JPH08114925A - 焼付装置および焼付方法 - Google Patents

焼付装置および焼付方法

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JPH08114925A
JPH08114925A JP6247974A JP24797494A JPH08114925A JP H08114925 A JPH08114925 A JP H08114925A JP 6247974 A JP6247974 A JP 6247974A JP 24797494 A JP24797494 A JP 24797494A JP H08114925 A JPH08114925 A JP H08114925A
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JP
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slit
light source
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original film
light
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JP6247974A
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English (en)
Inventor
Fumihiko Nishida
文彦 西田
Kenji Watanabe
謙治 渡辺
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 照度分布や光線の平行性を改善した焼付方法
および焼付装置を得る。 【構成】 焼付装置は、透光板に沿って走行するスリッ
ト光源ユニット6を搭載している。このスリット光源ユ
ニット6は、細溝状のスリット21を通して感光材料上
に露光するものであり、スリット21の長手方向(Y方
向)の透光範囲を規定する透光マスク24を有してい
る。遮光マスク24によりスリット21の開口範囲を制
限し、所定の位置間で光源ランプ26を点灯させながら
走行させることにより、原版フィルムFの画像を感光材
料上の所定の位置に焼き付けることができる。また、ス
リット21を幅方向(X方向)から開閉するシャッター
28が設けられ、スリット光源ユニット6の走行開始及
び走行終了位置の両端部において露光量が少なくならな
いように、シャッター28を用いることにより露光量を
調整して焼き付けを行う。 【構成】 スリット光源を用いているため、照度分布及
び光線の平行性を改善できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光材料と原版フィルム
とを重ね合わせて密着し、露光を施すことによって、当
該感光材料への画像の焼き付けを行う焼付装置および焼
付方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、この種の焼付装置として、焼
枠や殖版機などが知られている。これらのうち、後者と
しては、例えば特公平3−16019号公報に記載され
たベルト搬送式殖版機がある。この殖版機には、原版フ
ィルムを搬送するための搬送ベルトが設けられており、
この搬送ベルトによって原版フィルムを感光材料上に位
置決め可能となっている。また、当該殖版機には、自動
マスク装置が設けられ、感光材料の表面領域のうち焼付
処理を行わない部分を覆うように構成されている。
【0003】このように構成されたベルト搬送式殖版機
では、まず搬送ベルトにより原版フィルムが感光材料上
に位置決めされる。そして、当該感光材料と原版フィル
ムとが焼付台と透光部材との間で密着され、さらに自動
マスク装置により焼き付けない部分が遮光された後、光
源からの光が感光材料に向けて投光されて、当該感光材
料に原版フィルムの画像が焼き付けられる。
【0004】このベルト搬送式殖版機によれば、サイズ
の限定された原版ホルダーを用いる必要がなく、原版フ
ィルムのサイズを選ばずに大サイズや変形サイズの焼き
付けができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このベルト
搬送式殖版機では大サイズの焼き付けにも対応すべく、
基本的に光源を焼枠の略中央部上方に固定しているが、
例えば大型殖版機を用いて印刷版のような大サイズの領
域においても良好に焼付処理を行うためには、単に光源
を上記のように配設するだけではなく、光源からの光を
平行光でしかも均一な照度分布で感材材料に投光する必
要がある。
【0006】しかしながら、殖版機では、メタルハライ
ド光源や水銀灯などの点光源からの光を反射傘などの反
射部材で反射することで、平行光を作り出し、感光材料
に向けて投光している。このような光学系を有する殖版
機においては、広範囲にわたって2次元平面(感光材
料)を均一な照度分布で投光することは困難である。こ
のことは、ベルト搬送式殖版機のみならず、一般的な殖
版機や焼枠などにおいても同様であり、写真製版用の焼
付装置全般にあてはまることである。
【0007】このように感光材料における照度分布が均
一でない場合には、次の問題が生じる。すなわち、この
場合、例えば同じ画像を多面付けした時に中央部と端部
において微妙に焼き付けの度合いが異なり、同じ画像で
あっても印刷後に色濃度が異なってしまう。また、光線
の平行性を考えた場合も、中央部に比べて端部では光線
が傾斜して入射するので、網点の再現性が悪かったり、
また自動マスク装置(後述する)の遮光マスクのエッジ
部分の焼きボケ量が多くなる。特に、近年急速に発展し
てきた高精細印刷やFM網掛け(=Frequency Modulatio
n Screening)などにおいては、従来よりも微小な網点
を用いているため、光線の平行性が悪いと、このような
微小な網点が焼きとんでしまって再現しないという重大
な問題が生じてしまう。
【0008】なお、照度分布を改善するためには、例え
ば本出願人の出願に係る特開平3−80253号公報に
記載されたように、光源を感光材料上の水平な面内で移
動させることが考えられる。この方式は感材料の中央部
において照度分布を改善するためには有効であるが、た
とえ当該方式を採用したとしても、十分な照度分布の均
一性が得られず、例えば感光材料の中央部や端部におい
て照度分布が異なってしまう。また、光線の平行性も十
分でなく、上述した現象、つまり「焼きとばし」が生じ
てしまう。
【0009】一方、前述の殖版機には自動マスク装置が
一般的に取り付けられているが、それに伴う問題があ
る。自動マスク装置は上下および左右の2対4枚の遮光
マスクを有しており、これらの遮光マスクをそれぞれ原
版フィルムの上下及び左右から各々のマスクの先に付け
た先導板を駆動することで展開し、原版フィルムの一部
をマスクするように構成されている。この装置では、各
遮光マスクは各々独立して駆動され、また狭い範囲で重
ね合わせて配置されるため、装置の構造が複雑となる。
また、各遮光マスクは、上下及び左右方向に展開する各
マスク対が互いに干渉しないように、原版フィルムの上
方位置で重ねて配置されるため、どちらか一方向のマス
ク対を、少なくとも他方のマスク対の厚み分(例えば前
記先導板の厚み分)だけ原版フィルムから離して配置す
る必要がある。このため、当該他方のマスク対(原版フ
ィルムから離れたマスク対)のエッジ部分すなわち、露
光領域と未露光領域との境界部分において、焼きボケ量
が増大するという問題がある。
【0010】本発明は、印刷版のような大サイズ領域に
おいても、全面にわたって均一な照度分布で、しかも良
好な平行性を有する光線で焼き付けができる焼付装置お
よび焼付方法を提供することを第1の目的とする。
【0011】また、本発明は、より簡易な構造で感光材
料の所定の位置のみに焼付処理を施すことができる焼付
装置および焼付方法を提供することを第2の目的とす
る。
【0012】さらに、本発明は、露光領域と未露光領域
との境界部分の焼きボケを改善することができる焼付装
置を提供することを第3の目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、焼付
台と透光部材との間で前記焼付台に載置された感光材料
に原版フィルムを重ね合わせて密着し、前記透光部材を
通して露光を施して前記感光材料上に前記原版フィルム
の画像を焼き付ける焼付装置であって、光源ランプと、
前記透光部材に対してスリットを開口したスリット板と
を有し、前記光源ランプからの光を前記スリットを介し
て前記透光部材に向けて投光しながら、前記透光部材上
に沿って前記スリットの幅方向に走行可能なスリット光
源手段と、前記スリット光源手段を前記透光部材に沿っ
て前記スリットの幅方向に走行させるスリット光源駆動
手段と、前記スリットの長手方向における前記スリット
の開口範囲を制限する1対の遮光手段と、を備えてい
る。
【0014】請求項2の発明は、請求項1に係る焼付装
置において、前記遮光手段が、前記スリットに嵌合自在
で、しかも前記透光部材に近接した状態で前記スリット
内に沿って摺動自在な摺動部材と、前記摺動部材を前記
スリット内で摺動させる摺動部材駆動手段と、を有して
いる。
【0015】請求項3の発明は、請求項1または2に係
る焼付装置において、前記スリットの幅方向から前記ス
リットを開閉するように、前記光源ランプと前記スリッ
トとの間において前記スリット光源手段の走行速度と同
じ速度で移動するシャッター手段をさらに備えている。
【0016】請求項4の発明は、請求項3に係る焼付装
置において、前記シャッター手段が、前記スリットを閉
鎖するための遮蔽部を有する遮蔽板又は遮蔽膜であっ
て、その一部に前記スリットを開放するための開口部を
開けた開口付き遮蔽部材と、この開口付き遮蔽部材を前
記スリット上で、前記スリットの幅方向に駆動する遮蔽
部材駆動手段と、を有している。
【0017】請求項5の発明は、請求項3に係る焼付装
置において、前記シャッター手段が、各々独立して移動
可能に構成された2つの遮蔽部材と、前記2つの遮蔽部
材をスリット上で、前記スリットの幅方向に駆動する遮
蔽部材駆動手段と、を有している。
【0018】請求項6の発明は、感光材料上に原版フィ
ルムを重ね合わせて密着し、原版フィルムを通して露光
を施し前記感光材料上に前記原版フィルムの画像を焼き
付ける焼付方法であって、感光材料上に原版フィルムを
位置決めする原版フィルム位置決め工程と、前記感光材
料と原版フィルムとを密着する密着工程と、前記原版フ
ィルムの焼き付けを開始する一方の端部上に、所定のス
リットから光を投光するスリット光源手段を位置決めす
るスリット光源位置決め工程と、前記スリット光源手段
におけるスリットの長手方向の開口範囲を制限する遮光
工程と、前記スリット光源手段を点灯させる点灯工程
と、前記原版フィルムの焼き付けを開始する一方の端部
から、焼き付けを終了する他方の端部まで前記スリット
光源手段を走行させて焼き付けを行う移動焼付工程と、
含んでいる。
【0019】請求項7の発明は、請求項6に係る焼付方
法において、前記原版フィルムの焼き付けを開始する一
方の端部において、前記スリット光源手段の走行が始ま
る前に、前記スリットの幅方向の開口範囲を前記スリッ
ト光源手段の走行速度と同じ速度で漸次開放する開始時
焼付調整工程と、前記原版フィルムの焼き付けを終了す
る他方の端部において、前記スリット光源手段の走行が
終わった後に、前記スリットの幅方向の開口範囲を前記
スリット光源手段の走行速度と同じ速度で漸次閉鎖する
終了時焼付調整工程と、をさらに含み、前記両端部にお
ける前記スリット光源手段からの露光量が走行中の中央
部の露光量と同一となるように調整している。
【0020】
【作用】請求項1に係る焼付装置では、スリット光源手
段は光源ランプからスリット板のスリットを介して透光
部材に向けて投光して感光材料を焼き付ける。スリット
光源駆動手段はスリット光源手段を駆動して透光部材上
に沿って所定の走行速度で走行させる。一方、1対の遮
光手段はスリットの長手方向の開口範囲を制限する。従
って、スリットの開口範囲を長手方向において制限して
スリット光源手段を所定の位置間で走行させることによ
り、原版フィルムの画像が感光材料上の所定の位置に焼
き付けられる。本装置ではスリット光源手段を用いてい
るため、大きな面積の2次元平面を照射する通常光源に
比べて照度分布及び光線の平行性を改善することが容易
である。またスリット光源手段を感光材料上の所定の位
置に移動させて焼き付けを行うため、感光材料上のどの
位置であっても同じ焼き付けの度合いが得られる。
【0021】請求項2に係る焼付装置では、請求項1に
係る焼付装置を構成する遮光手段が、前記スリット内に
沿って摺動自在な摺動部材と、その摺動部材を駆動する
摺動部材駆動手段とを有している。この摺動部材はスリ
ットに嵌合して透光部材に近接した状態で光源ランプか
らの光を遮光しながら摺動する。従ってスリットの長手
方向を遮光する遮光手段の摺動部材が常に透光部材と近
接した状態で遮光しているので、従来の自動マスク装置
を用いたときに比べて露光領域と未露光領域との境界部
分において焼きボケが少なくなる。
【0022】請求項3に係る焼付装置では、請求項1あ
るいは2に係る焼付装置に加えて、さらにシャッター手
段を備えている。このシャッター手段はスリットをスリ
ットの幅方向から開閉するためのものであり、光源ラン
プとスリットとの間に位置し、スリット光源手段の走行
速度と同じ速度で移動できるように構成されている。従
って、原版フィルムの焼き付けを開始する一方の端部お
よび終了する他方の端部においてシャッター手段をスリ
ット光源手段の走行速度と同じ速度で移動させて、スリ
ットを開閉すると、焼き付けを開始、終了する両端部に
おける露光量が走行中の中央部の露光量と同じになるよ
うに調整される。
【0023】請求項4に係る焼付装置では、請求項3に
係る焼付装置に加えて、さらに、前記シャッター手段が
開口付き遮蔽部材と遮蔽部材駆動手段とを有している。
開口付き遮蔽部材は、スリットを遮蔽するための遮蔽板
又は遮蔽膜からなり、その一部にスリットを開放するた
めの開口部を有する。そしてスリットを開放するときに
は、開口付き遮蔽部材は開口部がスリット上に位置する
ように遮蔽部材駆動手段により駆動され、スリットを閉
鎖するときには、開口部以外の部分がスリット上に位置
するように駆動される。このように、シャッター手段
は、遮蔽部材とその駆動手段とで構成されているので構
造が簡素ですむ。
【0024】請求項5に係る焼付装置では、請求項3に
係る焼付装置に加えて、さらに、前記シャッター手段が
各々独立して移動可能に構成された2つの遮蔽部材と遮
蔽部材駆動手段とを有している。この遮蔽部材は各々独
立して遮蔽部材駆動手段により移動するように構成され
ており、どちらかの遮蔽部材がスリット上に移動するこ
とでスリットを閉鎖し、両方の遮蔽部材がスリット外に
移動することでスリットを開放するように作用する。
【0025】請求項6に係る焼付方法では、まず原版フ
ィルム位置決め工程では原版フィルムが予め定められた
感光材料上の所定の位置に位置決めされる。そして次の
密着工程により感光材料と原版フィルムとが密着され
る。一方、スリット光源位置決め工程では、位置決めさ
れた原版フィルムの焼き付けを開始する一方の端部上に
スリット光源手段を位置決めする。他方、遮光工程で
は、前記スリット光源手段のスリットの長手方向を予め
定められた分だけ遮光して開口範囲を制限しておく。そ
して点灯工程でスリット光源手段が点灯される。点灯が
なされると移動焼付工程においてスリット光源手段が走
行して原版フィルムの焼き付けを終了する他方の端部ま
で移動する。上記一連の動作により原版フィルムの画像
が感光材料上の所定の位置に焼き付けられる。
【0026】請求項7に係る焼付方法では、前記請求項
6の焼付方法に加えて、さらに原版フィルムの焼き付け
を開始及び終了する両端部において行われる開始時焼付
調整工程及び終了時焼付調整工程を有する。すなわちス
リット光源手段の走行が始まる前に、スリットの幅方向
の開口範囲がスリット光源手段の走行速度と同じ速度で
漸次開放される。従って焼き付けを開始する一方の端部
においては、その端部から順次露光量を増やして焼き付
けが開始される。また原版フィルムの焼き付けを終了す
る他方の端部において、スリット光源手段の走行が終わ
った後にスリットの幅方向の開口範囲がスリット光源手
段の走行速度と同じ速度で漸次閉鎖される。従って焼き
付けを終了する他方の端部においては、順次露光量を減
らして焼き付けが終了される。上記の動作により両端部
におけるスリット光源手段からの露光量が走行中の中央
部の露光量と同一となるように調整される。
【0027】
【実施例】
A.実施例1 図1は本発明に係る焼付装置の一実施例を示す斜視図で
ある。同図において焼付装置1は、本焼付装置1のフレ
ームからなる機枠本体2と、この機枠本体2上で図示し
ないエアーシリンダーにより上下動するように設けら
れ、感光材料Pを載置するための焼付台3と、一対のエ
アーシリンダー4により焼付台3に対して開閉可能に設
けられた上枠5と、この上枠5上に走行可能に設けられ
たスリット光源ユニット6と、焼付台3上においてXY
方向に移動可能に設けられ、原版フィルムFを搬送する
ための搬送ベルト7とを備えている。また機枠本体2に
は、操作者が指令を行うための操作部11が設けられて
おり、後で詳説する制御装置100と接続されている。
【0028】図2は上枠5とスリット光源ユニット6と
を示す斜視図である。同図において上枠5は、枠体8
と、この枠体8にその周囲を保持された透光板9と、こ
の枠体8の下面に設けられた気密シール10(図1)と
を備えている。スリット光源ユニット6は枠体8に設け
られた案内レール12に沿って透光板9上をX方向に走
行可能となっている。そして、枠体8内には、モータ1
3と、このモータ13により回転駆動される一対のプー
リー14,14と、プーリー14,14に掛け渡され、
一部をスリット光源ユニット6に接続されたタイミング
ベルト15とが備えられており、モータ13によりスリ
ット光源ユニット6がX方向に走行される。すなわち、
これらモータ13,プーリー14,タイミングベルト1
5によりスリット光源ユニット6を、駆動するスリット
光源駆動手段が構成されている。なお、同図には案内レ
ール12やタイミングベルト15、プーリー14は各々
1組しか記載されていないが、実際にはスリット光源ユ
ニット6のY方向両側に各1組づつ設けられており、ス
リット光源ユニット6がスムーズに走行するように構成
されている。
【0029】次に、焼付台3を上からみた平面図(図
3)を用いてさらに説明を続ける。焼付台3には、台の
上面に対し出没可能な状態で一対の位置決めピン16,
16が各々ブッシュ17に埋め込まれている。このブッ
シュ17内には図示しないソレノイドが埋設されてお
り、位置決めピン16を焼付台3から突出した位置と退
出した位置との間で選択的に出没させることができる。
予め感光材料Pには位置決めピン16と係合可能にパン
チ穴が穿設されており、位置決めピン16に挿通するこ
とによって焼付台3上で位置決めされる。なお、焼付台
3上には図示しない吸着溝も刻設されており、この吸着
溝を通じて図示しない吸着機構により真空吸着して感光
材料Pを焼付台3上に固定できるように構成されてい
る。
【0030】搬送ベルト7はステンレスなどの薄状金属
ベルトであり、焼付台3の側部に設けた一対のドラムプ
ーリ18,18に掛け渡されて焼付台3を取り巻くよう
に設けられている。この搬送ベルト7は図示しない駆動
装置によりドラムプーリ18に案内されてX方向に巻き
出され、かつドラムプーリ18などとともに、Y方向に
移動するように構成されている。この搬送ベルト7には
予めリーダーフィルムRに貼り込まれた原版フィルムF
が接着テープ19により止着され、搬送ベルト7のX及
びY方向の移動により感光材料P上の所定の位置に位置
決めされる。
【0031】なお、搬送ベルト7による原版フィルムF
の移動時においては、焼付台3が少し下降して、搬送ベ
ルト7と焼付台3との間に若干のギャップを設けるとと
もに、このギャップを通して焼付装置1の前方からノズ
ル20よりエアーが吹き込まれる。従って原版フィルム
Fがエアーにより焼付台3より浮上しながら、搬送ベル
ト7によりスムーズに搬送される。
【0032】次に、本焼付装置1のスリット光源ユニッ
ト6について図4および図5を用いて説明する。図4は
スリット光源ユニット6の斜視図であり、図5は図2の
Y方向から見たスリット光源ユニット6の断面図であ
る。このスリット光源ユニット6は、Y方向に伸びる細
溝状のスリット21を有するスリット板22を透光板9
に対して配置した光源カバー23と、スリット21の上
方に設けた光源25を備え、これらの構成要素が一体的
に案内レール12に沿って透光板9上をスリット21の
幅方向、すなわちX方向に走行可能となっている。
【0033】スリット21の長手方向(Y方向)の寸法
は透光板9のY方向寸法と略同一である。一方、スリッ
ト21の幅方向(X方向)の寸法は、光源25の出力す
る光強度とスリット光源ユニット6の移動速度とに関連
して決定される。例えば、光源25の光強度が比較的弱
い場合やスリット光源ユニット6の移動速度が速い場合
には、単位時間当たりの露光量を確保するためにスリッ
ト21の幅方向寸法を大きくする一方、逆の場合には当
該幅方向寸法を小さく設定する。スリット21の幅方向
寸法は上記のように光源25の光強度やスリット光源ユ
ニット6の移動速度により決定するのが好ましいが、こ
れ以外に照度分布や光線の平行性も考慮する必要があ
り、最終的には何れの条件を優先するかによってスリッ
ト21の幅方向寸法は異なる。なお、一般的には、1な
いし10センチメートル程度が採用されればよい。
【0034】光源25は、図4に示すように、光源ラン
プ26と、この光源ランプ26からの光線をスリット2
1に対して均一に照射させるための反射板27とを備
え、各々図示しない支持部材により光源ユニットカバー
23内に設置されている。なお本実施例では、光源ラン
プ26としてスリット21の長手方向(Y方向)に直交
する方向(X方向)に設けた管状のメタルハライドラン
プを用いているが、これに限定されることなく他種のラ
ンプを用いたり、またランプの方向や配置を変更したり
しても良い。
【0035】このように、本実施例では、スリット21
を採用しているため、強いて言うなれば1次元方向(Y
方向)の照度分布や光線の平行性を考えるだけでよい。
従って、従来の光源に比べて、照度分布および光線の平
行性などを容易に改善することができる。
【0036】また、スリット光源ユニット6内には、図
4に示すように、スリット21の長手方向(Y方向)の
開口範囲を制限する遮光手段として一対の遮光マスク2
4が設けられるとともに、スリット21の幅方向(X方
向)の開口範囲を可変するシャッター28が設けられて
いる。
【0037】まず、遮光マスク24の構造について図6
ないし図8を用いて説明する。図6は遮光マスク24の
動作を説明する図であり、遮光マスク24は1対あるが
理解を容易にするために1つの遮光マスク24のみを平
面的に図示している。遮光マスク24は、同図に示すよ
うに、軸30に対し巻き付けられたマスク本体31と、
マスク本体31の先端に設けられた先導板32と、先導
板32をスリット21に沿って駆動するマスク駆動機構
33とからなる。軸30はマスク本体31を巻き戻す方
向(同図の矢印α方向)に図示しないバネにより付勢さ
れている。また、マスク駆動機構33は、同図のように
配置された6つのプーリー34Aないし34Fと、これ
らのプーリ34A〜34Fに掛け渡された2つのワイヤ
ー35a、35bと、モータ36とからなる。一方のワ
イヤー35aは図のようにプーリー34Aないし34D
に掛け渡され、他方のワイヤー35bはプーリー34C
ないし34Fに掛け渡されている。従って、プーリー3
4C、34Dに着目すると、これらのプーリー34C、
34Dには、ともに2本のワイヤー35a、35bが掛
け渡されることとなり、両ワイヤー35a,35bは同
期して駆動する。モータ36はプーリー34Dを回転駆
動するように接続されている。先導板32の一端はプー
リー34Aとプーリー34Bとの間に掛け渡されたワイ
ヤー35aに接続され、他端はプーリー34Eと34F
との間に掛け渡されたワイヤー35bに接続されてい
る。このため、モータ36を駆動すると、先導板32の
両端が同期して前後に移動され、その結果、先導板32
がスリット21に沿って長手方向(Y方向)に位置決め
されてスリット21の開口範囲を制限する。
【0038】図7は遮光マスク24とスリット板22と
の関係を説明する断面図であり、図8はその斜視図であ
る。両図において、遮光マスク24の先導板32はスリ
ット板22上を移動する。また先導板32には、スリッ
ト21内に嵌合し、このスリット21内に沿って透光板
9に近接した状態で摺動可能な摺動部材37が接続され
ている。従ってスリット板22の厚みがあっても、摺動
部材37が透光板9に接していて隙間が生じないので、
遮光マスク24の先端部における焼きボケを改善でき
る。なお、スリット21の開口範囲を規定する遮光マス
ク24の先端位置は、当然の事ながら摺動部材37の先
端位置である。
【0039】次に、図9を用いてシャッター28につい
て説明する。図9はシャッター28の動作を説明するた
めの図である。同図において、シャッター28は、スリ
ット21の長手方向(Y方向)に沿って設けられた1対
の軸40、41間に展開された遮蔽膜42と、この遮蔽
膜42を駆動するモータ43とからなる。遮蔽膜42は
光源25からの光線を遮蔽するものであり、例えばレザ
ーシート等の遮光性材料からなる。この遮蔽膜42の一
部には、スリット21よりも若干大きい開口部44が設
けられており、この開口部44を介して光源25からの
光線が透光板9に向けて投光される。一方の軸41は図
示しないバネなどの付勢部材により遮蔽膜42を巻き戻
す方向(同図の矢印β方向)に常時付勢されており、他
方の軸40はモータ43に接続されている。従って、モ
ータ43を付勢部材に抗して回転させることにより遮蔽
膜42を軸40側に巻き戻し、逆回転させることにより
遮蔽膜42を軸41側に巻き戻すことができる。このよ
うにモータ−43の動作によって遮蔽膜42の開口部4
4を移動させてスリット21を光源25に対し開閉する
ことができる。すなわち、この実施例ではモータ43が
開口付き遮蔽部材たる遮蔽膜42を駆動する遮蔽部材駆
動手段として機能する。
【0040】なお、シャッター28は、後述するように
スリット21を通過する露光量を可変するためのもので
あり、これ自体で画像の周囲を遮光するものではない。
従って従来の自動マスクのように透光板9の近くに配置
する必要はない。ただし、シャッター28を透光板9か
ら離して設けた場合、シャッター28の開口部44を通
過した斜光がスリット板22のスリット21を介して透
光板9に到達する確率が高くなり、光線の平行性が低下
する傾向にある。この場合、図10に示すように、スリ
ット板22の上方位置にスリット21よりも少し大きな
スリット21Aを有するスリット板22Aを設けること
で、上記斜光をカットして光線の平行性を維持すること
ができる。
【0041】また、この実施例では、シャッター28を
巻取り可能な遮蔽膜42で構成したが、板状の部材で構
成しても良い。
【0042】図11は図1の焼付装置1の制御装置10
0を示すブロック図である。この制御装置100は、マ
イクロコンピュータからなる制御部101を有し、この
制御部101に以下のものが接続されている。
【0043】(1)光源ランプ26、(2)スリット光源ユニ
ット6を駆動するためのモータ13、(3)遮光マスク2
4を駆動するためのモータ36、(4)シャッター28を
駆動するためのモータ43、(5)搬送ベルト7をX方向
に駆動するためのモータ102、(6)搬送ベルト7をY
方向に駆動するためのモータ103、(7)上枠5を開閉
するためのエアーシリンダー4用の電磁弁104、(8)
焼付台3を上下動させるためのエアーシリンダー用の電
磁弁105、(9)位置決めピン16を上下駆動するため
のソレノイド106、(10)操作部11を構成するキーパ
ッド107と表示部108、(11)プログラム、入力デー
タや演算結果などを記憶するメモリ109、(12)真空密
着用の真空ポンプ110、(13)版固定用の真空ポンプ1
11、(14)ノズル20からのエアー吹き出しを制御する
電磁弁112、(15)積算光量センサ,マイクロスイッチ
などの焼付装置1の制御に必要なその他の要素113、
制御部101はメモリ109に記憶されているプログラ
ムにしたがって焼付装置1の各部を動作させて焼付処理
を実行する。また、マニュアル処理により焼付処理を行
う場合には、操作者が操作部11を介して与える操作指
令にしたがって一連の処理を実行する。なお、以下の説
明においては、予めメモリ109に組み込まれているプ
ログラム、あるいは操作者が作成入力したプログラムに
基づき焼付装置1が動作する自動焼付処理について説明
するが、マニュアル処理の場合には操作者がすべての動
作を行う点を除いて基本的処理内容は同一である。
【0044】図12はこの実施例にかかる焼付装置1の
基本的動作を示すフローチャートである。
【0045】本焼付装置1の電源を入れると、制御装置
100により当該フローチャートで示す動作プログラム
が実行される。まず、ステップS1では、各部の原点復
帰やデータの初期化などの初期設定がなされる。
【0046】次のステップS2では、操作者が殖版焼付
のための動作手順を示すプログラムを作成するモードを
選択したかどうかを判断する。操作者がプログラムの作
成を選択するとステップS3に移って、プログラムの作
成モードになる。ステップS2でプログラムの作成を選
ばなかった場合、またステップS3が終了した場合、次
のステップS4に進み、焼き付けを行うかどうかを選択
する。操作者が焼付動作を行うとした場合、ステップS
5で焼き付けがなされる。なおこのステップS5の動作
については、後で図13を参照しつつ説明する。
【0047】ステップS4で焼付動作を選択しなかった
場合、またステップS5が終了した場合、次のステップ
S6に進み、その他の処理を行うかどうかを選択する。
操作者がその他の処理を行うとした場合、ステップS7
に進みその他の処理が行われる。ステップS6でその他
の処理が選択されなかった場合、またステップS7でそ
の他の処理が終了した場合、次のステップS8に進む。
ステップS8では作業の終了が選択されたかどうかを判
断し、操作者が終了を指令しない場合ステップS2に戻
り、終了を指令すれば全ての作業が終了する。
【0048】次に、焼付動作の動作フローを図13を用
いて説明する。図13において、まず焼付動作が指令さ
れると、ステップS10において焼付動作の準備が完了
しているかどうかを判定する。ここでは例えば殖版プロ
グラムが作成されているかどうか、また感光材料Pや原
版フィルムFがセットされているかどうか等がチェック
され、準備が完了していなければ所定のエラーメッセー
ジを表示部108に表示して操作者に注意を与える。準
備が完了していればステップS11に進む。ステップS
11では搬送ベルト7が移動して原版フィルムFを感光
材料Pの所定の位置に位置決めする。次にステップS1
2では上枠5が焼付台3に対し閉止して、原版フィルム
Fと感光材料Pとを真空密着する。
【0049】ステップS13ではスリット光源ユニット
6が原版フィルムFの位置に合わせて位置決めされる。
スリット光源ユニット6は図14のように左から右に移
動しながらスリット露光するものとすると、ステップS
13においてスリット光源ユニット6は図14の(A)
位置に位置決めされる。すなわちスリット21の左端L
が原版フィルムFの画像Gの左端FLに一致するように
位置決めされる。次にステップS14では遮光マスク2
4が所定の位置に位置決めされて、スリット21の長手
方向(図1のY方向)の開口範囲を決定する。なおステ
ップS13及びステップS14の動作は、先のステップ
S11やS12の動作時に平行して行なわれてもよい。
【0050】ステップS15では光源25が点灯し、か
つスリット光源ユニット6が図14の(A)から(B)
まで移動する。なお(B)の位置はスリット21の右端
Rが原版フィルムFの画像Gの右端FRに一致する位置
である。スリット光源ユニット6が図14の(B)位置
に移動すると、ステップS16においてスリット光源ユ
ニット6が停止し、かつ光源25が消灯する。
【0051】本実施例では、遮光マスク24で図1のY
方向の投光範囲が決定され、またスリット光源ユニット
6の移動範囲により図1のX方向の投光範囲が決定され
るので、感光材料P上の所定の範囲を焼き付けすること
ができる。
【0052】焼き付けが終了すると、ステップS17で
は真空密着が解除され、上枠5が開放される。ステップ
S18では殖版プログラムに基づく全ての焼き付けが終
了したかどうかを判断し、終了していない場合ステップ
S11に戻り、新たな位置において焼き付けを行う。本
実施例では同じ画像を感光材料Pの中央部で焼き付ける
場合も、端部で焼き付ける場合も同じように焼き付けら
れるので、感光材料上の位置において焼き付けの度合い
のムラがでない。なお同じ画像の焼き付けだけでなく、
必要により原版フィルムFを交換して異なる画像を焼き
付けても良い。
【0053】上記実施例では、単純にスリット光源ユニ
ット6を走行させて焼き付けを行っているだけなので、
走行の開始及び停止位置の両端部においては露光量が不
足することが考えられる。図15はスリット光源ユニッ
ト6の走行位置とこれに対応する露光量をグラフ化した
ものであるが、スリット光源ユニット6が(A)から
(B)まで走行しながら焼き付けを行う場合、両端部か
ら距離W(スリット21の幅に相当)までの範囲におい
てはスリット光源ユニット6が滞在する時間が短いの
で、走行中の中央部に比べて露光量が少なくなる。従っ
て焼き付ける画像Gの両端部の焼き付けの度合いが低く
なる可能性がある。この問題は例えばスリット21の幅
を小さくすれば実質的に改善されるが、前述したシャッ
ター28を用いて解決することもできる。このシャッタ
ー28を用いた焼付開始時及び焼付終了時の両端部にお
ける露光量の調整焼付工程について図16〜図21を用
いて説明する。
【0054】図16は図13で示すフローチャートのス
テップS15ないしS16をより細分化したフローチャ
ートであり、図17ないし図21はそれぞれ図16のフ
ローチャートの動作を連続的に説明するための断面図で
ある。
【0055】図16において、まずステップS20で
は、予めシャッター28の遮蔽膜42でスリット21を
閉止しておき光源25が点灯しても感光材料Pが焼き付
けられないようにしておく。この時、予め遮蔽膜42の
開口部44はスリット21の左側に退避しておく。そし
てスリット光源ユニット6を原版フィルムFの焼き付け
を行うスタート位置に位置決めする。このスタート位置
は図17に示すようにスリット21の左端Lが焼き付け
を開始する原版フィルムFの画像G左端FLに一致する
位置である。
【0056】次にステップS21では光源25を点灯す
る。そしてステップS22では、図18のように遮蔽膜
42を順次図の右側へ巻出して開口部44をスリット2
1上に繰り出す。この動作により原版フィルムFの画像
G端部FL側から順次焼き付けが行われる。なおシャッ
ター28の走行速度、すなわち遮蔽膜42の巻出し速度
はスリット光源ユニット6が移動する速度と同じであ
る。
【0057】ステップS23ではシャッター28がスリ
ット21を完全に開放したかどうかをチェックする。こ
れは例えば遮蔽膜42を駆動するモータの回転数を計数
して遮蔽膜42上の開口部44の動作位置を検知すれば
よい。ステップS23においてスリット21が完全に開
放されると同時に次のステップS24に進む。ステップ
S24では遮蔽膜42が停止すると共に、図19のよう
にスリット光源ユニット6の走行を開始する。従ってス
テップS24以降はスリット21を全開しながら走行し
て感光材料Pの焼付を行う。
【0058】ステップS25ではスリット光源ユニット
6が終端位置に到達したかどうかをチェックし、終端位
置に到達したらステップS26に進む。この終端位置は
スリット21の右端Rが焼き付けを行う原版フィルムF
の画像Gの右端FRに一致する位置である。ステップS
26ではスリット光源ユニット6を停止させ、図20の
ように再びシャッター28がスリット21を順次閉鎖す
るように移動を開始する。すなわちシャッター28の遮
蔽膜42を順次図の左側に巻出して開口部44をスリッ
ト21上から退避させる。この動作により原版フィルム
Fの画像Gの端部FR側に向かって順次遮光が行われ
る。なおシャッター28の走行速度、すなわち遮蔽膜4
2の巻出し速度はスリット光源ユニット6が移動する速
度と同じである。
【0059】ステップS27では、シャッター28が完
全にスリット21を閉止したかどうかをチェックする。
そして図21のようにスリット21が完全に閉止された
ならばステップS28に進む。ステップS28ではシャ
ッター28の停止及び光源25の消灯を行い、焼付作業
を終了する。
【0060】上記焼付動作によると、原版フィルムFの
焼き付けを開始する一方の端部と終了する他方の端部で
はシャッター28を用いて調整して焼き付けを行ってい
るので、端部であってもスリット光源ユニット6が走行
している時と同じ露光量で焼き付けを行うことができ
る。従って全ての焼付範囲で一定の焼き付けの度合いを
達成することができる。
【0061】また本焼付装置では実際の焼付範囲を規定
するのはスリット21のエッジと遮光マスク24の先端
に設けられた摺動部材37のエッジである。これに対し
シャッター28は単に露光量を調整するだけでよいの
で、特に透光板9に対して密接して設けなくてもよい。
従って従来の自動マスク装置と比べれば狭い範囲に4枚
のマスクを巻出し可能に設ける必要がなく、構造を簡易
にできる。上記の説明のようにシャッター28は画像の
焼付範囲を規定するものではないので、従来の自動マス
クとは異なるものではあるが、仮に従来の自動マスクに
相当するものと仮定しても、マスクの駆動手段が1つ少
なくなり構造が簡易になる。
【0062】B.実施例1における変形例 (1)上記実施例1では、光源25を瞬時点灯式の光源
で説明したが、常時点灯式の光源であっても良い。この
場合、シャッター28だけで投光と非投光を制御するよ
うにしても良いし、また光源用に別の遮光シャッターを
設けておいても良い。
【0063】なお上述のように光源を常に点灯させ、シ
ャッター28だけで投光及び非投光を制御する場合は、
感光材料上で開口部44を自由に移動させることができ
ないので、1回の焼付毎にスリット光源ユニット6の走
行方向を交互に入れ替える必要がある。
【0064】(2)上記実施例1では、スリット光源ユ
ニット6を一方向から1回だけ走行させて焼き付けを行
っているが、例えば往復して2回走行させることにより
1回の焼き付けを行っても良い。この場合、一回の焼き
付けにおいてスリット光源ユニット6が原版フィルムF
上を往復するので、焼付開始方向を常に一定にすること
ができる。
【0065】C.実施例2 この実施例2では、前記実施例1でのシャッター28を
板状の遮蔽板で構成したシャッター28’について図2
2及び図23を用いて説明する。なお、図22は図5に
相当する断面図であり、図23はシャッター28’の動
作説明を行う図である。
【0066】両図においてシャッター29は、1対の湾
曲した平板状のガイドビーム50と、スリット21上に
沿って設けられた長板状遮光性部材であって、ガイドビ
ーム50に沿って移動する遮蔽板51と、この遮蔽板5
1を駆動するワイヤー駆動機構52とから構成されてい
る。ガイドビーム50は前記光源ユニットカバー23の
長手方向両端部に、中央部が下方に湾曲するように固設
されている。遮蔽板51はガイドビーム50の突出側に
両端を圧接した状態でガイドビーム50に沿って移動す
る。この移動により遮蔽板51は図22のようにスリッ
ト21上で幅方向に開閉するように移動する。ワイヤー
駆動機構52は、その両端を遮蔽板51の両端に接続し
た2つの閉ループ状のワイヤー53と、このワイヤー5
3を案内する2個2組のプーリー54と、このプーリー
54を回転駆動させるモータ55とからなる。各ワイヤ
ー53はガイドビーム50の突出側に設けた図示しない
案内溝に沿って配設され、ガイドビーム50と2つのプ
ーリー54との間に閉ループ状に掛け渡されている。そ
して各プーリー54は、各々対向するプーリー54と同
じ軸56で回転するように構成されており、この軸56
の1つはモータ55により回転する。一方、遮蔽板51
にはスリット21と平行する方向に開口部57が設けら
れており、この開口部57をスリット21上で移動させ
ることによりスリット21の開閉を行うことができる。
【0067】この実施例2のシャッター29の動作は前
述の実施例1と同じであるため、この動作についての説
明は省略する。なお本実施例のシャッター29はワイヤ
ー駆動機構52により駆動する湾曲した板状の遮蔽板5
1を用いているが、これに限定されることなく他の駆動
手段を用いたり、また形状などを変形してもよい。
【0068】D.実施例3 この実施例3では、前記実施例1及び2でのシャッター
を各々独立して移動する2枚の板状の遮蔽板で構成した
シャッター60について図24及び図25を用いて説明
する。なお図24は図4に相当する斜視図であり、図2
5は図5に相当する断面図である。
【0069】両図においてシャッター60は、各々独立
して移動する遮蔽板60A、60Bとを備え、各々の遮
蔽板60A、60Bは実施例2の遮蔽板51と同じよう
な駆動機構(図示せず)によりスリット21上を開閉動
作するように移動する。このシャッター60を用いた焼
付調整工程を図26ないし図30の動作説明図を用いて
説明する。なお図26ないし図30の動作は、図17な
いし図21に相当するものである。
【0070】図26において、まず焼き付け前には予め
一方のシャッター60Aでスリット21を閉鎖してお
き、光源25が点灯していても感光材料Pが焼き付けら
れないようにしておく。そしてスリット光源ユニット6
を原版フィルムFの焼き付けを行うスタート位置に位置
決めする。このスタート位置はスリット21の左端Lが
焼付を開始する原版フィルムFの画像Gの左端FLに一
致する位置である。なお他方のシャッター60はスリッ
ト21の左側に退避して、スリット21を閉鎖しないよ
うにしておく。
【0071】次に光源25を点灯し、図27に示すよう
に、シャッター60Aを原版フィルムFの画像Gの端部
FL側から順次開放する。このシャッター29の開放速
度はスリット光源ユニット6が移動する速度と同じであ
り、原版フィルムFの画像Gの端部FLから順次感光材
料Pが焼き付けられる。
【0072】スリット21が完全に開放されると同時に
シャッター60Aを停止し、図28に示すように、スリ
ット光源ユニット6の走行を開始する。従ってスリット
光源ユニット6の走行はスリット21を全開した状態で
行われる。
【0073】スリット光源ユニット6が終端位置に到達
したら、スリット光源ユニット6を停止し、図29に示
すように、他方のシャッター60Bをスリット21を順
次閉止するように移動させる。この終端位置はスリット
21の右端Rが焼き付けを行う原版フィルムFの画像G
の右端FRに一致する位置である。なおシャッター60
Bも、スリット光源ユニット6の移動する速度と同じ速
度で図の左側へ移動する。
【0074】図30に示すように、シャッター60Bが
スリット21を閉鎖したら、スリット60Bの停止及び
光源25の消灯を行い、焼付作業を終了する。
【0075】本実施例3でも前述の実施例と同じように
原版フィルムFの端部における露光量を調整して焼き付
けを行える等の効果がある。
【0076】また実施例1及び2と比べて駆動機構は増
えるが、各遮蔽板60A、60Bを各々独立して移動す
ることができる。従って例えば前記光源が常時点灯式で
あっても、一方の遮蔽板によりスリット21を遮蔽して
いれば、他方の遮蔽板を自由にスリット21のどちら側
にも移動させることができる。これにより、スリット光
源ユニット6をどちらの方向からでも自由に走行させる
ことができる。
【0077】E.実施例4 この実施例4では、別のスリット光源ユニット70につ
いて説明する。図31はこのスリット光源ユニット70
の斜視図である。図において、スリット光源ユニット7
0は、その下面にスリット21を有するスリット板22
を備えた直方体状の光源カバー71と、スリット21と
平行してほぼ同じ長さの管状光源72と、この管状光源
72に合わせて配置された反射板73と、管状光源72
からの光線を平行化するシリンドリカルレンズ74と、
光線の斜光分を取り除くルーバー75とを各々図示しな
い支持手段により内蔵している。なおスリット21を有
するスリット板22や遮光マスク24は実施例1と同じ
ものである。またこの図においては見やすいように実施
例1ないし3におけるシャッターは省略してある。この
実施例4ではスリット21の直上において、管状光源7
2を接近して配置しているためスリット光源ユニット7
0の高さを小さくでき、装置をコンパクトにできる。
【0078】本実施例ではより高精度な平行光を得て、
斜光成分をカットするためにシリンドリカルレンズ74
及びルーバー75を併用しているが、省コストのためど
ちらか一方のみを採用しても良い。なおルーバー75等
を採用した場合、多少光量損失が生じるが、これは管状
光源72を感光材料Pに対して接近して設けていること
による光量アップと相殺されるため、実質的には問題が
ないようにすることができる。
【0079】F.その他の実施例 (1)上記実施例ではベルト搬送式殖版機を例にした
が、他の殖版機や、焼枠、プリンターなどにも本発明を
採用することができる。
【0080】(2)上記実施例では、本焼付装置は画像
の焼き付けのみを行っているが、同時に画像の周辺を焼
きとばすこともできる。なお画像の周辺に向かってスリ
ット光源を走行させて焼きとばしを行う場合は、シャッ
ターを用いずに、そのままスリット光源を感光材料のエ
ッジから所定の距離だけオーバーランさせて焼きとばし
てもよい。
【0081】
【発明の効果】請求項1に係る焼付装置では、遮光手段
でスリットの長手方向におけるスリットの開口範囲を制
限し、スリット光源手段を透光部材上に沿ってスリット
の副方向に走行させながら原版フィルムの画像を感光材
料上に焼き付けている。これにより、光源ランプからの
光線の平行性が優れたものとなり、また感光材料上での
照度分布が均一になるので、感光材料上のどの位置であ
っても同じ焼き付けの度合いが得られ、画像の再現性も
向上する。また、スリットの開口範囲の制限により、必
要な部分のみ焼き付けすることができる。
【0082】請求項2に係る焼付装置では、スリットの
長手方向を制限する遮光手段が透光板に近接して摺動す
る摺動部材を有するので、従来の自動マスク装置を用い
た焼付装置に比べて露光領域と未露光領域の境界部分に
おいて焼きボケを少なくできる。
【0083】請求項3に係る焼付装置では、シャッター
手段を備えているので、焼き付けを開始する一方の端部
と焼き付けを終了する他方の端部において、露光量を調
整するための焼き付けができる。従って焼き付けを行う
全ての範囲において露光量を均一にできる。
【0084】請求項4に係る焼付装置では、シャッター
手段を1つの遮蔽部材とその駆動手段とで構成できるの
で、構成が簡易である。
【0085】請求項5に係る焼付装置では、各々独立し
て移動する2つの遮蔽部材をその駆動手段で駆動させて
いるので、常時点灯する光源を用いた場合でも、一方の
遮蔽部材がスリットを閉鎖していれば他方の遮蔽部材を
自由に移動させることができる。従って1回毎の焼き付
け時に両方向からスリット光源手段を走行させることが
できる。
【0086】請求項6に係る焼付方法では、スリットの
長手方向を予め定められた分だけ開口範囲を制限して、
スリット光源手段を走行させながら、焼き付けを行って
いるので、感光材料上の所定の位置での照度分布を均一
にでき、同じ画像を焼き付けても焼き付けの度合いを均
一にでき、また、焼き付け不要部分を除いて必要部分の
みを焼き付けすることが容易にできる。さらに、スリッ
ト光源手段を走行させて移動焼き付けを行っているの
で、光源ランプからの光源の平行性が優れており、画像
の再現性が向上する。
【0087】請求項7に係る焼付方法では、スリット光
源手段の走行速度と同じ速度で、スリットの幅方向を漸
次開閉して焼付調整を行っているので、焼き付けを開始
する一方の端部と焼き付けを終了する他方の端部におい
て、露光量を調整した焼き付けができる。従って焼き付
けを行う全ての範囲において露光量を均一にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る焼付装置の一実施例を示す斜視図
である。
【図2】図1の焼付装置の上部の斜視図である。
【図3】図1の焼付装置の焼付台近傍の平面図である。
【図4】図1焼付装置のスリット光源ユニットの斜視図
である。
【図5】図4のスリット光源ユニットの断面図である。
【図6】遮光マスクの斜視図である。
【図7】遮光マスクとスリット板との関係を示す断面図
である。
【図8】遮光マスクとスリット板との関係を示す斜視図
である。
【図9】シャッターの構成を示す斜視図である。
【図10】スリット光源ユニットの変形例を示す断面図
である。
【図11】図1の焼付装置の電気的構成を示すブロック
図である。
【図12】図1の焼付装置の動作を示すフローチャート
である。
【図13】焼付処理の手順を示すフローチャートであ
る。
【図14】図1の焼付装置の焼付動作を説明する図であ
る。
【図15】原版フィルムの両端部における露光量の減少
を説明する図である。
【図16】原版フィルムの両端部における焼付調整動作
を含む焼付動作のフローチャートである。
【図17】焼付調整動作にかかるシャッターの動作を説
明する図である。
【図18】焼付調整動作にかかるシャッターの動作を説
明する図である。
【図19】焼付調整動作にかかるシャッターの動作を説
明する図である。
【図20】焼付調整動作にかかるシャッターの動作を説
明する図である。
【図21】焼付調整動作にかかるシャッターの動作を説
明する図である。
【図22】本発明に係る焼付装置の別の実施例を構成す
るスリット光源ユニットの断面図である。
【図23】図22のスリット光源ユニットに組み込まれ
たシャッターの構成を示す斜視図である。
【図24】本発明に係る焼付装置のさらに別の実施例を
構成するスリット光源ユニットの断面図である。
【図25】図24のスリット光源ユニットに組み込まれ
たシャッターの構成を示す斜視図である。
【図26】当該シャッターの動作を説明する図である。
【図27】当該シャッターの動作を説明する図である。
【図28】当該シャッターの動作を説明する図である。
【図29】当該シャッターの動作を説明する図である。
【図30】当該シャッターの動作を説明する図である。
【図31】本発明に係る焼付装置の他の実施例を構成す
るスリット光源ユニットの斜視図である。
【符号の説明】
1 焼付装置 3 焼付台 5 上枠 6 スリット光源ユニット(スリット光源手段) 7 搬送ベルト 9 透光板(透光部材) 13 モータ(スリット光源駆動手段) 14 プーリー(スリット光源駆動手段) 15 タイミングベルト(スリット光源駆動手段) 21 スリット 22 スリット板 24 遮光マスク(遮光手段) 26 光源ランプ 28 シャッター(シャッター手段) 29 シャッター(実施例2のシャッター手段) 36 モータ(摺動部材駆動手段) 37 摺動部材 42 遮蔽膜(遮蔽部材) 44 開口部 43 モータ(遮蔽部材駆動手段) 51 遮蔽板(実施例2の遮蔽部材) 52 ワイヤー駆動機構(実施例2の遮蔽部材駆動手
段) 57 開口部 60 シャッター(実施例3のシャッター手段) 60A 遮蔽板(実施例3の遮蔽部材) 60B 遮蔽板(実施例3の遮蔽部材) 70 スリット光源(実施例4) 72 管状光源(実施例4の光源) 76 シャッター(実施例4のシャッター手段) F 原版フィルム P 感光材料

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 焼付台と透光部材との間で前記焼付台に
    載置された感光材料に原版フィルムを重ね合わせて密着
    し、前記透光部材を通して露光を施して前記感光材料上
    に前記原版フィルムの画像を焼き付ける焼付装置であっ
    て、 光源ランプと、前記透光部材に対してスリットを開口し
    たスリット板とを有し、前記光源ランプからの光を前記
    スリットを介して前記透光部材に向けて投光しながら、
    前記透光部材上に沿って前記スリットの幅方向に走行可
    能なスリット光源手段と、 前記スリット光源手段を前記透光部材上に沿って前記ス
    リットの幅方向に走行させるスリット光源駆動手段と、 前記スリットの長手方向における前記スリットの開口範
    囲を制限する1対の遮光手段と、を備えたことを特徴と
    する焼付装置。
  2. 【請求項2】 前記遮光手段が、 前記スリットに嵌合自在で、しかも前記透光部材に近接
    した状態で前記スリット内に沿って摺動自在な摺動部材
    と、 前記摺動部材を前記スリット内で摺動させる摺動部材駆
    動手段と、を有する請求項1に記載の焼付装置。
  3. 【請求項3】 前記スリットの幅方向から前記スリット
    を開閉するように、前記光源ランプと前記スリットとの
    間において前記スリット光源手段の走行速度と同じ速度
    で移動するシャッター手段をさらに備えた請求項1また
    は2に記載の焼付装置。
  4. 【請求項4】 前記シャッター手段が、 前記スリットを閉鎖するための遮蔽部を有する遮蔽板又
    は遮蔽膜であって、その一部に前記スリットを開放する
    ための開口部を開けた開口付き遮蔽部材と、 この開口付き遮蔽部材を前記スリット上で、前記スリッ
    トの幅方向に駆動する遮蔽部材駆動手段と、を有する請
    求項3に記載の焼付装置。
  5. 【請求項5】 前記シャッター手段が、 各々独立して移動可能に構成された2つの遮蔽部材と、 前記2つの遮蔽部材を前記スリット上で、前記スリット
    の幅方向に駆動する遮蔽部材駆動手段と、を有する請求
    項3に記載の焼付装置。
  6. 【請求項6】 感光材料上に原版フィルムを重ね合わせ
    て密着し、原版フィルムを通して露光を施し前記感光材
    料上に前記原版フィルムの画像を焼き付ける焼付方法で
    あって、 感光材料上に原版フィルムを位置決めする原版フィルム
    位置決め工程と、 前記感光材料と原版フィルムとを密着する密着工程と、 前記原版フィルムの焼き付けを開始する一方の端部上
    に、所定のスリットから光を投光するスリット光源手段
    を位置決めするスリット光源位置決め工程と、 前記スリット光源手段におけるスリットの長手方向の開
    口範囲を制限する遮光工程と、 前記スリット光源手段を点灯させる点灯工程と、 前記原版フィルムの焼き付けを開始する一方の端部か
    ら、焼き付けを終了する他方の端部まで前記スリット光
    源手段を走行させて焼き付けを行う移動焼付工程と、を
    含むことを特徴とする焼付方法。
  7. 【請求項7】 前記原版フィルムの焼き付けを開始する
    一方の端部において、前記スリット光源手段の走行が始
    まる前に、前記スリットの幅方向の開口範囲を前記スリ
    ット光源手段の走行速度と同じ速度で漸次開放する開始
    時焼付調整工程と、 前記原版フィルムの焼き付けを終了する他方の端部にお
    いて、前記スリット光源手段の走行が終わった後に、前
    記スリットの幅方向の開口範囲を前記スリット光源手段
    の走行速度と同じ速度で漸次閉鎖する終了時焼付調整工
    程と、をさらに含み、 前記両端部における前記スリット光源手段からの露光量
    が走行中の中央部の露光量と同一となるように調整する
    請求項6に記載の焼付方法。
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