JPH0812689A - 立体障害ヒドロキシベンジルホスホネートの製造方法 - Google Patents

立体障害ヒドロキシベンジルホスホネートの製造方法

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JPH0812689A
JPH0812689A JP7184910A JP18491095A JPH0812689A JP H0812689 A JPH0812689 A JP H0812689A JP 7184910 A JP7184910 A JP 7184910A JP 18491095 A JP18491095 A JP 18491095A JP H0812689 A JPH0812689 A JP H0812689A
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JP7184910A
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Thomas Engert
エンゲルト トーマス
Hans Stephan
シュテファン ハンス
Walter Wolf
ヴォルフ ヴァルター
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Ciba Geigy AG
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4056—Esters of arylalkanephosphonic acids

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 立体障害ヒドロキシベンジルホスホネートの
製造方法を提供する。 【構成】 Ａ）２，６−ジ第三ブチルフェノールをジメ
チルアミン、パラホルムアルデヒド及び氷酢酸と反応さ
せて相当するマンニッヒ塩基塩を得、Ｂ）生成する反応
水を留去し、次いでＣ）反応混合物、又はそれから単離
された塩をトリエチルホスフィットと反応させてジエチ
ル４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホス
ホネートを得る（実施例１，収率９３．５％）。 【効果】 中間体の単離及び／又は精製を行わなくても
よく、収率が高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、立体障害ヒドロキシベ
ンジルホスホネート及びそれから誘導された金属塩の製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】立体障
害ヒドロキシベンジルホスホネートは、例えば、プラス
チックのための加工安定剤として用いられる。それらの
製造方法の範囲は公知である（例えば、ＵＳ−Ａ３７９
０６４８，ＵＳ−Ａ３００６９４５，ＳＵ−Ａ６１９４
８６，ＤＥ−Ａ２２２２７０８，ＦＲ−Ａ１３８２８９
１参照）。
【０００３】前記方法のうちの一つの群においては、次
式：
【化９】 〔式中、基Ｒ1 ないしＲ4 は、例えば、以下に記載され
た定義を有していてよい〕で表わされるマンニッヒ塩基
を用いる反応が使用される。
【０００４】ＵＳ−Ａ３１５５７０４及びＤＥ−Ａ２３
１２９１０には、沃化メチルを用いるこのようなマンニ
ッヒ塩基の四量化、及びアンモニウム塩とトリアルキル
ホスフィットとの反応が記載されている。しかしなが
ら、沃化メチルは一方では比較的高価であり、他方で
は、高度に発癌性であるため、その結果、それは厳しい
安全予防策を行ってのみ扱うことができる。
【０００５】ＵＳ−Ａ３７９０６４８に従って、マンニ
ッヒ塩基を、アルカリ金属又はそれらの水素化物若しく
はアミドの存在下で、ジアルキルホスフィットと反応さ
せる。強アルカリ存在下での出発物質及び生成物の特別
の感度に応じて、変色した生成物の生成が起こり、そし
て、このことはＵＳ−Ａ４２６３２３２に基づく添加剤
を使用することによって避けることができるけれども、
収率は所望の幾ばくかに止まる。加えて、生成物の望ま
ない加水分解の危険がある。
【０００６】ＤＥ−Ａ２４５６５３２及びヴイ．ヴイ．
オヴチニコウ(V.V.Ovchinnikow) らによるZh.Obshch.Kh
im.51,999(1981) に、マンニッヒ塩基と、各々、トリア
ルキル及びジアルキルホスフィットとの直接反応が記載
されている。この方法の欠点は長い反応時間である。
【０００７】加えて、ＤＥ−Ａ２３１２９１０にはマン
ニッヒ塩基の代替物が記載されており、この場合、例え
ば、アミノ基は臭化物又はアセテートによって置換され
る。前記化合物は、ホスフィットとの反応前に単離さ
れ、そして全収率は、相当するマンニッヒ塩基が使用さ
れる場合よりも実質的に低い。
【０００８】更に、ヒドロキシベンジルホスホネート
は、マンニッヒ塩基とトリアルキルホスフィットとをカ
ルボン酸無水物の存在下で反応させることにより製造さ
れ得ることが知られている（ＥＰ−Ａ５０７７３８）。
【０００９】更に、ＵＳ−Ａ５１５７１４１には、フェ
ノール、ホルムアルデヒド及びアミンの反応並びにトリ
アルキルホスフィットの直接添加によってヒドロキシベ
ンジルホスホネートがほぼ８０％の収率で得られる方法
が開示されている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】マンニッヒ塩基の塩が中
間体として製造され、且つ反応水が二つの工程の間に除
去される場合には、非常に多くの利点がある全工程が生
じることが今や見出された。この手段によって、収率は
かなり増大する。マンニッヒ塩基及びその塩の単離又は
精製は、本方法においては必要ない。本方法は、下記反
応を使用する：
【化１０】 （Ｍ′はアルカリ土類金属を表わし、Ｘは例えばハロゲ
ン原子を表わし；Ｍ″はアンモニウム又はアルカリ金属
を表わす。）
【００１１】とりわけ、本方法は、 Ａ）次式II：
【化１１】 で表わされるフェノールを次式III ：
【化１２】 で表わされるアミン、ホルムアルデヒド又はパラホルム
アルデヒド及びプロトン酸Ｈn Ａと反応させて次式IV：
【化１３】 で表わされる塩を得、 Ｂ）生成する反応水を留去し、次いで Ｃ）反応混合物、又はそれから単離された塩IVを次式
Ｖ：
【化１４】 で表わされるトリアルキルホスフィットと反応させるこ
とからなる次式Ｉ：
【化１５】 で表わされるヒドロキシベンジルホスホネートの製造方
法に関するものである。。
【００１２】これらの式中、Ｈn Ａはｎ（１，２，３又
は４）個のプロトンを有する有機酸又は無機酸を表わ
し、Ｒ1 及びＲ2 は互いに独立して炭素原子数１ないし
１２のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキル基を表わし、Ｒ3 及びＲ4 は互いに独立して炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、又はそれらに結合し
た窒素原子と一緒になってピペリジル基若しくはモルホ
リニル基を表わし、そしてＲ5 ，Ｒ6 及びＲ7 は互いに
独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。
【００１３】本方法は、得られた次式Ｉ：
【化１６】 で表わされる化合物を塩基Ｍ（ＯＨ）m 〔式中、Ｍはア
ンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を表わ
し、そしてｍは１又は２を表わす〕と反応させて（加水
分解させて）次式Ia：
【化１７】 で表わされる塩を得、これを所望により（Ｍがアルカリ
金属又はアンモニウムを表わす場合には）、アルカリ土
類金属塩と反応させて式Ia〔式中、Ｍはアルカリ土類金
属を表わし、そしてｍは２を表わす〕で表わされる別の
塩を得るという式Iaで表わされる塩の製造のために使用
されてもよい。
【００１４】上記式中の炭素原子数１ないし１２のアル
キル基Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 及びＲ4 は、分岐鎖基又は非分
岐鎖基である。その例は、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、
第三ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、３−ヘプチル基、オクチル基、２−エ
チルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、２−エチルブチル基、１−メチルヘプチル
基、１，１，３−トリメチルヘキシル基又は１−メチル
ウンデシル基である。炭素原子数１ないし４のアルキル
基としてのＲ6及びＲ7 は好ましくは、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、イソブチル基及び第三ブチル基である。
【００１５】炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基
としてのＲ1 及びＲ2 は、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基又はシクロヘプチル基である。
【００１６】適するプロトン酸Ｈn Ａは例えば、塩酸、
硫酸、燐酸、メタンスルホン酸、メタンホスホン酸、ｐ
−トルエンスルホン酸又はカルボン酸のような無機酸又
は有機酸である。１個ないし３個のプロトン（ｎ＝１，
２又は３）を有する酸を使用することが好ましい。
【００１７】適するカルボン酸は、一価カルボン酸例え
ば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、ヘ
キサン酸、エナント酸、オクタン酸、ネオデカン酸、２
−エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸、デカン酸、ウンデ
カン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、イソステアリン酸、ステアリン酸、１２−
ヒドロキシステアリン酸、ベヘン酸、安息香酸、ｐ−第
三ブチル安息香酸、ジメチルヒドロキシ安息香酸、３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、トルイル
酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ｎ−プロピル
安息香酸、サリチル酸、ｐ−第三オクチルサリチル酸、
及びソルビン酸；二価カルボン酸例えば、シュウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フマル
酸、ペンタン−１，５−ジカルボン酸、ヘキサン−１，
６−ジカルボン酸、ヘプタン−１，７−ジカルボン酸、
オクタン−１，８−ジカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、及びヒドロキシフタル酸；並びに
三価又は四価カルボン酸例えば、ヘミメリト酸、トリメ
リト酸、ピロメリト酸、及びクエン酸のジ−又はトリエ
ステルである。例えば、式ＲＣＯ−ＯＨ〔式中、Ｒは炭
素原子数１ないし１２のアルキル基を表わす〕で表わさ
れる低級カルボン酸を使用するのが好ましい。その例は
酢酸又はピバリン酸である。
【００１８】工程Ａは都合良くは０℃ないし６０℃で、
好ましくは、温度が６０℃を越えないように特に注意し
て行われる。工程Ａにおいて、アミン、ホルムアルデヒ
ド及び酸の少なくとも等モル量のフェノールを添加する
ことが都合が良い。これらの反応物の１種又はそれより
多くが２０％まで、特に１０％まで過剰であることが利
点があり得る。
【００１９】工程Ｂ：好ましくは６０℃を越えない一定
温度で蒸留が行われる；すなわち、水を留去するために
部分的な真空が用いられる。反応が溶媒中で行われる場
合には、反応水は共留剤によって又は共沸的に行われる
ことが好ましい。前記蒸留は減圧下で行われることが好
ましい。圧力は例えば、５トルないし１００トル（約７
mbarないし１３５mbar）の範囲内であってよい。
【００２０】工程Ｃ：中間体IVを好ましくは、単離する
ことなく及び／又は精製することなく、ホスフィットＶ
と直接反応させる；換言すれば、例えば反応水を留去後
に、トリアルキルホスフィットの少なくとも等モル量を
反応混合物に直接添加する。ホスフィットを僅かに過剰
に、例えば５％ないし２０％、特に１０％過剰に用いる
ことも本工程において利点があり得る。
【００２１】前記工程Ｃにおいて、反応温度は室温ない
し１５０℃が都合が良い；反応は好ましくは室温ないし
６０℃で開始し、次いで副生成物が留去されるように、
温度を続いてゆっくりと上げる。本方法のこの部分にお
いても、何らかの比較的不揮発性の副生成物を留去する
ために、部分的な真空を用いることが可能である。
【００２２】それ故、工程Ｃは大気圧下又は減圧下で行
うことができる。減圧下で行った場合には、この圧力は
好ましくは５００mbarないし１５０mbarである。
【００２３】下記工程Ｃの好ましい態様において、副生
成物は５mbarないし２０mbarの圧力下１００℃ないし１
７０℃の温度で、蒸留によって除去される。
【００２４】本方法は好ましくは溶媒なしで行われる。
有機溶媒、とりわけ中性且つ好ましくは高沸点溶媒の存
在は、しかしながら、都合が良いであろう。この溶媒は
非極性又は極性であってよい。極性中性溶媒の例は、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びＮ−メ
チルピロリドンである。好ましい溶媒の例は、脂肪族炭
化水素、例えばヘプタン、オクタン、シクロヘキサン及
びデカリン；鉱油蒸留物、例えば石油エーテル、リグロ
イン及びケロシン；芳香族炭化水素、例えばベンゼン、
トルエン又はキシレン；エステル、例えば酢酸エチル；
エーテル、例えばジブチルエーテル又はテトラヒドロフ
ラン；或いは上記溶媒の混合物である。特に、高沸点脂
肪族又は芳香族溶媒が使用される。
【００２５】これらの溶媒のなかで、特に好ましいもの
は石油エーテル留分、とりわけ石油エーテル留分１００
／１４０（ナフタベンジン）及び１６０／２００、並び
に酢酸エチルである。
【００２６】溶媒が使用された場合は、工程Ａ若しくは
Ｃ又は両工程が使用されてよい。後者の場合には、両工
程において同一溶媒を用いるか又は各工程において異な
る溶媒を用いるかの何れかである。２種の異なる溶媒を
使用する場合には、工程Ａで使用される溶媒は、式IVで
表わされる塩を単離することなく、工程Ｃの前に、全体
又は一部が留去される。
【００２７】本方法は、式Ｉ〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は互
いに独立して炭素原子数１ないし６のアルキル基又はシ
クロヘキシル基を表わす〕で表わされる化合物の製造の
ために特に用いられる。式III において、Ｒ3 及びＲ4
は好ましくは且つ互いに独立して炭素原子数１ないし６
のアルキル基、又はそれらに結合した窒素原子と一緒に
なってピペリジル基若しくはモルホリニル基を表わす。
式Ｉにおいて、基Ｒ1及びＲ2 のうちの少なくとも一つ
は好ましくは第三ブチル基を表わす。
【００２８】本方法は好ましくは、式Ｉ〔Ｒ1 及びＲ2
は第三ブチル基を表わす〕で表わされる化合物の製造の
ために使用される。
【００２９】式Iaで表わされる塩は、塩基との反応によ
って得られる。適する塩基Ｍ（ＯＨ）m の例は、ＮａＯ
Ｈ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）2 又は水酸化アンモニウム
（“ＮＨ4 ＯＨ”）である。水性アルカリ、例えば水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムは特に都合が良い。式
Ia〔式中、ｍは１を表わす〕で表わされる化合物とアル
カリ土類金属塩、特にアルカリ土類金属ハロゲン化物と
の別の反応によって、式Ia〔式中、Ｍはアルカリ土類金
属を表わし、そしてｍは２を表わす〕で表わされる塩を
得ることが可能である。
【００３０】加水分解工程は、有機化学において慣用の
方法に従って起こる。都合の良い方法は、式Ｉで表わさ
れる化合物が、必要であれば圧力下で、過剰のアルカリ
水溶液とともに長時間、８０℃ないし１５０℃の温度に
保持されるという一方法である。加圧下で濃アルカリと
ともに約３時間ないし５時間加熱すると都合が良く、そ
してこの場合、圧力は溶媒の比率に応じて変化する。冷
却するか又は蒸発による濃縮後の何れかで得られた塩は
沈澱し、そして慣用の方法で濾別され得るか又は他の方
法で単離され得る。
【００３１】式Ia〔式中、Ｍはアルカリ土類金属を表わ
す〕で表わされる化合物を、アルカリ金属塩又はアンモ
ニウム塩から、例えば、必要であれば加熱しながら、水
にこれらの塩を溶解し、次いでアルカリ土類金属ハロゲ
ン化物を使用して式Iaで表わされる化合物のアルカリ土
類金属を形成することにより得ることもでき、これは必
要であれば濃縮後沈澱させ、次いで濾別され得るか又は
他の方法で単離され得る。
【００３２】式Ｉで表わされる生成物は慣用の方法、例
えば水溶性副生成物の洗浄除去、再結晶等によって精製
される。水溶性反応生成物を除去するために、通常、水
が反応混合物に添加される。これが行われた場合には、
又は反応混合物からの水の除去後、所望の生成物が沈澱
する。それは次いで、吸引により濾別され、次いで使用
された溶媒を用いて洗浄される。
【００３３】本発明の方法によって製造された式Ｉ及び
Iaで表わされる化合物は、例えば、ＵＳ−Ａ３２８００
７０、ＵＳ−Ａ３２８１５０５及びＵＳ−Ａ３３６７８
７０に記載された如く、熱、酸化及び／又は光誘起分解
に対する多数の有機モノマー及びポリマーのための安定
剤として適する。
【００３４】
【実施例及び発明の効果】下記実施例により、限定する
ことなく、本発明を更に説明する。以下の記載において
及び特記しない限り、部及びパーセントは重量による。
【００３５】実施例１：パラホルムアルデヒド６３ｇ
（２．１モル）、氷酢酸１２０．１ｇ（２．０モル）及
び２，６−ジ第三ブチルフェノール４１２．７ｇ（２．
０モル）を、攪拌機、温度計、コンデンサー、滴下ロー
ト及び不活性ガスシールを備えた反応容器内に初期投与
物として置く。３００mbar及び２０℃で開始し、ジメチ
ルアミン９４．７ｇ（２．１モル）を、出発物質の高さ
以下に２０分間かけて導入すると、その間に温度は５３
℃に上昇する。混合物を続いて６０℃に加熱し、次いで
この温度で３０分間攪拌し、次いで再び３００mbarで開
始し、反応水を２時間にわたって留去する。蒸留の最後
において、圧力は１００mbarであり、そして温度は８５
℃である。
【００３６】トリエチルホスフィット３７２ｇ（２．２
４モル）を、このようにして得られたマンニッヒ塩基塩
６４０ｇに５０℃で添加し、次いで攪拌しながら混合物
を４５分間かけて５０℃に加熱する。次いで、これを１
３０℃に加熱し、そしてこの温度で３時間保持すると、
この間に、生成する副生成物は２００mbarないし１５０
mbarで留去される。石油エーテル１００／１４０，３０
０ｍｌを添加し、次いで混合物を二つの部分に分け、こ
れらを水計５００ｍｌを用いて洗浄する。室温に冷却し
て生成物を結晶化させ、次いで吸引を用いて濾別し、次
いで少しの石油エーテル１００／１４０を用いて洗浄す
る。生成物を乾燥すると、純度９９．９％、融点１１９
−１２１℃の無色生成物としてジエチル４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第三ブチルベンジルホスホネート６６５ｇ
（理論量の９３．５％）を得る。
【００３７】実施例２：パラホルムアルデヒド１７．２
ｇ（０．５７３モル）、氷酢酸３８．７ｇ（０．６４４
モル）及び２，６−ジ第三ブチルフェノール１０３．２
ｇ（０．５モル）を、攪拌機、温度計、コンデンサー、
滴下ロート及び不活性ガスシールを備えた反応容器内に
初期投与物として室温で置き、次いでピリジン５１．９
ｇ（０．６１モル）を添加する。混合物を６０−６４℃
で４５分間加熱する。反応水を３００mbar及び７７℃で
留去する。
【００３８】混合物を冷却後、マンニッヒ塩基塩が淡色
結晶の形態で得られる。
【００３９】この塩を、実施例１に上記の如くトリエチ
ルホスフィットと反応させ、次いで同様の方法で精製す
る。
【００４０】実施例３：パラホルムアルデヒド３１．５
２ｇ（１．０５モル）、ピバル酸１０２．１ｇ（１．０
モル）及び２，６−ジ第三ブチルフェノール２０６．３
ｇ（１モル）を、攪拌機、温度計、コンデンサー、滴下
ロート及び不活性ガスシールを備えた反応容器内に初期
投与物として置く。ジメチルアニリン４７．３ｇ（１．
０５モル）を、出発物質の高さ以下に１２分間かけて１
０℃で導入すると、その間に温度は４０℃に上昇する。
混合物を続いて６０℃に加熱し、この温度で２０分間攪
拌し、次いで反応水を２００mbar且つ８０℃で留去す
る。
【００４１】トリエチルホスフィット１８６ｇ（１．１
２モル）を、得られた反応混合物に室温で添加し、次い
で混合物を、溶液が形成されるまで攪拌しながら９５℃
に加熱する。生成する副生成物を続いて１５０mbar且つ
１２０℃で留去する。３時間後、石油エーテル１００／
１４０を添加する。室温に冷却して生成物を結晶化さ
せ、次いで吸引を用いて濾別し、次いで少しの石油エー
テル１００／１４０を用いて洗浄する。生成物を乾燥す
ると、純度＞９９％、融点１１９−１２１℃の無色生成
物としてジエチル４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチ
ルベンジルホスホネート２９６．３ｇ（理論量の８３．
１％）を得る。
【００４２】実施例４：８９．３％パラホルムアルデヒ
ド３５．３ｇ（１．０５モル）、氷酢酸６１．３ｇ
（１．０２モル）及び高沸点非芳香族石油スピリット
（沸点範囲１６０℃ないし２００℃）１００ｇを、攪拌
機、温度計、コンデンサー、滴下ロート及び不活性ガス
シールを備えた反応容器内に初期投与物として室温で置
く。反応容器を真空にし、次いでジメチルアミン４３．
３ｇ（１．０５モル）を、出発物質の高さ以下に温度２
０℃（これは、４３℃にゆっくり上がる）及び圧力３２
８mbar（これは、５３２mbarに上がる）で約１０分間か
けて添加する。混合物を続いて５０℃に加熱し、次いで
２，６−ジ第三ブチルフェノール２０６．３ｇ（１モ
ル）を添加する。反応混合物を９３℃に加熱し、次いで
反応水を留去すると、圧力は４３６mbarから２５０mbar
まで降下する。
【００４３】トリエチルホスフィット１８６．１ｇを次
いで９００mbar且つ８２℃ないし７５℃で滴下し、混合
物を７５℃ないし７７℃で攪拌し、次いで４００mbarで
１０７℃に加熱する。１０７℃ないし１５３℃のボトム
温度で且つ４００mbarないし１５mbarの圧力下で、揮発
性副生成物を続いて留去し、別の高沸点石油スピリット
２５０ｇを添加し、次いで混合物を２０℃にゆっくり冷
却する。生成物を結晶化し、次いで吸引を用いて濾別
し、少しの溶媒を用いて洗浄し、次いで乾燥する。ジエ
チル４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジルホ
スホネートの収量３３６．０ｇ（理論量の９４％）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス シュテファン ドイツ連邦共和国，64625 ベンシャイム, ヤコブスヴェーク 89 (72)発明者 ヴァルター ヴォルフ ドイツ連邦共和国，64625 ベンシャイム, ハインリッヒ−フォン−ブレンタノ−シュ トラーセ 45

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 Ａ）次式II： 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は互いに独立して炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシク
    ロアルキル基を表わす〕で表わされるフェノールを次式
    III ： 【化２】 〔式中、Ｒ3 及びＲ4 は互いに独立して炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基、又はそれらに結合した窒素原子
    と一緒になってピペリジル基若しくはモルホリニル基を
    表わす〕で表わされるアミン、ホルムアルデヒド又はパ
    ラホルムアルデヒド及びプロトン酸Ｈn Ａ〔Ｈn Ａはｎ
    個のプロトンを有する有機酸又は無機酸を表わし、ｎは
    １，２，３又は４を表わす〕と反応させて次式IV： 【化３】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ａ及びｎは前記にお
    いて定義されたものと同じ意味を表わす〕で表わされる
    塩を得、 Ｂ）生成する反応水を留去し、次いで Ｃ）反応混合物、又はそれから単離された塩IVを次式
    Ｖ： 【化４】 〔式中、Ｒ5 ，Ｒ6 及びＲ7 は互いに独立して炭素原子
    数１ないし４のアルキル基を表わす〕で表わされるトリ
    アルキルホスフィットと反応させることからなる次式
    Ｉ： 【化５】 〔式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ5 及びＲ6 は前記において定義
    されたものと同じ意味を表わす〕で表わされるヒドロキ
    シベンジルホスホネートの製造方法。
  2. 【請求項２】 得られた次式Ｉ： 【化６】で表わされる化合物を塩基Ｍ（ＯＨ）m と反応
    させて次式Ia： 【化７】 〔式中、Ｍはアンモニウム、アルカリ金属又はアルカリ
    土類金属を表わし、そしてｍは１又は２を表わす〕で表
    わされる塩を得る請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 得られた次式Ia： 【化８】 〔式中、Ｍはアルカリ金属又はアンモニウムを表わす〕
    で表わされる化合物をアルカリ土類金属塩と反応させて
    式Ia〔式中、ｍは２を表わし、そしてＭはアルカリ土類
    金属を表わす〕で表わされる別の塩を得る請求項２記載
    の方法。
  4. 【請求項４】 Ｈn Ａがカルボン酸ＲＣＯ−ＯＨ〔式
    中、Ｒは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わ
    す〕を表わす請求項１記載の方法。
  5. 【請求項５】 工程Ｃにおいて生成する副生成物、ＨＮ
    Ｒ3 Ｒ4 及びＲＣＯ−ＯＲ7 が蒸留によって除去される
    請求項４記載の方法。
  6. 【請求項６】 Ｒ1 及びＲ2 が互いに独立して炭素原子
    数１ないし６のアルキル基又はシクロヘキシル基を表わ
    し、そしてＲ3 及びＲ4 が互いに独立して炭素原子数１
    ないし６のアルキル基、又はそれらに結合した窒素原子
    と一緒になってピペリジル基若しくはモルホリニル基を
    表わす請求項１記載の方法。
  7. 【請求項７】 Ｒ1 及びＲ2 が第三ブチル基を表わす請
    求項１記載の方法。
  8. 【請求項８】 工程Ａの反応温度が０℃ないし６０℃で
    ある請求項１記載の方法。
  9. 【請求項９】 工程Ａの反応温度が３０℃ないし６０℃
    である請求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 工程Ｃの反応温度が１００℃ないし１
    ４０℃である請求項１記載の方法。
  11. 【請求項１１】 溶媒なしで行われる請求項１記載の方
    法。
  12. 【請求項１２】 工程Ａ及び／又は工程Ｃが溶媒中で行
    われる請求項１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 反応が高沸点溶媒中で行われる請求項
    １記載の方法。
  14. 【請求項１４】 反応が高沸点脂肪族又は芳香族溶媒中
    で行われる請求項１記載の方法。
  15. 【請求項１５】 工程Ｃが大気圧下又は減圧下で行われ
    る請求項１記載の方法。
  16. 【請求項１６】 工程Ｃにおける圧力が５００mbarない
    し１５０mbarである請求項１記載の方法。
  17. 【請求項１７】 工程Ｃの後、５mbarないし２０mbarの
    圧力下１００℃ないし１７０℃の温度で、副生成物が蒸
    留によって除去される請求項１記載の方法。
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