JPH08124998A - 半導体製造装置の基板検出方法 - Google Patents

半導体製造装置の基板検出方法

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JPH08124998A
JPH08124998A JP28443794A JP28443794A JPH08124998A JP H08124998 A JPH08124998 A JP H08124998A JP 28443794 A JP28443794 A JP 28443794A JP 28443794 A JP28443794 A JP 28443794A JP H08124998 A JPH08124998 A JP H08124998A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
transfer
arm
substrate
transfer arm
Prior art date
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Pending
Application number
JP28443794A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Shino
和弘 示野
Masayuki Tomita
雅之 富田
Fumihide Ikeda
文秀 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Publication date
Application filed by Kokusai Electric Corp filed Critical Kokusai Electric Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】複数の被処理基板を並行して処理する枚葉式半
導体製造方法に於いて、各搬送アームのウェーハの載置
の有無を確認可能とする。 【構成】複数の搬送アーム2a,2bを独立して可動可
能とし、前記搬送アームに受載されたウェーハ8が透過
型光検出器5,6の光軸を遮る様に前記搬送アームを駆
動し、基板検出を行う搬送アームの識別と前記光検出器
からの信号で基板の有無を検出する様にし、1つの透過
型光検出器により複数の搬送アームに対する基板の有無
検出を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の材料であ
るシリコンウェーハ等の基板を搬送途中で検出するウェ
ーハ検知方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウェーハを材料として半導体素子を製造
する場合、ウェーハ表面への成膜、エッチング等多数の
工程を経てなされ、多数のウェーハを一度に処理するバ
ッチ式の半導体製造装置と1枚或は複数枚を処理してい
く枚葉式の半導体製造装置がある。
【0003】後者の枚葉式の半導体製造装置では複数の
処理室が搬送装置に連設され、処理工程の進行に伴い、
搬送室内の搬送アームにより処理室間の搬送がなされ
る。斯かる半導体製造装置に於いては搬送過程で搬送ア
ームに確実に而も適正な位置にウェーハが載置されてい
るかどうかを検出することは、不可欠である。
【0004】又、半導体製造装置では処理工程は真空雰
囲気が要求される為、前記ウェーハも真空チャンバ内を
真空雰囲気で搬送される。この為、ウェーハの検出につ
いては真空チャンバの外部から検出可能な構成のものが
採用される。
【0005】従来のウェーハ検出方法を図6、図7に於
いて説明する。
【0006】図中、1は真空チャンバ、2は搬送アー
ム、3,4は前記真空チャンバ1の壁に対向して設けら
れた気密な真空窓を示す。
【0007】前記真空窓3,4を透過する光軸上に投光
器5、該投光器5に対向させ配設された受光器6から成
る透過型の光電検出器7が設けられている。
【0008】ウェーハ8が前記搬送アーム2の先端に一
部が突出した状態で載置される。該搬送アーム2は搬送
途中で、或はウェーハ8検知ポジションで前記ウェーハ
8の突出した部分が前記光電検出器7の光軸を遮断する
様ウェーハ8を移動させる。
【0009】ウェーハ8が前記光電検出器7の光軸を遮
断しない場合は、投光器5の光が前記真空窓3,4を透
過して前記受光器6に到達する。又、ウェーハ8が前記
光電検出器7の光軸を遮断すると、前記受光器6は投光
器5からの光を受光しない。従って、前記受光器6の受
光状態を判断することでウェーハ8の有無を検出してい
た。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の基板検
出方法は、1つの搬送アームで1枚のウェーハを搬送す
る場合である。ところが、近年では枚葉式の半導体製造
装置に於いて複数のウェーハを並行して処理しようとす
るものがあり、又具体化されている。
【0011】斯かる複数のウェーハを並行して処理する
枚葉式半導体製造装置では複数の搬送アーム2で複数の
ウェーハを同時に搬送している。従って、前記した従来
の基板検出方法では上下の搬送アーム2のいずれかにウ
ェーハ8が載置されていると、投光器5からの光が遮断
されるので、一方の搬送アーム2にウェーハ8が載置さ
れていない場合、或は適正に載置されていない場合を検
出することができず、又どちらの搬送アーム2にウェー
ハ8が載っているかを判別することができないという問
題があった。
【0012】本発明は斯かる実情に鑑み、複数の搬送ア
ームで複数のウェーハを同時に搬送する場合でも、各搬
送アームのウェーハの載置の有無を確認可能としたもの
である。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数の搬送ア
ームを独立して可動可能とし、前記搬送アームに受載さ
れたウェーハが透過型光検出器の光軸を遮る様に前記搬
送アームを駆動し、基板検出を行う搬送アームの識別と
前記光検出器からの信号で基板の有無を検出することを
特徴とするものである。
【0014】
【作用】基板検出を行う搬送アームの識別と前記光検出
器からの受光、非受光の信号から個々の搬送アームの基
板の有無判別を行なうことができ、1つの透過型光検出
器により複数の搬送アームに対する基板の有無検出が行
える。
【0015】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
【0016】図1〜図3中、図6、図7中で示したもの
と同一のものには同符号を付してある。
【0017】真空チャンバ1内には2組の搬送アーム2
a,搬送アーム2bが設けられ、該搬送アーム2a,2
bはそれぞれウェーハ8を受載して同時に搬送可能であ
ると共に個々に独立して可動可能となっている。図4で
示される様に、前記搬送アーム2aは第1搬送モータ1
1、搬送アーム2bは第2搬送モータ12によりそれぞ
れ駆動され、前記第1搬送モータ11、第2搬送モータ
12は制御器10により駆動時期、駆動量等が制御さ
れ、又前記搬送アーム2aの位置はアーム位置検出器1
3により、又搬送アーム2bの位置はアーム位置検出器
14によりそれぞれ検出される様になっている。
【0018】図5を参照して、本発明の作動を説明す
る。
【0019】ウェーハ8が前記搬送アーム2a、搬送ア
ーム2bの先端に、それぞれ一部が突出した状態で載置
される。
【0020】ウェーハ8検知ポジションに対して前記搬
送アーム2a、搬送アーム2bを待機させた状態とし、
ウェーハ検知作動を開始する。
【0021】先ず、前記制御器10より第1搬送モータ
11が駆動され、前記搬送アーム2aが前進する。搬送
アーム2aにウェーハ8が載置している場合は、前記投
光器5からの光が遮断されるので、前記受光器6が非受
光状態を検知し、前記制御器10に信号を発する。該制
御器10は前記アーム位置検出器13と受光器6との信
号により前記搬送アーム2aがウェーハ8を適正な位置
に受載していることを判断する。又、前記搬送アーム2
aにウェーハ8が載置していない場合、或は適正な位置
に載置していない場合は、前記受光器6が投光器5から
の光を受光する。前記受光器6の受光信号、及び前記ア
ーム位置検出器13の信号から、前記搬送アーム2aに
ウェーハ8が載置していないことを判断する。ウェーハ
8の有無判断が完了すると前記制御器10は前記第1搬
送モータ11を駆動して、搬送アーム2aを後退させ
る。
【0022】次に、前記制御器10より第2搬送モータ
12が駆動され、前記搬送アーム2bが前進する。搬送
アーム2bにウェーハ8が載置している場合は、前記投
光器5からの光が遮断されるので、前記受光器6が非受
光状態を検知し、前記制御器10に信号を発し、該制御
器10は前記アーム位置検出器14と受光器6との信号
により前記搬送アーム2bがウェーハ8を適正な位置に
受載していることを判断する。又、前記搬送アーム2b
にウェーハ8が載置していない場合、或は適正な位置に
載置していない場合は、前記受光器6が投光器5からの
光を受光する。前記受光器6の受光信号、及び前記アー
ム位置検出器14の信号から、前記搬送アーム2bにウ
ェーハ8が載置していないことを判断する。ウェーハ8
の有無判断が完了すると前記制御器10は前記第2搬送
モータ12を駆動して、搬送アーム2bを後退させる。
【0023】而して、前記一連の作動により前記搬送ア
ーム2a、搬送アーム2bにウェーハ8が適正に載置さ
れているかどうかが判断される。
【0024】尚、上記実施例では搬送アーム2が2組の
場合を説明したが、3組以上であっても同様に行えるこ
とは勿論であり、検出する基板はウェーハに限らず光を
遮断する基板であれば検出可能であり、又搬送アーム2
aと搬送アーム2bの位置検出、識別は制御器10から
第1搬送モータ11、第2搬送モータ12に発する駆動
信号を利用することも可能であり、この場合、前記アー
ム位置検出器13、アーム位置検出器14を省略しても
よい等、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更し得
ることは言う迄もない。
【0025】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、複数の
搬送アームによりウェーハを搬送する場合に、1つの検
出器で個々の搬送アームにウェーハが受載しているかど
うかを検知することが可能となり、一連のウェーハ処理
が安全且確実に実行できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す説明図である。
【図2】該実施例の作動説明図である。
【図3】該実施例の作動説明図である。
【図4】該実施例に於ける制御ブロック図である。
【図5】該実施例の作動フローチャートである。
【図6】従来例を示す説明図である。
【図7】該従来例の作動説明図である。
【符号の説明】
1 真空チャンバ 2a 搬送アーム 2b 搬送アーム 3 真空窓 4 真空窓 5 投光器 6 受光器 7 光電検出器 8 ウェーハ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の搬送アームを独立して可動可能と
    し、前記搬送アームに受載されたウェーハが透過型光検
    出器の光軸を遮る様に前記搬送アームを駆動し、基板検
    出を行う搬送アームの識別と前記光検出器からの信号で
    基板の有無を検出することを特徴とする半導体製造装置
    の基板検出方法。
JP28443794A 1994-10-24 1994-10-24 半導体製造装置の基板検出方法 Pending JPH08124998A (ja)

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JP28443794A JPH08124998A (ja) 1994-10-24 1994-10-24 半導体製造装置の基板検出方法

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JP28443794A Pending JPH08124998A (ja) 1994-10-24 1994-10-24 半導体製造装置の基板検出方法

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JP (1) JPH08124998A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150076808A (ko) * 2013-12-27 2015-07-07 세메스 주식회사 기판반송유닛
JP2016149501A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 東京エレクトロン株式会社 基板検出装置、基板検出方法及び基板処理システム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150076808A (ko) * 2013-12-27 2015-07-07 세메스 주식회사 기판반송유닛
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