JPH08139119A - Production of semiconductor device and laminate employed therein - Google Patents

Production of semiconductor device and laminate employed therein

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JPH08139119A
JPH08139119A JP27778994A JP27778994A JPH08139119A JP H08139119 A JPH08139119 A JP H08139119A JP 27778994 A JP27778994 A JP 27778994A JP 27778994 A JP27778994 A JP 27778994A JP H08139119 A JPH08139119 A JP H08139119A
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JP
Japan
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mold
adhered
resin
package
molding
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JP27778994A
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Japanese (ja)
Inventor
Masako Maeda
雅子 前田
Yuji Hotta
祐治 堀田
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a method for efficiently producing a semiconductor device in which a bonding material is applied to the surface of a resin package. CONSTITUTION: The semiconductor device, where a bonding material is applied to the surface of a resin package sealing a semiconductor element, is produced by adsorbing a bonding material exhibiting mold releasing properties to package molding dies 2, 3, setting a semiconductor element 5 in the dies 2, 3, injecting a molding resin and bonding the bonding material 4 to the surface of the resin package.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂パッケージの表面
に被固着材料を固着させた半導体装置の製造方法および
これに用いられる積層体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device in which a material to be adhered is adhered to the surface of a resin package, and a laminate used for the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の樹脂パッケージは、樹脂
(主にエポキシ樹脂)を用いてLSI等の半導体素子を
例えばトランスファモールド法により封止・パッケージ
化したもので、いわゆるセラミックパッケージに比べて
量産性がよく、コストも安いため、民生用パッケージと
して広く用いられている。
2. Description of the Related Art A resin package of a semiconductor device is a semiconductor device such as an LSI that is sealed and packaged by a transfer molding method using resin (mainly epoxy resin). It is widely used as a consumer package because of its good quality and low cost.

【0003】この種のパッケージにおいては、従来から
耐湿性などの諸特性が要求されているが、このような要
求は、近年における半導体素子サイズの大型化やパッケ
ージの表面実装化の傾向等に伴って益々強くなってい
る。
Various characteristics such as moisture resistance have been conventionally required for this type of package, and such requirements are accompanied by the recent trend toward larger semiconductor element size and surface mounting of the package. Are becoming stronger and stronger.

【0004】このような要求に応えるため、樹脂パッケ
ージの表面を金属箔で被覆した半導体装置が提案されて
いる(特願平5−111595号等)。これによれば、
樹脂による吸湿がパッケージ表面に存在する金属箔材料
によって防止されるとともに、その金属箔材料がパッケ
ージを補強して熱衝撃性を緩和するため、パッケージク
ラックの発生が防止されることになる。
In order to meet such requirements, a semiconductor device in which the surface of a resin package is covered with a metal foil has been proposed (Japanese Patent Application No. 5-111595, etc.). According to this,
Moisture absorption by the resin is prevented by the metal foil material existing on the surface of the package, and the metal foil material reinforces the package to reduce the thermal shock resistance, so that the generation of package cracks is prevented.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、表面に耐湿
性材料を固着させた上記のような半導体装置のパッケー
ジを成形するに当たっては、成形用金型に耐湿性材料を
仮固定する必要がある。しかし、これまでに耐湿性材料
として用いられている金属箔は、ハンドリングが悪く、
柔軟性が不足していたため、金属箔を金型へ吸着する方
法などを用いても充分な仮固定が行い難く、このため金
型の成形面に仮固定用接着剤層を介して金属箔を仮固定
する必要があり、その分だけ時間がかかるという問題が
あった。また、生産を続けると、成形された樹脂パッケ
ージを金型から取り出した後に仮固定用接着剤の一部が
金型成形面に堆積し、金型成形面の洗浄作業を必要とす
る問題があった。
By the way, in molding a package of the above semiconductor device having a moisture resistant material adhered to its surface, it is necessary to temporarily fix the moisture resistant material to a molding die. However, the metal foil used as a moisture resistant material so far has poor handling,
Due to lack of flexibility, it is difficult to perform sufficient temporary fixing even by using a method of adsorbing the metal foil to the mold.For this reason, the metal foil is attached to the molding surface of the mold through the temporary fixing adhesive layer. There is a problem that it is necessary to temporarily fix it, and it takes time accordingly. Further, if the production is continued, there is a problem that after the molded resin package is taken out from the mold, a part of the temporary fixing adhesive is deposited on the mold molding surface, which requires cleaning work of the mold molding surface. It was

【0006】本発明は、このような問題に対処するもの
で、樹脂パッケージ表面に被固着材料を固着させた上記
のような構造を有する半導体装置の製造方法として、金
型に仮固定用接着剤層を介して被固着材料を仮固定させ
る必要のない、より優れた方法を実現し、併せてその方
法の実施に適した積層体を提供することを目的とする。
The present invention addresses such a problem, and as a method of manufacturing a semiconductor device having the above-described structure in which a material to be adhered is adhered to the surface of a resin package, an adhesive for temporary fixing to a mold is used. It is an object of the present invention to realize a superior method that does not require temporary fixation of a material to be adhered via a layer, and also to provide a laminate suitable for carrying out the method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体素子を樹脂
で封止してなるパッケージの表面に被固着材料を固着さ
せた半導体装置を製造するに際し、パッケージ成形用の
金型上に、金型に対して離型性を有する被固着材料を吸
着させ、次いでその金型内に半導体素子をセットしたう
えで成形用樹脂を注入して成形することにより、パッケ
ージ表面に被固着材料を固着させることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention provides a semiconductor device in which a material to be adhered is adhered to the surface of a package formed by encapsulating a semiconductor element with a resin. At the time of manufacturing, the adhered material having releasability for the mold is adsorbed on the mold for package molding, and then the semiconductor element is set in the mold and the molding resin is injected. It is characterized in that the adhered material is adhered to the surface of the package by molding.

【0008】上記成形用樹脂、言い換えると半導体素子
封止用のパッケージ樹脂としては熱硬化性樹脂が用いら
れ、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ジアリルフタレ
ート樹脂、ポリフェニレンサルファイド等があげられ
る。このなかでも、エポキシ樹脂を使用することが好ま
しい。その場合、エポキシ樹脂に硬化剤、硬化促進剤、
充填剤等の従来公知の添加剤を配合し、エポキシ樹脂組
成物として使用する。
A thermosetting resin is used as the molding resin, in other words, a package resin for encapsulating a semiconductor element. For example, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, polyester resin, diallyl phthalate resin, polyphenylene. Examples include sulfide. Among these, it is preferable to use an epoxy resin. In that case, the epoxy resin curing agent, curing accelerator,
A conventionally known additive such as a filler is mixed and used as an epoxy resin composition.

【0009】上述の成形用金型に対して離型性を有する
被固着材料としては、成形時の温度(通常150°C〜
250°C)に耐えられる材質であって、金型に対して
接着力を実質的に有しないものであり、吸着により金型
に仮固定可能な柔軟性と、耐湿性とを有するものであれ
ば、特に条件は限定されない。具体的には、ポリカルボ
ジイミド、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)な
どがあげられる。このなかでもポリカルボジイミドは水
蒸気透過率が低いため、パッケージ樹脂の吸湿をより効
果的に防止しうる点で特に好ましい。上記ポリカルボジ
イミドとしては、カルボジイミド結合を有する公知の高
分子化合物を用いることができるが、特に、加熱による
カルボジイミドの架橋反応が起こる前のカルボジイミド
は、柔軟性が高く、しかも樹脂パッケージの成形および
後硬化の際に架橋できるため、そのカルボジイミドの耐
熱性をより向上させることができる点で好ましい。上記
被固着材料の厚みは、1μm〜500μmが好ましく、
さらに好ましい範囲は10μm〜100μmである。
As a material to be adhered which has releasability from the above-mentioned molding die, the temperature at the time of molding (usually 150 ° C to
250 ° C.), a material having substantially no adhesive force with respect to a mold, and having flexibility capable of being temporarily fixed to the mold by adsorption and moisture resistance. However, the conditions are not particularly limited. Specific examples include polycarbodiimide and polytetrafluoroethylene (PTFE). Among them, polycarbodiimide is particularly preferable because it has a low water vapor transmission rate and can more effectively prevent moisture absorption of the package resin. As the polycarbodiimide, a known polymer compound having a carbodiimide bond can be used. In particular, the carbodiimide before the crosslinking reaction of the carbodiimide by heating has high flexibility, and further, the resin package is molded and post-cured. Since it can be crosslinked at this time, it is preferable in that the heat resistance of the carbodiimide can be further improved. The thickness of the adhered material is preferably 1 μm to 500 μm,
A more preferable range is 10 μm to 100 μm.

【0010】また、上記の被固着材料として、成形用金
型に対して離型性を有する樹脂層を金属箔の上に積層し
てなる積層体を用いることもでき、この場合は、パッケ
ージ樹脂の吸湿が金属箔によって防止されるとともに、
金属箔に樹脂層を積層することによって柔軟性が増すこ
とから、吸着による仮固定が可能となる。この場合に用
いられる金属箔材料の例をあげると、アルミニウム、
銅、ステンレススティールなどであり、その厚みとして
は1μm〜500μmが好ましく、さらに好ましい範囲
は10μm〜100μmである。また、この場合に用い
られる樹脂としては、成型時の温度(通常150°C〜
250°C)に耐えられる材質であって、金型に対して
接着性を実質的に有しないものであり、吸着により金型
に仮固定可能な柔軟性があれば特に条件は限定されな
い。具体的には、ポリカルボジイミド、ポリエーテルイ
ミド、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン(PT
FE)などがあげられる。また、金属箔と積層する樹脂
層との密着性を向上させるため、例えばシランカップリ
ング剤処理、スパッタ処理、フッ酸処理などの公知の表
面処理を施してもよい。
Further, as the above-mentioned adhered material, it is also possible to use a laminate in which a resin layer having releasability from a molding die is laminated on a metal foil. In this case, the package resin is used. Moisture absorption of is prevented by the metal foil,
Since the flexibility is increased by laminating the resin layer on the metal foil, temporary fixing by adsorption becomes possible. Examples of metal foil materials used in this case include aluminum,
It is copper, stainless steel, or the like, and the thickness thereof is preferably 1 μm to 500 μm, and more preferably 10 μm to 100 μm. Further, the resin used in this case includes a temperature at the time of molding (usually 150 ° C to
The condition is not particularly limited as long as it is a material capable of withstanding 250 ° C.), has substantially no adhesiveness to the mold, and is flexible enough to be temporarily fixed to the mold by adsorption. Specifically, polycarbodiimide, polyetherimide, polyimide, polytetrafluoroethylene (PT
FE) and the like. Further, in order to improve the adhesion between the metal foil and the resin layer to be laminated, a known surface treatment such as silane coupling agent treatment, sputtering treatment, hydrofluoric acid treatment, etc. may be performed.

【0011】なお、本発明方法でいう吸着とは、パッケ
ージ成型用金型に設けられた吸着孔を介して外部から負
圧により吸引(いわゆる真空引き)することによって金
型成型面に被固着材料を密着させることを意味する(後
述する実施例参照)。
The term "adsorption" used in the method of the present invention means that the material to be adhered to the molding surface of the mold is obtained by sucking negative pressure (so-called vacuum) from the outside through a suction hole provided in the package molding die. To be closely attached (see Examples described later).

【0012】[0012]

【作用】本発明方法によれば、金型上に被固着材料を吸
着した状態で同金型内に樹脂を注入して成形することに
よりパッケージ表面に被固着材料を固着させることがで
きるので、成形時に仮固定用接着剤層を介して被固着材
料を金型上に仮固定する必要がなくなる。したがって、
仮固定用接着剤の転写残りによる金型の汚れが皆無とな
る。しかも、金型に対して離型性を有する被固着材料が
使用されていることにより、成形後は、表面に同被固着
材料を固着してなる樹脂パッケージを容易に離型させる
ことができる。
According to the method of the present invention, the adhered material can be adhered to the surface of the package by injecting the resin into the mold while adsorbing the adhered material on the mold and molding. There is no need to temporarily fix the adhered material on the mold via the temporary fixing adhesive layer during molding. Therefore,
There is no stain on the mold due to the transfer residue of the temporary fixing adhesive. Moreover, since the adhered material having releasability from the mold is used, the resin package formed by adhering the adhered material to the surface can be easily released after molding.

【0013】また、上述の場合において、被固着材料と
して本発明の積層体を用いれば、金型上に吸着により被
固着材料を容易に仮固定できるので、成形時に仮固定用
接着剤を用いて金型上に被固着材料を仮固定する場合に
比べると、成形時における金型上への被固着材料のセッ
ト作業の容易化と時間短縮ができ、接着剤層などの廃棄
物も無くすことができる。特に、本発明の積層体におい
ては、金属箔の上に樹脂層が積層されていることによ
り、金属箔のみからなる被固着材料に比べて柔軟性が増
すので、金型上への金属箔の吸着による仮固定が可能と
なる。
Further, in the above-mentioned case, if the laminate of the present invention is used as the adhered material, the adhered material can be easily temporarily fixed on the mold by adsorption, and therefore a temporary fixing adhesive is used at the time of molding. Compared to temporarily fixing the adhered material on the mold, the work of setting the adhered material on the mold during molding can be facilitated and the time can be shortened, and waste such as adhesive layers can be eliminated. it can. In particular, in the laminate of the present invention, since the resin layer is laminated on the metal foil, the flexibility is increased as compared with the adhered material consisting of the metal foil only. Temporary fixation by adsorption is possible.

【0014】[0014]

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。 〔実施例1〕まず、図1に示すように、パッケージ成形
用の金型1を構成する上型2および下型3を開いた状態
で、その各成形面の所定位置に、金型1に対して離型性
を有する被固着材料(本実施例では、厚みが30μmの
ポリカルボジイミド樹脂)4を位置させ、その状態で、
上型2および下型3にそれぞれ設けられた吸着孔(図示
せず)を介して外部から各型2、3の内側を吸引するこ
とにより、その各型2、3の成形面に被固着材料4をそ
れぞれ密着させる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1 First, as shown in FIG. 1, with the upper mold 2 and the lower mold 3 constituting the mold 1 for package molding opened, the mold 1 was placed at a predetermined position on each molding surface. On the other hand, a material to be adhered (in this embodiment, a polycarbodiimide resin having a thickness of 30 μm) 4 having releasability is positioned, and in that state,
By sucking the inside of each of the molds 2 and 3 from the outside through suction holes (not shown) provided in the upper mold 2 and the lower mold 3, the adhered material is adhered to the molding surface of each of the molds 2 and 3. Stick 4 together.

【0015】次に、この吸着状態を維持しながら、図2
に示すように、あらかじめ半導体素子5を所定位置に固
定してなるリードフレーム6を上型2および下型3の間
に挿入したのち、図3に示すように上型2および下型3
を閉じる。そして、この状態で、金型1内に成形用樹脂
(図示せず)を注入して硬化させることにより、半導体
素子5を封止してなる樹脂パッケージ7(図4参照)を
成形した。成形後、金型1を開き、表面に被固着材料4
が固着された樹脂パッケージ7を金型1から取り出し
た。このとき、被固着材料4は、金型1に対して離型性
を有することにより、同金型1から容易に剥がすことが
できた。こうして、図4に示すように、樹脂パッケージ
7の表面に被固着材料4を固着してなる半導体装置8が
得られた。
Next, while maintaining this adsorption state, as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a lead frame 6 in which the semiconductor element 5 is fixed at a predetermined position in advance is inserted between the upper mold 2 and the lower mold 3, and then, as shown in FIG.
Close. Then, in this state, a molding resin (not shown) is injected into the mold 1 and cured to mold the resin package 7 (see FIG. 4) formed by sealing the semiconductor element 5. After molding, the mold 1 is opened and the adhered material 4 is attached to the surface.
The resin package 7 to which was adhered was taken out from the mold 1. At this time, since the adhered material 4 has releasability from the mold 1, it could be easily peeled from the mold 1. Thus, as shown in FIG. 4, the semiconductor device 8 in which the adhered material 4 is adhered to the surface of the resin package 7 is obtained.

【0016】なお、本実施例で得られた半導体装置8に
おいては、被固着材料4が水蒸気透過率の低いポリカル
ボジイミド樹脂によって構成されているので、その被固
着材料4によってパッケージ樹脂の吸湿が効果的に防止
されることになる。 〔実施例2〕本実施例では、図5に示すように被固着材
料としてアルミニウム箔(厚みは40μm)14a上に
ポリカルボジイミド樹脂層(厚みは50μm)14bを
積層してなる積層体14を用い、これを実施例1と同じ
方法で樹脂パッケージ表面に固着させた。ただし、金型
の成形面に被固着材料(積層体)を吸着により仮固定す
る際、ポリカルボジイミド樹脂層14bが金型成形面に
接触するようにセットした。このように金型に対して離
型性を有するポリカルボジイミド樹脂層を金型成形面に
当てることによって、樹脂パッケージ成形後は、金型か
らポリカルボジイミド樹脂層側を容易に剥離させること
でき、金型に転写残りによる汚れは見当たらなかった。 〔実施例3〕被固着材料として、アルミニウム箔(厚み
は40μm)上にポリカルボジイミド樹脂層(厚みは5
0μm)を積層してなる積層体を用い、これを実施例1
と同じ方法で樹脂パッケージ表面に固着させた。金型の
成形面に被固着材料を仮固定する際、実施例2の場合と
は異なり、アルミニウム箔面が金型側に当たるようにセ
ットした。このような状態にセットしても、アルミニウ
ム箔上にポリカルボジイミド樹脂層を積層したことによ
って被固着材料の柔軟性が増しているので、金型成形面
に吸着により同被固着材料を容易に仮固定することがで
きた。また、金型成形面にはアルミニウム箔面が接触し
ているため、樹脂パッケージ成形後は、金型からアルミ
ニウム箔側を容易に剥離することができ、その剥離後の
金型に汚れは見られなかった。
In the semiconductor device 8 obtained in this embodiment, since the adhered material 4 is made of polycarbodiimide resin having a low water vapor transmission rate, the adhered material 4 effectively absorbs moisture from the package resin. Will be prevented. [Embodiment 2] In this embodiment, as shown in FIG. 5, as a material to be adhered, a laminated body 14 in which a polycarbodiimide resin layer (thickness 50 μm) 14b is laminated on an aluminum foil (thickness 40 μm) 14a is used. This was fixed on the surface of the resin package in the same manner as in Example 1. However, when the adhered material (laminate) was temporarily fixed to the molding surface of the mold by adsorption, the polycarbodiimide resin layer 14b was set so as to contact the molding surface of the mold. By thus applying the polycarbodiimide resin layer having mold releasability to the mold to the mold molding surface, after molding the resin package, the polycarbodiimide resin layer side can be easily peeled off from the mold. No stain due to transfer residue was found on the mold. Example 3 As a material to be adhered, a polycarbodiimide resin layer (having a thickness of 5 μm) was formed on an aluminum foil (having a thickness of 40 μm).
0 μm) is used to form a laminate, which is used in Example 1.
It was fixed to the surface of the resin package in the same manner as in (1). When temporarily fixing the adhered material to the molding surface of the mold, unlike the case of Example 2, the aluminum foil surface was set so as to contact the mold side. Even when set in such a state, the flexibility of the adhered material is increased by laminating the polycarbodiimide resin layer on the aluminum foil, so that the adhered material can easily be temporarily adhered to the mold surface by adsorption. I was able to fix it. Further, since the aluminum foil surface is in contact with the molding surface, the aluminum foil side can be easily peeled from the mold after the resin package molding, and the mold after the peeling shows no stain. There wasn't.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、半導体
装置の樹脂パッケージを成形する場合において同パッケ
ージ表面に被固着材料を固着させるに当たり、パッケー
ジ成形用金型に対して離型性を有する被固着材料を用い
たことにより、金型上に仮固定用接着剤層を介して被固
着材料を仮固定する必要がなくなるので、そのような仮
固定用接着剤層の転写残りによる金型の汚れが皆無にな
る。また、金型上には被固着材料を吸着により仮固定す
ることができるので、成形時に金型上に被固着材料をセ
ットする際の手間や時間を短縮することができる。これ
により、半導体素子を樹脂で封止してなるパッケージの
表面に被固着材料を固着させた半導体装置の製造方法と
して、より量産性に優れた方法が実現されることとな
る。
As described above, according to the present invention, in molding a resin package of a semiconductor device, when a material to be adhered is fixed to the surface of the package, the mold releasing property of the package molding die is improved. By using the adhered material that is provided, it is not necessary to temporarily fix the adhered material on the mold via the temporary fixing adhesive layer. Therefore, the mold due to the transfer residue of such temporary fixing adhesive layer There is no stain on. Further, since the adhered material can be temporarily fixed on the mold by adsorption, it is possible to reduce the time and effort required to set the adhered material on the mold during molding. As a result, as a method of manufacturing a semiconductor device in which the adhered material is fixed to the surface of the package in which the semiconductor element is sealed with resin, a method with higher mass productivity can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明方法の一実施例において、金型上に被固
着材料をセットした状態を示す断面図
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which a material to be adhered is set on a mold in an embodiment of the method of the present invention.

【図2】その被固着材料のセット後に、上下の金型間
に、半導体素子を固定してなるリードフレームを挿入し
た状態を示す断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a lead frame for fixing a semiconductor element is inserted between upper and lower molds after setting the adhered material.

【図3】そのリードフレーム挿入後に金型を閉じて同金
型内に樹脂を注入する前の状態を示す断面図
FIG. 3 is a sectional view showing a state before the resin is injected into the mold by closing the mold after inserting the lead frame.

【図4】上記実施例において最終的に得られた半導体装
置を示す断面図
FIG. 4 is a sectional view showing a semiconductor device finally obtained in the above embodiment.

【図5】本発明の他の実施例で用いた積層体の構造を示
す断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a laminate used in another example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2、3・・・金型(2・・・上型、3・・・下型) 4・・・被固着材料 5・・・半導体素子 7・・・樹脂パッケージ 14・・・積層体 14a・・・金属箔(アルミニウム箔) 14b・・・樹脂層(ポリカルボジイミド樹脂層) 1, 2 and 3 ... Mold (2 ... Upper mold, 3 ... Lower mold) 4 ... Adhering material 5 ... Semiconductor element 7 ... Resin package 14 ... Laminated body 14a ... Metal foil (aluminum foil) 14b ... Resin layer (polycarbodiimide resin layer)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子を樹脂で封止してなるパッケ
ージの表面に被固着材料を固着させた半導体装置を製造
する方法において、パッケージ成形用の金型上に、金型
に対して離型性を有する被固着材料を吸着させ、次いで
その金型内に半導体素子をセットしたうえで成形用樹脂
を注入して成形することにより、パッケージ表面に被固
着材料を固着させることを特徴とする半導体装置の製造
方法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device in which a material to be adhered is fixed to a surface of a package, which is formed by sealing a semiconductor element with a resin, and is released from a mold for molding a package. A semiconductor characterized in that a material to be adhered is fixed to the package surface by adsorbing a material to be adhered, then setting a semiconductor element in the mold, and then injecting a molding resin for molding. Device manufacturing method.
【請求項2】 被固着材料は、ポリカルボジイミドまた
はポリテトラフルオロエチレンからなる請求項1に記載
の半導体装置の製造方法。
2. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the adhered material comprises polycarbodiimide or polytetrafluoroethylene.
【請求項3】 被固着材料は、金属箔と、この金属箔の
上に積層され且つパッケージ成形用金型に対して離型性
を有する樹脂層との積層体からなる請求項1に記載の半
導体装置の製造方法。
3. The adhered material comprises a laminated body of a metal foil and a resin layer laminated on the metal foil and having releasability from a mold for molding a package. Manufacturing method of semiconductor device.
【請求項4】 樹脂層は、ポリカルボジイミド、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミドまたはポリテトラフルオロエ
チレンのうちのいずれか一種からなる請求項3に記載の
半導体装置の製造方法。
4. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the resin layer is made of any one of polycarbodiimide, polyetherimide, polyimide and polytetrafluoroethylene.
【請求項5】 請求項1に記載の半導体装置の製造方法
において被固着材料として用いられる積層体であって、
金属箔と、この金属箔の上に積層され且つパッケージ成
形用金型に対して離型性を有する樹脂層とからなること
を特徴とする積層体。
5. A laminate used as a material to be adhered in the method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1,
A laminated body comprising a metal foil and a resin layer laminated on the metal foil and having releasability from a mold for molding a package.
【請求項6】 樹脂層は、ポリカルボジイミド、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミドまたはポリテトラフルオロエ
チレンのうちのいずれか一種からなる請求項5に記載の
積層体。
6. The laminate according to claim 5, wherein the resin layer is made of any one of polycarbodiimide, polyetherimide, polyimide and polytetrafluoroethylene.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6144108A (en) * 1996-02-22 2000-11-07 Nitto Denko Corporation Semiconductor device and method of fabricating the same

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