JPH08257483A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPH08257483A JPH08257483A JP6293595A JP6293595A JPH08257483A JP H08257483 A JPH08257483 A JP H08257483A JP 6293595 A JP6293595 A JP 6293595A JP 6293595 A JP6293595 A JP 6293595A JP H08257483 A JPH08257483 A JP H08257483A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 減圧室を必要とせず、より安定したスライド
ビード塗布が可能な塗布方法を提供する。 【構成】 連続走行しているウエブに塗布液を多層同時
塗布する塗布方法において、該ウエブに第１の塗布手段
により塗布液を塗布し、塗布膜の湿潤状態下、スライド
ホッパーのリップ先端部とウエブの間隙を該塗布膜の厚
み以内に設定したスライドホッパーを用い、該塗布膜上
にスライドビード塗布することを特徴とする塗布方法。
好ましくは、スライドホッパーの少なくとも最下層部材
の上面に、薄板を付設することを特徴とする。
ビード塗布が可能な塗布方法を提供する。 【構成】 連続走行しているウエブに塗布液を多層同時
塗布する塗布方法において、該ウエブに第１の塗布手段
により塗布液を塗布し、塗布膜の湿潤状態下、スライド
ホッパーのリップ先端部とウエブの間隙を該塗布膜の厚
み以内に設定したスライドホッパーを用い、該塗布膜上
にスライドビード塗布することを特徴とする塗布方法。
好ましくは、スライドホッパーの少なくとも最下層部材
の上面に、薄板を付設することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主としてスライドビー
ド塗布方式を用いて、複数層の塗布液を連続走行してい
るウェブ上に塗布する塗布方法に関する。
ド塗布方式を用いて、複数層の塗布液を連続走行してい
るウェブ上に塗布する塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】スライドビード塗布は、当業者にはよく
知られた方法である。この方法は、スライドホッパー型
塗布装置を用いて単層あるいは多層の液状層を傾斜した
スライド面に流下させ、該スライドホッパーの先端部
と、該先端部とは若干離間した位置に連続走行する長尺
可撓性帯状支持体（以下、ウエブと称す）との間に、液
架橋（以下、ビードと称す）を形成させながら、前記液
状層をウエブに転移させる方法である。
知られた方法である。この方法は、スライドホッパー型
塗布装置を用いて単層あるいは多層の液状層を傾斜した
スライド面に流下させ、該スライドホッパーの先端部
と、該先端部とは若干離間した位置に連続走行する長尺
可撓性帯状支持体（以下、ウエブと称す）との間に、液
架橋（以下、ビードと称す）を形成させながら、前記液
状層をウエブに転移させる方法である。
【０００３】スライドビード塗布については、米国特許
第２，６８１，２９４号あるいは同２，７６１，７９１
号明細書に記載されているように、円滑に塗布を行なう
ためにはビードを安定させることが極めて重要である。
このため、前記米国特許第２，６８１，２９４号明細書
に開示されているように、減圧室を付設してビード下面
側を減圧することが一般に行なわれてきた。
第２，６８１，２９４号あるいは同２，７６１，７９１
号明細書に記載されているように、円滑に塗布を行なう
ためにはビードを安定させることが極めて重要である。
このため、前記米国特許第２，６８１，２９４号明細書
に開示されているように、減圧室を付設してビード下面
側を減圧することが一般に行なわれてきた。
【０００４】このような減圧室は、ビード安定のために
は有効な手段であるが、減圧室はウエブまたはバックア
ップロールとの接触を回避するため、通常２００〜５０
０μｍの隙間を設ける必要がある。従来より、塗布液の
液物性（粘度、表面張力など）や塗布量、さらにウエブ
の走行速度など、種々の条件に対し適合する減圧度を見
出しながら塗布が行われているが、近年の高速薄層化傾
向が強まる状況下、さまざまな不都合が生じつつある。
は有効な手段であるが、減圧室はウエブまたはバックア
ップロールとの接触を回避するため、通常２００〜５０
０μｍの隙間を設ける必要がある。従来より、塗布液の
液物性（粘度、表面張力など）や塗布量、さらにウエブ
の走行速度など、種々の条件に対し適合する減圧度を見
出しながら塗布が行われているが、近年の高速薄層化傾
向が強まる状況下、さまざまな不都合が生じつつある。
【０００５】例えば、前記の減圧室とウエブまたはバッ
クアップロールとの接触を回避するための隙間から流入
する気体（実用的には空気でよいので、以後、気体を空
気として述べる）により、減圧室側ビード面（ビードの
下部メニスカスと称す）の塗布幅方向圧力分布が不均一
となったり、気流の動圧も影響して筋故障やアバラ状ム
ラが発生したり、ウエブの塗布面側に随伴する空気が下
部メニスカスに衝突することにより、ビードの安定性が
失なわれて塗布ムラが発生することなどの問題があっ
た。
クアップロールとの接触を回避するための隙間から流入
する気体（実用的には空気でよいので、以後、気体を空
気として述べる）により、減圧室側ビード面（ビードの
下部メニスカスと称す）の塗布幅方向圧力分布が不均一
となったり、気流の動圧も影響して筋故障やアバラ状ム
ラが発生したり、ウエブの塗布面側に随伴する空気が下
部メニスカスに衝突することにより、ビードの安定性が
失なわれて塗布ムラが発生することなどの問題があっ
た。
【０００６】これらの問題点を回避する目的で、例え
ば、塗布上流側のバックアップロールと減圧室との間に
ロールを設けて前述の隙間をなくす方法（実開昭６０−
１９３２６９号公報）や、減圧室の上流側にラビリンス
シールと称される部材を付設して高減圧を得ることで安
定化させる方法（特開昭６１−１１１７３号公報）など
が開示されている。
ば、塗布上流側のバックアップロールと減圧室との間に
ロールを設けて前述の隙間をなくす方法（実開昭６０−
１９３２６９号公報）や、減圧室の上流側にラビリンス
シールと称される部材を付設して高減圧を得ることで安
定化させる方法（特開昭６１−１１１７３号公報）など
が開示されている。
【０００７】また、特開平５−４０６３号公報には、減
圧室の両サイドにラビリンスシールを施した塗布装置が
開示されている。
圧室の両サイドにラビリンスシールを施した塗布装置が
開示されている。
【０００８】これらの従来技術におけるスライドビード
塗布は、いづれも減圧室を必要構成要素とした上での技
術であり、前述したビード不安定化による塗布むらなど
の発生原因が、空気と液体（塗布液）によって構成され
た界面であるがゆえに生じると考えられ、根本的な解決
には至っていない。また、従来技術の如く減圧室にさま
ざまな機能を付加すればするほど、製造上のコストアッ
プとなる。
塗布は、いづれも減圧室を必要構成要素とした上での技
術であり、前述したビード不安定化による塗布むらなど
の発生原因が、空気と液体（塗布液）によって構成され
た界面であるがゆえに生じると考えられ、根本的な解決
には至っていない。また、従来技術の如く減圧室にさま
ざまな機能を付加すればするほど、製造上のコストアッ
プとなる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点に鑑み、スライドビード塗布方法において、減圧
室を必要とせずに安定したビードで塗布可能な塗布方法
を提供することである。
問題点に鑑み、スライドビード塗布方法において、減圧
室を必要とせずに安定したビードで塗布可能な塗布方法
を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題に
ついて、鋭意研究した結果、本発明のスライドビード塗
布による塗布方法を発明するに至った。即ち、本発明の
塗布方法は、連続走行しているウエブに塗布液を多層同
時塗布する塗布方法において、該ウエブに第１の塗布手
段により塗布液を塗布し、塗布膜の湿潤状態下、スライ
ドホッパーのリップ先端部とウエブの間隙を該塗布膜の
厚み以内に設定したスライドホッパーを用い、該塗布膜
上にスライドビード塗布することを特徴とするものであ
る。
ついて、鋭意研究した結果、本発明のスライドビード塗
布による塗布方法を発明するに至った。即ち、本発明の
塗布方法は、連続走行しているウエブに塗布液を多層同
時塗布する塗布方法において、該ウエブに第１の塗布手
段により塗布液を塗布し、塗布膜の湿潤状態下、スライ
ドホッパーのリップ先端部とウエブの間隙を該塗布膜の
厚み以内に設定したスライドホッパーを用い、該塗布膜
上にスライドビード塗布することを特徴とするものであ
る。
【００１１】本発明の塗布方法において、スライドホッ
パーの少なくとも最下層部材の上面に、薄板を付設する
ことが好ましい。
パーの少なくとも最下層部材の上面に、薄板を付設する
ことが好ましい。
【００１２】また、本発明の塗布方法において、薄板の
厚みが、０．１〜５ｍｍ、且つ薄板がスライドホッパー
最下層部材の上面端より接液側に１〜５０ｍｍ突出して
なることが好ましい。
厚みが、０．１〜５ｍｍ、且つ薄板がスライドホッパー
最下層部材の上面端より接液側に１〜５０ｍｍ突出して
なることが好ましい。
【００１３】さらに、本発明の塗布方法において、ウエ
ブと薄板の厚み方向の下端部の距離が、該ウエブと薄板
のリップ先端部の距離と同一かそれ以上であることが好
ましい。
ブと薄板の厚み方向の下端部の距離が、該ウエブと薄板
のリップ先端部の距離と同一かそれ以上であることが好
ましい。
【００１４】以下、本発明について具体的に説明する。
図１は、本発明に基づく塗布方法の一例を示す模式断面
図であり、図２は、本発明に基づく塗布方法の他の一例
を示す模式断面図である。スライドホッパー６の最下層
部材９が、図１では上端に突出部を設けた構造のもので
あり、図２では上面に薄板１０を付設した構造のもので
ある。
図１は、本発明に基づく塗布方法の一例を示す模式断面
図であり、図２は、本発明に基づく塗布方法の他の一例
を示す模式断面図である。スライドホッパー６の最下層
部材９が、図１では上端に突出部を設けた構造のもので
あり、図２では上面に薄板１０を付設した構造のもので
ある。
【００１５】図１および図２において、第１の塗布手段
は、塗布バット１とＡ方向に回転するバックアップロー
ル２により構成されており、バックアップロール２に張
架されてＢ方向に走行するウエブ３に、塗布液４を塗布
し、塗布膜５が形成される。
は、塗布バット１とＡ方向に回転するバックアップロー
ル２により構成されており、バックアップロール２に張
架されてＢ方向に走行するウエブ３に、塗布液４を塗布
し、塗布膜５が形成される。
【００１６】なお、塗布バット１への塗布液供給手段や
塗布液４の温度調節手段、さらには塗布液４の液面レベ
ル調整手段、塗布バット１の昇降手段などは図示してい
ないが、公知の技術を利用することにより容易に構成可
能である。
塗布液４の温度調節手段、さらには塗布液４の液面レベ
ル調整手段、塗布バット１の昇降手段などは図示してい
ないが、公知の技術を利用することにより容易に構成可
能である。
【００１７】本発明では、第１の塗布手段として、所謂
ディップ方式を採用して例記したが、塗布膜５を形成す
るものであれば従来より用いられている他の塗布手段、
例えば、エクストルージョン方式やロールコータなども
適用可能である。
ディップ方式を採用して例記したが、塗布膜５を形成す
るものであれば従来より用いられている他の塗布手段、
例えば、エクストルージョン方式やロールコータなども
適用可能である。
【００１８】塗布液７、８は、それぞれ図示しない塗液
供給手段により一定流量で連続的に供給され、ノズルス
リットから押し出されてスライドホッパー６のスライド
面を流延し、積層構成を乱すことなくウエブ３の方向に
流下してビードを形成し、該ビード部においてウエブに
塗布液が持ち去られることで塗布が進行する。
供給手段により一定流量で連続的に供給され、ノズルス
リットから押し出されてスライドホッパー６のスライド
面を流延し、積層構成を乱すことなくウエブ３の方向に
流下してビードを形成し、該ビード部においてウエブに
塗布液が持ち去られることで塗布が進行する。
【００１９】本発明者らは、スライドホッパー６のスラ
イド面の水平基準面に対する傾斜角度をθ、ビード部に
おけるウエブ３のバックアップロール２に対する接線と
スライド面となす引取角度をφとする時、前記θを１５
〜４５°に設定し、φを７０〜１５０°、好ましくは９
０〜１３０°に設定した条件で、高速薄膜塗布が好まし
いことを見出した。
イド面の水平基準面に対する傾斜角度をθ、ビード部に
おけるウエブ３のバックアップロール２に対する接線と
スライド面となす引取角度をφとする時、前記θを１５
〜４５°に設定し、φを７０〜１５０°、好ましくは９
０〜１３０°に設定した条件で、高速薄膜塗布が好まし
いことを見出した。
【００２０】図３は、本発明に基づく塗布方法の薄板部
の一例を示す部分模式図である。図３では、図２の薄板
１０とバックアップロール２およびウエブ３との位置関
係を詳細に示してある。図３において、Ｆは薄板１０の
リップ先端部の厚みであり、Ｅは薄板の厚み方向の上端
からウエブ３までの距離で、Ｃは薄板の厚み方向の下端
からウエブ３までの距離であり、Ｄはスライドホッパー
６の最下層部材９の上面からの突出量である。
の一例を示す部分模式図である。図３では、図２の薄板
１０とバックアップロール２およびウエブ３との位置関
係を詳細に示してある。図３において、Ｆは薄板１０の
リップ先端部の厚みであり、Ｅは薄板の厚み方向の上端
からウエブ３までの距離で、Ｃは薄板の厚み方向の下端
からウエブ３までの距離であり、Ｄはスライドホッパー
６の最下層部材９の上面からの突出量である。
【００２１】本発明者らは、鋭意研究の結果、前記Ｃ、
Ｅ、Ｆの距離、およびＤの突出量は、以下のように設定
することが好ましいことを見出した。すなわち、Ｆの距
離は０．１〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜２ｍｍの
範囲、Ｄの突出量は１〜５０ｍｍ、Ｅの距離はＣと同一
か若しくは小さく設定し、且つＥの距離は第１の塗布手
段を用いて塗布した液膜（図２による塗布膜５に当る）
の厚みよりも小さく設定することである。
Ｅ、Ｆの距離、およびＤの突出量は、以下のように設定
することが好ましいことを見出した。すなわち、Ｆの距
離は０．１〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜２ｍｍの
範囲、Ｄの突出量は１〜５０ｍｍ、Ｅの距離はＣと同一
か若しくは小さく設定し、且つＥの距離は第１の塗布手
段を用いて塗布した液膜（図２による塗布膜５に当る）
の厚みよりも小さく設定することである。
【００２２】
【作用】本発明の塗布方法の作用について説明する。ス
ライドビード塗布方法にあっては、前述したようにビー
ドを安定に保持した状態で基材（ウエブ）に塗布液を移
行させることが最も重要な事柄である。
ライドビード塗布方法にあっては、前述したようにビー
ドを安定に保持した状態で基材（ウエブ）に塗布液を移
行させることが最も重要な事柄である。
【００２３】図４は、スライドビード塗布時のビード状
態を示す拡大模式図である。図４において、Ｐはリップ
先端部、Ｒは減圧領域、Ｓは塗布液である。図４ａは、
最も好ましい状態で、減圧度と塗布液液物性（粘性や表
面張力など）およびスライド面を流下してきた塗布液が
走行するウエブにより伸長される力、さらにビード部の
重力などが極めて良好に均衡している状況であり、リッ
プ先端部からウエブに至る架橋部の間隙にも微妙に関係
する。
態を示す拡大模式図である。図４において、Ｐはリップ
先端部、Ｒは減圧領域、Ｓは塗布液である。図４ａは、
最も好ましい状態で、減圧度と塗布液液物性（粘性や表
面張力など）およびスライド面を流下してきた塗布液が
走行するウエブにより伸長される力、さらにビード部の
重力などが極めて良好に均衡している状況であり、リッ
プ先端部からウエブに至る架橋部の間隙にも微妙に関係
する。
【００２４】該状況においては、塗布液がリップ先端部
Ｐに密着した状態で架橋しながら塗布が進行し、ビード
部で所謂旋回流（ｖｏｒｔｅｘ）が発生しにくいことが
一般に知られている。このようなビードは、減圧度の多
少の変動や、ウエブに付着したり、塗布液中に含まれる
小異物の通過などといった外乱要素に対しても比較的影
響を受けにくいビードであるとされる。
Ｐに密着した状態で架橋しながら塗布が進行し、ビード
部で所謂旋回流（ｖｏｒｔｅｘ）が発生しにくいことが
一般に知られている。このようなビードは、減圧度の多
少の変動や、ウエブに付着したり、塗布液中に含まれる
小異物の通過などといった外乱要素に対しても比較的影
響を受けにくいビードであるとされる。
【００２５】一方、液物性やウエブ速度、減圧度などの
均衡がとれていないと、例えば、図４ｂに示すように、
下部メニスカスが減圧領域に引き込まれた状態を呈し、
ビード下部で旋回流が発生することにより塗布むらが発
生するほか、前記の異物や塗布液中の気泡などが滞留し
やすくスジの原因ともなる。また、図４ｃに示すよう
に、下部メニスカスのウエブとの接触点にウエブの同伴
空気が進入して、塗布むらや液割れを生じさせる場合も
ある。
均衡がとれていないと、例えば、図４ｂに示すように、
下部メニスカスが減圧領域に引き込まれた状態を呈し、
ビード下部で旋回流が発生することにより塗布むらが発
生するほか、前記の異物や塗布液中の気泡などが滞留し
やすくスジの原因ともなる。また、図４ｃに示すよう
に、下部メニスカスのウエブとの接触点にウエブの同伴
空気が進入して、塗布むらや液割れを生じさせる場合も
ある。
【００２６】近年の高速化、薄膜化、高粘度化はいずれ
も前述の良好な均衡状態を得難い方向に作用するもので
ある。本発明の場合、従来の減圧領域に相当する領域に
は空気は存在せず、その代りに、第１の塗布手段で塗布
し、充分湿潤状態にある液体が存在する。
も前述の良好な均衡状態を得難い方向に作用するもので
ある。本発明の場合、従来の減圧領域に相当する領域に
は空気は存在せず、その代りに、第１の塗布手段で塗布
し、充分湿潤状態にある液体が存在する。
【００２７】本発明の場合、該液体とビードを構成する
塗布液に作用する力（走行するウエブにより伸長される
力、ビード部の重力など）が均衡しながら塗布が進行す
る。さらに、本発明の場合、第１の塗布手段で塗布する
時の塗布液の厚みは、第２の塗布手段、すなわち薄板１
０を付設したスライドホッパー６のリップ先端部Ｐから
ウエブに至る最短部の間隙（図３で示す薄板の厚み方向
の上端からウエブまでの距離Ｅ）よりも厚いことが特徴
であるので、ビード下部メニスカスには幾許の空気も混
入する余地が無く、従って、常に安定したビード状態を
保持することが可能である。
塗布液に作用する力（走行するウエブにより伸長される
力、ビード部の重力など）が均衡しながら塗布が進行す
る。さらに、本発明の場合、第１の塗布手段で塗布する
時の塗布液の厚みは、第２の塗布手段、すなわち薄板１
０を付設したスライドホッパー６のリップ先端部Ｐから
ウエブに至る最短部の間隙（図３で示す薄板の厚み方向
の上端からウエブまでの距離Ｅ）よりも厚いことが特徴
であるので、ビード下部メニスカスには幾許の空気も混
入する余地が無く、従って、常に安定したビード状態を
保持することが可能である。
【００２８】本発明における薄板１０は、第１の塗布手
段で塗布した塗布液に対して、所謂ドクターブレードと
もいうべき役割を担っているために、形状や製作上の技
術などは従来の技術を応用することが可能である。
段で塗布した塗布液に対して、所謂ドクターブレードと
もいうべき役割を担っているために、形状や製作上の技
術などは従来の技術を応用することが可能である。
【００２９】但し、均一な塗布面を得るためには、薄板
１０のリップ先端部（図３に示すリップ先端部Ｐ）につ
いては、塗布幅方向に均一な面取りを施すことが好まし
く、該面取りの曲率半径は３０〜６０μｍの範囲内が好
ましい。さらに、前記リップ先端部Ｐの幅方向の真直度
は１０〜−３０μｍの範囲内にあること、好ましくは０
〜−１０μｍ以下であることが望ましい。
１０のリップ先端部（図３に示すリップ先端部Ｐ）につ
いては、塗布幅方向に均一な面取りを施すことが好まし
く、該面取りの曲率半径は３０〜６０μｍの範囲内が好
ましい。さらに、前記リップ先端部Ｐの幅方向の真直度
は１０〜−３０μｍの範囲内にあること、好ましくは０
〜−１０μｍ以下であることが望ましい。
【００３０】スライドホッパー最下層部材９へ薄板１０
を付設する方法としては、例えば、セットピンでセット
した後にネジ止めする方法があるが、他の方法でもよ
い。また、薄板の材質としては、ステンレスの他、セラ
ミックやチタンなどの素材も利用可能である。また、こ
れらの素材を積層して利用してもよい。
を付設する方法としては、例えば、セットピンでセット
した後にネジ止めする方法があるが、他の方法でもよ
い。また、薄板の材質としては、ステンレスの他、セラ
ミックやチタンなどの素材も利用可能である。また、こ
れらの素材を積層して利用してもよい。
【００３１】薄板そのものは、スライドホッパー本体に
比べて極めて容易、且つ安価に製作可能であるので、先
端部の幾何学的形状の異なる部材を複数個用意し、塗布
量や液物性などに応じて適宜選択して利用することが可
能で、従来のスライドホッパーによる塗布方法には無い
本発明の大きな特長である。
比べて極めて容易、且つ安価に製作可能であるので、先
端部の幾何学的形状の異なる部材を複数個用意し、塗布
量や液物性などに応じて適宜選択して利用することが可
能で、従来のスライドホッパーによる塗布方法には無い
本発明の大きな特長である。
【００３２】本発明におけるウエブとしては、紙、プラ
スチックフィルム、金属、レジンコーテッド紙、合成紙
などが包含される。
スチックフィルム、金属、レジンコーテッド紙、合成紙
などが包含される。
【００３３】プラスチックフィルムの材質は、例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなどの
ビニル重合体、６−６ナイロン、６−ナイロンなどのポ
リアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−２、６ナフタレートなどのポリエステル、ポリカーボ
ネート、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテートなどのセルロースアセテートなどが使用され
る。
ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなどの
ビニル重合体、６−６ナイロン、６−ナイロンなどのポ
リアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−２、６ナフタレートなどのポリエステル、ポリカーボ
ネート、セルローストリアセテート、セルロースダイア
セテートなどのセルロースアセテートなどが使用され
る。
【００３４】また、レジンコーテッド紙に用いる樹脂と
しては、ポリエチレンを初めとするポリオレフィンが代
表的であるが、必ずしもこれに限定されない。また、金
属ウエブとしては、例えば、アルミニウムがある。
しては、ポリエチレンを初めとするポリオレフィンが代
表的であるが、必ずしもこれに限定されない。また、金
属ウエブとしては、例えば、アルミニウムがある。
【００３５】本発明における塗布液としては、有機高分
子化合物、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、
スチレン−無水マレイン酸共重合体などの天然または合
成高分子をバインダーとする種々の液状組成物であっ
て、ビード塗布に合った粘弾性を有するものが含まれ
る。具体的には、写真感光材料の製造に使用されるハロ
ゲン化銀乳剤塗布液、ハレーション防止層塗布液、バッ
ク層塗布液、保護膜層塗布液などである。
子化合物、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール、
スチレン−無水マレイン酸共重合体などの天然または合
成高分子をバインダーとする種々の液状組成物であっ
て、ビード塗布に合った粘弾性を有するものが含まれ
る。具体的には、写真感光材料の製造に使用されるハロ
ゲン化銀乳剤塗布液、ハレーション防止層塗布液、バッ
ク層塗布液、保護膜層塗布液などである。
【００３６】
【実施例】以下、実施例を用い、さらに詳細に本発明を
説明するが本実施例のみに限定されるものではない。
説明するが本実施例のみに限定されるものではない。
【００３７】実施例１ ウエブとして厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルムを用い、図１に示す塗布装置を構成し、
下記条件で３層同時塗布を実施した。
レートフィルムを用い、図１に示す塗布装置を構成し、
下記条件で３層同時塗布を実施した。
【００３８】１層目すなわち第１の塗布手段で塗布する
塗布液は、ゼラチン水溶液にカーボンブラックを分散さ
せた所謂ハレーション防止層用の塗布液で、２層目すな
わちスライドホッパーにおける下層（図１の塗布液７）
は、写真製版用ハロゲン化銀乳剤、３層目すなわちスラ
イドホッパーにおける上層（図１の塗布液８）は、ゼラ
チン水溶液を主成分とした保護膜用の塗布液とした。各
塗布液の液物性は、下記表１に示すとおりである。尚、
粘度はハイシェアーレオメーター、表面張力は液膜破壊
法により測定した。
塗布液は、ゼラチン水溶液にカーボンブラックを分散さ
せた所謂ハレーション防止層用の塗布液で、２層目すな
わちスライドホッパーにおける下層（図１の塗布液７）
は、写真製版用ハロゲン化銀乳剤、３層目すなわちスラ
イドホッパーにおける上層（図１の塗布液８）は、ゼラ
チン水溶液を主成分とした保護膜用の塗布液とした。各
塗布液の液物性は、下記表１に示すとおりである。尚、
粘度はハイシェアーレオメーター、表面張力は液膜破壊
法により測定した。
【００３９】
【表１】
【００４０】下記表２に、塗布時の操作条件とそれに対
する塗布結果をまとめて示す。なお、塗布速度はいずれ
も１８０ｍ／分で、スライドホッパーのスライド面の水
平基準面に対する傾斜角θは３０°とした。また、リッ
プ先端部の厚みは６ｍｍとし、リップ先端角部の面取加
工において曲率半径を４０μｍとした。さらに、ウエブ
との間隙は４５μｍとした。
する塗布結果をまとめて示す。なお、塗布速度はいずれ
も１８０ｍ／分で、スライドホッパーのスライド面の水
平基準面に対する傾斜角θは３０°とした。また、リッ
プ先端部の厚みは６ｍｍとし、リップ先端角部の面取加
工において曲率半径を４０μｍとした。さらに、ウエブ
との間隙は４５μｍとした。
【００４１】
【表２】
【００４２】実施例２ ウエブとして実施例１と同じく、厚みが１００μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムを用い、図２に示す
塗布装置を構成し、下記条件で３層同時塗布を実施し
た。
リエチレンテレフタレートフィルムを用い、図２に示す
塗布装置を構成し、下記条件で３層同時塗布を実施し
た。
【００４３】塗布液およびその層構成は実施例１と同様
とした。
とした。
【００４４】薄板の幾何学的条件については図３に示す
とおり、厚みＦは１．５ｍｍとし、スライドホッパー最
下層部材の上面からの突出量Ｄは２５ｍｍとし、リップ
先端角部（Ｐ部）の面取り加工において曲率半径を４０
μｍとした。さらに、ウエブとの間隙Ｅは４５μｍ、Ｃ
は２００μｍとした。
とおり、厚みＦは１．５ｍｍとし、スライドホッパー最
下層部材の上面からの突出量Ｄは２５ｍｍとし、リップ
先端角部（Ｐ部）の面取り加工において曲率半径を４０
μｍとした。さらに、ウエブとの間隙Ｅは４５μｍ、Ｃ
は２００μｍとした。
【００４５】下記表３に、塗布時の操作条件とそれに対
する塗布結果をまとめて示す。なお、塗布速度はいずれ
も１８０ｍ／分で、スライドホッパーのスライド面の水
平基準面に対する傾斜角θは実施例１と同じく３０°と
した。
する塗布結果をまとめて示す。なお、塗布速度はいずれ
も１８０ｍ／分で、スライドホッパーのスライド面の水
平基準面に対する傾斜角θは実施例１と同じく３０°と
した。
【００４６】
【表３】
【００４７】比較例１ 従来のスライドホッパーと減圧室を用いる従来の塗布方
法による塗布を行なった。塗布液としては、前述の本発
明の実施例で用いたものと同様で、塗布速度も同じく１
８０ｍ／分とした。塗布装置としては、３層スライドホ
ッパーを用いた。その結果を下記表４に示す。なお、リ
ップ先端部とウエブまでの間隙は、１４０〜２５０μｍ
の範囲で最適調整した。
法による塗布を行なった。塗布液としては、前述の本発
明の実施例で用いたものと同様で、塗布速度も同じく１
８０ｍ／分とした。塗布装置としては、３層スライドホ
ッパーを用いた。その結果を下記表４に示す。なお、リ
ップ先端部とウエブまでの間隙は、１４０〜２５０μｍ
の範囲で最適調整した。
【００４８】
【表４】
【００４９】実施例１および実施例２より明らかなよう
に、引取角度φは６０°より１１５°の方が薄膜塗布に
なるほど有利である。また、実施例と比較例とを比較し
た場合、実施例による本発明の塗布方法では、安定した
塗布が行なえることが明らかである。
に、引取角度φは６０°より１１５°の方が薄膜塗布に
なるほど有利である。また、実施例と比較例とを比較し
た場合、実施例による本発明の塗布方法では、安定した
塗布が行なえることが明らかである。
【００５０】スライドビード塗布する場合、当業者では
よく知られた事柄として、最上層の表面張力を他層のそ
れより低くし、粘度は一般的には各層とも同等ないしは
最下層を最も低くすることで安定した塗布が行なえると
いうことがある。
よく知られた事柄として、最上層の表面張力を他層のそ
れより低くし、粘度は一般的には各層とも同等ないしは
最下層を最も低くすることで安定した塗布が行なえると
いうことがある。
【００５１】しかしながら、本実施例で用いた塗布液の
組み合わせの如く、製品の品質設計上やむなく理想の層
構成からは逸脱した液物性とせざるを得ない場合があ
り、表４に示すように適正減圧度の範囲が狭い。従っ
て、安定度の低い塗布となってしまうが、本発明の方法
によれば、より安定して塗布することができる。
組み合わせの如く、製品の品質設計上やむなく理想の層
構成からは逸脱した液物性とせざるを得ない場合があ
り、表４に示すように適正減圧度の範囲が狭い。従っ
て、安定度の低い塗布となってしまうが、本発明の方法
によれば、より安定して塗布することができる。
【００５２】実施例３ 本発明の塗布方法により、第１層目の塗布液を粘度２Ｃ
Ｐ、表面張力５２ｄｙｎｅ／ｃｍの希薄ゼラチン水溶液
とし、実施例２と同じ薄板を用いて該薄板とウエブまで
の間隙（図３の薄板の厚み方向の上端からウエブまでの
距離Ｅ）を１５μｍとし、スライドホッパーで塗布する
２層目、３層目、４層目は、それぞれ実施例１の１層
目、２層目、３層目の塗布液と同様として塗布を実施し
た。
Ｐ、表面張力５２ｄｙｎｅ／ｃｍの希薄ゼラチン水溶液
とし、実施例２と同じ薄板を用いて該薄板とウエブまで
の間隙（図３の薄板の厚み方向の上端からウエブまでの
距離Ｅ）を１５μｍとし、スライドホッパーで塗布する
２層目、３層目、４層目は、それぞれ実施例１の１層
目、２層目、３層目の塗布液と同様として塗布を実施し
た。
【００５３】比較例２ 従来のスライドホッパーと減圧室を用いる従来の塗布方
法により、４層のスライドホッパーを用いて、同様の塗
布液の構成で塗布を行った。
法により、４層のスライドホッパーを用いて、同様の塗
布液の構成で塗布を行った。
【００５４】実施例３および比較例２による塗布方法の
結果は、以下のとおりである。実施例３による本発明の
塗布方法では、２２０ｍ／分の塗布速度でも良好な塗布
面を得ることがができた。これに対し、比較例２による
従来の塗布方法では、１８０ｍ／分が限界であった。こ
の理由として、本発明の場合、第１の塗布手段で塗布し
た塗布膜に対してスライドビード塗布することになるた
め、従来の如く乾燥したウエブに対してスライドビード
塗布することに比べ、ウエブの濡れ性が格段に向上する
ことと同時に、ビードの下部メニスカスとウエブとの衝
突点（動的接触点）についても従来の塗布方法に比べ
て、摂動することなく安定する方向に作用するためであ
る。
結果は、以下のとおりである。実施例３による本発明の
塗布方法では、２２０ｍ／分の塗布速度でも良好な塗布
面を得ることがができた。これに対し、比較例２による
従来の塗布方法では、１８０ｍ／分が限界であった。こ
の理由として、本発明の場合、第１の塗布手段で塗布し
た塗布膜に対してスライドビード塗布することになるた
め、従来の如く乾燥したウエブに対してスライドビード
塗布することに比べ、ウエブの濡れ性が格段に向上する
ことと同時に、ビードの下部メニスカスとウエブとの衝
突点（動的接触点）についても従来の塗布方法に比べ
て、摂動することなく安定する方向に作用するためであ
る。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、減圧室を必要としない本
発明の塗布方法では、より安定したスライドビード塗布
方法を提供することができた。
発明の塗布方法では、より安定したスライドビード塗布
方法を提供することができた。
【図１】本発明に基づく塗布方法の一例を示す模式断面
図
図
【図２】本発明に基づく塗布方法の他の一例を示す模式
断面図
断面図
【図３】本発明に基づく塗布方法の薄板部の一例を示す
部分模式図
部分模式図
【図４】スライドビード塗布時のビード状態を示す拡大
模式図
模式図
【図５】従来のスライドホッパーによる塗布装置の一例
を示す模式図
を示す模式図
１ 塗布バット ２ バックアップロール ３ ウエブ ４ 塗布液 ５ 塗布膜 ６ スライドホッパー ７ 塗布液 ８ 塗布液 ９ 最下層部材 １０ 薄板 １１ 固定部材 １２ 従来のスライドホッパー １３ 減圧室 Ａ ロール回転方向 Ｂ ウエブ走行方向 Ｃ 薄板の厚み方向の下端からウエブまでの距離 Ｄ スライドホッパー最下層部材の上面からの突出量 Ｅ 薄板の厚み方向の上端からウエブまでの距離 Ｆ 薄板のリップ先端部の厚み Ｐ リップ先端部 Ｒ 減圧領域 Ｓ 塗布液 θ 傾斜角度 φ 引取角度
Claims (4)
- 【請求項１】 連続走行しているウエブに塗布液を多層
同時塗布する塗布方法において、該ウエブに第１の塗布
手段により塗布液を塗布し、塗布膜の湿潤状態下、スラ
イドホッパーのリップ先端部とウエブの間隙を該塗布膜
の厚み以内に設定したスライドホッパーを用い、該塗布
膜上にスライドビード塗布することを特徴とする塗布方
法。 - 【請求項２】 スライドホッパーの少なくとも最下層部
材の上面に、薄板を付設することを特徴とする請求項１
記載の塗布方法。 - 【請求項３】 薄板の厚みが、０．１〜５ｍｍ、且つ薄
板がスライドホッパー最下層部材の上面端より接液側に
１〜５０ｍｍ突出してなることを特徴とする請求項１ま
たは２記載の塗布方法。 - 【請求項４】 ウエブと薄板の厚み方向の下端部の距離
が、該ウエブと薄板のリップ先端部の距離と同一かそれ
以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１
項記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6293595A JPH08257483A (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6293595A JPH08257483A (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08257483A true JPH08257483A (ja) | 1996-10-08 |
Family
ID=13214660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6293595A Pending JPH08257483A (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08257483A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003020444A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Procédé pour façonner un film de revêtement multicouches |
-
1995
- 1995-03-22 JP JP6293595A patent/JPH08257483A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003020444A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Procédé pour façonner un film de revêtement multicouches |
| CN1295027C (zh) * | 2001-08-28 | 2007-01-17 | 大日本印刷株式会社 | 多层涂布方法 |
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