金属介在物の定量解析を行なう際の動作を図１、
３、４、５に基づいて説明する。図４は撮像された対象
物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別する分
別装置２２の動作を示したフローチャートである。メモ
リ２２２ｂには図３に示したマトリックス３１と対象物
３２とに関する画素Ｎi(ｉ＝０、１、２、…）ごとの画
素濃度Ｃi(ｉ＝０、１、２、…）データが既に記憶され
ている。まずＣＰＵ１２２ａにおいてこの画素濃度Ｃi
データが走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度プロファイルとし
て取り出される（Ｓ１）。次に算出手段２２２ｃにおい
てこの濃度プロファイルに基づき、所定の階級により走
査線Ａ、Ｂ、…ごとの対象物３２に関する濃度ヒストグ
ラムが算出される（Ｓ２）。次に算出手段２２２ｃにお
いて上記数２、３に基づき濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差
σが算出され、またこれらの数値を数４に導入して濃度
ヒストグラム形状Ｈが算出される（Ｓ３）。
を用いて被検査体３０表面を撮像し、撮像された対象物
３２が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別した
後、非金属介在物の定量解析を行なう際の動作を図１、
３、４、５に基づいて説明する。図４は撮像された対象
物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分別する分
別装置２２の動作を示したフローチャートである。メモ
リ２２２ｂには図３に示したマトリックス３１と対象物
３２とに関する画素Ｎi(ｉ＝０、１、２、…）ごとの画
素濃度Ｃi(ｉ＝０、１、２、…）データが既に記憶され
ている。まずＣＰＵ１２２ａにおいてこの画素濃度Ｃi
データが走査線Ａ、Ｂ、…ごとの濃度プロファイルとし
て取り出される（Ｓ１）。次に算出手段２２２ｃにおい
てこの濃度プロファイルに基づき、所定の階級により走
査線Ａ、Ｂ、…ごとの対象物３２に関する濃度ヒストグ
ラムが算出される（Ｓ２）。次に算出手段２２２ｃにお
いて上記数２、３に基づき濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差
σが算出され、またこれらの数値を数４に導入して濃度
ヒストグラム形状Ｈが算出される（Ｓ３）。
【００２４】
【数４】
【００２５】次にメモリ２２２ｂに予め設定・記憶され
たしきい値ＸCO、σCO、ＨCOが呼び出され（Ｓ４）、こ
の後比較判断手段１２２ｄにおいて濃度平均値Ｘがしき
い値ＸCO以下であるか否かが判断され（Ｓ５）、しきい
値ＸCO以下でないと判断されるとＳ８に進んで、否定回
数が入力されてカウント値Ｂが積算される。一方、しき
い値ＸCO以下であると判断されると、次に濃度標準偏差
σがしきい値σCO以下であるか否かが判断され（Ｓ
６）、しきい値σCO以下でないと判断されるとＳ８に進
んで、否定回数が入力されてカウント値Ｂに加算され
る。他方、しきい値σCO以下であると判断されると、次
に濃度ヒストグラム形状Ｈがしきい値ＨCO以下であるか
否かが判断され（Ｓ７）、しきい値ＨCO以下でないと判
断されるとＳ８に進んで、否定回数が入力されてカウン
ト値Ｂに加算される。一方、しきい値ＨCO以下であると
判断されるとＳ９に進んで、Ｓ５、Ｓ６、Ｓ７の肯定回
数がそれぞれ入力されてカウント値Ａが積算される。次
にカウント値ＡがＢより多いか否かが判断され（Ｓ１
０）、多くないと判断された場合、この対象物３２を誤
認要因であるとみなして検査対象から除外する（Ｓ１
１）一方、多いと判断された場合、この対象物３２に関
して通常の検査を行ない、非金属介在物の定量解析を実
施する（Ｓ１２）。
たしきい値ＸCO、σCO、ＨCOが呼び出され（Ｓ４）、こ
の後比較判断手段１２２ｄにおいて濃度平均値Ｘがしき
い値ＸCO以下であるか否かが判断され（Ｓ５）、しきい
値ＸCO以下でないと判断されるとＳ８に進んで、否定回
数が入力されてカウント値Ｂが積算される。一方、しき
い値ＸCO以下であると判断されると、次に濃度標準偏差
σがしきい値σCO以下であるか否かが判断され（Ｓ
６）、しきい値σCO以下でないと判断されるとＳ８に進
んで、否定回数が入力されてカウント値Ｂに加算され
る。他方、しきい値σCO以下であると判断されると、次
に濃度ヒストグラム形状Ｈがしきい値ＨCO以下であるか
否かが判断され（Ｓ７）、しきい値ＨCO以下でないと判
断されるとＳ８に進んで、否定回数が入力されてカウン
ト値Ｂに加算される。一方、しきい値ＨCO以下であると
判断されるとＳ９に進んで、Ｓ５、Ｓ６、Ｓ７の肯定回
数がそれぞれ入力されてカウント値Ａが積算される。次
にカウント値ＡがＢより多いか否かが判断され（Ｓ１
０）、多くないと判断された場合、この対象物３２を誤
認要因であるとみなして検査対象から除外する（Ｓ１
１）一方、多いと判断された場合、この対象物３２に関
して通常の検査を行ない、非金属介在物の定量解析を実
施する（Ｓ１２）。
【００２６】以下に、実施例２に係る検査装置２０を用
いて対象物を検査した結果について説明する。図８は図
６に示した対象物の濃度ヒストグラムを示した図であ
り、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は塵
埃の場合を示している。分別条件としてはしきい値ＸCO
を１５０、σCOを３０、ＨCOを０．１３に設定した。な
お比較例として算出手段（２２２ｃ）、比較判断手段
（２２２ｄ）を備えていない従来の検査装置を用いて検
査を行なった。この結果、比較例の装置の場合ではシ
ミ、錆、塵埃の誤認率はそれぞれ約２７％、９０％、４
１％であったが、実施例に係る装置の場合ではそれぞれ
約３％、３％、２％であった。
いて対象物を検査した結果について説明する。図８は図
６に示した対象物の濃度ヒストグラムを示した図であ
り、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は塵
埃の場合を示している。分別条件としてはしきい値ＸCO
を１５０、σCOを３０、ＨCOを０．１３に設定した。な
お比較例として算出手段（２２２ｃ）、比較判断手段
（２２２ｄ）を備えていない従来の検査装置を用いて検
査を行なった。この結果、比較例の装置の場合ではシ
ミ、錆、塵埃の誤認率はそれぞれ約２７％、９０％、４
１％であったが、実施例に係る装置の場合ではそれぞれ
約３％、３％、２％であった。
【００２７】上記結果及び説明から明らかなように、実
施例２に係る非金属介在物の検査装置２０では、非金属
介在物と誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ差
異があり、例えばこの濃度ヒストグラムより算出される
正規分布曲線式を用いて濃度ヒストグラム形状Ｈに近似
させると、誤認要因に比べて非金属介在物における濃度
ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ及び濃度標準偏差σ
の方が小さいため、非金属介在物と誤認要因とが容易に
自動的に分別される。この結果、誤認要因を除外し、非
金属介在物のみに関して測定・分類を行なうことがで
き、定量解析を確実に実施することができる。
施例２に係る非金属介在物の検査装置２０では、非金属
介在物と誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ差
異があり、例えばこの濃度ヒストグラムより算出される
正規分布曲線式を用いて濃度ヒストグラム形状Ｈに近似
させると、誤認要因に比べて非金属介在物における濃度
ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ及び濃度標準偏差σ
の方が小さいため、非金属介在物と誤認要因とが容易に
自動的に分別される。この結果、誤認要因を除外し、非
金属介在物のみに関して測定・分類を行なうことがで
き、定量解析を確実に実施することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る非金属
介在物の検査装置（１）にあっては、撮像装置により撮
像された画像データに関する濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差
σを算出する算出手段、及びこれら濃度勾配Ｋ、濃度標
準偏差σと、予め設定しておいた非金属介在物及び誤認
要因を分別するしきい値ＫCO、σCOとを比較することに
より非金属介在物であるか誤認要因であるかを判断する
比較判断手段を含んで分別装置が構成されており、前記
非金属介在物と前記誤認要因との濃度プロファイルには
それぞれ差異があり、前記誤認要因に比べて前記非金属
介在物における前記濃度勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方
が小さく、このため、前記非金属介在物と前記誤認要因
とを容易に自動的に分別することができる。この結果、
前記誤認要因を除外し、非金属介在物のみに関して測定
・分類を行なうことができ、定量解析を正確に実施する
ことができる。
介在物の検査装置（１）にあっては、撮像装置により撮
像された画像データに関する濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差
σを算出する算出手段、及びこれら濃度勾配Ｋ、濃度標
準偏差σと、予め設定しておいた非金属介在物及び誤認
要因を分別するしきい値ＫCO、σCOとを比較することに
より非金属介在物であるか誤認要因であるかを判断する
比較判断手段を含んで分別装置が構成されており、前記
非金属介在物と前記誤認要因との濃度プロファイルには
それぞれ差異があり、前記誤認要因に比べて前記非金属
介在物における前記濃度勾配Ｋ及び濃度標準偏差σの方
が小さく、このため、前記非金属介在物と前記誤認要因
とを容易に自動的に分別することができる。この結果、
前記誤認要因を除外し、非金属介在物のみに関して測定
・分類を行なうことができ、定量解析を正確に実施する
ことができる。
【００２９】また本発明に係る非金属介在物の検査装置
（２）にあっては、撮像装置により撮像された画像デー
タに関する濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃
度標準偏差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒス
トグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予
め設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別する
しきい値ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金
属介在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断
手段を含んで分別装置が構成されており、前記非金属介
在物と前記誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ
差異があり、例えば該濃度ヒストグラムより算出される
正規分布曲線式等を用いて前記濃度ヒストグラム形状Ｈ
に近似させると、前記誤認要因に比べて前記非金属介在
物における前記濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ
及び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金
属介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別するこ
とができる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属
介在物のみに関して測定・分類を行なうことができ、定
量解析を正確に実施することができる。
（２）にあっては、撮像装置により撮像された画像デー
タに関する濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃
度標準偏差σを算出する算出手段、及びこれら濃度ヒス
トグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標準偏差σと、予
め設定しておいた非金属介在物及び誤認要因を分別する
しきい値ＨCO、ＸCO、σCOとを比較することにより非金
属介在物であるか誤認要因であるかを判断する比較判断
手段を含んで分別装置が構成されており、前記非金属介
在物と前記誤認要因との濃度ヒストグラムにはそれぞれ
差異があり、例えば該濃度ヒストグラムより算出される
正規分布曲線式等を用いて前記濃度ヒストグラム形状Ｈ
に近似させると、前記誤認要因に比べて前記非金属介在
物における前記濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ
及び濃度標準偏差σの方が小さく、このため、前記非金
属介在物と前記誤認要因とを容易に自動的に分別するこ
とができる。この結果、前記誤認要因を除外し、非金属
介在物のみに関して測定・分類を行なうことができ、定
量解析を正確に実施することができる。
【図１】本発明に係る非金属介在物の検査装置の実施例
１、２を共に示したブロック図であり、実施例１のもの
と異なる実施例２の構成部品番号は括弧で示している。
１、２を共に示したブロック図であり、実施例１のもの
と異なる実施例２の構成部品番号は括弧で示している。
【図２】実施例１に係る検査装置を用いた場合、撮像さ
れた対象物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分
別する分別装置の動作を示したフローチャートである。
れた対象物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分
別する分別装置の動作を示したフローチャートである。
【図３】濃度プロファイルと濃度勾配とを説明するため
に示した模式図であり、（ａ）は対象物と測定画素との
位置関係を示した平面図、（ｂ）は走査線Ｆにおける画
素の濃度プロファイルを示した曲線図である。
に示した模式図であり、（ａ）は対象物と測定画素との
位置関係を示した平面図、（ｂ）は走査線Ｆにおける画
素の濃度プロファイルを示した曲線図である。
【図４】実施例２に係る検査装置を用いた場合、撮像さ
れた対象物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分
別する分別装置の動作を示したフローチャートである。
れた対象物が非金属介在物か、あるいは誤認要因かを分
別する分別装置の動作を示したフローチャートである。
【図５】濃度ヒストグラム、濃度平均値、濃度ヒストグ
ラム形状の関係を説明するために示した模式図である。
ラム形状の関係を説明するために示した模式図である。
【図６】対象物のミクロ写真をスケッチした図であり、
（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は錆、
（ｄ）は塵埃を示している。
（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は錆、
（ｄ）は塵埃を示している。
【図７】対象物の濃度プロファイルの一例を示した曲線
図であり、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、
（ｃ）は塵埃の場合を示している。
図であり、（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、
（ｃ）は塵埃の場合を示している。
【図８】対象物の濃度ヒストグラムを示した図であり、
（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は塵埃の
場合を示している。
（ａ）は非金属介在物、（ｂ）はシミ、（ｃ）は塵埃の
場合を示している。
１０ 非金属介在物の検査装置 １１ 撮像装置 １２ 分別装置 １２２ｃ 算出手段 １２２ｄ 比較判断手段 １３ 出力手段 ３０ 被検査体
Claims (2)
- 【請求項１】 被検査体を撮像する撮像装置と、該撮像
装置の撮像結果に基づいて被検査体中の非金属介在物及
び非金属介在物誤認要因を分別する分別装置と、該分別
装置の分別結果を出力する出力装置とで構成される非金
属介在物の検査装置であって、前記撮像装置により撮像
された画像データに関する濃度勾配Ｋ、濃度標準偏差σ
を算出する算出手段、及びこれら濃度勾配Ｋ、濃度標準
偏差σと、予め設定しておいた非金属介在物及び非金属
介在物誤認要因を分別するしきい値ＫCO、σCOとを比較
することにより非金属介在物であるか非金属介在物誤認
要因であるかを判断する比較判断手段を含んで前記分別
装置が構成されていることを特徴とする非金属介在物の
検査装置。 - 【請求項２】 被検査体を撮像する撮像装置と、該撮像
装置の撮像結果に基づいて被検査体中の非金属介在物及
び非金属介在物誤認要因を分別する分別装置と、該分別
装置の分別結果を出力する出力装置とで構成される非金
属介在物の検査装置であって、前記撮像装置により撮像
された画像データに関する濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃
度平均値Ｘ、濃度標準偏差σを算出する算出手段、及び
これら濃度ヒストグラム形状Ｈ、濃度平均値Ｘ、濃度標
準偏差σと、予め設定しておいた非金属介在物及び非金
属介在物誤認要因を分別するしきい値ＨCO、ＸCO、σCO
とを比較することにより非金属介在物であるか非金属介
在物誤認要因であるかを判断する比較判断手段を含んで
前記分別装置が構成されていることを特徴とする非金属
介在物の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6286746A JPH08145984A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 非金属介在物の検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6286746A JPH08145984A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 非金属介在物の検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08145984A true JPH08145984A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17708501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6286746A Pending JPH08145984A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 非金属介在物の検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08145984A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1637868A1 (en) * | 2003-06-12 | 2006-03-22 | Nippon Light Metal Company Ltd. | Impurity measuring method and device |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143769A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-30 | Kawasaki Steel Corp | 粒径および第２相分率の測定装置 |
| JPS63309844A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-16 | Nippon Steel Corp | 非金属介在物の検査装置 |
| JPH0224542A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Nippon Steel Corp | 鋳片断面の品質評価装置 |
| JPH0252251A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-21 | Nippon Steel Corp | 非金属介在物の検査装置 |
| JPH03269242A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-11-29 | Toshiba Eng Co Ltd | 金属材料検査方法及び金属材料検査装置 |
| JPH03269241A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-11-29 | Toshiba Eng Co Ltd | 非金属介在物検査方法及び非金属介在物検査装置 |
-
1994
- 1994-11-21 JP JP6286746A patent/JPH08145984A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60143769A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-30 | Kawasaki Steel Corp | 粒径および第２相分率の測定装置 |
| JPS63309844A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-16 | Nippon Steel Corp | 非金属介在物の検査装置 |
| JPH0224542A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Nippon Steel Corp | 鋳片断面の品質評価装置 |
| JPH0252251A (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-21 | Nippon Steel Corp | 非金属介在物の検査装置 |
| JPH03269242A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-11-29 | Toshiba Eng Co Ltd | 金属材料検査方法及び金属材料検査装置 |
| JPH03269241A (ja) * | 1990-03-19 | 1991-11-29 | Toshiba Eng Co Ltd | 非金属介在物検査方法及び非金属介在物検査装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1637868A1 (en) * | 2003-06-12 | 2006-03-22 | Nippon Light Metal Company Ltd. | Impurity measuring method and device |
| EP1637868A4 (en) * | 2003-06-12 | 2008-02-13 | Nippon Light Metal Co | METHOD AND DEVICE FOR MEASURING CONTAMINATION |
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