JPH08124828A - 露光光投射装置 - Google Patents
露光光投射装置Info
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- JPH08124828A JPH08124828A JP6257812A JP25781294A JPH08124828A JP H08124828 A JPH08124828 A JP H08124828A JP 6257812 A JP6257812 A JP 6257812A JP 25781294 A JP25781294 A JP 25781294A JP H08124828 A JPH08124828 A JP H08124828A
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- excimer laser
- light
- laser light
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- Public Health (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】エキシマレーザ露光装置の露光光投射装置にお
いて光軸アライメントが短時間で容易に行なえフライア
イレンズ１０の任意の位置に光軸を合せることができか
つエキシマレーザ光を長期に亘り安定して投射できる。 【構成】エキシマスレーザ光の光路を変える移動ミラー
２を光軸に平行な面内に移動ミラー２をリモートコント
ロールで二次元移動させるミラー移動機構１と、レーザ
光路中にミラー８を挿入しレーザ光を入光し光軸の位置
座標をモニタテレビ１６に表示する光軸モニタ５とを設
けている。
いて光軸アライメントが短時間で容易に行なえフライア
イレンズ１０の任意の位置に光軸を合せることができか
つエキシマレーザ光を長期に亘り安定して投射できる。 【構成】エキシマスレーザ光の光路を変える移動ミラー
２を光軸に平行な面内に移動ミラー２をリモートコント
ロールで二次元移動させるミラー移動機構１と、レーザ
光路中にミラー８を挿入しレーザ光を入光し光軸の位置
座標をモニタテレビ１６に表示する光軸モニタ５とを設
けている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パターンをもつレチク
ルにエキシマレーザ光を投射し半導体基板に前記パター
ンを転写する露光装置における前記エキシマレーザ光を
フライアイレンズに投射する露光光投射装置に関する。
ルにエキシマレーザ光を投射し半導体基板に前記パター
ンを転写する露光装置における前記エキシマレーザ光を
フライアイレンズに投射する露光光投射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、エキシマレーザを光源とする露光
装置における露光光投射装置は、エキシマレーザ光を発
生するエキシマレーザ光光源装置と、発生したエキシマ
レーザ光を露光装置本体のフライアイレンズに導く引き
回し光学系とで構成されている。また、この引き回し光
学系は始動時には光軸合せを行なう必要があった。この
ため、光路途中には挿脱可能な光軸調整用の光軸モニタ
が設置されており、通常の露光動作ではエキシマレーザ
光線は光軸モニタには入射されないように光軸モニタは
光路から離脱する構造になっている。
装置における露光光投射装置は、エキシマレーザ光を発
生するエキシマレーザ光光源装置と、発生したエキシマ
レーザ光を露光装置本体のフライアイレンズに導く引き
回し光学系とで構成されている。また、この引き回し光
学系は始動時には光軸合せを行なう必要があった。この
ため、光路途中には挿脱可能な光軸調整用の光軸モニタ
が設置されており、通常の露光動作ではエキシマレーザ
光線は光軸モニタには入射されないように光軸モニタは
光路から離脱する構造になっている。
【０００３】そして、光軸調整時には、エキシマレーザ
光路中にミラーを挿入し光路を変えて光軸モニタに整形
されたエキシマレーザ光線を入射させ、光軸モニタの検
出電流を見ながら機械的にねじなどで光学構成部品の位
置を変え調整して光学系の光軸を合せ芯出して行なって
いた。
光路中にミラーを挿入し光路を変えて光軸モニタに整形
されたエキシマレーザ光線を入射させ、光軸モニタの検
出電流を見ながら機械的にねじなどで光学構成部品の位
置を変え調整して光学系の光軸を合せ芯出して行なって
いた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した露光装置の露
光光投射置は、露光光投射置自体を露光装置本体の投影
レンズに直結するｉ線の露光装置に比べて引回し光学系
があるため照明光の経路が長く、この引回し光学系の光
学構成部品が振動や他の物体との接触等によって調節ね
じが緩み光軸がずれる可能性が非常に高い。また、レー
ザ発振器自体も長尺であって、例えば、メンテナンスな
どでウィンドウを掃除しただけでアライメントが狂い出
力が低下することが多々ある。このようにエキシマレー
ザ光を使用する露光装置では、本体の光学系と直結する
高圧水銀ランプによるｉ線光を使用した露光装置と比較
して露光光投射装置における光軸アライメントが不安定
で光軸調整を頻繁に行う必要が有った。さらに、この光
軸調整には多大な時間を浪費するという問題があった。
光光投射置は、露光光投射置自体を露光装置本体の投影
レンズに直結するｉ線の露光装置に比べて引回し光学系
があるため照明光の経路が長く、この引回し光学系の光
学構成部品が振動や他の物体との接触等によって調節ね
じが緩み光軸がずれる可能性が非常に高い。また、レー
ザ発振器自体も長尺であって、例えば、メンテナンスな
どでウィンドウを掃除しただけでアライメントが狂い出
力が低下することが多々ある。このようにエキシマレー
ザ光を使用する露光装置では、本体の光学系と直結する
高圧水銀ランプによるｉ線光を使用した露光装置と比較
して露光光投射装置における光軸アライメントが不安定
で光軸調整を頻繁に行う必要が有った。さらに、この光
軸調整には多大な時間を浪費するという問題があった。
【０００５】また、このエキシマレーザ光の露光装置に
おける特徴の一つであるレチクルのパターンの緻密度に
応じて２次光源の光強度分布を所望の分布形状に変える
ために、フライアイレンズへの投光する光の光軸を意図
的にずらす場合がある。このような場合に従来は、例え
ば、光軸調整を光軸モニタを見ながら手動で行い特殊感
応フィルムに投射し投射位置を確認するといった非常に
手間がかかり人為的な誤差も生じやすい方法で行なって
いた。
おける特徴の一つであるレチクルのパターンの緻密度に
応じて２次光源の光強度分布を所望の分布形状に変える
ために、フライアイレンズへの投光する光の光軸を意図
的にずらす場合がある。このような場合に従来は、例え
ば、光軸調整を光軸モニタを見ながら手動で行い特殊感
応フィルムに投射し投射位置を確認するといった非常に
手間がかかり人為的な誤差も生じやすい方法で行なって
いた。
【０００６】さらに、エキシマレーザ発振器は長期間使
用するうちに電極が磨耗しレーザ光線のスポット形状が
経時変化し、単にアパーチャを挿入してスポット形状を
整形する方法では光源のスポット形状の中心に光軸を合
せることができず周辺に光量むらを生じ精密なパターン
を転写できないという問題も起きる。
用するうちに電極が磨耗しレーザ光線のスポット形状が
経時変化し、単にアパーチャを挿入してスポット形状を
整形する方法では光源のスポット形状の中心に光軸を合
せることができず周辺に光量むらを生じ精密なパターン
を転写できないという問題も起きる。
【０００７】従って、本発明の目的は、光軸アライメン
トが短時間で容易に行なえるとともにフライアイレンズ
の任意の位置に光軸を合せることができかつエキシマレ
ーザ光を長期に亘り安定して投射し得る露光光投射装置
を提供することである。
トが短時間で容易に行なえるとともにフライアイレンズ
の任意の位置に光軸を合せることができかつエキシマレ
ーザ光を長期に亘り安定して投射し得る露光光投射装置
を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、エキシ
マレーザ光源装置から投射されるエキシマレーザ光を所
定のスポット形状に絞る光軸調整用ピンホール機構と、
この光軸調整用ピンホール機構を通過するエキシマレー
ザ光の経路を変えフライアイレンズに該エキシマレーザ
光を投光する一対の反射ミラーとを備える露光光投射装
置において、前記光軸調整用ピンホール機構より通過す
る前記エキシマレーザ光の光軸に並行な面内を前記一対
の反射ミラーのいずれかを二次元移動させるミラー移動
機構と、前記フライアイレンズに入光する前記エキシマ
レーザ光の経路を変え入光させ該エキシマレーザ光を可
視光に変換する蛍光板と、この蛍光板から発生した前記
可視光を入光させ前記フライアイレンズへの前記エキシ
マレーザ光の光軸の位置を平面座標に出力する光軸モニ
タとを備える露光光投射装置である。
マレーザ光源装置から投射されるエキシマレーザ光を所
定のスポット形状に絞る光軸調整用ピンホール機構と、
この光軸調整用ピンホール機構を通過するエキシマレー
ザ光の経路を変えフライアイレンズに該エキシマレーザ
光を投光する一対の反射ミラーとを備える露光光投射装
置において、前記光軸調整用ピンホール機構より通過す
る前記エキシマレーザ光の光軸に並行な面内を前記一対
の反射ミラーのいずれかを二次元移動させるミラー移動
機構と、前記フライアイレンズに入光する前記エキシマ
レーザ光の経路を変え入光させ該エキシマレーザ光を可
視光に変換する蛍光板と、この蛍光板から発生した前記
可視光を入光させ前記フライアイレンズへの前記エキシ
マレーザ光の光軸の位置を平面座標に出力する光軸モニ
タとを備える露光光投射装置である。
【０００９】また、前記光軸モニタはＣＣＤカメラであ
ることが望ましい。さらに、前記光軸調整用ピンホール
機構は、前記エキシマレーザ光源装置からの前記エキシ
マレーザ光が通過する開口部をもつ二つのアパーチャを
離間させ一体化する連結体と、前記エキシマレーザ光に
垂直面内に二次元的に前記連結体を移動させる移動機構
と、前記アパーチャとの間に光路外からミラーを挿入し
前記エキシマレーザ光の光量を測定する光量器とを備え
ることが望ましい。
ることが望ましい。さらに、前記光軸調整用ピンホール
機構は、前記エキシマレーザ光源装置からの前記エキシ
マレーザ光が通過する開口部をもつ二つのアパーチャを
離間させ一体化する連結体と、前記エキシマレーザ光に
垂直面内に二次元的に前記連結体を移動させる移動機構
と、前記アパーチャとの間に光路外からミラーを挿入し
前記エキシマレーザ光の光量を測定する光量器とを備え
ることが望ましい。
【００１０】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１１】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の一実施
例における露光光投射装置を示す斜視図および構成図で
ある。この露光光投射装置は、図１に示すように、光軸
調整用ピンホール機構４より通過するエキシマレーザ光
源ユニット９からのエキシマレーザ光の光経路を変えフ
ライアイレンズ１０に投光させる移動ミラー２と固定ミ
ラー３と、光軸に並行な面内を移動ミラー２を二次元移
動させるミラー移動機構１と、フライアイレンズに入光
するエキシマレーザ光の経路をミラー８の光路への挿入
によって変え入光させエキシマレーザ光を可視光に変換
する蛍光板６と、この蛍光板６から発生した可視光を入
光させフライアイレンズ１０へのエキシマレーザ光の光
軸の位置を平面座標に出力する光軸モニタ５とを備えて
いる。
例における露光光投射装置を示す斜視図および構成図で
ある。この露光光投射装置は、図１に示すように、光軸
調整用ピンホール機構４より通過するエキシマレーザ光
源ユニット９からのエキシマレーザ光の光経路を変えフ
ライアイレンズ１０に投光させる移動ミラー２と固定ミ
ラー３と、光軸に並行な面内を移動ミラー２を二次元移
動させるミラー移動機構１と、フライアイレンズに入光
するエキシマレーザ光の経路をミラー８の光路への挿入
によって変え入光させエキシマレーザ光を可視光に変換
する蛍光板６と、この蛍光板６から発生した可視光を入
光させフライアイレンズ１０へのエキシマレーザ光の光
軸の位置を平面座標に出力する光軸モニタ５とを備えて
いる。
【００１２】移動ミラー２を一面内で移動させるミラー
移動機構１は一種のＸＹステージであって、精密な送り
ねじをパルスモータ７ａ，７ｂによって回転しミラー支
持台のナットをＸＹ方向に移動させる構造になってい
る。このミラー移動機構１は振動などで移動ミラー２が
動かないように支持台に固定され、移動を仕さどるナッ
トはバックラッシュが無いように送りねじに噛み合って
いる。そして、図１（ｂ）の鎖線で示すように、フライ
レンズ１０の中心より上に光軸を合せたいときは、パル
スモータ７ａを回転させ移動ミラー２を光軸に沿って光
軸調整用ピンホール機構４より離れるように移動させ
る。勿論、パルスモータ７ａと７ｂを同じ回転数で回し
４５度方向への移動も可能である。
移動機構１は一種のＸＹステージであって、精密な送り
ねじをパルスモータ７ａ，７ｂによって回転しミラー支
持台のナットをＸＹ方向に移動させる構造になってい
る。このミラー移動機構１は振動などで移動ミラー２が
動かないように支持台に固定され、移動を仕さどるナッ
トはバックラッシュが無いように送りねじに噛み合って
いる。そして、図１（ｂ）の鎖線で示すように、フライ
レンズ１０の中心より上に光軸を合せたいときは、パル
スモータ７ａを回転させ移動ミラー２を光軸に沿って光
軸調整用ピンホール機構４より離れるように移動させ
る。勿論、パルスモータ７ａと７ｂを同じ回転数で回し
４５度方向への移動も可能である。
【００１３】光軸モニタ５は固定ミラー３より反射され
たエキシマレーザ光の光軸の位置を認識するものであ
る。そして、レーザ光の矩形状スポットが十分入光でき
る大きさの受光面をもちＸＹ座標面の４つの象限に分け
て光量を測定する受光素子群で構成されている。しか
し、このような受光素子群で構成されたものを製作しな
くとも、市販のＣＣＤカメラを使うと安価で済むし精密
に測定できる。なお、蛍光板６を光軸モニタ１の前に挿
入しているのは、エキシマレーザ光は遠紫外光であるた
めＣＣＤカメラであると直接検出できないので、この蛍
光板６によって可視光に変換している。
たエキシマレーザ光の光軸の位置を認識するものであ
る。そして、レーザ光の矩形状スポットが十分入光でき
る大きさの受光面をもちＸＹ座標面の４つの象限に分け
て光量を測定する受光素子群で構成されている。しか
し、このような受光素子群で構成されたものを製作しな
くとも、市販のＣＣＤカメラを使うと安価で済むし精密
に測定できる。なお、蛍光板６を光軸モニタ１の前に挿
入しているのは、エキシマレーザ光は遠紫外光であるた
めＣＣＤカメラであると直接検出できないので、この蛍
光板６によって可視光に変換している。
【００１４】また、この光軸モニタ５であるＣＣＤカメ
ラにモニタテレビを繋ぎモニタテレビを手元に置けば、
常に光軸がＸＹ座標画面のどの位置に移動したか監視で
きるし、手元のリモートコントローラのパルス発振器を
操作し、パルスモータ７ａ，７ｂを回転させ移動ミラー
２を所望の方向に移動させ光軸の位置を修正することが
できる。さらに、光軸モニタ５の各象限毎の出力を基準
の出力と比較し光軸のずれ量をパソコンで座標値として
算出させＸＹ方向のデジタル値に換算し、ＸＹデジタル
値に応じてパルス数の出力パルスをパルスモータ７ａ，
７ｂに送れば自動的に光軸ずれの修正ができる。
ラにモニタテレビを繋ぎモニタテレビを手元に置けば、
常に光軸がＸＹ座標画面のどの位置に移動したか監視で
きるし、手元のリモートコントローラのパルス発振器を
操作し、パルスモータ７ａ，７ｂを回転させ移動ミラー
２を所望の方向に移動させ光軸の位置を修正することが
できる。さらに、光軸モニタ５の各象限毎の出力を基準
の出力と比較し光軸のずれ量をパソコンで座標値として
算出させＸＹ方向のデジタル値に換算し、ＸＹデジタル
値に応じてパルス数の出力パルスをパルスモータ７ａ，
７ｂに送れば自動的に光軸ずれの修正ができる。
【００１５】次に、この露光光投射装置のアライメント
の手順を説明する。まず、エキシマレーザ光源ユニット
９から発振されたレーザ光線は光軸調整用ピンホール機
構４に入光される。次に、ミラー８を光路に挿入し移動
ミラー２および固定ミラー３によって光路を変えられた
矩形状スポットをもつエキシマレーザ光を蛍光板６に入
光させる。このことにより蛍光板によりエキシマレーザ
光は可視光に変換されＣＣＤカメラである光軸モニタ５
に入光する。そして、光軸モニタの出力によりモニタテ
レビ１６にエキシマレーザ光のスポットが写し出され
る。
の手順を説明する。まず、エキシマレーザ光源ユニット
９から発振されたレーザ光線は光軸調整用ピンホール機
構４に入光される。次に、ミラー８を光路に挿入し移動
ミラー２および固定ミラー３によって光路を変えられた
矩形状スポットをもつエキシマレーザ光を蛍光板６に入
光させる。このことにより蛍光板によりエキシマレーザ
光は可視光に変換されＣＣＤカメラである光軸モニタ５
に入光する。そして、光軸モニタの出力によりモニタテ
レビ１６にエキシマレーザ光のスポットが写し出され
る。
【００１６】次に、この画像からスポットの中心と画面
の中心位置とのずれ量をＸＹ値として求める。次に、オ
ペレータコンソールのパルス発振器にＸＹ値を入力し、
パルスモータ７ａ，７ｂにＸＹ値に応じた数のパルスを
送る。その結果、パルスモータ７ａ，７ｂはパルス数に
応じて回転し移動ミラー２を移動させる。このことによ
りモニタテレビ１６のスポットの中心位置は画面の中心
位置に移動する。
の中心位置とのずれ量をＸＹ値として求める。次に、オ
ペレータコンソールのパルス発振器にＸＹ値を入力し、
パルスモータ７ａ，７ｂにＸＹ値に応じた数のパルスを
送る。その結果、パルスモータ７ａ，７ｂはパルス数に
応じて回転し移動ミラー２を移動させる。このことによ
りモニタテレビ１６のスポットの中心位置は画面の中心
位置に移動する。
【００１７】勿論、パターンの緻密度に応じて２次光源
の光強度分布を所望の分布形状を得るために、フライア
イレンズへの投光する光の光軸を意図的にずらす場合で
も容易に行なえる。このアライメント方法によれば、従
来、１時間程度かかっていたものが数分の作業で済むこ
ととなった。
の光強度分布を所望の分布形状を得るために、フライア
イレンズへの投光する光の光軸を意図的にずらす場合で
も容易に行なえる。このアライメント方法によれば、従
来、１時間程度かかっていたものが数分の作業で済むこ
ととなった。
【００１８】エキシマレーザ発振器内の電極間での放電
形状が長方形であるためエキシマレーザ光のスポット形
状は長方形である。しかしながら、長期間使用するうち
に電極が磨耗しこのスポット形状が経時変化する。この
スポット形状の経時変化が左右、上下、各々対称的であ
れば、光軸調整用ピンホール機構以降の調整を前述の実
施例の光軸調整のみで済むが、このレーザビームのスポ
ット形状の経時変化が必ずしも対称的であるとは限らな
い。このような場合は、エキシマレーザ光源ユニットと
光軸調整用ピンホール機構との間で光軸調整が必要にな
ってくる。
形状が長方形であるためエキシマレーザ光のスポット形
状は長方形である。しかしながら、長期間使用するうち
に電極が磨耗しこのスポット形状が経時変化する。この
スポット形状の経時変化が左右、上下、各々対称的であ
れば、光軸調整用ピンホール機構以降の調整を前述の実
施例の光軸調整のみで済むが、このレーザビームのスポ
ット形状の経時変化が必ずしも対称的であるとは限らな
い。このような場合は、エキシマレーザ光源ユニットと
光軸調整用ピンホール機構との間で光軸調整が必要にな
ってくる。
【００１９】図２は本発明の他の実施例における露光光
投射装置の光軸調整用ピンホール機構を示す斜視図であ
る。そこで本発明は、エキシマレーザ発振器のレーザビ
ームのスポット形状やビーム光軸の変動があっても十分
芯合せ調整ができる光軸調整機構を光軸調整用ピンホー
ル機構にもたせたことである。
投射装置の光軸調整用ピンホール機構を示す斜視図であ
る。そこで本発明は、エキシマレーザ発振器のレーザビ
ームのスポット形状やビーム光軸の変動があっても十分
芯合せ調整ができる光軸調整機構を光軸調整用ピンホー
ル機構にもたせたことである。
【００２０】この光軸調整機構をもつ光軸調整用ピンホ
ール機構は、図２に示すように、、アパーチャ１２ａお
よびアパーチャ１２ｂを連結する連結体１５を左右およ
び上下動させる送りねじ機構とこれら送りねじを回転さ
せるパルスモータ７ｃ，７ｄと、ハーフミラー１３の光
路への挿入によってエキシマレーザ光を集光レンズ１５
を介して入光させ光量を測定する積算光量器１４とを設
けたことである。
ール機構は、図２に示すように、、アパーチャ１２ａお
よびアパーチャ１２ｂを連結する連結体１５を左右およ
び上下動させる送りねじ機構とこれら送りねじを回転さ
せるパルスモータ７ｃ，７ｄと、ハーフミラー１３の光
路への挿入によってエキシマレーザ光を集光レンズ１５
を介して入光させ光量を測定する積算光量器１４とを設
けたことである。
【００２１】エキシマレーザ光が最初に入光するアパー
チャ１２ａの開口部は実際のビーム形状よりも上下左右
２〜３ｍｍ程度づつ小さい長方形である。このアパーチ
ャ１２ａを通過した光はハーフミラー１３によりその一
部が集光レンズ１５により集められ積算光量器１５に入
射される。積算光量器１４で得られた光量情報は制御部
１１に送られ、制御部１１からパルスモータ７ｃ，７ｄ
に光量情報に応じたパルス信号が与えられアパーチャ１
２ａは適切な位置に動かされる。ここで適切な位置とは
積算光量が最大になる位置である。
チャ１２ａの開口部は実際のビーム形状よりも上下左右
２〜３ｍｍ程度づつ小さい長方形である。このアパーチ
ャ１２ａを通過した光はハーフミラー１３によりその一
部が集光レンズ１５により集められ積算光量器１５に入
射される。積算光量器１４で得られた光量情報は制御部
１１に送られ、制御部１１からパルスモータ７ｃ，７ｄ
に光量情報に応じたパルス信号が与えられアパーチャ１
２ａは適切な位置に動かされる。ここで適切な位置とは
積算光量が最大になる位置である。
【００２２】この光量が最大になるようにして光軸合せ
が行なわれる過程を説明すると、アパーチャ１２ａのい
ずれかの方向に移動させるのに、例えば、一方向に送る
パルスモータ７ｃにプラスの１パルスを送ったとし、そ
のときの光量を制御部１１が読み取り光量が増加する傾
向があるとき、引続きプラスの１パルスをパルスモータ
７ｃに送る。そして、制御部１１は光量が増加する限り
繰返して１パルスずつ送る。光量の増減が見られなくな
ると判定した制御部１１は他方向のパルスモータ７ｄに
プラスの１パルスを送る。そして、光量が、例えば、減
る傾向にあると判定すると、制御部１１はマイナスの１
パルスをパルスモータ７ｄに送る。そして、光量が増加
の傾向であると制御部１１が判定すると引続きマイナス
の１パルスを送り光量の増減を判定し増減が無くなるま
でパルスを送り続ける。増減が無くなるときは光の中心
とアパーチャ１２ａの中心と一致したものとしてアパー
チャ１２ａの移動を停止し制御部１１はパルスモータ７
ｃ，７ｄの背面側にあるブレーキを働かせアパーチャ１
２ａ，１２ｂは完全に固定される。
が行なわれる過程を説明すると、アパーチャ１２ａのい
ずれかの方向に移動させるのに、例えば、一方向に送る
パルスモータ７ｃにプラスの１パルスを送ったとし、そ
のときの光量を制御部１１が読み取り光量が増加する傾
向があるとき、引続きプラスの１パルスをパルスモータ
７ｃに送る。そして、制御部１１は光量が増加する限り
繰返して１パルスずつ送る。光量の増減が見られなくな
ると判定した制御部１１は他方向のパルスモータ７ｄに
プラスの１パルスを送る。そして、光量が、例えば、減
る傾向にあると判定すると、制御部１１はマイナスの１
パルスをパルスモータ７ｄに送る。そして、光量が増加
の傾向であると制御部１１が判定すると引続きマイナス
の１パルスを送り光量の増減を判定し増減が無くなるま
でパルスを送り続ける。増減が無くなるときは光の中心
とアパーチャ１２ａの中心と一致したものとしてアパー
チャ１２ａの移動を停止し制御部１１はパルスモータ７
ｃ，７ｄの背面側にあるブレーキを働かせアパーチャ１
２ａ，１２ｂは完全に固定される。
【００２３】なお、アパーチャ１２ｂは連結体１５でア
パーチャ１２ａと一体化されており、しかもビーム整形
用のアパーチャー１２ａの開口部の中心とアパーチャ１
２ｂの開口部の中心と一致するように予じめ同時加工さ
れているので、アパーチャ１２ａの開口部に光軸が一致
すれば必然的にアパーチャ１２ｂの開口部とも一致する
ことになる。前述した特殊なフィルムに焼き付けて光源
の光強度分布を調べて光源の中心を求める従来の方法で
は２〜３日を要するが、本実施例の光軸調整機構の中心
を求める方法では、光軸調整も含めて５分以内で終了で
きる。
パーチャ１２ａと一体化されており、しかもビーム整形
用のアパーチャー１２ａの開口部の中心とアパーチャ１
２ｂの開口部の中心と一致するように予じめ同時加工さ
れているので、アパーチャ１２ａの開口部に光軸が一致
すれば必然的にアパーチャ１２ｂの開口部とも一致する
ことになる。前述した特殊なフィルムに焼き付けて光源
の光強度分布を調べて光源の中心を求める従来の方法で
は２〜３日を要するが、本実施例の光軸調整機構の中心
を求める方法では、光軸調整も含めて５分以内で終了で
きる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、エキシマ
スレーザ光の光路を変える一対のミラーのいずれかを固
定にし光軸に平行な面内に他方のミラーをリモートコン
トロールで二次元移動させるミラー移動機構と、レーザ
光路中にミラーを挿入しレーザ光を入光し光軸の位置座
標をモニタテレビに表示する光軸モニタとを設けること
によって、エキシマレーザ光の引き回し光学系の光学構
成部品に直接触れることなく極めて短時間で容易に光軸
アライメントが容易に行なえるとともにフライアイレン
ズの任意の位置に光軸を合せることができるという効果
がある。
スレーザ光の光路を変える一対のミラーのいずれかを固
定にし光軸に平行な面内に他方のミラーをリモートコン
トロールで二次元移動させるミラー移動機構と、レーザ
光路中にミラーを挿入しレーザ光を入光し光軸の位置座
標をモニタテレビに表示する光軸モニタとを設けること
によって、エキシマレーザ光の引き回し光学系の光学構
成部品に直接触れることなく極めて短時間で容易に光軸
アライメントが容易に行なえるとともにフライアイレン
ズの任意の位置に光軸を合せることができるという効果
がある。
【００２５】さらに、レーザビームスポット形状を整形
する光軸調整用ピンホール機構に、エキシマレーザ光が
通過する開口部をもつ二つのアパーチャを離間させ一体
化した部材を上下左右に移動させる機構と、移動に伴な
って光量の変化を検知する光量器とを設けることによっ
て、レーザ発振器からのレーザ光とアパーチャとの軸調
整がリモートコントロールで行なうことができるので、
直接光学構成品に触れることなく短時間で容易に調整が
できるとともに長期間安定したレーザ出力が得られると
いう効果がある。
する光軸調整用ピンホール機構に、エキシマレーザ光が
通過する開口部をもつ二つのアパーチャを離間させ一体
化した部材を上下左右に移動させる機構と、移動に伴な
って光量の変化を検知する光量器とを設けることによっ
て、レーザ発振器からのレーザ光とアパーチャとの軸調
整がリモートコントロールで行なうことができるので、
直接光学構成品に触れることなく短時間で容易に調整が
できるとともに長期間安定したレーザ出力が得られると
いう効果がある。
【図１】本発明の一実施例における露光光投射装置を示
す斜視図および構成図である。
す斜視図および構成図である。
【図２】本発明の他の実施例における露光光投射装置の
光軸調整用ピンホール機構を示す斜視図である。
光軸調整用ピンホール機構を示す斜視図である。
１ ミラー移動機構 ２ 移動ミラー ３ 固定ミラー ４ 光軸調整用ピンホール機構 ５ 光軸モニタ ６ 蛍光板 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ パルスモータ ８ ミラー ９ エキシマレーザ光源ユニット １０ フライアイレンズ １１ 制御部 １２ａ，１２ｂ アパーチャ １３ ハーフミラー １４ 積算光量器 １５ 集光レンズ １６ モニタテレビ
Claims (3)
- 【請求項１】 エキシマレーザ光源装置から投射される
エキシマレーザ光を所定のスポット形状に絞る光軸調整
用ピンホール機構と、この光軸調整用ピンホール機構を
通過するエキシマレーザ光の経路を変えフライアイレン
ズに該エキシマレーザ光を投光する一対の反射ミラーと
を備える露光光投射装置において、前記光軸調整用ピン
ホール機構より通過する前記エキシマレーザ光の光軸に
並行な面内を前記一対の反射ミラーのいずれかを二次元
移動させるミラー移動機構と、前記フライアイレンズに
入光する前記エキシマレーザ光の経路を変え入光させ該
エキシマレーザ光を可視光に変換する蛍光板と、この蛍
光板から発生した前記可視光を入光させ前記フライアイ
レンズへの前記エキシマレーザ光の光軸の位置を平面座
標で出力する光軸モニタとを備えることを特徴とする露
光光投射装置。 - 【請求項２】 前記光軸モニタがＣＣＤカメラであるこ
とを特徴とする請求項１記載の露光光投射装置。 - 【請求項３】 前記エキシマレーザ光源装置からの前記
エキシマレーザ光が通過する開口部をもつ二つのアパー
チャを離間させ一体化する連結体と、前記エキシマレー
ザ光に垂直面内に二次元的に前記連結体を移動させる移
動機構と、前記アパーチャとの間に光路外からミラーを
挿入し前記エキシマレーザ光の光量を測定する光量器と
で構成される前記光軸調整用ピンホール機構であること
を特徴とする請求項１または請求項２記載の露光光投射
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6257812A JP2630276B2 (ja) | 1994-10-24 | 1994-10-24 | 露光光投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6257812A JP2630276B2 (ja) | 1994-10-24 | 1994-10-24 | 露光光投射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08124828A true JPH08124828A (ja) | 1996-05-17 |
| JP2630276B2 JP2630276B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=17311469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6257812A Expired - Lifetime JP2630276B2 (ja) | 1994-10-24 | 1994-10-24 | 露光光投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2630276B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7307711B2 (en) | 2004-10-29 | 2007-12-11 | Hitachi Via Mechanics (Usa), Inc. | Fluorescence based laser alignment and testing of complex beam delivery systems and lenses |
| US7548323B2 (en) | 2004-10-29 | 2009-06-16 | Hitachi Via Mechanics, Ltd | Displacement and flatness measurements by use of a laser with diffractive optic beam shaping and a multiple point sensor array using the back reflection of an illuminating laser beam |
| JP2011247924A (ja) * | 2010-05-24 | 2011-12-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 光源ユニット、光源ユニットの光軸調整方法、プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
| JP2015225257A (ja) * | 2014-05-28 | 2015-12-14 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスクの検査方法およびフォトマスクの製造方法 |
| CN110892329A (zh) * | 2017-07-20 | 2020-03-17 | 西默有限公司 | 用于对准和诊断激光束的方法和装置 |
| CN113063759A (zh) * | 2021-03-15 | 2021-07-02 | 国科大杭州高等研究院 | 基于半球空间类复眼结构的体细胞激光诱导荧光探测方法 |
-
1994
- 1994-10-24 JP JP6257812A patent/JP2630276B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7307711B2 (en) | 2004-10-29 | 2007-12-11 | Hitachi Via Mechanics (Usa), Inc. | Fluorescence based laser alignment and testing of complex beam delivery systems and lenses |
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| CN110892329A (zh) * | 2017-07-20 | 2020-03-17 | 西默有限公司 | 用于对准和诊断激光束的方法和装置 |
| US11079564B2 (en) | 2017-07-20 | 2021-08-03 | Cymer, Llc | Methods and apparatuses for aligning and diagnosing a laser beam |
| CN113063759A (zh) * | 2021-03-15 | 2021-07-02 | 国科大杭州高等研究院 | 基于半球空间类复眼结构的体细胞激光诱导荧光探测方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2630276B2 (ja) | 1997-07-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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