JPH0810688A - スライド−ビード塗布装置および塗布方法 - Google Patents
スライド−ビード塗布装置および塗布方法Info
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- JPH0810688A JPH0810688A JP7160921A JP16092195A JPH0810688A JP H0810688 A JPH0810688 A JP H0810688A JP 7160921 A JP7160921 A JP 7160921A JP 16092195 A JP16092195 A JP 16092195A JP H0810688 A JPH0810688 A JP H0810688A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗布リブの形成が始まる最大差圧を増加させ
るスライド−ビード塗布装置を提供する。 【構成】 スライド−ビード塗布技術は塗布リップにお
いて終端している下部スライド表面と連結している上部
スライド表面を含む二重のスライドを使用する。基板は
塗布リップを通過する塗布ロール上を塗布リップと基板
との間に位置する塗布位置で液体ビードを形成するよう
に搬送される。塗布位置は塗布ロールの外周で回転軸を
通る水平中心面の下１０度以上しかし５０度以下であ
る。下部スライド表面は塗布位置において基板の表面と
接する平面と８５度と９５度の間の角度を形成する。
るスライド−ビード塗布装置を提供する。 【構成】 スライド−ビード塗布技術は塗布リップにお
いて終端している下部スライド表面と連結している上部
スライド表面を含む二重のスライドを使用する。基板は
塗布リップを通過する塗布ロール上を塗布リップと基板
との間に位置する塗布位置で液体ビードを形成するよう
に搬送される。塗布位置は塗布ロールの外周で回転軸を
通る水平中心面の下１０度以上しかし５０度以下であ
る。下部スライド表面は塗布位置において基板の表面と
接する平面と８５度と９５度の間の角度を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスライド−ビード（slid
e-bead）塗布装置および塗布方法に関する。特に、本発
明は移動する基板上へ単一の流動する材料または複数の
流動する材料を塗布するためのスライド−ビード塗布装
置において使用される特別な幾何学形状に関する。
e-bead）塗布装置および塗布方法に関する。特に、本発
明は移動する基板上へ単一の流動する材料または複数の
流動する材料を塗布するためのスライド−ビード塗布装
置において使用される特別な幾何学形状に関する。
【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たる米国特許出願第０８／２６６，４０１号（１
９９４年６月２７日出願）の明細書の記載に基づくもの
であって、当該米国特許出願の番号を参照することによ
って当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書の
一部分を構成するものとする。
の基礎たる米国特許出願第０８／２６６，４０１号（１
９９４年６月２７日出願）の明細書の記載に基づくもの
であって、当該米国特許出願の番号を参照することによ
って当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書の
一部分を構成するものとする。
【０００３】
【従来の技術】スライド−ビード塗布はこの技術分野に
おいて単一の流動する液体層または複数の流動する液体
層をスライド表面の流出端、すなわちリップ（lip ）、
そこで液体の橋、すなわちビード、がリップと移動して
いる基板との間の間隙に形成される、に供給することと
して知られている。従来技術の塗布装置について図２に
示すように、スライド表面の端部に近い液体流は厚い領
域に薄い領域が続き、さらに間隙を橋渡しする液体が続
くという断面形状を有する。スライド表面の端部および
間隙中の液体流の表面はこうして非常に湾曲している。
移動する基板はビード中に残留する液体からスライド表
面上に実現している層構造と同じ構造の液体を運ぶ。模
範的な例がそれぞれラッセル（Russell ）およびマーシ
アー（Mercier ）らに付与された米国特許第2,761,791
号および第2,761,419 号に記載されている。
おいて単一の流動する液体層または複数の流動する液体
層をスライド表面の流出端、すなわちリップ（lip ）、
そこで液体の橋、すなわちビード、がリップと移動して
いる基板との間の間隙に形成される、に供給することと
して知られている。従来技術の塗布装置について図２に
示すように、スライド表面の端部に近い液体流は厚い領
域に薄い領域が続き、さらに間隙を橋渡しする液体が続
くという断面形状を有する。スライド表面の端部および
間隙中の液体流の表面はこうして非常に湾曲している。
移動する基板はビード中に残留する液体からスライド表
面上に実現している層構造と同じ構造の液体を運ぶ。模
範的な例がそれぞれラッセル（Russell ）およびマーシ
アー（Mercier ）らに付与された米国特許第2,761,791
号および第2,761,419 号に記載されている。
【０００４】所与の塗布機の装置、基板速度、塗布液お
よび流動条件に対して、満足な塗布が得られる負荷差圧
（differential pressure ）の動作範囲（operative ra
nge）がある。その範囲の限界はビードの不安定性およ
び／またはその他の実際上の考慮すべき事項によって規
定される。サイトー（Saito ）らの「スライド塗布流の
不安定性」1982 ウィンターナショナルアイヒェミーテ
ィング（1982 WinterNational AIChE Meeting, Orland
o, Fla. ）に記載されているように、差圧が動作範囲を
超えて増加すると、または同じ差圧を保ちながら基板速
度が関連する動作範囲を超えると、塗布ビードの表面は
ビードが不安定になるほど強く湾曲して引き続く塗布中
に等間隔の乱れ、すなわちリブ（ribbing ）が生じる。
もし差圧が減少すると、差圧が塗布液が必要な幅にわた
って等しく覆うことを維持するのに不十分な条件および
／またはビードがその全幅にわたって不安定になる条件
に達する。破滅的な結果は幅の狭いそして一様でない被
覆、または連続的な被覆の完全な喪失を含む。上述した
差圧の上限と下限の差は満足な質と幅の塗布膜を作るた
めの有用な差圧範囲としてここで呼ばれるものを構成す
る。有用な差圧範囲を増加させる方法と装置の例がバー
ケット（Burket）らに付与された米国特許第4,443,504
号、ジャクソン（Jackson ）らに付与された米国特許第
3,996,885 号、ヒタカ（Hitaka）らに付与された米国特
許第4,440,811 号に記載されている。タナカ（Tanaka）
らに付与された米国特許第4,297,396 号は最大差圧を増
加させる方法を記述し、ウィレムセンズ（Willemsens）
らに付与された米国特許第4,313,980 号は最小の有用な
差圧を減少させる方法を記述している。
よび流動条件に対して、満足な塗布が得られる負荷差圧
（differential pressure ）の動作範囲（operative ra
nge）がある。その範囲の限界はビードの不安定性およ
び／またはその他の実際上の考慮すべき事項によって規
定される。サイトー（Saito ）らの「スライド塗布流の
不安定性」1982 ウィンターナショナルアイヒェミーテ
ィング（1982 WinterNational AIChE Meeting, Orland
o, Fla. ）に記載されているように、差圧が動作範囲を
超えて増加すると、または同じ差圧を保ちながら基板速
度が関連する動作範囲を超えると、塗布ビードの表面は
ビードが不安定になるほど強く湾曲して引き続く塗布中
に等間隔の乱れ、すなわちリブ（ribbing ）が生じる。
もし差圧が減少すると、差圧が塗布液が必要な幅にわた
って等しく覆うことを維持するのに不十分な条件および
／またはビードがその全幅にわたって不安定になる条件
に達する。破滅的な結果は幅の狭いそして一様でない被
覆、または連続的な被覆の完全な喪失を含む。上述した
差圧の上限と下限の差は満足な質と幅の塗布膜を作るた
めの有用な差圧範囲としてここで呼ばれるものを構成す
る。有用な差圧範囲を増加させる方法と装置の例がバー
ケット（Burket）らに付与された米国特許第4,443,504
号、ジャクソン（Jackson ）らに付与された米国特許第
3,996,885 号、ヒタカ（Hitaka）らに付与された米国特
許第4,440,811 号に記載されている。タナカ（Tanaka）
らに付与された米国特許第4,297,396 号は最大差圧を増
加させる方法を記述し、ウィレムセンズ（Willemsens）
らに付与された米国特許第4,313,980 号は最小の有用な
差圧を減少させる方法を記述している。
【０００５】塗布速度が増加するにつれて最大の差圧が
減少することがこの技術分野で知られている。従って、
所定の速度で最大差圧を増加させることは、専門家にそ
れぞれ望ましい二つの選択を提供するので、最大の関心
事である。塗布速度は固定しておくことができ、その場
合は増加した最大差圧は操業上の自由度（operational
latitude）を与える。液体の流動中に乱れを起こす妨害
は少ないようである。増加した最大差圧はまた専門家
が、もし必要なら、より高速度で作業することを可能に
し、それは高い生産性という望まれる利益を有する。
減少することがこの技術分野で知られている。従って、
所定の速度で最大差圧を増加させることは、専門家にそ
れぞれ望ましい二つの選択を提供するので、最大の関心
事である。塗布速度は固定しておくことができ、その場
合は増加した最大差圧は操業上の自由度（operational
latitude）を与える。液体の流動中に乱れを起こす妨害
は少ないようである。増加した最大差圧はまた専門家
が、もし必要なら、より高速度で作業することを可能に
し、それは高い生産性という望まれる利益を有する。
【０００６】この技術の改善がジャクソン（Jackson ）
に付与された米国特許第3,993,019号に記述されてお
り、そこではスライドは二つの領域を有する。基板に最
も近い領域は基板から離れた領域より下向きの傾斜が少
なく、そしてビード領域の直前で貯液（pooling ）を容
易にするのに充分な長さである。貯液はある程度の効果
をもたらすけれど、塗布速度および操業上の自由度に関
しての更なる改善が強く求められている。塗布がロール
の水平中心線の近くで行われるときに最良の効果が観察
され、その他の塗布の構成が用いられると効果が減少す
る。しかし、貯液では、粒子がより急速に液体から沈降
して、リップに付着するようになり液の流動に対する障
害となり、かくて引き続く塗布における欠陥をもたら
す。
に付与された米国特許第3,993,019号に記述されてお
り、そこではスライドは二つの領域を有する。基板に最
も近い領域は基板から離れた領域より下向きの傾斜が少
なく、そしてビード領域の直前で貯液（pooling ）を容
易にするのに充分な長さである。貯液はある程度の効果
をもたらすけれど、塗布速度および操業上の自由度に関
しての更なる改善が強く求められている。塗布がロール
の水平中心線の近くで行われるときに最良の効果が観察
され、その他の塗布の構成が用いられると効果が減少す
る。しかし、貯液では、粒子がより急速に液体から沈降
して、リップに付着するようになり液の流動に対する障
害となり、かくて引き続く塗布における欠陥をもたら
す。
【０００７】流動を上向きにする設計がそれぞれチョイ
ンスキ（Choinski ）およびイサヤマ（Isayama ）らに
付与された米国特許第4,283,443 号および第4,299,188
号に教示されている。米国特許第4,283,443 号における
上向きのリップ領域は貯液のために充分な長さが必要で
ある。その結果、操業上の自由度の利点が制限され、有
害な沈降効果に敏感である。米国特許第4,299,188 号の
上向きのリップ領域はその寸法が限定され、操業上の自
由度の利点がより多く改善される。しかし、この設計の
実現は、たいしたことはないけれどもなお貯液に敏感で
あるだろう。さらに、これら上向きのリップの二つの設
計は共に鋭くかつ傷つきやすいリップ端を与える。破損
したリップ端は塗布品質に有害であり、取外しまたは取
り替えが生産性の低下の原因となる。
ンスキ（Choinski ）およびイサヤマ（Isayama ）らに
付与された米国特許第4,283,443 号および第4,299,188
号に教示されている。米国特許第4,283,443 号における
上向きのリップ領域は貯液のために充分な長さが必要で
ある。その結果、操業上の自由度の利点が制限され、有
害な沈降効果に敏感である。米国特許第4,299,188 号の
上向きのリップ領域はその寸法が限定され、操業上の自
由度の利点がより多く改善される。しかし、この設計の
実現は、たいしたことはないけれどもなお貯液に敏感で
あるだろう。さらに、これら上向きのリップの二つの設
計は共に鋭くかつ傷つきやすいリップ端を与える。破損
したリップ端は塗布品質に有害であり、取外しまたは取
り替えが生産性の低下の原因となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は塗布リ
ブの形成が始まる最大差圧を増加させるスライド−ビー
ド塗布装置を提供することである。本発明の他の目的は
より高速で運転できるスライド−ビード塗布装置を提供
することである。本発明のさらに他の目的は増強された
生産を提供できるスライド−ビード塗布装置および塗布
方法を提供することである。
ブの形成が始まる最大差圧を増加させるスライド−ビー
ド塗布装置を提供することである。本発明の他の目的は
より高速で運転できるスライド−ビード塗布装置を提供
することである。本発明のさらに他の目的は増強された
生産を提供できるスライド−ビード塗布装置および塗布
方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によるスライド−
ビード塗布装置は、塗布リップにおいて終端している下
部スライド表面と結合している上部スライド表面、回転
中心軸および該軸を通過する水平中心面を有する塗布ロ
ール、前記塗布リップと前記塗布ロールによって前記リ
ップを通過して運搬される基板との間に位置する塗布位
置に液体の橋すなわちビードが形成されるように少なく
とも１種の流動する液体層を前記上部スライド表面およ
び前記下部スライド表面に供給する手段を備え、前記塗
布位置が前記塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以
上かつ５０度以下だけ下方であり、前記塗布位置が前記
塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以上かつ５０度
以下だけ下方であり、前記下部スライド表面が前記塗布
位置で前記基板の表面に接する平面と８５度と９５度と
の間の角度を形成していることを特徴とする。
ビード塗布装置は、塗布リップにおいて終端している下
部スライド表面と結合している上部スライド表面、回転
中心軸および該軸を通過する水平中心面を有する塗布ロ
ール、前記塗布リップと前記塗布ロールによって前記リ
ップを通過して運搬される基板との間に位置する塗布位
置に液体の橋すなわちビードが形成されるように少なく
とも１種の流動する液体層を前記上部スライド表面およ
び前記下部スライド表面に供給する手段を備え、前記塗
布位置が前記塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以
上かつ５０度以下だけ下方であり、前記塗布位置が前記
塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以上かつ５０度
以下だけ下方であり、前記下部スライド表面が前記塗布
位置で前記基板の表面に接する平面と８５度と９５度と
の間の角度を形成していることを特徴とする。
【００１０】ここで、前記下部スライド表面の長さが
０．２５から１．００ｍｍであってもよく、前記下部ス
ライド表面の長さが０．２５から０．７５ｍｍであって
もよく、前記下部スライド表面の長さが０．４０から
０．６０ｍｍであってもよい。
０．２５から１．００ｍｍであってもよく、前記下部ス
ライド表面の長さが０．２５から０．７５ｍｍであって
もよく、前記下部スライド表面の長さが０．４０から
０．６０ｍｍであってもよい。
【００１１】前記下部スライド表面が前記塗布位置にお
いて前記基板の表面と接する平面と８９〜９１度の角度
を形成してもよい。
いて前記基板の表面と接する平面と８９〜９１度の角度
を形成してもよい。
【００１２】前記少なくとも１種の流動する液体層が感
光性もしくは放射線感受性であってもよく、前記基板が
ポリエチレンテレフタレートからなってもよい。
光性もしくは放射線感受性であってもよく、前記基板が
ポリエチレンテレフタレートからなってもよい。
【００１３】前記塗布位置が前記水平中心面の下１０度
以上かつ２０度以下であってもよい。
以上かつ２０度以下であってもよい。
【００１４】本発明による表面塗布方法は、液体供給手
段から液体の流動を開始して塗布リップにおいて終端し
ている下部スライド表面と結合している上部スライド表
面を含む二重スライド表面上に少なくとも１種の流動す
る液体層を形成する工程、液体の橋すなわちビードが前
記塗布リップと前記基板との間に位置する塗布位置に形
成されるように前記基板を軸上で回転する塗布ロール上
を前記リップを通過して輸送しそれによって液体を前記
液体ビードから前記基板上に移す工程、ただし前記ビー
ド中の液体は前記液体層供給手段から連続的に補充され
る、および前記塗布位置を前記塗布ロールの外周で水平
中心面の１０度以上かつ５０度以下だけ下方に位置させ
る工程、前記下部スライド表面が前記塗布位置で前記基
板の表面に接する平面と８５度と９５度との間の角度を
形成するように配置する工程を有することを特徴とす
る。
段から液体の流動を開始して塗布リップにおいて終端し
ている下部スライド表面と結合している上部スライド表
面を含む二重スライド表面上に少なくとも１種の流動す
る液体層を形成する工程、液体の橋すなわちビードが前
記塗布リップと前記基板との間に位置する塗布位置に形
成されるように前記基板を軸上で回転する塗布ロール上
を前記リップを通過して輸送しそれによって液体を前記
液体ビードから前記基板上に移す工程、ただし前記ビー
ド中の液体は前記液体層供給手段から連続的に補充され
る、および前記塗布位置を前記塗布ロールの外周で水平
中心面の１０度以上かつ５０度以下だけ下方に位置させ
る工程、前記下部スライド表面が前記塗布位置で前記基
板の表面に接する平面と８５度と９５度との間の角度を
形成するように配置する工程を有することを特徴とす
る。
【００１５】ここで、前記下部スライド表面の長さが
０．２５から１．００ｍｍであってもよく、前記塗布位
置が前記水平中心面の下１０度以上かつ２０度以下に位
置してもよい。
０．２５から１．００ｍｍであってもよく、前記塗布位
置が前記水平中心面の下１０度以上かつ２０度以下に位
置してもよい。
【００１６】
【作用】本発明は、塗布リップにおいて終端している下
部スライド表面と結合している上部スライド表面を含む
二重スライド（dual slide）を利用するスライド−ビー
ド塗布技術を含む。基板は塗布リップと基板の間に位置
する塗布位置において液体ビードを形成するように塗布
リップを通過して塗布ロール上を輸送される。塗布位置
が塗布ロールの外周で塗布ロールの回転軸を通る水平中
心面の１０度以上かつ５０度以下だけ下方に位置する。
下部スライド表面が塗布位置で基板の表面に接する平面
と８５度と９５度との間の角度を形成している。
部スライド表面と結合している上部スライド表面を含む
二重スライド（dual slide）を利用するスライド−ビー
ド塗布技術を含む。基板は塗布リップと基板の間に位置
する塗布位置において液体ビードを形成するように塗布
リップを通過して塗布ロール上を輸送される。塗布位置
が塗布ロールの外周で塗布ロールの回転軸を通る水平中
心面の１０度以上かつ５０度以下だけ下方に位置する。
下部スライド表面が塗布位置で基板の表面に接する平面
と８５度と９５度との間の角度を形成している。
【００１７】
【実施例】本発明の理解を助けるために、まず従来例に
ついて説明する。図１は従来のスライド−ビード塗布装
置を示す。塗布される液体１および２は塗布プレート３
および４を有するスライドタイプホッパー塗布ヘッドア
センブリに供給される。塗布層を増やすためには図示し
ない付加的なプレートが必要である。液体１および２は
傾斜したスライド表面を降り、最も近いプレート３と基
板６との間の間隙を横切り、かくして基板６上に塗布さ
れた層を形成する。塗布されるべき基板６は回転軸２２
および軸２２を通る水平中心面２３を有する塗布ロール
７によって搬送される。塗布液１および２は供給ポンプ
８および９によって供給され、空洞１０および１１、お
よびスロット１２および１３に送り込まれる。図示され
た例より多くの層を塗布するためには適当な数のポン
プ、空洞およびスロットが必要とされる。室１４および
関連するポンプ１５が間隙５における液体の下面のガス
圧を減少するために適用される。一般的には室１４から
物質を除去するためのドレインチューブ２６と溜め（su
mp）２７が設けられている。
ついて説明する。図１は従来のスライド−ビード塗布装
置を示す。塗布される液体１および２は塗布プレート３
および４を有するスライドタイプホッパー塗布ヘッドア
センブリに供給される。塗布層を増やすためには図示し
ない付加的なプレートが必要である。液体１および２は
傾斜したスライド表面を降り、最も近いプレート３と基
板６との間の間隙を横切り、かくして基板６上に塗布さ
れた層を形成する。塗布されるべき基板６は回転軸２２
および軸２２を通る水平中心面２３を有する塗布ロール
７によって搬送される。塗布液１および２は供給ポンプ
８および９によって供給され、空洞１０および１１、お
よびスロット１２および１３に送り込まれる。図示され
た例より多くの層を塗布するためには適当な数のポン
プ、空洞およびスロットが必要とされる。室１４および
関連するポンプ１５が間隙５における液体の下面のガス
圧を減少するために適用される。一般的には室１４から
物質を除去するためのドレインチューブ２６と溜め（su
mp）２７が設けられている。
【００１８】図２は液体１および２がプレート３と基板
６との間の間隙５を横切っている部分のスライド−ビー
ド塗布装置を示す。間隙５の中の液体はこの技術分野で
一般的にビードとよばれる。スライド表面１６とリップ
ランド（lip land）１７は交わってリップ１８を形成す
る。
６との間の間隙５を横切っている部分のスライド−ビー
ド塗布装置を示す。間隙５の中の液体はこの技術分野で
一般的にビードとよばれる。スライド表面１６とリップ
ランド（lip land）１７は交わってリップ１８を形成す
る。
【００１９】図３は本発明の二重スライドシステムを示
す。図３において、液体１および２と基板６は上述した
同じ符号の要素に対応する。本発明の二重スライドは上
部スライド１９と下部スライド２０を有し、下部スライ
ド２０はリップ１８でリップランド１７と交差する。上
部スライド１９は基板６に向かって下向きに傾斜してい
る。水平に対して１０〜４５度の傾斜角が好ましい。下
部スライドはその長さが０．２５から１．００ｍｍ、よ
り好ましくは０．２５から０．６０ｍｍ、最も好ましく
は０．４０から０．６０ｍｍである。上部スライド１
９、下部スライド２０、リップ１８は少なくとも塗布層
の幅だけ広い。塗布線（coating line）２１は基板６上
の線であって、基板がリップ１８と塗布ロール７（図３
では図示されない）の回転軸２２の両方を含む平面２４
と交差する線である。「塗布位置」の定義はそこで塗布
層が塗布される基板６上の外見上の位置である。塗布位
置は一般的には塗布線２１の近くであり、便宜上、塗布
位置は塗布線２１と等しいと定義される。
す。図３において、液体１および２と基板６は上述した
同じ符号の要素に対応する。本発明の二重スライドは上
部スライド１９と下部スライド２０を有し、下部スライ
ド２０はリップ１８でリップランド１７と交差する。上
部スライド１９は基板６に向かって下向きに傾斜してい
る。水平に対して１０〜４５度の傾斜角が好ましい。下
部スライドはその長さが０．２５から１．００ｍｍ、よ
り好ましくは０．２５から０．６０ｍｍ、最も好ましく
は０．４０から０．６０ｍｍである。上部スライド１
９、下部スライド２０、リップ１８は少なくとも塗布層
の幅だけ広い。塗布線（coating line）２１は基板６上
の線であって、基板がリップ１８と塗布ロール７（図３
では図示されない）の回転軸２２の両方を含む平面２４
と交差する線である。「塗布位置」の定義はそこで塗布
層が塗布される基板６上の外見上の位置である。塗布位
置は一般的には塗布線２１の近くであり、便宜上、塗布
位置は塗布線２１と等しいと定義される。
【００２０】本発明の装置においては、塗布位置は塗布
ロール７の外周で塗布ロール７の水平中心面の１０度以
上しかし５０度以下だけ下である。塗布位置が１０度以
上しかし２０度以下塗布ロール７の水平中心面の下であ
ることがより好ましい。
ロール７の外周で塗布ロール７の水平中心面の１０度以
上しかし５０度以下だけ下である。塗布位置が１０度以
上しかし２０度以下塗布ロール７の水平中心面の下であ
ることがより好ましい。
【００２１】下部スライド２０の表面は好ましくは塗布
位置において基板６と接する平面に対して垂直である。
実際には、下部スライド２０の表面と塗布位置において
基板６と接する平面との間の角度は好ましくは８５度と
９５度の間；より好ましくは８９度と９１度の間であ
る。便宜的に、８５度は垂直から（接面に対して）５度
下と定義され、９５度は垂直から５度上と定義される。
実際に作製されるように、上部スライド１９と下部スラ
イド２０との接合部は円筒の内面で近似される。動作真
空範囲を拡張する点について最大の利益を達成するため
にはこの断面の曲率半径を小さくし、しかし流動中に停
滞したまたは再循環する帯域を作るような鋭いコーナー
を形成するほど小さくなくしなければならない。実際的
には、０．０７５ｍｍの曲率半径が適している。効果が
少ないとしても、湾曲部の広がりが下部スライド２０が
完全に湾曲するところまで増加しても有益な効果が得ら
れる。この場合、湾曲した下部スライド２０の終端で接
する平面は塗布位置で基板６の表面に接する面に対して
８５度から９５度であるのが好ましいであろう。
位置において基板６と接する平面に対して垂直である。
実際には、下部スライド２０の表面と塗布位置において
基板６と接する平面との間の角度は好ましくは８５度と
９５度の間；より好ましくは８９度と９１度の間であ
る。便宜的に、８５度は垂直から（接面に対して）５度
下と定義され、９５度は垂直から５度上と定義される。
実際に作製されるように、上部スライド１９と下部スラ
イド２０との接合部は円筒の内面で近似される。動作真
空範囲を拡張する点について最大の利益を達成するため
にはこの断面の曲率半径を小さくし、しかし流動中に停
滞したまたは再循環する帯域を作るような鋭いコーナー
を形成するほど小さくなくしなければならない。実際的
には、０．０７５ｍｍの曲率半径が適している。効果が
少ないとしても、湾曲部の広がりが下部スライド２０が
完全に湾曲するところまで増加しても有益な効果が得ら
れる。この場合、湾曲した下部スライド２０の終端で接
する平面は塗布位置で基板６の表面に接する面に対して
８５度から９５度であるのが好ましいであろう。
【００２２】水平面から１０度以上下の塗布位置に対し
て、下部スライドと基板に接する平面との間の角度８５
度〜９５度は最大差圧を増加させる効果を与える。この
装置配列では図３に示すように、図２の従来の設計の装
置について示したよりビードの表面が非常に少なく湾曲
するように液体流の薄い領域は向きを変えられる。その
結果、所定の塗布速度でビードを不安定な形状に操作す
るために必要な差圧は大きく増加する。下部スライドを
９５度以上の角度で向きを変えることは操業上の自由度
についてある程度の利益が得られるが、鋭くかつ損傷し
やすいリップ領域を作る。本発明で得られる最大差圧の
増加は下部スライドが重力の累積する影響が少なく貯液
が最小であるように比較的短い場合により著しい。下部
スライドの長さが０．５ｍｍのときに効果は最も顕著で
ある。
て、下部スライドと基板に接する平面との間の角度８５
度〜９５度は最大差圧を増加させる効果を与える。この
装置配列では図３に示すように、図２の従来の設計の装
置について示したよりビードの表面が非常に少なく湾曲
するように液体流の薄い領域は向きを変えられる。その
結果、所定の塗布速度でビードを不安定な形状に操作す
るために必要な差圧は大きく増加する。下部スライドを
９５度以上の角度で向きを変えることは操業上の自由度
についてある程度の利益が得られるが、鋭くかつ損傷し
やすいリップ領域を作る。本発明で得られる最大差圧の
増加は下部スライドが重力の累積する影響が少なく貯液
が最小であるように比較的短い場合により著しい。下部
スライドの長さが０．５ｍｍのときに効果は最も顕著で
ある。
【００２３】ここで記述される本発明は、それに限定さ
れるものではないが感光性および／または放射線感受性
の液体の層を含む無数の流動する液体層に対して有効で
ある。これら感光性および／または放射線感受性の層は
グラフィックアート、印刷、医学および情報システムな
どの分野における像形成（imaging ）および複写（repr
oduction）に利用可能である。塩化銀の感光層およびそ
れに関連する層が好ましい。感光性ポリマー、ジアゾ、
小胞像形成組成物（vesicular image-formingcompositi
ons）および他の系がハロゲン化銀に加えて使用するこ
とができる。
れるものではないが感光性および／または放射線感受性
の液体の層を含む無数の流動する液体層に対して有効で
ある。これら感光性および／または放射線感受性の層は
グラフィックアート、印刷、医学および情報システムな
どの分野における像形成（imaging ）および複写（repr
oduction）に利用可能である。塩化銀の感光層およびそ
れに関連する層が好ましい。感光性ポリマー、ジアゾ、
小胞像形成組成物（vesicular image-formingcompositi
ons）および他の系がハロゲン化銀に加えて使用するこ
とができる。
【００２４】新規な方法において使用される層を支持す
る支持基板はいかなる適当な透明プラスチックまたは紙
でも良い。好適なプラスチックフィルムはセルロース系
支持体、例えばセルロースアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロース混合エステル類、ポリエチレン
テレフタレート／イソフタレート類その他を含むがこれ
らに限定されない。上述したポリエステルフィルムはそ
れらの寸法安定性の故に特に好適である。それらのフィ
ルムの製造の間、例えばロウリンズ（Rawlinsによって
米国特許第3,567,452 号に教示されているビニリデンク
ロライド−イタコン酸の混合ポリマー下塗り組成物、ま
たはミラー（Miller）によって米国特許第4,916,011 号
および第4,701,403 号に、チョー（Cho ）によって米国
特許第4,891,308 号に教示されている帯電防止組成物
（antistatic compositions ）のような樹脂下塗り層を
塗布するのが好ましい。
る支持基板はいかなる適当な透明プラスチックまたは紙
でも良い。好適なプラスチックフィルムはセルロース系
支持体、例えばセルロースアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロース混合エステル類、ポリエチレン
テレフタレート／イソフタレート類その他を含むがこれ
らに限定されない。上述したポリエステルフィルムはそ
れらの寸法安定性の故に特に好適である。それらのフィ
ルムの製造の間、例えばロウリンズ（Rawlinsによって
米国特許第3,567,452 号に教示されているビニリデンク
ロライド−イタコン酸の混合ポリマー下塗り組成物、ま
たはミラー（Miller）によって米国特許第4,916,011 号
および第4,701,403 号に、チョー（Cho ）によって米国
特許第4,891,308 号に教示されている帯電防止組成物
（antistatic compositions ）のような樹脂下塗り層を
塗布するのが好ましい。
【００２５】「流動する液体層」という語はこの分野で
知られているように、単一の層または同時に塗布された
多数の層を指すように意図されている。多層の塗布は多
数の塗布ホッパーを必要とする。
知られているように、単一の層または同時に塗布された
多数の層を指すように意図されている。多層の塗布は多
数の塗布ホッパーを必要とする。
【００２６】写真フィルムの塗布された層は液体媒質の
蒸発によって乾燥される。蒸発は好ましくは伝導、対流
および／または輻射加熱によって加速される。熱の移動
はファンデルホーフ（Van Derhoef ）らが米国特許第2,
269,169 号に、ローズ（Rose）が米国特許第2,620,285
号に、ルフ（Ruff）がドイツ特許公開公報第2,703,776
号に、そしてアーター（Arter ）が米国特許第4,365,42
3 号に示しているように支持基板を通しての加熱された
ドラムまたはロールとの物理的な接触、または暖かい空
気などの気体媒質との直接の接触などによって起こり得
る。塗布された層への気体媒質のジェット衝突は、ウィ
リス（Willis）が米国特許第1,951,004号に、アランダ
ー（Allander ）が米国特許第3,012,335 号に、マイヤ
ー−ウィンドホルスト（Meier-Windhorst ）が米国特許
第3,041,739 号に、ステリング（Stelling）が米国特許
第3,074,179 号に、ダーシー（Darcy ）らが米国特許第
3,599,341 号に、そしてスチッベ（Stibbe）が米国特許
第4,116,620 号に示しているように、熱と質量を移動す
る媒質を提供する。感光性フィルムが比較的敏感でない
放射線もベック（Beck）が米国特許第2,815,307 号およ
び第3,898,882 号に示しているように液体媒質の蒸発を
実現するのに使用することができる。ディッペル（Dipp
el）らによって米国特許第3,588,218 号に、カニンガム
（Cunningham）らによって米国特許第2,662,302 号に、
ブリークリー（Bleackley ）によって米国特許第3,466,
415 号に、ハリング（Hering）によって米国特許第3,58
9,022号に、ステファンセン（Stephansen）によって米
国特許第3,672,066 号に、フィリップス（Philips ）に
よって英国特許第633,731 号に、そしてクロキ（Kurok
i）によって英国特許第1,207,222 号に示されているマ
イクロウェーブ加熱も同様に使用することができる。
蒸発によって乾燥される。蒸発は好ましくは伝導、対流
および／または輻射加熱によって加速される。熱の移動
はファンデルホーフ（Van Derhoef ）らが米国特許第2,
269,169 号に、ローズ（Rose）が米国特許第2,620,285
号に、ルフ（Ruff）がドイツ特許公開公報第2,703,776
号に、そしてアーター（Arter ）が米国特許第4,365,42
3 号に示しているように支持基板を通しての加熱された
ドラムまたはロールとの物理的な接触、または暖かい空
気などの気体媒質との直接の接触などによって起こり得
る。塗布された層への気体媒質のジェット衝突は、ウィ
リス（Willis）が米国特許第1,951,004号に、アランダ
ー（Allander ）が米国特許第3,012,335 号に、マイヤ
ー−ウィンドホルスト（Meier-Windhorst ）が米国特許
第3,041,739 号に、ステリング（Stelling）が米国特許
第3,074,179 号に、ダーシー（Darcy ）らが米国特許第
3,599,341 号に、そしてスチッベ（Stibbe）が米国特許
第4,116,620 号に示しているように、熱と質量を移動す
る媒質を提供する。感光性フィルムが比較的敏感でない
放射線もベック（Beck）が米国特許第2,815,307 号およ
び第3,898,882 号に示しているように液体媒質の蒸発を
実現するのに使用することができる。ディッペル（Dipp
el）らによって米国特許第3,588,218 号に、カニンガム
（Cunningham）らによって米国特許第2,662,302 号に、
ブリークリー（Bleackley ）によって米国特許第3,466,
415 号に、ハリング（Hering）によって米国特許第3,58
9,022号に、ステファンセン（Stephansen）によって米
国特許第3,672,066 号に、フィリップス（Philips ）に
よって英国特許第633,731 号に、そしてクロキ（Kurok
i）によって英国特許第1,207,222 号に示されているマ
イクロウェーブ加熱も同様に使用することができる。
【００２７】これらの教示は以下の実施例によって最も
よく表示されるが、これらは本発明の範囲を制限するも
のではない。
よく表示されるが、これらは本発明の範囲を制限するも
のではない。
【００２８】実施例１−対照例 １５０メーター／分で動作しているスライド−ビード塗
布装置を用い二つの異なる層をポリエチレンテレフタレ
ート基板上に塗布した。上層は７％ゼラチン水溶液（粘
度１３ｃｐ）で、濡れた状態の厚さ２０マイクロメータ
に塗布された。下層はコロイド状の懸濁のAgBrを９％伴
う６％ゼラチン溶液（粘度８．９ｃｐ）で、濡れた状態
の厚さ５０マイクロメータに塗布された。スライド塗布
装置は、水平からほぼ２３度傾斜し塗布リップと基板の
表面がロールの水平中心面からほぼ１５度下で０．２５
ｍｍの塗布間隙だけ離れるように設置されている単一の
平坦なスライド表面を有していた。このスライド塗布装
置を用いこれらの塗布条件で、塗布装置の真空室に付与
する差圧を等間隔の乱れが基板を横切って観察されるま
で増加した。ついで、差圧を徐々に減少し、等間隔の乱
れが消失する差圧を最大差圧として定義した。この対照
例では最大差圧が８２Ｐａ（水柱０．３３インチ）であ
ることが観察された。
布装置を用い二つの異なる層をポリエチレンテレフタレ
ート基板上に塗布した。上層は７％ゼラチン水溶液（粘
度１３ｃｐ）で、濡れた状態の厚さ２０マイクロメータ
に塗布された。下層はコロイド状の懸濁のAgBrを９％伴
う６％ゼラチン溶液（粘度８．９ｃｐ）で、濡れた状態
の厚さ５０マイクロメータに塗布された。スライド塗布
装置は、水平からほぼ２３度傾斜し塗布リップと基板の
表面がロールの水平中心面からほぼ１５度下で０．２５
ｍｍの塗布間隙だけ離れるように設置されている単一の
平坦なスライド表面を有していた。このスライド塗布装
置を用いこれらの塗布条件で、塗布装置の真空室に付与
する差圧を等間隔の乱れが基板を横切って観察されるま
で増加した。ついで、差圧を徐々に減少し、等間隔の乱
れが消失する差圧を最大差圧として定義した。この対照
例では最大差圧が８２Ｐａ（水柱０．３３インチ）であ
ることが観察された。
【００２９】実施例２−本発明 下部スライドの表面と塗布位置において基板の表面と接
する平面との間の角度が９０度であるようにスライド表
面が上部スライドに対して傾斜した０．５ｍｍの下部ス
ライドを有する以外は実施例１の全ての条件を繰り返し
た。この配置は下部スライドと水平との間の角度１５度
に相当する。この本発明のスライド塗布装置を用いたと
き、観察された最大差圧は３７０Ｐａ（水柱１．５０イ
ンチ）であった。
する平面との間の角度が９０度であるようにスライド表
面が上部スライドに対して傾斜した０．５ｍｍの下部ス
ライドを有する以外は実施例１の全ての条件を繰り返し
た。この配置は下部スライドと水平との間の角度１５度
に相当する。この本発明のスライド塗布装置を用いたと
き、観察された最大差圧は３７０Ｐａ（水柱１．５０イ
ンチ）であった。
【００３０】実施例３−対照例 下部スライドの表面と塗布位置において基板の表面と接
する平面との間の角度が１１０度であるようにスライド
表面が上部スライドに対して傾斜した長さ０．５５ｍｍ
の下部スライドを有する以外は実施例１の全ての条件を
繰り返した。この配置は下部スライドと水平との間の角
度５度に相当する。この配置の下部スライドの角度はジ
ャクソン（Jackson ）に付与された米国特許第3,993,01
9 号の教示の範囲内である。この対照例のスライド塗布
装置を用いたとき、最大差圧が１７０Ｐａ（水柱０．６
７インチ）であることが観察された。
する平面との間の角度が１１０度であるようにスライド
表面が上部スライドに対して傾斜した長さ０．５５ｍｍ
の下部スライドを有する以外は実施例１の全ての条件を
繰り返した。この配置は下部スライドと水平との間の角
度５度に相当する。この配置の下部スライドの角度はジ
ャクソン（Jackson ）に付与された米国特許第3,993,01
9 号の教示の範囲内である。この対照例のスライド塗布
装置を用いたとき、最大差圧が１７０Ｐａ（水柱０．６
７インチ）であることが観察された。
【００３１】実施例４−本発明 下部スライドの表面と塗布位置において基板の表面と接
する平面との間の角度が９０度であるようにスライド表
面が上部スライドに対して傾斜した長さ１．０ｍｍの下
部スライドを有する以外は実施例１の全ての条件を繰り
返した。この配置は下部スライドと水平との間の角度１
５度に相当する。この本発明のスライド塗布装置を用い
たとき、最大差圧が２１０Ｐａ（水柱０．８５インチ）
であることが観察された。
する平面との間の角度が９０度であるようにスライド表
面が上部スライドに対して傾斜した長さ１．０ｍｍの下
部スライドを有する以外は実施例１の全ての条件を繰り
返した。この配置は下部スライドと水平との間の角度１
５度に相当する。この本発明のスライド塗布装置を用い
たとき、最大差圧が２１０Ｐａ（水柱０．８５インチ）
であることが観察された。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
リブの形成が始まる最大差圧を増加させることができ
る。さらに、本発明によれば、スライド−ビード塗布装
置を高速で運転でき、生産を増強することができる。
リブの形成が始まる最大差圧を増加させることができ
る。さらに、本発明によれば、スライド−ビード塗布装
置を高速で運転でき、生産を増強することができる。
【図１】従来のスライド−ビード塗布装置の模式的部分
立面図である。
立面図である。
【図２】図１に示した従来装置のビード領域の模式的部
分立面図である。
分立面図である。
【図３】本発明の一実施例の部分縦断面図である。
１、２ 液体 ３、４ 塗布プレート ５ 間隙 ６ 基板 ７ 塗布ロール ８、９ 供給ポンプ １０、１１ 空洞 １２、１３ スロット １４ 室 １５ ポンプ １６ スライドの表面 １７ リップランド １８ リップ １９ 上部スライド ２０ 下部スライド ２１ 塗布線 ２２ 回転軸 ２３ 水平中心面 ２４ 回転軸とリップを通る平面 ２６ ドレインチューブ ２７ 溜め
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コスタス ニキフォロス クリストドーロ ー アメリカ合衆国 19810 デラウエア州 ウイルミントン レイブン ロード 2504
Claims (11)
- 【請求項１】 塗布リップにおいて終端している下部ス
ライド表面と結合している上部スライド表面、回転中心
軸および該軸を通る水平中心面を有する塗布ロール、前
記塗布リップと前記塗布ロールによって前記リップを通
過して運搬される基板との間に位置する塗布位置に液体
の橋すなわちビードが形成されるように少なくとも１種
の流動する液体層を前記上部スライド表面および前記下
部スライド表面に供給する手段を備え、前記塗布位置が
前記塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以上かつ５
０度以下だけ下方であり、前記下部スライド表面が前記
塗布位置で前記基板の表面に接する平面と８５度と９５
度との間の角度を形成していることを特徴とするスライ
ド−ビード塗布装置。 - 【請求項２】 前記下部スライド表面の長さが０．２５
から１．００ｍｍであることを特徴とする請求項１に記
載の装置。 - 【請求項３】 前記下部スライド表面の長さが０．２５
から０．７５ｍｍであることを特徴とする請求項２に記
載の装置。 - 【請求項４】 前記下部スライド表面の長さが０．４０
から０．６０ｍｍであることを特徴とする請求項２に記
載の装置。 - 【請求項５】 前記下部スライド表面が前記塗布位置に
おいて前記基板の表面と接する平面と８９〜９１度の角
度を形成することを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項６】 前記少なくとも１種の流動する液体層が
感光性もしくは放射線感受性であることを特徴とする請
求項１に記載の装置。 - 【請求項７】 前記基板がポリエチレンテレフタレート
からなることを特徴とする請求項１に記載の装置。 - 【請求項８】 前記塗布位置が前記水平中心面の下１０
度以上かつ２０度以下であることを特徴とする請求項１
に記載の装置。 - 【請求項９】 液体供給手段から液体の流動を開始して
塗布リップにおいて終端している下部スライド表面と結
合している上部スライド表面を含む二重スライド表面上
に少なくとも１種の流動する液体層を形成する工程、液
体の橋すなわちビードが前記塗布リップと前記基板との
間に位置する塗布位置に形成されるように前記基板を軸
上で回転する塗布ロール上を前記リップを通過して輸送
しそれによって液体を前記液体ビードから前記基板上に
移す工程、ただし前記ビード中の液体は前記液体層供給
手段から連続的に補充される、および前記塗布位置を前
記塗布ロールの外周で水平中心面の１０度以上かつ５０
度以下だけ下方に位置させる工程、前記下部スライド表
面が前記塗布位置で前記基板の表面に接する平面と８５
度と９５度との間の角度を形成するように配置する工程
を有することを特徴とする表面塗布方法。 - 【請求項１０】 前記下部スライド表面の長さが０．２
５から１．００ｍｍであることを特徴とする請求項９に
記載の方法。 - 【請求項１１】 前記塗布位置が前記水平中心面の下１
０度以上かつ２０度以下に位置することを特徴とする請
求項９に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US266401 | 1981-05-22 | ||
| US08/266,401 US5458925A (en) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | Dual geometry for slide-bead coating |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0810688A true JPH0810688A (ja) | 1996-01-16 |
| JP2603816B2 JP2603816B2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=23014421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7160921A Expired - Lifetime JP2603816B2 (ja) | 1994-06-27 | 1995-06-27 | スライド−ビード塗布装置および塗布方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5458925A (ja) |
| EP (1) | EP0690340B1 (ja) |
| JP (1) | JP2603816B2 (ja) |
| DE (1) | DE69515741T2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534114B2 (en) * | 2001-02-28 | 2003-03-18 | Eastman Kodak Company | Coating method for modifying adhesion of thin films to substrates |
| US6824818B2 (en) * | 2001-12-27 | 2004-11-30 | Soliant Llc | Wet on wet process for producing films |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT557307A (ja) * | 1955-02-23 | 1900-01-01 | ||
| US3996885A (en) * | 1973-01-26 | 1976-12-14 | Eastman Kodak Company | Apparatus for coating a multiple number of layers onto a substrate |
| US3993019A (en) * | 1973-01-26 | 1976-11-23 | Eastman Kodak Company | Apparatus for coating a substrate |
| US4283443A (en) * | 1977-01-27 | 1981-08-11 | Polaroid Corporation | Method and apparatus for coating webs |
| JPS5822266B2 (ja) * | 1978-12-19 | 1983-05-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JPS5835105B2 (ja) * | 1978-12-25 | 1983-07-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
| CA1140001A (en) * | 1979-04-19 | 1983-01-25 | Karel S. Willemsens | Method and device for slide hopper multilayer coating |
| JPS58907B2 (ja) * | 1979-06-13 | 1983-01-08 | コニカ株式会社 | 基体の塗布方法およびホッパ−装置 |
| JPS56108566A (en) * | 1980-01-30 | 1981-08-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Simultaneous multilayer coating |
| US4443504A (en) * | 1982-06-09 | 1984-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours & Company | Coating method |
| JPS6028851A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布方法及びその装置 |
| JPH01200247A (ja) * | 1988-02-03 | 1989-08-11 | Konica Corp | 塗布方法及び装置 |
| DE69325524T2 (de) * | 1992-01-21 | 2000-03-09 | Sterling Diagnostic Imaging | Geometrie der Lippe zur Wulstbeschichtung |
-
1994
- 1994-06-27 US US08/266,401 patent/US5458925A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-06-07 DE DE69515741T patent/DE69515741T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-07 EP EP95108765A patent/EP0690340B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-27 JP JP7160921A patent/JP2603816B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69515741T2 (de) | 2000-09-07 |
| JP2603816B2 (ja) | 1997-04-23 |
| EP0690340B1 (en) | 2000-03-22 |
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