JPH08104902A - 圧粉焼結用ｓｕｓ４１０粉末及びその製造方法 - Google Patents
圧粉焼結用ｓｕｓ４１０粉末及びその製造方法Info
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- JPH08104902A JPH08104902A JP6240381A JP24038194A JPH08104902A JP H08104902 A JPH08104902 A JP H08104902A JP 6240381 A JP6240381 A JP 6240381A JP 24038194 A JP24038194 A JP 24038194A JP H08104902 A JPH08104902 A JP H08104902A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 目標とする圧粉密度が確実に得られると共
に、特に、圧粉密度が６．３以上となるＳＵＳ４１０粉
末を提供する。 【構成】 水アトマイズにより製造した圧粉焼結用ＳＵ
Ｓ４１０粉末を真空脱ガス処理することにより、その
Ｃ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／
１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．０
３の関係式を満足するように調整する。具体的には、水
アトマイズ原料の調整により、粉末中のＣ，Ｎの含有量
について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］｝≦０．０２の関係式を満足させておき、かつ、水
アトマイズ後の脱ガス処理により、Ｈ≦０．００１０
［ｗｔ％］となるように調整する。 【効果】 圧粉密度が６．３以上になる。脱ガス処理の
後、さらに焼鈍を行うと一層圧粉密度が向上する。
に、特に、圧粉密度が６．３以上となるＳＵＳ４１０粉
末を提供する。 【構成】 水アトマイズにより製造した圧粉焼結用ＳＵ
Ｓ４１０粉末を真空脱ガス処理することにより、その
Ｃ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／
１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．０
３の関係式を満足するように調整する。具体的には、水
アトマイズ原料の調整により、粉末中のＣ，Ｎの含有量
について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］｝≦０．０２の関係式を満足させておき、かつ、水
アトマイズ後の脱ガス処理により、Ｈ≦０．００１０
［ｗｔ％］となるように調整する。 【効果】 圧粉密度が６．３以上になる。脱ガス処理の
後、さらに焼鈍を行うと一層圧粉密度が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、圧粉焼結用のＳＵＳ４
１０粉末及びその製造方法に関する。
１０粉末及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、圧粉焼結用のＳＵＳ４１０粉末
は、水アトマイズによって製造されることが多かった。
これは、ガスアトマイズではその粒子表面が滑らかにな
りすぎ、焼結がうまくいかないからである。
は、水アトマイズによって製造されることが多かった。
これは、ガスアトマイズではその粒子表面が滑らかにな
りすぎ、焼結がうまくいかないからである。
【０００３】こうした圧粉焼結用のＳＵＳ４１０粉末で
は、圧粉密度の向上が望まれており、従来、Ｃ，Ｎの含
有量を低下させることでその対策がなされてきた。
は、圧粉密度の向上が望まれており、従来、Ｃ，Ｎの含
有量を低下させることでその対策がなされてきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、後述の図２に
示すように、Ｃ，Ｎの含有量を同程度にしても、横軸の
値が０．０５５〜０．０５８の粉末では圧粉密度が５．
７３〜６．０３と大きくばらついており、Ｃ，Ｎの調整
だけでは思った様な圧粉密度が得られない場合があると
いう問題があった。
示すように、Ｃ，Ｎの含有量を同程度にしても、横軸の
値が０．０５５〜０．０５８の粉末では圧粉密度が５．
７３〜６．０３と大きくばらついており、Ｃ，Ｎの調整
だけでは思った様な圧粉密度が得られない場合があると
いう問題があった。
【０００５】そこで、本発明においては、目標とする圧
粉密度が確実に得られると共に、特に、圧粉密度が６．
３以上となるＳＵＳ４１０粉末を提供することを目的と
する。
粉密度が確実に得られると共に、特に、圧粉密度が６．
３以上となるＳＵＳ４１０粉末を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】本発明の
圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末は、水アトマイズによって
製造される圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末であって、その
Ｃ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／
１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．０
３の関係式を満足するようにしたことを特徴とする。
圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末は、水アトマイズによって
製造される圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末であって、その
Ｃ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／
１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．０
３の関係式を満足するようにしたことを特徴とする。
【０００７】この場合、一例として、そのＣ，Ｎの含有
量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４・Ｎ［ｗｔ
％］）｝≦０．０２の関係式を満足し、かつ、Ｈ≦０．
００１０［ｗｔ％］としておくとよい。また、焼鈍によ
る軟化処理が施されていると一層よい。
量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４・Ｎ［ｗｔ
％］）｝≦０．０２の関係式を満足し、かつ、Ｈ≦０．
００１０［ｗｔ％］としておくとよい。また、焼鈍によ
る軟化処理が施されていると一層よい。
【０００８】本発明のＳＵＳ４１０粉末は、Ｃ，Ｎばか
りでなくＨをも含めたＣ，Ｎ，Ｈの含有量を抑制するこ
とにより、圧粉密度を概ね６．３以上にすることができ
る。また、特に、焼鈍による軟化処理をも施すことによ
り、さらに圧粉密度を向上させることができる。
りでなくＨをも含めたＣ，Ｎ，Ｈの含有量を抑制するこ
とにより、圧粉密度を概ね６．３以上にすることができ
る。また、特に、焼鈍による軟化処理をも施すことによ
り、さらに圧粉密度を向上させることができる。
【０００９】この様な圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末の製
造方法としては、水アトマイズにより製造した圧粉焼結
用ＳＵＳ４１０粉末を真空脱ガス処理することにより、
そのＣ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４・Ｎ［ｗｔ％］）＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦
０．０３の関係式を満足するように調整するとよい。
造方法としては、水アトマイズにより製造した圧粉焼結
用ＳＵＳ４１０粉末を真空脱ガス処理することにより、
そのＣ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４・Ｎ［ｗｔ％］）＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦
０．０３の関係式を満足するように調整するとよい。
【００１０】Ｃ，Ｎについては、溶解材料の成分調整に
より低減しておくことができるが、水アトマイズ法では
必然的にＨが粉末に吸収される。このため、水アトマイ
ズで製造した粉末に、さらに脱ガス処理を実施するので
ある。なお、脱ガス処理は加熱下で行うと、Ｈを低減し
易くなる。
より低減しておくことができるが、水アトマイズ法では
必然的にＨが粉末に吸収される。このため、水アトマイ
ズで製造した粉末に、さらに脱ガス処理を実施するので
ある。なお、脱ガス処理は加熱下で行うと、Ｈを低減し
易くなる。
【００１１】一例をあげれば、上記の圧粉焼結用ＳＵＳ
４１０粉末の製造方法であって、水アトマイズ原料の調
整により、そのＣ，Ｎの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］
＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］｝≦０．０２の関係式
を満足させておき、かつ、前記脱ガス処理により、Ｈ≦
０．００１０［ｗｔ％］とするとよい。Ｃ，Ｎ，Ｈの３
成分の含有量を抑えるに当り、Ｃ，Ｎは後の脱ガス処理
では除去が難しいからである。また、Ｃ，Ｎをこれ以上
に低減することは技術的にかなり負担が大きい。そこ
で、材料調整でＣ，Ｎを抑制し、かつ、脱ガス処理にて
最終的なＣ，Ｎ，Ｈ含有量の条件を満足させるようにす
るのである。この方法であれば、それほど負担なく、本
発明のＳＵＳ４１０粉末を製造することができる。
４１０粉末の製造方法であって、水アトマイズ原料の調
整により、そのＣ，Ｎの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］
＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］｝≦０．０２の関係式
を満足させておき、かつ、前記脱ガス処理により、Ｈ≦
０．００１０［ｗｔ％］とするとよい。Ｃ，Ｎ，Ｈの３
成分の含有量を抑えるに当り、Ｃ，Ｎは後の脱ガス処理
では除去が難しいからである。また、Ｃ，Ｎをこれ以上
に低減することは技術的にかなり負担が大きい。そこ
で、材料調整でＣ，Ｎを抑制し、かつ、脱ガス処理にて
最終的なＣ，Ｎ，Ｈ含有量の条件を満足させるようにす
るのである。この方法であれば、それほど負担なく、本
発明のＳＵＳ４１０粉末を製造することができる。
【００１２】また、これらの脱ガス処理の後、粉末を焼
鈍処理すると一層よい。焼鈍処理をすることにより、粉
末が軟化し、より圧粉密度を向上させるからである。こ
の様に、本発明のＳＵＳ４１０粉末は、圧粉密度が６．
３以上と、非常に高密度化が図れる。この結果、より焼
結密度の高い焼結品を製造することができる。
鈍処理すると一層よい。焼鈍処理をすることにより、粉
末が軟化し、より圧粉密度を向上させるからである。こ
の様に、本発明のＳＵＳ４１０粉末は、圧粉密度が６．
３以上と、非常に高密度化が図れる。この結果、より焼
結密度の高い焼結品を製造することができる。
【００１３】
【実施例】次に、本発明を一層明らかにするために、実
施例及び比較例を説明する。実施例及び比較例として、
水アトマイズにより、表１の様な組成のＳＵＳ４１０Ｌ
の粉末を製造した。このとき、Ｃ，Ｎについては、原料
調整により、ＪＩＳに規定されたＣ，Ｎ含有量よりも一
層抑えたものとしている。また、水アトマイズで製造し
た粉末を、真空炉に入れて２００〜３００℃に加熱した
状態で脱ガス処理を行うことにより、Ｈの含有量を低減
させる処理を行った。
施例及び比較例を説明する。実施例及び比較例として、
水アトマイズにより、表１の様な組成のＳＵＳ４１０Ｌ
の粉末を製造した。このとき、Ｃ，Ｎについては、原料
調整により、ＪＩＳに規定されたＣ，Ｎ含有量よりも一
層抑えたものとしている。また、水アトマイズで製造し
た粉末を、真空炉に入れて２００〜３００℃に加熱した
状態で脱ガス処理を行うことにより、Ｈの含有量を低減
させる処理を行った。
【００１４】また、各粉末について、見掛け密度ＡＤ
［ｇ／ｃｍ3 ］、流動度ＦＲ［ｓ／５０ｇ］、ラトラー
値ＲＶ［％］、圧粉密度ＧＤ［ｇ／ｃｍ3 ］を計測し
た。なお、これらの粉末特性の計測には、粒径１４９μ
ｍ以下で、かつ４０μｍ以下の占める重量比が２０〜５
０％の粉末を用いた。
［ｇ／ｃｍ3 ］、流動度ＦＲ［ｓ／５０ｇ］、ラトラー
値ＲＶ［％］、圧粉密度ＧＤ［ｇ／ｃｍ3 ］を計測し
た。なお、これらの粉末特性の計測には、粒径１４９μ
ｍ以下で、かつ４０μｍ以下の占める重量比が２０〜５
０％の粉末を用いた。
【００１５】なお、表１には、各粉末のパラメータとし
てＫ１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］
の値と、Ｋ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗ
ｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］の値とを併記する。
てＫ１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］
の値と、Ｋ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗ
ｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］の値とを併記する。
【００１６】
【表１】
【００１７】表１から分かる様に、パラメータＫ２＝Ｃ
［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ
［ｗｔ％］の値が小さくなるほど、圧粉密度ＧＤが向上
している。この様子をグラフに整理して見ると、図１の
様になる。ところで、この同じデータを、パラメータＫ
１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］で整
理すると、図２の様になる。
［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ
［ｗｔ％］の値が小さくなるほど、圧粉密度ＧＤが向上
している。この様子をグラフに整理して見ると、図１の
様になる。ところで、この同じデータを、パラメータＫ
１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］で整
理すると、図２の様になる。
【００１８】図１，図２を比較すると分かる様に、ＳＵ
Ｓ４１０粉末の圧粉密度ＧＤは、図２では例えば横軸
０．０５５〜０．０５８の辺りで顕著にばらつきが認め
られるが、図１ではその様なばらつきはなくなり、より
整理が付いているということが分かる。
Ｓ４１０粉末の圧粉密度ＧＤは、図２では例えば横軸
０．０５５〜０．０５８の辺りで顕著にばらつきが認め
られるが、図１ではその様なばらつきはなくなり、より
整理が付いているということが分かる。
【００１９】一方、表１によれば、これらの粉末はＨ＝
０．００１０［ｗｔ％］でもあるが、同様のＨ含有量の
Ｎｏ．１０の圧粉密度ＧＤは６．２１である。また、Ｇ
Ｄ＝６．２辺りを見るとＮｏ．９があるが、そのＨ含有
量は０．００１５［ｗｔ％］となっている。このことか
ら、Ｈ含有量だけでも圧粉密度の評価はできないという
ことが分かる。
０．００１０［ｗｔ％］でもあるが、同様のＨ含有量の
Ｎｏ．１０の圧粉密度ＧＤは６．２１である。また、Ｇ
Ｄ＝６．２辺りを見るとＮｏ．９があるが、そのＨ含有
量は０．００１５［ｗｔ％］となっている。このことか
ら、Ｈ含有量だけでも圧粉密度の評価はできないという
ことが分かる。
【００２０】これらのことから、ＳＵＳ４１０粉末の圧
粉密度の評価に当り、今回検討したパラメータＫ２＝Ｃ
［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ
［ｗｔ％］を用いるとよいということが分かる。即ち、
パラメータＫ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ
［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］で評価すれば、目標と
するような圧粉密度の粉末を確実に得ることができると
いうことが分かる。
粉密度の評価に当り、今回検討したパラメータＫ２＝Ｃ
［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ
［ｗｔ％］を用いるとよいということが分かる。即ち、
パラメータＫ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ
［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］で評価すれば、目標と
するような圧粉密度の粉末を確実に得ることができると
いうことが分かる。
【００２１】こうして評価した結果、圧粉密度ＧＤ≧
６．３を得られたＮｏ．１７〜１９のＳＵＳ４１０粉末
は、Ｋ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］≦０．０３であるということ
が確認できた。また、Ｃ，Ｎ，Ｈを低減させるに当たっ
て、Ｈは脱ガス処理で除去できるものの、Ｃ，Ｎは脱ガ
ス処理では低減できない。逆に、Ｈは水アトマイズの際
に粉末に吸収されるので、原料調整だけでは低減が難し
い。よって、実施例で行った様に、原料調整によって
Ｃ，Ｎを低減しておき、かつ、脱ガス処理によってＨを
低減するという工程を採用するのがよいことが分かる。
そして、パラメータＫ２を０．０３以下にするには、
Ｃ，Ｎ，Ｈのいずれをも低減させる必要があることか
ら、Ｎｏ．１７〜１９の様に、Ｃ，Ｎの含有量について
Ｋ１＝｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］｝≦０．０２の関係式を満足させておき、かつ、Ｈ
≦０．００１０［ｗｔ％］とするのが望ましいというこ
とができる。
６．３を得られたＮｏ．１７〜１９のＳＵＳ４１０粉末
は、Ｋ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］≦０．０３であるということ
が確認できた。また、Ｃ，Ｎ，Ｈを低減させるに当たっ
て、Ｈは脱ガス処理で除去できるものの、Ｃ，Ｎは脱ガ
ス処理では低減できない。逆に、Ｈは水アトマイズの際
に粉末に吸収されるので、原料調整だけでは低減が難し
い。よって、実施例で行った様に、原料調整によって
Ｃ，Ｎを低減しておき、かつ、脱ガス処理によってＨを
低減するという工程を採用するのがよいことが分かる。
そして、パラメータＫ２を０．０３以下にするには、
Ｃ，Ｎ，Ｈのいずれをも低減させる必要があることか
ら、Ｎｏ．１７〜１９の様に、Ｃ，Ｎの含有量について
Ｋ１＝｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］｝≦０．０２の関係式を満足させておき、かつ、Ｈ
≦０．００１０［ｗｔ％］とするのが望ましいというこ
とができる。
【００２２】なお、表１のＮｏ．１７〜１９について、
脱ガス処理の後でさらに焼鈍処理を施したところ、圧粉
密度が６．４７へと向上した。このことから、さらに焼
鈍処理を行うのがよいということがいえる。以上本発明
の実施例を説明したが、本発明は上述した実施例に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種
々なる態様にて実現することができることはいうまでも
ない。
脱ガス処理の後でさらに焼鈍処理を施したところ、圧粉
密度が６．４７へと向上した。このことから、さらに焼
鈍処理を行うのがよいということがいえる。以上本発明
の実施例を説明したが、本発明は上述した実施例に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種
々なる態様にて実現することができることはいうまでも
ない。
【図１】 水アトマイズにより製造されたＳＵＳ４１０
粉末の圧粉密度をパラメータＫ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］で整理
したグラフである。
粉末の圧粉密度をパラメータＫ２＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］で整理
したグラフである。
【図２】 水アトマイズにより製造されたＳＵＳ４１０
粉末の圧粉密度をパラメータＫ１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］で整理したグラフである。
粉末の圧粉密度をパラメータＫ１＝Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］で整理したグラフである。
Claims (6)
- 【請求項１】 水アトマイズによって製造される圧粉焼
結用ＳＵＳ４１０粉末であって、そのＣ，Ｎ，Ｈの含有
量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ
％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．０３の関係式を満足
するようにしたことを特徴とする圧粉焼結用ＳＵＳ４１
０粉末。 - 【請求項２】 請求項１記載の圧粉焼結用ＳＵＳ４１０
粉末であって、そのＣ，Ｎの含有量について｛Ｃ［ｗｔ
％］＋（１２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］｝≦０．０２の関
係式を満足し、かつ、Ｈ≦０．００１０［ｗｔ％］とし
たことを特徴とする圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載の圧粉焼結用
ＳＵＳ４１０粉末であって、焼鈍による軟化処理が施さ
れていることを特徴とする圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉
末。 - 【請求項４】 水アトマイズにより製造した圧粉焼結用
ＳＵＳ４１０粉末を真空脱ガス処理することにより、そ
のＣ，Ｎ，Ｈの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１２
／１４）・Ｎ［ｗｔ％］＋１２・Ｈ［ｗｔ％］｝≦０．
０３の関係式を満足するように調整することを特徴とす
る圧粉焼結用ＳＵＳ４１０粉末の製造方法。 - 【請求項５】 請求項４記載の圧粉焼結用ＳＵＳ４１０
粉末の製造方法であって、水アトマイズ原料の調整によ
り、そのＣ，Ｎの含有量について｛Ｃ［ｗｔ％］＋（１
２／１４）・Ｎ［ｗｔ％］｝≦０．０２の関係式を満足
させておき、かつ、前記脱ガス処理により、Ｈ≦０．０
０１０［ｗｔ％］とすることを特徴とする圧粉焼結用Ｓ
ＵＳ４１０粉末の製造方法。 - 【請求項６】 請求項４又は請求項５記載の圧粉焼結用
ＳＵＳ４１０粉末の製造方法において、前記脱ガス処理
の後、さらに粉末を焼鈍処理することを特徴とする圧粉
焼結用ＳＵＳ４１０粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6240381A JPH08104902A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 圧粉焼結用ｓｕｓ４１０粉末及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6240381A JPH08104902A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 圧粉焼結用ｓｕｓ４１０粉末及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08104902A true JPH08104902A (ja) | 1996-04-23 |
Family
ID=17058649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6240381A Pending JPH08104902A (ja) | 1994-10-04 | 1994-10-04 | 圧粉焼結用ｓｕｓ４１０粉末及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08104902A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008248389A (ja) * | 2001-06-13 | 2008-10-16 | Hoganas Ab | 高密度ステンレス鋼製品およびその製造方法 |
-
1994
- 1994-10-04 JP JP6240381A patent/JPH08104902A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008248389A (ja) * | 2001-06-13 | 2008-10-16 | Hoganas Ab | 高密度ステンレス鋼製品およびその製造方法 |
| KR100923604B1 (ko) * | 2001-06-13 | 2009-10-23 | 회가내스 아베 | 고밀도 스테인레스 스틸 제품 및 그 제조 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040120 |