JPH08131774A - 三フッ化窒素の除害方法及びその装置 - Google Patents

三フッ化窒素の除害方法及びその装置

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JPH08131774A
JPH08131774A JP6298841A JP29884194A JPH08131774A JP H08131774 A JPH08131774 A JP H08131774A JP 6298841 A JP6298841 A JP 6298841A JP 29884194 A JP29884194 A JP 29884194A JP H08131774 A JPH08131774 A JP H08131774A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安全性、経済性に優れ、効率良く三フッ化窒
素を除害できる方法及び装置を提供する。 【構成】 本発明方法は、三フッ化窒素ガス又は三フッ
化窒素を含むガスに、炭化水素を添加し、この混合ガス
を200℃以上に加熱した還元性触媒に接触させて三フ
ッ化窒素を分解して除害する方法であり、更に三フッ化
窒素の分解によって生じたフッ化水素を含むガスを加湿
した後、吸着剤によって吸着除去する方法である。また
本発明装置は、三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含
むガスと炭化水素を混合する混合弁3等の混合手段と、
混合ガス中の三フッ化窒素を分解するための還元性触媒
を充填した触媒塔7と、該触媒塔7内の触媒を加熱する
加熱装置8等の加熱手段と、三フッ化窒素の分解によっ
て生じるフッ化水素を加湿する加湿器13等の加湿手段
と、フッ化水素を吸着除去する吸着剤を充填した吸着塔
9とからなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は三フッ化窒素の除害方法
及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】三フッ化窒素は半導体製造工程におい
て、主としてクリーニングガス、エッチングガス等とし
て使用されており、その使用量は近年急激に伸びてい
る。しかしながら三フッ化窒素は毒性ガス(TLV=1
0ppm)であり、三フッ化窒素や三フッ化窒素を含む
ガスを廃棄する場合には、三フッ化窒素を除害してから
排出することが必要である。
【0003】三フッ化窒素は常温で安定であるため、三
フッ化窒素の除害方法としては高温下で三フッ化窒素を
反応させる等の方法が主流となっている。例えば、三
フッ化窒素と木炭等の炭素塊とを、300〜600℃の
高温下で反応させる方法(特公平2−30731号公
報)、三フッ化窒素を、200℃程度以上の高温下で
還元性触媒等と接触させて三フッ化窒素を分解する方法
(特開昭62−273039号公報)、三フッ化窒素
を水素の存在下に、100℃程度以上の高温下で還元性
触媒と接触させて三フッ化窒素を分解する方法(特開平
2−303524号公報)等が挙げられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
の方法では、炭素と三フッ化窒素とが高温下で激しく反
応するため、熱暴走を起こす危険があり、の方法で
は、反応副生物としてNO、NO2 等の窒素酸化物(N
x )が生じるという問題とともに、三フッ化窒素の分
解によって生じたフッ化水素等の触媒毒作用によって触
媒の活性が著しく阻害されるという問題があった。一
方、の方法は、の方法のようにNOx が発生する虞
れがないとともに、還元性触媒の劣化も防止できる方法
であるが、三フッ化窒素と水素との混合ガスの爆発限界
が、三フッ化窒素の濃度で9.4〜95%と非常に広
く、安全性の面で大きな問題があった。また設置場所に
よっては、三フッ化窒素の分解処理のためだけに、新た
に水素ガスの供給設備を設けなければならないという不
都合もあった。
【0005】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
上記従来技術の欠点を解決し得る、三フッ化窒素の除害
方法及びその装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】即ち本発明の三フッ化窒
素の除害方法の一つは、三フッ化窒素ガス又は三フッ化
窒素を含むガスに、炭化水素を添加し、この混合ガスを
200℃以上に加熱した還元性触媒に接触させて三フッ
化窒素を分解して除害することを特徴とする。本発明の
三フッ化窒素の除害方法のいま一つは、三フッ化窒素ガ
ス又は三フッ化窒素を含むガスに、炭化水素を添加し、
この混合ガスを200℃以上に加熱した還元性触媒に接
触させて三フッ化窒素を分解し、次いで三フッ化窒素の
分解によって生じたフッ化水素を加湿した後、吸着剤に
よって吸着除去することを特徴とする。
【0007】また本発明の三フッ化窒素の除害装置は、
三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含むガスと炭化水
素ガスとを混合する手段と、混合ガス中の三フッ化窒素
を分解するための還元性触媒を充填した触媒塔と、該触
媒塔を加熱する手段と、三フッ化窒素の分解によって生
じるフッ化水素を加湿する手段と、フッ化水素を吸着除
去するための吸着剤を充填した吸着塔とからなることを
特徴とする。
【0008】本発明方法において、三フッ化窒素ガス又
は三フッ化窒素を含むガスとは、100%三フッ化窒素
ガスや、窒素、ヘリウム、アルゴン等で希釈された三フ
ッ化窒素ガスを意味する。
【0009】本発明方法において、三フッ化窒素ガス又
は三フッ化窒素を含むガスと混合される炭化水素として
は、炭素数1〜4の炭化水素、即ち、メタン、エタン、
プロパン、ブタンが好ましい。炭化水素は1種又は2種
以上を混合して用いることができる。また本発明方法に
おいては、純粋な炭化水素のみに限らず、炭化水素を主
成分として含有するガス、例えばLPG、都市ガスを使
用することができる。LPGや都市ガス等は容易に入手
できるとともに、比較的簡単な手段により供給が可能で
あるため、炭化水素供給源として好ましいものである。
【0010】本発明方法は、三フッ化窒素ガス又は三フ
ッ化窒素を含むガスと炭化水素との混合ガスを、200
℃以上に加熱された還元性触媒に接触させることによ
り、三フッ化窒素が分解して除害される。この還元性触
媒としてはアルミナ等の担体に、プラチナ、パラジウ
ム、ニッケル等の第VIII族元素より選ばれた少なくとも
1種を担持させた触媒が好適である。また炭化水素とし
てLPG、都市ガス等を使用する場合、これらのガスに
はイオウ化合物が含まれていることがあるため、これら
のガスの使用に際しては、予めイオウ化合物を除去する
ことが好ましい。しかしながら、含有されるイオウ化合
物の濃度が低い場合、イオウ化合物に対して比較的被毒
され難いプラチナ系触媒を使用し、還元性触媒の温度を
300℃以上とすることにより、炭化水素中にイオウ化
合物が含まれていても三フッ化窒素の分解が可能であ
る。
【0011】三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含む
ガスと炭化水素との混合ガスを還元性触媒に接触させて
処理するに際し、還元性触媒は200℃以上に加熱され
ている必要があるが、還元性触媒を充填した触媒塔等の
耐熱性を考慮すると200〜800℃程度とすることが
好ましい。
【0012】三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含む
ガスと炭化水素との混合ガスが、加熱された還元性触媒
と接触すると、下記化1で示す反応が生じると考えられ
る(但し、下記化1は炭化水素がプロパンの場合につい
て示してある。)
【0013】
【化1】20NF3 + 3C3 8 → 9CF4 + 2
4HF + 10N2
【0014】三フッ化窒素と炭化水素との混合比率は、
上記化1より、三フッ化窒素に対し、プロパンでは0.
15倍モルが化学量論量である。このため、三フッ化窒
素に対し、0.15倍モル以上のプロパンを添加するこ
とが好ましい。また、プロパン以外の炭化水素ガスも含
有するLPGでは0.2倍モル以上、都市ガスでは0.
4倍モル以上とすることが好ましい。
【0015】本発明方法において三フッ化窒素に対する
炭化水素の添加量は、三フッ化窒素と水素との混合ガス
を還元性触媒に接触させて分解する従来の方法におけ
る、水素の添加量に比べて少ない量である。即ち、三フ
ッ化窒素と水素とは、下記化2又は化3のように反応す
ると考えられる。
【0016】
【化2】2NF3 + 3H2 → N2 + 6HF
【0017】
【化3】 NF3 + 3H2 → NH4 F・HF + HF
【0018】上記化2、化3より明らかなように、化2
の反応の場合には、三フッ化窒素に対して水素は1.5
倍モル、化3の反応の場合には三フッ化窒素に対して水
素は3倍モル必要となる。このように三フッ化窒素を含
むガスに水素を添加して分解する従来法では、多量の水
素ガスの添加が必要であるのに対し、三フッ化窒素を含
むガスに炭化水素を添加して分解する本発明方法では、
炭化水素ガスの添加量が少なくて済むため、経済性の面
からも安全性の面からも好ましいものである。
【0019】前記化1に示した如く、三フッ化窒素と炭
化水素は、200℃以上に加熱された還元性触媒に接触
して反応し、フッ化水素を発生するが、毒性の強いフッ
化水素(TLV=3ppm)は除害することが必要であ
る。フッ化水素は吸着剤によって除害することができる
が、本発明方法ではフッ化水素を含むガスを加湿するこ
とにより、フッ化水素が吸着剤に吸着され易くなり、効
率良い吸着除去を行うことができるようにしたものであ
る。加湿の程度は、大気の相対湿度程度でも良いが、相
対湿度の増加に伴い吸着剤のフッ化水素に対する吸着量
は増加するため、相対湿度は高い方が好ましい。
【0020】上記吸着剤としては、例えば活性炭、活性
炭にアルカリを添着したもの、活性炭に金属酸化物を添
着したもの、ソーダライム等を使用することができる。
【0021】
【実施例】以下に本発明装置の一実施例を図面に基づき
説明する。図1において、1はガス導入管で、該導入管
1からは三フッ化窒素又は三フッ化窒素を含むガスが導
入されるが、通常、窒素ガス等で希釈した三フッ化窒素
が導入される(導入管1から導入されるガスは、三フッ
化窒素を含むガスが主であるため、導入管1から導入さ
れるガスを以下、三フッ化窒素を含むガスと呼ぶ。)。
2は炭化水素ガスや炭化水素を含むLPG、都市ガス等
を導入するガス導入管で、三フッ化窒素を含むガスと炭
化水素ガス(又は炭化水素を含むガス)とは、混合弁3
において混合される。
【0022】4は窒素ガス導入管で、必要により窒素ガ
ス導入管4から窒素ガスを導入し、この窒素ガスを加熱
装置5によって加熱し、加熱窒素ガスは前記混合弁6に
おいて混合した三フッ化窒素と炭化水素とを含むガスと
混合される。
【0023】7は還元性触媒を充填した触媒塔で、該触
媒塔7には加熱装置8が設けられ、加熱装置8によって
触媒塔7内の還元性触媒が200℃以上に加熱保持され
るように構成されている。しかしながら触媒塔7の径が
大きく、三フッ化窒素と炭化水素とを含むガスが大量に
触媒塔7内に導入された場合等には加熱装置8による加
熱だけでは不充分であり、還元性触媒の温度が200℃
以下に低下したり、触媒層に温度勾配が生じる虞れがあ
る。このような場合には、窒素導入管4から加熱装置5
を経て加熱窒素ガスを導入すると、触媒塔7内の温度低
下を短時間で回復することができて好ましいが、触媒塔
7の径が小さい場合等には、必ずしも加熱窒素ガスを導
入する必要はない。
【0024】三フッ化窒素と炭化水素は、触媒塔7内を
通過する間に、200℃以上に加熱された還元性触媒と
接触して反応し、三フッ化窒素が除害されるが、三フッ
化窒素と炭化水素との反応によってフッ化水素が生成す
るため、触媒塔7から排出されるガス中にはフッ化水素
が含まれている。本発明装置では、このフッ化水素を含
むガスを加湿し、吸着塔9内の吸着剤によって吸着され
易くするための加湿手段を備えている。
【0025】フッ化水素を含むガスを加湿するには、ブ
ロワー14で空気を吸引することにより、空気導入管1
0より導入される空気とフッ化水素を含むガスとを、混
合弁11において混合するようにしただけでも良い。即
ち空気導入管10より導入される空気中には通常水分が
含まれているため、この水分によってフッ化水素を含む
ガスは加湿されるが、図1に示すように、フッ化水素を
含むガスを、水12を蓄えた加湿器13等を通過させる
ことにより加湿する方法が好ましい。
【0026】上記の如き加湿器13を設ける場合、空気
導入管10から必ずしも空気を導入する必要はない。し
かしながら、触媒塔7内での加熱によって、フッ化水素
を含むガスは高温となっているが、空気導入管10から
空気を導入することにより、高温のフッ化水素を含むガ
スは冷却される。吸着剤にフッ化水素を吸着させる場
合、フッ化水素を吸着する量は相対湿度の増加に伴い、
吸着量が増加する傾向がある。このため、ガス温度を冷
却し相対湿度を増加させることが好ましい。尚、図1に
おいて15は、加湿のために導入する空気の圧力調整弁
である。
【0027】次に具体的実施例を挙げて本発明を更に詳
細に説明する。
【0028】実施例1 図1に示した装置において、内径20mmのカラムに、
アルミナを担体としたプラチナ触媒を50cc充填した
ものを触媒塔として使用し、このカラム内で触媒を38
0℃に加熱保持した。窒素ガスで希釈した三フッ化窒素
(5%濃度)を170cc/分の割合で供給し、これに
市販のLPG(い号プロパン)を、イオウ化合物を除去
することなく用い、2.8cc/分の割合で供給して両
者を混合した後、前記触媒塔に導入して触媒と接触させ
た。次いで触媒塔から排出されたガスを、空気を2リッ
トル/分で混合することにより加湿するとともに、水を
蓄えた加湿器の水面を通過させることにより加湿した
後、フッ化水素吸着剤としてトキソクリーン−III (商
品名:東洋酸素株式会社製)100ccを充填した、内
径34mmのカラム(吸着塔)に通過させた。
【0029】触媒塔の出口ガス中の三フッ化窒素の濃度
をガスクロマトグラフにより、吸着塔出口ガス中のフッ
化水素濃度を検知管によりそれぞれ測定したところ、2
時間連続で処理した後でも、三フッ化窒素は10ppm
以下(TLV以下)であり、またフッ化水素は3ppm
以下(TLV以下)であった。
【0030】実施例2 触媒温度を500℃とした他は実施例1と同様の処理を
行った。その結果、50時間連続で処理した後でも、三
フッ化窒素、フッ化水素共にTLV以下であることが認
められた。
【0031】実施例3 市販のLPGをトキソクリーン-IIIcを30cc充填し
た内径20mmのカラムを通過させ、LPGに含まれる
イオウ化合物を除去してから使用し、触媒の温度を27
0℃とした以外は実施例1と同様にして処理を行った。
その結果、30分間連続処理した後でも三フッ化窒素、
フッ化水素ともにTLV以下であることが認められた。
【0032】実施例4 触媒温度を370℃とし、炭化水素ガスを市販のLPG
から市販の都市ガス(13A)に変え、実施例3と同様
にしてイオウ化合物を除去した後、3.7cc/分の割
合で供給して三フッ化窒素を含むガスと混合した他は、
実施例1と同様にして処理を行った。その結果、2時間
連続で処理した後でも、三フッ化窒素、フッ化水素共に
TLV以下であることが認められた。
【0033】比較例1 触媒温度を室温とした以外は実施例1と同様の処理を行
った。その結果、触媒塔から排出されるガス中の三フッ
化窒素の濃度は、触媒塔入口側で採取したガス中の三フ
ッ化窒素濃度とほぼ同じであった。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、三フッ化窒素を含
むガスに炭化水素を添加した後、200℃以上に加熱し
た還元性触媒に接触させて三フッ化窒素を処理する本発
明方法は、三フッ化窒素を含むガスに水素を添加した
後、還元性触媒に接触させて処理する従来法に比べ、三
フッ化窒素に対する炭化水素の添加量が少なくて済み、
三フッ化窒素を経済的かつ効果的に除害できる優れた方
法である。また三フッ化窒素と炭化水素(例えば、n−
ブタン)との混合物の爆発限界(三フッ化窒素濃度で2
5〜98.5%)は、三フッ化窒素と水素との混合物の
爆発限界(三フッ化窒素濃度で9.4〜95%)に比べ
て狭いため、水素を混合する従来法よりも安全性の高い
方法である。
【0035】更に三フッ化窒素と炭化水素とを含むガス
を還元性触媒に接触させて三フッ化窒素を分解処理し、
三フッ化窒素の分解によって生じたフッ化水素を含むガ
スを加湿した後、吸着剤で吸着処理することにより、三
フッ化窒素の除害とともに三フッ化窒素の分解によって
生じた毒性の高いフッ化水素も確実に除去でき、確実な
除害が行える効果がある。また本発明装置によれば、本
発明方法を効果的に実施できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の一例を示すシステム図である。
【符号の説明】
1、2 ガス導入管 3 混合弁 7 触媒塔 8 加熱装置 9 吸着塔 13 加湿器 15 加湿用空気の圧力調整弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01D 53/68 B01D 53/34 128 134 C (72)発明者 荻野 博 神奈川県川崎市川崎区水江町3−3 東洋 酸素株式会社技術研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含
    むガスに、炭化水素を添加し、この混合ガスを200℃
    以上に加熱した還元性触媒に接触させて三フッ化窒素を
    分解することを特徴とする三フッ化窒素の除害方法。
  2. 【請求項2】 三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含
    むガスに、炭化水素を添加し、この混合ガスを200℃
    以上に加熱した還元性触媒に接触させて三フッ化窒素を
    分解し、次いで三フッ化窒素の分解によって生じたフッ
    化水素を、加湿した後に吸着剤によって吸着除去するこ
    とを特徴とする三フッ化窒素の除害方法。
  3. 【請求項3】 三フッ化窒素ガス又は三フッ化窒素を含
    むガスと炭化水素とを混合する手段と、この混合ガス中
    の三フッ化窒素を分解するための還元性触媒を充填した
    触媒塔と、該触媒塔を加熱する手段と、三フッ化窒素の
    分解によって生じるフッ化水素を加湿する手段と、フッ
    化水素を吸着除去するための吸着剤を充填した吸着塔と
    からなることを特徴とする三フッ化窒素の除害装置。
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