JPH08134697A - 電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法 - Google Patents
電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法Info
- Publication number
- JPH08134697A JPH08134697A JP30285094A JP30285094A JPH08134697A JP H08134697 A JPH08134697 A JP H08134697A JP 30285094 A JP30285094 A JP 30285094A JP 30285094 A JP30285094 A JP 30285094A JP H08134697 A JPH08134697 A JP H08134697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zeolite
- substrate
- antifungal
- antibacterial
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Cookers (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 泳動電着で抗菌・防カビ性ゼオライト層を基
体表面に形成する。 【構成】 抗菌・防カビ性を付与したゼオライト粉末を
有機溶媒に分散させ、３０〜１０００Ｖの電圧を印加す
ることにより基板の表面に前記ゼオライト粉末を泳動電
着させる。絶縁材料を基体として使用するとき、無電解
めっき又は導電性セラミックスのコーティングにより導
電性を付与することができる。基板表面にコーティング
されたゼオライトは、２００〜７００℃の温度に１〜１
０分間加熱することによって焼き付けられる。 【効果】 比較的低温の焼成で安定したゼオライト構造
をもつ被覆層が形成され、長期間に渡って高位に安定し
た抗菌・防カビ性が維持される。
体表面に形成する。 【構成】 抗菌・防カビ性を付与したゼオライト粉末を
有機溶媒に分散させ、３０〜１０００Ｖの電圧を印加す
ることにより基板の表面に前記ゼオライト粉末を泳動電
着させる。絶縁材料を基体として使用するとき、無電解
めっき又は導電性セラミックスのコーティングにより導
電性を付与することができる。基板表面にコーティング
されたゼオライトは、２００〜７００℃の温度に１〜１
０分間加熱することによって焼き付けられる。 【効果】 比較的低温の焼成で安定したゼオライト構造
をもつ被覆層が形成され、長期間に渡って高位に安定し
た抗菌・防カビ性が維持される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分子レベルの細孔をも
つゼオライト層を種々の基板表面に形成する方法に関す
る。
つゼオライト層を種々の基板表面に形成する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】雑菌が繁殖し易い雰囲気や雑菌の発生が
好ましくない雰囲気で使用される材料として、抗菌性・
防カビ性を付与した材料が使用され始めている。抗菌性
・防カビ性は、塗装，めっき等の方法によってセラミッ
クス，陶磁器，金属等の各種基体に付与される。たとえ
ば、特開平５−３０９３２８号公報では、抗菌剤や防汚
剤等を配合した樹脂を金属板表面に焼き付けている。特
開平６−１２７９７５号公報では、抗菌性をもつ釉薬を
窯業製品に施している。しかし、このようにして施され
た抗菌・防カビ性被覆は、湿潤雰囲気に曝されると有効
成分が溶出しやすく、本来の抗菌・防カビ作用が失われ
がちである。抗菌・防カビ剤は、ゼオライトに担持され
た状態で使用されるとき、溶出分が抑制され、長期間に
渡って効力を持続する。特開平６−１０１９１号公報で
は、このようなゼオライトの特性を利用し、チオスルフ
ァト銀錯体を担持したゼオライトをめっき層に分散させ
た抗菌性材料を紹介している。
好ましくない雰囲気で使用される材料として、抗菌性・
防カビ性を付与した材料が使用され始めている。抗菌性
・防カビ性は、塗装，めっき等の方法によってセラミッ
クス，陶磁器，金属等の各種基体に付与される。たとえ
ば、特開平５−３０９３２８号公報では、抗菌剤や防汚
剤等を配合した樹脂を金属板表面に焼き付けている。特
開平６−１２７９７５号公報では、抗菌性をもつ釉薬を
窯業製品に施している。しかし、このようにして施され
た抗菌・防カビ性被覆は、湿潤雰囲気に曝されると有効
成分が溶出しやすく、本来の抗菌・防カビ作用が失われ
がちである。抗菌・防カビ剤は、ゼオライトに担持され
た状態で使用されるとき、溶出分が抑制され、長期間に
渡って効力を持続する。特開平６−１０１９１号公報で
は、このようなゼオライトの特性を利用し、チオスルフ
ァト銀錯体を担持したゼオライトをめっき層に分散させ
た抗菌性材料を紹介している。
【０００３】ゼオライトは、アルカリ金属又はアルカリ
土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩である。ＳｉＯ4 四
面体の４頂点にある酸素原子の全てが共有され、分子レ
ベルの細孔を内包した三次元の骨格構造をもっている。
骨格を構成するケイ素原子の一部がアルミニウム原子に
置換されており、アルミニウム原子の酸化数がケイ素原
子の酸化数よりも１低いことから、電気的に中和し安定
化するために負の電荷を補い当量の陽イオンを取り込む
性質を示す。ゼオライトは、水熱合成によって粉末状と
して得られる。このゼオライトを取扱いに容易な膜状に
するため、ポリマー中に分散させたり、無機多孔質の表
面でゼオライトを結晶化させる方法が採用されている。
最近では、ゼオライト結晶単独で作製された薄膜も開発
されている。たとえば、コロイダルシリカ，硝酸アルミ
ニウム，水酸化ナトリウム，結晶化調整剤等を配合した
水性ゲル混合物を適宜の基板に接触させ、水熱処理する
とき、基板表面にゼオライト膜が形成される（日本化学
雑誌１９９２年第８号第８７７〜８８０頁参照）。
土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩である。ＳｉＯ4 四
面体の４頂点にある酸素原子の全てが共有され、分子レ
ベルの細孔を内包した三次元の骨格構造をもっている。
骨格を構成するケイ素原子の一部がアルミニウム原子に
置換されており、アルミニウム原子の酸化数がケイ素原
子の酸化数よりも１低いことから、電気的に中和し安定
化するために負の電荷を補い当量の陽イオンを取り込む
性質を示す。ゼオライトは、水熱合成によって粉末状と
して得られる。このゼオライトを取扱いに容易な膜状に
するため、ポリマー中に分散させたり、無機多孔質の表
面でゼオライトを結晶化させる方法が採用されている。
最近では、ゼオライト結晶単独で作製された薄膜も開発
されている。たとえば、コロイダルシリカ，硝酸アルミ
ニウム，水酸化ナトリウム，結晶化調整剤等を配合した
水性ゲル混合物を適宜の基板に接触させ、水熱処理する
とき、基板表面にゼオライト膜が形成される（日本化学
雑誌１９９２年第８号第８７７〜８８０頁参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ゾル−ゲル法によって
ゼオライト薄膜を基体表面に形成する方法では、均質な
ゼオライト皮膜を作成するためのゲル浴を調製すること
が困難である。たとえば、アルミニウムアルコキシド
（Ａｌ源），アルコキシシラン（Ｓｉ源），アルカリ金
属アルコキシド（Ｎａ源）等を混合した液は、白濁し易
く、浸漬コーティングによって基体表面に形成された皮
膜の成分変動が大きい。そのため、この皮膜を焼成して
も、必要とする骨格構造をもったゼオライトが得られな
い。仮に、ゼオライト結晶構造をもったコーティングが
施されても、この被覆層に抗菌性及び防カビ性を付与す
るために別個の処理が必要とされる。そのため、製造工
数の増加を招き、結果として商品コストを上昇させる原
因となる。本発明は、このような問題を解消すべく案出
されたものであり、ゼオライトが溶媒中に分散されたと
きマイナスのゼータ電位を示すことを利用し、電気泳動
によってゼオライトを基体表面にコーティングし、低温
加熱で合成可能なゼオライト膜を金属板表面に形成する
ことを目的とする。
ゼオライト薄膜を基体表面に形成する方法では、均質な
ゼオライト皮膜を作成するためのゲル浴を調製すること
が困難である。たとえば、アルミニウムアルコキシド
（Ａｌ源），アルコキシシラン（Ｓｉ源），アルカリ金
属アルコキシド（Ｎａ源）等を混合した液は、白濁し易
く、浸漬コーティングによって基体表面に形成された皮
膜の成分変動が大きい。そのため、この皮膜を焼成して
も、必要とする骨格構造をもったゼオライトが得られな
い。仮に、ゼオライト結晶構造をもったコーティングが
施されても、この被覆層に抗菌性及び防カビ性を付与す
るために別個の処理が必要とされる。そのため、製造工
数の増加を招き、結果として商品コストを上昇させる原
因となる。本発明は、このような問題を解消すべく案出
されたものであり、ゼオライトが溶媒中に分散されたと
きマイナスのゼータ電位を示すことを利用し、電気泳動
によってゼオライトを基体表面にコーティングし、低温
加熱で合成可能なゼオライト膜を金属板表面に形成する
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のコーティング方
法は、その目的を達成するため、抗菌・防カビ性を付与
したゼオライト粉末を有機溶媒又は水に分散させ、３０
〜１０００Ｖの電圧を印加することにより基板の表面に
前記ゼオライト粉末を泳動電着させることを特徴とす
る。コーティングされる基体としては、ステンレス鋼，
普通鋼，低合金鋼，Ａｌ，Ｃｕ等の金属材料やセラミッ
クス，ガラス，陶磁器等の非金属材料がある。導電性の
ない絶縁材料を基体として使用する場合、泳動電着に先
立って、Ｎｉ，Ｃｕ等を無電解めっきし、或いはＩＴＯ
等の導電性セラミックスをコーティングすることによっ
て導電性を付与する。ゼオライトコーティングされた基
体は、２００〜７００℃に１〜１０分間加熱される。こ
のとき、比較的低温の加熱によってゼオライト層が焼成
され、基体表面に焼き付けられる。
法は、その目的を達成するため、抗菌・防カビ性を付与
したゼオライト粉末を有機溶媒又は水に分散させ、３０
〜１０００Ｖの電圧を印加することにより基板の表面に
前記ゼオライト粉末を泳動電着させることを特徴とす
る。コーティングされる基体としては、ステンレス鋼，
普通鋼，低合金鋼，Ａｌ，Ｃｕ等の金属材料やセラミッ
クス，ガラス，陶磁器等の非金属材料がある。導電性の
ない絶縁材料を基体として使用する場合、泳動電着に先
立って、Ｎｉ，Ｃｕ等を無電解めっきし、或いはＩＴＯ
等の導電性セラミックスをコーティングすることによっ
て導電性を付与する。ゼオライトコーティングされた基
体は、２００〜７００℃に１〜１０分間加熱される。こ
のとき、比較的低温の加熱によってゼオライト層が焼成
され、基体表面に焼き付けられる。
【０００６】
【作用】ゼオライト粒子が懸濁している浴に直流を通電
すると、粒子は帯電を放電する電極に向かって移動し、
電極表面に析出する。通常の泳動電着では、酸化物表面
に電荷を付与するため、アセトン溶媒に水及び沃素を添
加し、ケト・エノール反応で微量の水素イオンを発生さ
せ、水素イオンを酸化物表面に吸着させる。この状態で
電圧を印加すると、陰極表面に酸化物が析出する。とこ
ろで、抗菌・防カビ性を付与したゼオライトを各種溶媒
に分散させると、マイナスのゼータ電位を示し、ゼオラ
イト粒子は負の電荷をもっている。ゼオライトは、アル
カリ金属又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸
塩であり、ＳｉＯ4 四面体の４頂点にある酸素原子の全
てが共有された三次元の骨格構造をもち、一部のＳｉ原
子がＡｌ原子で置換されている。
すると、粒子は帯電を放電する電極に向かって移動し、
電極表面に析出する。通常の泳動電着では、酸化物表面
に電荷を付与するため、アセトン溶媒に水及び沃素を添
加し、ケト・エノール反応で微量の水素イオンを発生さ
せ、水素イオンを酸化物表面に吸着させる。この状態で
電圧を印加すると、陰極表面に酸化物が析出する。とこ
ろで、抗菌・防カビ性を付与したゼオライトを各種溶媒
に分散させると、マイナスのゼータ電位を示し、ゼオラ
イト粒子は負の電荷をもっている。ゼオライトは、アル
カリ金属又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸
塩であり、ＳｉＯ4 四面体の４頂点にある酸素原子の全
てが共有された三次元の骨格構造をもち、一部のＳｉ原
子がＡｌ原子で置換されている。
【０００７】Ａｌ原子は、価数が＋３であり、Ｓｉ原子
のか数＋４よりも１低いため、電気的な中和を保つため
に陽イオンが導入されている。このような構造のゼオラ
イトは、外側が全て酸素原子となるように配置される。
酸素原子を局部的にみると、マイナスに帯電している。
したがって、ゼオライトを各種溶媒に分散させると、ゼ
ータ電位はマイナスの値を示し、ゼオライトを分散させ
た浴に３０〜１０００Ｖの電圧を印加すると、ゼオライ
ト粒子は陽極表面に析出する。そこで、コーティングが
施される基体を陽極とするとき、陽極表面にゼオライト
層が形成される。電着量は、印加する電圧及び印加時間
に依存する。電圧が低い場合には、３μｍ以上の膜厚を
得るためには数分以上の印加が必要となる。電圧が高い
場合には、数秒の印加で十分な膜厚が得られる。基体表
面に対する密着性及び粒子の緻密性も印加電圧に依存
し、電圧が低過ぎると十分な密着性及び緻密性が得られ
ない。これらのことを考慮するとき、良好な印加電圧は
３０〜１０００Ｖの範囲にある。１０００Ｖを超える高
電圧では、電源の対応が困難になる。
のか数＋４よりも１低いため、電気的な中和を保つため
に陽イオンが導入されている。このような構造のゼオラ
イトは、外側が全て酸素原子となるように配置される。
酸素原子を局部的にみると、マイナスに帯電している。
したがって、ゼオライトを各種溶媒に分散させると、ゼ
ータ電位はマイナスの値を示し、ゼオライトを分散させ
た浴に３０〜１０００Ｖの電圧を印加すると、ゼオライ
ト粒子は陽極表面に析出する。そこで、コーティングが
施される基体を陽極とするとき、陽極表面にゼオライト
層が形成される。電着量は、印加する電圧及び印加時間
に依存する。電圧が低い場合には、３μｍ以上の膜厚を
得るためには数分以上の印加が必要となる。電圧が高い
場合には、数秒の印加で十分な膜厚が得られる。基体表
面に対する密着性及び粒子の緻密性も印加電圧に依存
し、電圧が低過ぎると十分な密着性及び緻密性が得られ
ない。これらのことを考慮するとき、良好な印加電圧は
３０〜１０００Ｖの範囲にある。１０００Ｖを超える高
電圧では、電源の対応が困難になる。
【０００８】このようにして形成されたゼオライト膜で
は、基体の表面全体に粒子が均一に且つ緻密性良く析出
している。これに対し、スラリーへの浸漬やスラリーの
スプレー等によって基体表面に設けたゼオライト膜で
は、析出粒子の均一性及び緻密性が劣る。この点、本発
明に従った方法では、非常に良好なゼオライト膜を形成
することが可能になる。しかし、電着されたままのゼオ
ライト膜は、基体に対する付着性が十分でなく、摺擦に
よって基体表面から剥離し易い。そこで、ゼオライトコ
ーティングされた基体を２００〜７００℃に１〜１０分
間加熱することにより、ゼオライトを焼成し基体に焼き
付ける。このようにして得られたゼオライト層は、緻密
な層となる。一般的に粉末を焼成する場合、焼成後の密
度は、圧粉体作製時のプレス圧変化に伴う圧粉体密度に
影響される。通常、９５％以上の密度を得ようとする
と、圧粉体密度を６０％程度にする必要がある。そのた
め、２００ＭＰａ以上の圧力で粉末を圧粉成形すること
が要求される。しかし、泳動電着では、電圧印加がドラ
イビングフォースとなって粒子が基体表面に緻密に付着
するため、比較的低温短時間の焼成で緻密なゼオライト
膜が形成される。
は、基体の表面全体に粒子が均一に且つ緻密性良く析出
している。これに対し、スラリーへの浸漬やスラリーの
スプレー等によって基体表面に設けたゼオライト膜で
は、析出粒子の均一性及び緻密性が劣る。この点、本発
明に従った方法では、非常に良好なゼオライト膜を形成
することが可能になる。しかし、電着されたままのゼオ
ライト膜は、基体に対する付着性が十分でなく、摺擦に
よって基体表面から剥離し易い。そこで、ゼオライトコ
ーティングされた基体を２００〜７００℃に１〜１０分
間加熱することにより、ゼオライトを焼成し基体に焼き
付ける。このようにして得られたゼオライト層は、緻密
な層となる。一般的に粉末を焼成する場合、焼成後の密
度は、圧粉体作製時のプレス圧変化に伴う圧粉体密度に
影響される。通常、９５％以上の密度を得ようとする
と、圧粉体密度を６０％程度にする必要がある。そのた
め、２００ＭＰａ以上の圧力で粉末を圧粉成形すること
が要求される。しかし、泳動電着では、電圧印加がドラ
イビングフォースとなって粒子が基体表面に緻密に付着
するため、比較的低温短時間の焼成で緻密なゼオライト
膜が形成される。
【０００９】分散剤は、予め抗菌・防カビ性をもつ金属
をイオン交換によりゼオライト内にイオンとして取り込
んでいるものを用意する。抗菌・防カビ性をもつ金属と
しては、Ａｇ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｐｂ及びＣｏから選
ばれた１種又は２種以上の金属元素があり、０．１〜２
０％の割合でイオン交換させる。ゼオライト粒子は、泳
動電着時に抗菌・防カビ性金属を保持したままで陽極表
面に析出する。また、焼成時、７００℃以下ではＡｇイ
オン等がゼオライト結晶構造を破壊することによりＡｇ
Ｏになることがない。そのため、結晶構造自体には変化
がなく、単にゼオライト粒相互が焼結される。その結
果、焼結後のゼオライト膜では、膜内に抗菌・防カビ性
金属がイオン状態で保持されているため、抗菌性及び防
カビ性が劣化することはない。
をイオン交換によりゼオライト内にイオンとして取り込
んでいるものを用意する。抗菌・防カビ性をもつ金属と
しては、Ａｇ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｐｂ及びＣｏから選
ばれた１種又は２種以上の金属元素があり、０．１〜２
０％の割合でイオン交換させる。ゼオライト粒子は、泳
動電着時に抗菌・防カビ性金属を保持したままで陽極表
面に析出する。また、焼成時、７００℃以下ではＡｇイ
オン等がゼオライト結晶構造を破壊することによりＡｇ
Ｏになることがない。そのため、結晶構造自体には変化
がなく、単にゼオライト粒相互が焼結される。その結
果、焼結後のゼオライト膜では、膜内に抗菌・防カビ性
金属がイオン状態で保持されているため、抗菌性及び防
カビ性が劣化することはない。
【００１０】
【実施例】水酸化アルミニウム，珪酸ナトリウム及び水
酸化ナトリウムを混合してスラリーを調整した。スラリ
ーを約４０℃で２５０ｒ．ｐ．ｍ．で撹拌しつつ、４時
間保持した。スラリー中の粉末を遠心分離によって回収
し、温水洗浄した。得られた粉末を１００〜１１０℃で
乾燥し、ゼオライト粉末を調製した。このゼオライト粉
末を０．３Ｍ硝酸銀水溶液に入れ、撹拌しながら５分間
保持した。これによって、ゼオライトのＮａ+ とＡｇ+
との一部がイオン交換し、Ａｇ含有ゼオライトが得られ
た。Ａｇ含有ゼオライト粉末を乾燥させた後、１０ｇ計
り取り、１リットルのエタノール中に添加した。エタノ
ールを超音波で３０分照射し、エタノール中にＡｇ含有
ゼオライト粒子を均一分散させた。ここで、粒子が非常
に細かく、ゼータ電位が−１００ｍＶ程度であったこと
から、ゼオライト粒子の分散性は良好であった。
酸化ナトリウムを混合してスラリーを調整した。スラリ
ーを約４０℃で２５０ｒ．ｐ．ｍ．で撹拌しつつ、４時
間保持した。スラリー中の粉末を遠心分離によって回収
し、温水洗浄した。得られた粉末を１００〜１１０℃で
乾燥し、ゼオライト粉末を調製した。このゼオライト粉
末を０．３Ｍ硝酸銀水溶液に入れ、撹拌しながら５分間
保持した。これによって、ゼオライトのＮａ+ とＡｇ+
との一部がイオン交換し、Ａｇ含有ゼオライトが得られ
た。Ａｇ含有ゼオライト粉末を乾燥させた後、１０ｇ計
り取り、１リットルのエタノール中に添加した。エタノ
ールを超音波で３０分照射し、エタノール中にＡｇ含有
ゼオライト粒子を均一分散させた。ここで、粒子が非常
に細かく、ゼータ電位が−１００ｍＶ程度であったこと
から、ゼオライト粒子の分散性は良好であった。
【００１１】Ａｇ含有ゼオライト分散エタノール浴を電
着セルに入れ、陽極及び陰極共にステンレス鋼ＳＵＳ４
３０を使用し、極間距離を２ｃｍに設定した。両極間に
３００Ｖの電圧を３０秒間印加し、ゼオライト粒子を陽
極表面に電着させた。付着したＡｇ含有ゼオライトは、
０．７ｍｇ／ｃｍ2 の厚みで均一に基体表面に析出して
おり、多少の衝撃によっても基体表面から剥離しない付
着力を持っていた。ステンレス鋼ＳＵＳ４３０を大気中
で、４５０℃に１分間加熱し、電着しているＡｇ含有ゼ
オライトを焼成した。加熱によってゼオライト粉の焼結
が進行し、ステンレス鋼ＳＵＳ４３０表面に膜状のゼオ
ライト層が形成された。焼成条件が４５０℃と低く且つ
１分間と短時間であるため、ゼオライト結晶が破壊され
ることはなかった。そのため、ゼオライト粉末の内部に
イオン交換で取り込まれたＡｇイオンは、そのままの形
態で焼成後のゼオライト膜に持ち込まれた。ゼオライト
膜内の電化を持ったＡｇイオンは、強い抗菌作用を呈す
る。強い抗菌作用は、各種菌の細胞膜に拡散吸着したＡ
ｇイオンが細胞膜を破壊し、細胞の新陳代謝を不能にす
ること、菌の分解に有効な活性酸素がＡｇイオンによっ
て生成されること等に原因があるものと推察される。
着セルに入れ、陽極及び陰極共にステンレス鋼ＳＵＳ４
３０を使用し、極間距離を２ｃｍに設定した。両極間に
３００Ｖの電圧を３０秒間印加し、ゼオライト粒子を陽
極表面に電着させた。付着したＡｇ含有ゼオライトは、
０．７ｍｇ／ｃｍ2 の厚みで均一に基体表面に析出して
おり、多少の衝撃によっても基体表面から剥離しない付
着力を持っていた。ステンレス鋼ＳＵＳ４３０を大気中
で、４５０℃に１分間加熱し、電着しているＡｇ含有ゼ
オライトを焼成した。加熱によってゼオライト粉の焼結
が進行し、ステンレス鋼ＳＵＳ４３０表面に膜状のゼオ
ライト層が形成された。焼成条件が４５０℃と低く且つ
１分間と短時間であるため、ゼオライト結晶が破壊され
ることはなかった。そのため、ゼオライト粉末の内部に
イオン交換で取り込まれたＡｇイオンは、そのままの形
態で焼成後のゼオライト膜に持ち込まれた。ゼオライト
膜内の電化を持ったＡｇイオンは、強い抗菌作用を呈す
る。強い抗菌作用は、各種菌の細胞膜に拡散吸着したＡ
ｇイオンが細胞膜を破壊し、細胞の新陳代謝を不能にす
ること、菌の分解に有効な活性酸素がＡｇイオンによっ
て生成されること等に原因があるものと推察される。
【００１２】このようにして作成されたゼオライト膜の
抗菌特性を表１に、防カビ特性を表２に示す。表１及び
表２から明らかなように、泳動電着後に焼成したゼオラ
イト膜の抗菌・防カビ性が非常に優れていることが確認
された。ただし、表１では、振りかけ法で抗菌力を調査
した。すなわち、１０5 個／ｍｌの濃度に調製した菌液
１ｍｌを試験片に滴下し、３７℃で２４時間培養した
後、リン酸緩衝液で菌を洗い出した。洗い出した菌液に
ついて、菌数を計測した。また、表２では菌類の発育状
況を判定し、試料又は試験片の摂取した部分に菌糸の発
育が見られないものを３，菌糸が発育した部分の面積が
全面積の１／３を超えないものを２，菌糸が発育した部
分の面積が全面積の１／３を超えるものを１として３段
階評価した。
抗菌特性を表１に、防カビ特性を表２に示す。表１及び
表２から明らかなように、泳動電着後に焼成したゼオラ
イト膜の抗菌・防カビ性が非常に優れていることが確認
された。ただし、表１では、振りかけ法で抗菌力を調査
した。すなわち、１０5 個／ｍｌの濃度に調製した菌液
１ｍｌを試験片に滴下し、３７℃で２４時間培養した
後、リン酸緩衝液で菌を洗い出した。洗い出した菌液に
ついて、菌数を計測した。また、表２では菌類の発育状
況を判定し、試料又は試験片の摂取した部分に菌糸の発
育が見られないものを３，菌糸が発育した部分の面積が
全面積の１／３を超えないものを２，菌糸が発育した部
分の面積が全面積の１／３を超えるものを１として３段
階評価した。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、抗菌・防カビ性を付与したゼオライトがマイナスの
ゼータ電位を示すことを利用し、電気泳動によってゼオ
ライト粒子を基体表面に泳動電着させている。そのた
め、材質に制約を受けることなく、各種材料の基体に対
して抗菌・防カビ性コーティングを施すことができる。
ゼオライト層に担持された抗菌・防カビ剤は、ゼオライ
ト結晶内にイオン交換されて保持されているため、溶出
に起因した性能の劣化がなく、長期間に渡って優れた抗
菌性及び防カビ性を維持する。そのため、厨房器具，サ
ニタリ用具，公共施設等の広範な分野において、衛生面
に優れた材料が提供される。
は、抗菌・防カビ性を付与したゼオライトがマイナスの
ゼータ電位を示すことを利用し、電気泳動によってゼオ
ライト粒子を基体表面に泳動電着させている。そのた
め、材質に制約を受けることなく、各種材料の基体に対
して抗菌・防カビ性コーティングを施すことができる。
ゼオライト層に担持された抗菌・防カビ剤は、ゼオライ
ト結晶内にイオン交換されて保持されているため、溶出
に起因した性能の劣化がなく、長期間に渡って優れた抗
菌性及び防カビ性を維持する。そのため、厨房器具，サ
ニタリ用具，公共施設等の広範な分野において、衛生面
に優れた材料が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ａ４７Ｊ 36/02 Ｂ
Claims (3)
- 【請求項１】 抗菌・防カビ性を付与したゼオライト粉
末を有機溶媒又は水に分散させ、３０〜１０００Ｖの電
圧を印加することにより基板の表面に前記ゼオライト粉
末を泳動電着させることを特徴とする電気泳動を利用し
た抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング
方法。 - 【請求項２】 無電解めっき又は導電性セラミックスの
コーティングにより導電性を付与した絶縁材料を請求項
１記載の基板として使用するコーティング方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の基板表面にコーテ
ィングされたゼオライトを２００〜７００℃の温度に１
〜１０分間加熱することによって基板表面に焼き付ける
コーティング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285094A JPH08134697A (ja) | 1994-11-11 | 1994-11-11 | 電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30285094A JPH08134697A (ja) | 1994-11-11 | 1994-11-11 | 電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08134697A true JPH08134697A (ja) | 1996-05-28 |
Family
ID=17913853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30285094A Withdrawn JPH08134697A (ja) | 1994-11-11 | 1994-11-11 | 電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08134697A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10237362A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-08 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 電着塗料および電着塗装方法 |
| JP2007284753A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-01 | Kyodo Printing Co Ltd | ハードコート部材及びその製造方法 |
| JP2007284752A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-01 | Kyodo Printing Co Ltd | バリアフィルム及びその製造方法 |
| JP2009197762A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 排ガス処理装置 |
| JP5177378B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2013-04-03 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | メソポーラスシリカ厚膜及びその製造方法、吸着装置並びに吸着用膜 |
| JP2020519749A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-07-02 | ダイキン アメリカ インコーポレイティッドＤａｉｋｉｎ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ． | 組成物及び組成物の製造方法 |
-
1994
- 1994-11-11 JP JP30285094A patent/JPH08134697A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10237362A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-08 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 電着塗料および電着塗装方法 |
| JP5177378B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2013-04-03 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | メソポーラスシリカ厚膜及びその製造方法、吸着装置並びに吸着用膜 |
| JP2007284753A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-01 | Kyodo Printing Co Ltd | ハードコート部材及びその製造方法 |
| JP2007284752A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-01 | Kyodo Printing Co Ltd | バリアフィルム及びその製造方法 |
| JP2009197762A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 排ガス処理装置 |
| JP2020519749A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-07-02 | ダイキン アメリカ インコーポレイティッドＤａｉｋｉｎ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ． | 組成物及び組成物の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0035626B1 (en) | Improved electroless plating process for glass or ceramic bodies | |
| EP0684075B1 (en) | Multi-functional material having photo-catalytic function and production method therefor | |
| Yesugade et al. | Structural and optical properties of electrodeposited Bi2S3, Sb2S3 and As2S3 thin films | |
| US6251254B1 (en) | Electrode for chromium plating | |
| US4622069A (en) | Catalyst composition for forming electroless plating on ceramics | |
| Djokić et al. | Behavior of silver in physiological solutions | |
| US6106955A (en) | Metal material having photocatalytic activity and method of manufacturing the same | |
| JPH08134697A (ja) | 電気泳動を利用した抗菌性及び防カビ性のあるゼオライトのコーティング方法 | |
| JPH02247393A (ja) | 耐久性電解用電極及びその製造方法 | |
| JP3136918B2 (ja) | 抗菌性を有する多機能材及びその製造方法 | |
| JP3763117B2 (ja) | 簡易でかつ再現性に富む自立ゼオライト膜の製造方法 | |
| Li et al. | Antibacterial properties and biocompatibility of hydroxyapatite coating doped with various Cu contents on titanium | |
| WO2012124717A1 (ja) | 砥粒固着金属線及びその製造方法 | |
| JPH1018082A (ja) | 金属材料の酸化チタン被覆方法 | |
| JP2000143369A (ja) | 表面処理材及び抗菌性窯業製品並びにその製造方法 | |
| JP4328850B2 (ja) | 酸化亜鉛膜の皮膜構造の制御方法 | |
| JP3267880B2 (ja) | 抗菌性アルミニウム又はアルミニウム合金材料及びその製造方法 | |
| JP3691004B2 (ja) | 抗菌・防かび性に優れたＮｉ系粉末およびその製法、並びに該Ｎｉ系粉末を含む抗菌・防かび性に優れた材料、樹脂および部材 | |
| JPH11278969A (ja) | 抗菌・防黴性陶磁器製品およびその製造方法 | |
| JPS5925985A (ja) | 水電解用高耐久性低過電圧陰極及びその製造法 | |
| JPH10330998A (ja) | 電気めっき方法 | |
| JPH0565600B2 (ja) | ||
| JP2802435B2 (ja) | コーテイング用組成物 | |
| CN108677171A (zh) | 一种抗菌铝制品的制备方法 | |
| JPS62134980A (ja) | 太陽電池基板用母板およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020115 |