JPH0645230A

JPH0645230A - 露光装置

Info

Publication number: JPH0645230A
Application number: JP5065075A
Authority: JP
Inventors: Yosuke Shirata; 陽介白田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1992-05-19
Filing date: 1993-03-24
Publication date: 1994-02-18

Abstract

(57)【要約】【目的】露光用光源として高解像度の得られるエキシ
マレーザを用い、かつこのエキシマレーザをアライメン
ト用走査光としても支障なく高精度で使用可能な露光装
置を提供する。【構成】エキシマレーザを発振する光源１と、該光源
に対しレーザ発振信号を送出する制御手段１０、１１と
を具備した露光装置において、前記レーザ発振信号の送
出後にレーザ充電を行なう第１のレーザ発振モード１２
と、前記レーザ発振信号の送出前にレーザ充電を完了さ
せる第２のレーザ発振モード１３とを有し、前記制御手
段は該第１および第２のレーザ発振モードを選択的に切
換え可能な構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体回路あるいは液晶
回路製造用露光装置に関し、特にエキシマレーザを用い
た露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】露光装置は、マスク（またはレチクル）
上に形成された回路パターンをウエハやガラス板等の基
板上に投影露光して焼付け、基板上に塗布されたフォト
レジストにパターン潜像を形成する。近年このような露
光装置において、解像力を高め微細パターンをより高精
度に形成するために紫外域の光を射出するエキシマレー
ザが露光用光源として用いられている。このエキシマレ
ーザ光は紫外域で多くの発振波長をもつ高輝度高出力の
パルスレーザ光である。

【０００３】このようなエキシマレーザの発振方法（発
振モード）は２通りあり、この２つの発振方法をそれぞ
れ図８、図９に示す。各図において、横軸は時間であ
り、発振信号をＳＬ、レーザの充電状態をＶで表す。図
８の発振方法は、発振信号が送出されるとレーザ装置が
そのトリガパルスを受けた時点Ｔでそのトリガによるレ
ーザ発振用の充電を開始し、時間ｔ後にレーザ発振に必
要な電圧Ｖａに達するとその時点Ｔｔでレーザを発振す
る方法（以下「コマンドチャージ法」という）である。
つまり発振信号が充電開始のトリガとなる。その後レー
ザ発振により充電状態はゼロボルトに落ちる。このコマ
ンドチャージ法では、発振信号のトリガ後常に充電時間
ｔだけ後にレーザが発光する。

【０００４】図９の発振方法は、レーザ装置は常に充電
された状態で待機し、レーザ発振トリガ信号を受けると
直ちに発光し、発光後直ちに充電を開始して次の発振信
号に備える方法（以下「ＤＣチャージ法」という）であ
る。このように、レーザ装置の発振方法には２つのタイ
プがあり、どちらか一方を採用していた。

【０００５】露光装置においては、常に充電状態とした
場合の外部からのノイズによるエキシマレーザの誤発振
を防止するため、およびレーザの高電圧電源素子への負
荷軽減のために、通常のウエハ露光を行う場合には上記
コマンドチャージ法でレーザ発光を行なうことが望まし
い。一方、マスクの装置に対する位置を検出するため
に、マスク側に設けたアライメントマークと基板側に設
けたアライメントマークとを光走査により照射して整合
させ、両者を位置合せさせる各種方法が提案されている
（特開昭６３−５５２１号、特開昭６４−１０１０５号
等）。

【０００６】このような方法として、例えば基板を保持
するステージ上にスリット状開口部を有する調整板（位
置合せ板）を設け、この調整板を下方（ステージ側）か
ら照明し、その像をマスクのパターン面に結像させ、こ
の状態でステージを移動させることにより、マスクに設
けた窓を、調整板上の開口部の投影像により走査する。
この場合、開口部の投影像と窓とが一致したときに最大
光量が通過し、順次そのずれに応じて光量が減少する。
従って、この光量変化を記録することにより、装置に対
するマスクの位置を検出することができる。装置に対す
るマスクの位置はマスクとウエハとをアライメントする
場合の基礎データとして用いられる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光用
光源としてコマンドチャージ法を採用したエキシマレー
ザを用いた露光装置においては、レーザ発振信号を受け
た後に充電を開始するため、発振トリガ送出後実際に発
光するまでに時間遅れが生じる。このため、このレーザ
光をアライメント用走査光として用いようとした場合、
ステージを駆動させて位置を計測しその座標に同期させ
てレーザ発光を行なうときに、前述の時間遅れのため高
精度の位置合せができなかった。またこの時間遅れを考
慮して目的の座標で発光するように発振トリガを出力す
ることは、ステージ側の移動量や速度が一定ではないた
め困難であるという問題があった。

【０００８】一方、このような問題に対処するため、単
にレーザ装置を常に充電完了状態に保つようにした発振
方法（ＤＣチャージ法）では、特に露光時においてノイ
ズによるレーザ誤発振や電源素子への高負荷状態持続に
よる問題が生ずる。本発明は上記従来技術の欠点に鑑み
なされたものであって、露光用光源として高解像度の得
られるエキシマレーザを用い、かつこのエキシマレーザ
をアライメント用走査光としても支障なく高精度で使用
可能な露光装置の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光装置の
基本構成を図５に示す。この露光装置は、投影光学系を
含む露光機構８０と、露光動作を含め装置全体を制御す
るための制御装置４０と、エキシマレーザを発光するエ
キシマレーザ光源７０と、このエキシマレーザ光源７０
の発振制御を行なうレーザ制御装置２０とを具備する。
レーザ制御装置２０はバス５０を介して制御装置４０に
連結される。また、エキシマレーザ光源７０は光路６０
を介して露光機構８０に連結される。このような露光装
置において、エキシマレーザのレーザ制御装置２０また
は制御装置４０は、第１、第２の２つのレーザ発振モー
ドの内各工程で必要な最適モードを選択してレーザ発光
を行なう。

【００１０】即ち、前記目的を達成するため、本発明に
係る露光装置は、エキシマレーザを発振する光源と、該
光源に対しレーザ発振信号を送出する制御手段とを具備
した露光装置において、無充電部分を有するように前記
レーザ充電を行いながらレーザ発振を行う第１のレーザ
発振モードと、充電状態を維持して前記レーザ発振信号
の送出前にレーザ充電を完了させる第２のレーザ発振モ
ードとを有し、前記制御手段は該第１および第２のレー
ザ発振モードを選択的に切換え可能な構成とした。

【００１１】

【作用】例えばパターンの投影露光を行なう場合には、
多少の時間遅れは問題とならないため、発振信号により
充電を開始し、充電完了後に露光したり、パターン露光
時にはステージを移動させないので、レーザ発振信号送
出の所定時間前に充電を開始し、発振信号により露光を
行うといった発光制御が可能である。このように発振信
号と所定の関係で充電を開始するという発光制御を行な
うことにより無充電部分（無充電時間）を作ることがで
き、外部ノイズによる誤発光を防止するとともにレーザ
高電圧電源素子への負荷を軽減する。一方マスクやウエ
ハのアライニング等のための計測を行なう場合には、時
間的に高精度な追従性が要求されるため、計測の際充電
状態を維持させる発光制御を行ない発振周期の一定でな
い発振トリガ信号（速度一定でないステージの位置を基
準として定められる一定でない発振トリガ信号）に応じ
て直ちに発光させる。この２つの発光制御により、露光
時および計測時の両方において、誤発振のない高精度な
レーザ使用が可能となる。

【００１２】

【実施例】図１は本発明の実施例に係る露光装置の概略
構成図である。エキシマレーザ光源１から射出され照度
均一化手段を含む照明光学系Ｓを介したレーザ光は切替
えミラー２で必要に応じてａ、ｂに光路を切替えられ
る。光路ａを選択した場合、レーザ光ａは、レチクル
（マスク）Ｒを照射し、投影光学系３を介してマスクＲ
上のパターンをＸＹステージ４上に搭載されたウエハ５
に結像する。光路ｂを選択した場合、レーザ光ｂは、ス
テージ４の内部を通り、アライメント用位置決め板６を
下側から照射する。さらにこの位置決め用レーザ光ｂは
投影光学系３を通り、ディテクタ７ａ、集光レンズ７ｂ
を含む光検出器７で検出され、検出信号がＣＰＵ１０に
送られる。ステージ４は、このＣＰＵ１０に制御される
駆動系８によりＸＹ方向に移動する。このステージ４の
移動はレーザ干渉計９により検出され、その座標位置が
計測される。ＣＰＵ１０はさらにレーザ制御回路１１に
連結される。レーザ制御回路１１は内部に第１、第２の
２つのレーザ発振モード、即ち露光モードと計測モード
とに応じて２つの発振モードをそれぞれ実行するための
露光モード回路１２および計測モード回路１３が形成さ
れている。レーザ制御回路１１はエキシマレーザ光源１
に連結され、選択された一方の発振モード、即ち露光モ
ード回路１２または計測モード回路１３を介してエキシ
マレーザの発光制御を行なう。そして、ＣＰＵ１０によ
る露光モードと計測モードとの切換え指令に応じてレー
ザの発振モードを第１モードと第２モードとに切換え
る。

【００１３】上記露光装置の動作シーケンスの一例を図
２のフローチャートに示す。まず、ステップ２１で、レ
ーザ発振モードを第２の発振モード、即ちレーザ発振信
号入力と同時にレーザを発光するモードとするように計
測モード回路１３（図１）を選択する。この計測モード
状態で、マスクとウエハ（ステージ）とのアライメント
のための計測（アライメント工程）を行なう（ステップ
２２）。このアライメント工程においては、例えば図１
の実施例では、ＣＰＵ１０は駆動系８を介してステージ
４を移動させ、干渉計９によりその座標位置を計測しな
がら、所定位置ごとにエキシマレーザ光源１を駆動して
エキシマレーザを発光する。切替えミラー２により選択
されたレーザ光ｂはステージ４の内部を通りミラー１４
で反射され、位置合せ板６を下側から照射する。位置合
せ板６の表面はウエハ５の表面とほぼ一致しており、レ
ーザ光ｂはこの表面に形成された位置合せ用スリット
（図示しない）を通過する。このスリットを通過したレ
ーザ光はさらにマスクＲに形成されたアライメントマー
ク（窓）Ｗｄを通過して光検出器７で光量検出される。
検出された光量に応じてマスクとステージとのアライメ
ント状態が判別される。具体的には、光量がピーク値と
なるステージ位置がマスクの窓Ｗｄの位置となり、マス
ク位置が干渉計９により計測され、マスクの装置に対す
る位置計測が実行される。

【００１４】このアライメント工程（計測モード）にお
いては、前述のように第２の発振モードでレーザ発光が
行なわれる。この計測モードのレーザ発光制御シーケン
スを図４のフローチャートに示す。本実施例の第２の発
振モードでは図９に示すように、計測モードの初期状態
（ステージがアライメントに必要な位置にくる前の状
態）はＶ＝Ｖａの充電状態、即ち発光に必要な充電完了
状態である。ステージ（位置合せ板６）がアライメント
のための所定位置にくると、位置計測のためにＣＰＵ１
０からレーザ発振信号が入力される（ステップ２９）。
そしてレーザ光源１は直ちにレーザ発振し（ステップ３
０）、エキシマレーザを発光する。このレーザ発光後直
ちに充電を開始する（ステップ３１）。この状態でその
後ステージは移動し、次に予定したアライメントに必要
なステージ移動量に達したか否かが判別される（ステッ
プ３２）。これにより、レーザ発振によりＶ＝０まで落
ちた充電電圧をＶ＝Ｖａまで高め充電完了状態とする。
予定したステージ移動量に達していなければこの充電完
了状態で次のレーザ発振信号が入力されるまで待機しス
テップ２９に戻り発振信号が入力されると直ちにエキシ
マレーザを発光し（ステップ３０）、その後直ちに充電
される（ステップ３１）。このような動作がアライメン
ト終了まで繰り返される。つまり計測スタートからのス
テージ移動量が所定のステージ移動量（例えば５０μ
ｍ）に達するまで予定ステージ移動単位（例えば０．５
μｍ単位）毎に発振信号を入力し、ステージが所定量だ
け移動している間充電状態を維持するものである。ステ
ップ３２で予定ステージ移動量に達した場合アライメン
ト動作は終了する。

【００１５】このようにアライメント動作の間充電状態
を維持することにより、時間遅れのないレーザ発振を行
うことができる。アライメント工程が終了すると、レー
ザ発振モードが前述の第２のモード（計測モード回路１
３）から第１のモード（露光モード回路１２）に切換え
られる（図２ステップ２３）。この露光モード状態で、
エキシマレーザを用いて露光工程が行なわれる（ステッ
プ２４）。露光工程においては、マスク（レチクル）を
介してエキシマレーザ光をウエハ（基板）５上に照射
し、レチクルのパターンを例えばステップアンドリピー
ト方式で基板上に露光転写する。

【００１６】露光モードでのエキシマレーザ発光制御シ
ーケンスを図３のフローチャートに示す。本実施例の第
１の発振モードでは図８に示すように、露光モードの初
期状態（露光が行われる前の状態）の充電電圧は、Ｖ＝
０である。ＣＰＵ１０からレーザ発振信号が入力される
と（ステップ２５）、このレーザ発振信号に基づいて充
電が開始される（ステップ２６）。必要な充電電圧Ｖ＝
Ｖａに達するとレーザ発振を行ない（ステップ２７）、
エキシマレーザを発光する。これにより充電電圧はＶ＝
０に落ちる。この状態で必要露光量に達したか否かが判
別される（ステップ２８）。必要露光量に達していなけ
れば、この充電電圧Ｖ＝０の状態（無充電状態）で次の
レーザ発振信号があるまで待機し、ステップ２５に戻
り、レーザ発振信号が入力されると（ステップ２５）、
この発振信号に基づいて充電が開始され（ステップ２
６）、充電が完了するとレーザ発振し（ステップ２
７）、エキシマレーザを発光する。このような動作を露
光ステップ終了まで繰り返す。

【００１７】このように、本実施例では、コマンドチャ
ージ法（図８）を第１の発振モードとし、ＤＣチャージ
法を第２の発振モードとして、第１と第２のモードを切
換え可能としたものであり、アライメント動作時に充電
状態を維持可能とし、露光動作時に無充電状態を確保す
ることができる露光装置が提供可能となる。これにより
アライメント動作の時間遅れや露光動作時の誤発光や電
源素子への高負荷状態維持による問題を解消できる。

【００１８】なお、上記実施例においては、アライメン
ト工程および露光工程の前に予めレーザ発振モードを設
定していたが、このような制御方法に代えて、各レーザ
発振信号の入力ごとにそのレーザ光を第１のモードとす
べきか第２のモードとすべきかを判断して、その判断結
果に基づいてレーザ発光を行なうように構成してもよ
い。

【００１９】次に本発明の第２の実施例について説明す
る。本実施例は第１の実施例からレーザ制御方法を異な
らせたものである。第１の実施例と同様の部材には同様
の符号を付してある。本実施例はレーザ発振信号と充電
信号との２つの信号を使ってエキシマレーザ光源を制御
する発振方法を使用し、レーザ発振信号と充電信号との
出力タイミングを制御することにより、第１の実施例に
おけるコマンドチャージ法（露光モード回路１２）とＤ
Ｃチャージ法（計測モード回路１３）との切換えと等価
な制御方法を実現するものである。

【００２０】本実施例において、レーザ制御回路１１は
ＣＰＵ１０からの制御信号に基づいて充電を行うための
制御信号となる充電信号Ｓ１とレーザ発振信号Ｓ２とを
出力する。本実施例におけるレーザ発光制御シーケンス
を図６、図７、図１０を参照して説明する。図６、図７
において、横軸は時間であり、充電信号をＳ１、発振信
号をＳ２、レーザの充電状態をＶで表す。本実施例にお
いては計測モード、露光モードとも初期状態はＶ＝０で
ある。計測モードと露光モードとは予めオペレータ等の
入力によりどちらか一方のモードが選択されているもの
とする。

【００２１】まず計測モードを選択した場合について図
７、図１０を参照して説明する。図７は本実施例におけ
る計測モードのタイミングチャートを示す図である。ス
テップ１００で計測モードと判別され、ステージ４が移
動を開始する。そして、ステージ４（位置合わせ板６）
が所定位置（最初にレーザ発振すべき位置より所定距離
だけ前にある位置）にくるとレーザ制御回路１１は充電
信号Ｓ１をＯＮにし、ステップ１０２で充電を開始す
る。ステージ４がアライメントに必要な位置（計測開始
位置）にくると、ステップ１０３でレーザ制御回路１１
はレーザ発振信号Ｓ２をレーザ光源１に出力する。ステ
ップ１０４でレーザ光源は発振し、レーザ光を発光す
る。レーザ発光後も充電信号Ｓ１はＯＮしたままなの
で、ステップ１１３によりただちに充電される。次のス
テップ１０５でステージ４の移動が予定したステージ移
動量に達したかどうかが判別される。予定ステージ移動
量に達した場合は、ステップ１０６で充電信号はＯＦＦ
となり、計測モードは終了する。予定ステージ移動量に
達していない場合はステップ１０３に戻り、ステップ１
０３、１０４、１１３、ステップ１０５の動作を繰り返
す。ここで、本実施例の計測モードでは、ステージ移動
量が予定量に達するまでは充電信号はＯＮ状態のままで
あり、レーザ発光と同時に充電が開始される。つまり本
実施例においても、ステージ位置が所定の位置（レーザ
発振を行うステージ位置）にある間充電状態を維持する
ものである。図７で発振のタイミングが不規則であるの
は本実施例ではステージの位置を基準として発振タイミ
ングを求めているためであり、ここではステージの移動
速度に変動が生じている場合を示している。

【００２２】尚、計測モードにおけるレーザ充電はステ
ージ位置が計測開始位置に達するまでに充電を完了して
いる必要がある。このため、予め計測開始時間を予測
し、クテージの速度変動等が生じた場合でも、計測開始
位置で充電が完了しているように適当な余裕を持たせて
充電信号をＯＮする必要がある。つまり計測開始位置よ
り充分手前で充電信号をＯＮする必要がある。又、この
モードは通常充電完了状態で終了するので、計測終了
後、充電信号ＯＦＦになった時充電回路内で発振を伴わ
ない自己放電を行いＶ＝０とするシステムにしてある。
本実施例は第１の実施例のアライメント工程（計測モー
ド）時の発振モードにおいて、アライメント工程終了
後、充電されている電圧Ｖ＝Ｖａを充電回路内で発振を
伴わない自己放電を行いＶ＝０にする機能を持たせたも
のである。第１の実施例ではアライメント工程終了後す
ぐに露光工程に移ることを前提としているので、アライ
メント工程終了後充電電圧がＶ＝Ｖａのままでも露光工
程において、１Ｐｕｌｓｅ発振してしまえばＶ＝０の初
期状態の露光モード（コマンドチャージ法）になるた
め、高圧電源部への負荷や誤発振の可能性も少ない。本
実施例では上記自己放電システムを持たせることによ
り、アライメント工程から露光工程へ移るまで時間が長
くかかる場合、例えばアライメント工程終了後にウェハ
を交換しその後に露光工程に移る等の場合でも、その間
の高圧電源部の負荷やレーザの誤発振を防ぐことができ
る。又露光工程の必要のないアライメント動作の確認作
業や調整作業等の場合も作業終了後は自己放電システム
が作動することにより上記の場合と同様に高圧電源部の
負荷やレーザの誤発振を防ぐことができる。

【００２３】次に露光モードを選択した場合について図
６、図１０を参照して説明する。図６は本実施例におけ
る露光モードのタイミングチャートを示す図である。ス
テップ１００で計測モードでないと判別されるとステッ
プ１０７に進む。ＣＰＵ１０は例えば露光を開始すべき
タイミング時刻Ｔ１から所定時間ｔだけ前の時刻Ｔ０に
充電信号Ｓ１をＯＮにするようにレーザ制御回路１１を
制御する。レーザ制御回路１１はＣＰＵ１０の制御に基
づいてステップ１０７で時刻Ｔ１に充電信号Ｓ１をＯＮ
とする。そしてステップ１０８で充電が開始される。所
定時間ｔは充電が完了するのに必要な時間間隔であり、
充電信号がＯＮされてから所定時間ｔ経過後の時刻Ｔ１
に充電が完了する。ステップ１０９においてレーザ制御
回路１１はＣＰＵ１０の制御の下で時刻Ｔ１にレーザ発
振信号Ｓ２をレーザ光源１へ出力する。そしてステップ
１１０でレーザが発振し、レーザ光が発光される。発光
後はステップ１１１で充電信号Ｓ１がＯＦＦされる。ス
テップ１１２では必要露光量に達したかどうかが判別さ
れ、必要露光量に達した場合は露光モードは終了する。
必要露光量に達しない場合はステップ１０７へ戻り、ス
テップ１０７から１１２までの動作を繰り返す。尚、発
振信号Ｓ２が出力される時間間隔は必要パルス数に応じ
て変化するものであり、この時間間隔と所定時間ｔによ
り無充電状態Ｔ_Mの時間幅が決まる。本実施例において
も、第１の発振モード（無充電状態が得られるモード）
と第２の発振モード（充電状態を維持するモード）とを
切り換え可能とすることにより、前述の時間遅れや誤発
光等の問題を解消できる。

【００２４】また、計測モードはマスクＲと装置との対
応関係をステージ４をＸ、Ｙ方向に移動させて求めるも
のに限定されない。例えば、投影光学系３の結像特性を
計測する際にも用いることができ、以下これを簡単に説
明する。図１でレーザ光ｂはミラー１４で反射され、位
置検出板６上のスリットを通過し、投影光学系３を介し
てマスクＲに入射する。レーザ光ｂは投影光学系３を介
して再び位置検出板６のスリットを透過してミラー１４
の下に設けられたディテクタ１５に入射する。ステージ
４をＺ方向（光軸ＡＸ方向）に移動し、ディテクタ１５
で検出する光量から投影光学系３のベストフォーカス位
置を求める。この際、位置検出板６が所定のＺ位置とな
ったとき又は所定の時間となったとき、充電信号、又は
発振信号を送出するような制御を行う場合でも本発明は
適用可能である。

【００２５】また、ウエハステージを固定とし、所定の
マークが形成されたマスクＲを移動させる計測を行う場
合でも本発明は適用可能である。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る露光
装置においては、レーザ発振信号を受けた後に充電を開
始する第１のレーザ発振モードと、常に充電された状態
でレーザ発振信号を受け発振信号と同時にレーザを発光
する第２のレーザ発振モードとを切換えて選択可能とし
たため、解像力の高いエキシマレーザを用いた露光装置
において、ウエハ等への投影露光を行なう場合には第１
のレーザ発振モードを選択することにより外部ノイズに
よるレーザ光の誤発振を防止しまた高圧電源素子への負
荷を軽くすることができ、一方アライメント時等の位置
計測を行なう場合には第２のレーザ発振モードを選択す
ることにより同じエキシマレーザを用いて発振信号と同
時にレーザを発光することができる。このためステージ
移動に同期したレーザ発光タイミングの予測演算が困難
な場合であっても所望の時点でレーザ発振信号と同時に
レーザを発光させることができ、高精度の位置決め制御
が達成される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る露光装置の構成図で
ある。

【図２】本発明の一実施例に係る露光装置の動作手順
を示すフローチャートである。

【図３】本発明の一実施例に係る第１のレーザ発振モ
ードのフローチャートである。

【図４】本発明の一実施例に係る第２のレーザ発振モ
ードのフローチャートである。

【図５】本発明の一実施例に係る露光装置の基本構成
図である。

【図６】本発明の別の実施例に係る第１のレーザ発振
モードの一例を示すタイミングチャートである。

【図７】本発明の別の実施例に係る第２のレーザ発振
モードの別の例を示すタイミングチャートである。

【図８】本発明の一実施例に係る第１のレーザ発振モ
ードの一例を説明するためのタイミングチャートであ
る。

【図９】本発明の一実施例に係る第２のレーザ発振モ
ードを説明するためのタイミングチャートである。

【図１０】本発明の別の実施例に係る発振モードのフ
ローチャートである。

【符号の説明】

１；エキシマレーザ光源、３；投影光学系、４；ステー
ジ、５；ウエハ、６；位置合せ板、７；光検出器、１
０；ＣＰＵ、１１；レーザ制御回路、１２；露光モード
回路、１３；計測モード回路。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０５ 9122−2Ｈ５２１ 9122−2ＨＨ０１Ｓ 3/10 Ｚ 8934−4Ｍ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ充電された状態でエキシマレーザ
光を発光する光源と、該光源に対しレーザ発振信号を送
出する制御手段とを具備した露光装置において、前記レ
ーザ発振信号の送出タイミングと所定の関係で前記レー
ザ充電及び前記発光を行なう第１のレーザ発振モード
と、少なくとも前記レーザ発振信号の送出が完了するま
での間レーザ充電状態を維持させる第２のレーザ発振モ
ードとを有し、前記制御手段は該第１および第２のレー
ザ発振モードを選択的に切換え可能な構成としたことを
特徴とする露光装置。
【請求項２】回路パターンが形成されたマスクを介し
て基板上に該パターンの投影露光を行なう露光装置であ
って、前記基板上にパターン投影露光を行なう場合には
前記第１のレーザ発振モードとし、前記基板もしくは前
記マスクの位置計測を行なう場合には前記第２のレーザ
発振モードとするように前記制御手段を構成したことを
特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】前記第１のレーザ発振モードは、レーザ
発振信号の送出と同時に充電を行なうモードであること
を特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】前記第１のレーザ発振モードは、レーザ
発振信号の送出の所定時間前に充電を行うモードである
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】前記第２の発振モードは、レーザ発振信
号送出とほぼ同時に前記レーザ光の発光を行うことを特
徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】レーザ充電された状態で露光用エキシマ
レーザ光を発光する光源を具備し、該エキシマレーザ光
により回路パターンが形成されたマスクを介して基板上
に該パターンの投影露光を行なう露光装置の使用方法に
おいて、前記基板上にパターン投影露光を行なう場合に
は、レーザ発振信号の送出タイミングと所定の関係で前
記レーザ充電及び発光を行ない、前記基板もしくは前記
マスクの位置計測を行なう場合には、少なくともレーザ
発振信号の送出が完了するまでの間レーザ充電状態を維
持して前記露光用エキシマレーザを用いて位置計測を行
なうことを特徴とする露光装置の使用方法。