JPH0799620B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0799620B2
JPH0799620B2 JP3179209A JP17920991A JPH0799620B2 JP H0799620 B2 JPH0799620 B2 JP H0799620B2 JP 3179209 A JP3179209 A JP 3179209A JP 17920991 A JP17920991 A JP 17920991A JP H0799620 B2 JPH0799620 B2 JP H0799620B2
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data line
line pair
memory array
pair
switch means
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清男 伊藤
陵一 堀
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高速、高S/Nでチッ
プ面積の縮少可能な半導体メモリに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory capable of reducing the chip area at high speed and high S / N.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】今後半導体メモリが高
集積・大容量化されるにつれて、メモリアレーの占める
面積ならびにこのメモリアレー自身が直接関係する速度
あるいはS/Nに十分配慮した設計がますます重要にな
る。しかし従来方式では不十分であったが、この従来例
を、1トランジスタMOSメモリを例に説明する。
[Problems to be Solved by the Invention] As semiconductor memories become highly integrated and have large capacities in the future, there will be designs that fully consider the area occupied by the memory array and the speed or S / N directly related to the memory array itself. Becomes important. However, although the conventional method is insufficient, this conventional example will be described by taking a one-transistor MOS memory as an example.

【0004】図1は、XとYデコーダ(XDEC,YD
EC)をほぼ同じ位置に配置することによって、後述す
るような、XDECとYDECを分離した方式に比べて
デコーダ部の面積を減少させた例である。しかし欠点と
しては、センスアンプの制御信号φy用の制御線YC
が、図2に示すようにメモリアレー内を途中で直角に曲
がること、この制御線の材料が、ワード線とデータ線の
材料と同じなので、この制御線の分だけ、実効的なメモ
リセル面積が大となる。したがってデコーダ面積は小に
なっても、メモリアレー面積が大となり、結果的にチッ
プ面積の縮少は望めない。デコーダの制御が複雑で誤
操作の原因となる、電気的に平衡すべきデータ対線D
0,D0 ̄が空間的に離れている方式のセル(open deta
line arrangementあるいは1交点セルと称す)なので雑
音が大きい ことなどがあげられる。図3は上記欠点を
解消するための方式である。すなわち、YDECとXD
ECを分離し、センスアンプSAに近接してレイアウト
されたYDECで選択されたφyが出力し、これでSA
の出力を制御し、共通の出力線I/O,I/O ̄ ̄ ̄に
出力させる方式である。しかし本方式の欠点は、YD
EC,I/O線、SAを、メモリアレーMA1とMA
2、あるいはMA3とMA4の中点にレイアウトするの
で、レイアウト困難である上に、レイアウト上からみ
て、データ対称D0,D0 ̄に容量の不平衡が生じ易くな
り雑音が大きくなる、データ線の容量を小にして、S
A入力端への読み出し信号を大にする目的で、1本のデ
ータ線を2n分割(本図ではn=2)すると、YDE
C,I/O線、SAともn組必要となり、nが大になる
ほど面積が増大する、1交点セルなので雑音が大き
い、ことなどがあげられる。図4は、SAとYDECを
近接してレイアウトすることの困雑さを解消するため
に、YDECをチップの片端に配置した例である。しか
し欠点としては、SAの出力を制御するφy用の制御
線YCは、図5に示すように、データ線D0,D0 ̄と同
じ配線層で形成され、このYCがMA1内を走るので、
MA1の面積がその分だけ大きくなる、本来なら、Y
Cには、SAを制御するだけの機能をもてばよいよら、
MA2側は不要である。しかし、D0,D0 ̄の電気的平
衡を保つために、MA2側にも必要となる。したがっ
て、MA2もMA1と同様に面積が大となる、1交点
セルなので雑音が大きい、I/O線が2対必要であ
る、などがあげられる。図6は他の従来例である。デー
タ対線が近接してレイアウトされているメモリセル(fo
lded dataline arrargement、あるいは2交点セルと称
す)なので一般に高S/Nであり、またSAをYDEC
とI/O線とは無関係にMA1とMA2の片端に配置で
きるので、レイアウトが容易である。しかし欠点として
は、データ線の容量を小にして、SA入力端への読み出
し信号を大にする目的で、1本のデータ線を2n分割
(本例ではn=2)すると、I/O線とSAはn組、Y
DECはn/2組必要となり、nが大になるほど、すな
わち高集積化、大容量化されるほど面積が大となる。
FIG. 1 shows an X and Y decoder (XDEC, YD
This is an example in which the area of the decoder section is reduced by arranging EC) at almost the same position as compared with a method in which XDEC and YDEC are separated as described later. However, the drawback is that the control line YC for the control signal φ y of the sense amplifier is used.
However, as shown in FIG. 2, the memory array must be bent at a right angle in the middle, and because the material of this control line is the same as the material of the word line and data line, the effective memory cell area is reduced by this control line. Is large. Therefore, even if the decoder area becomes small, the memory array area becomes large, and consequently the chip area cannot be reduced. Data pair line D to be electrically balanced, which causes complicated operation of the decoder and causes erroneous operation.
0 , D 0  ̄ are spatially separated cells (open deta
It is called a line arrangement or 1-intersection cell), so there is a lot of noise. FIG. 3 shows a method for eliminating the above-mentioned drawback. That is, YDEC and XD
EC is separated, and φ y selected by YDEC laid out close to the sense amplifier SA is output.
Is controlled to output to common output lines I / O and I / O. However, the disadvantage of this method is that YD
EC, I / O line, SA, memory array MA1 and MA
2, or because it is laid out at the midpoint of MA3 and MA4, it is difficult to layout, and in view of the layout, capacitance imbalance easily occurs in the data symmetry D 0 , D 0  ̄, and noise becomes large. The capacity of
If one data line is divided into 2n (n = 2 in this figure) for the purpose of increasing the read signal to the A input terminal, YDE
N sets of C, I / O lines, and SA are required, and the area increases as n becomes larger, which is one intersection cell, so that noise is large. FIG. 4 shows an example in which the YDEC is arranged at one end of the chip in order to eliminate the complexity of laying out the SA and the YDEC close to each other. However, as a drawback, the control line YC for φ y that controls the output of SA is formed in the same wiring layer as the data lines D 0 and D 0  ̄ as shown in FIG. 5, and this YC runs in MA1. So
The area of MA1 will increase by that amount.
It suffices for C to have the function of controlling SA,
The MA2 side is unnecessary. However, in order to maintain the electrical balance of D 0 and D 0 , it is also necessary on the MA2 side. Therefore, the area of MA2 is large like MA1, and since it is a one-intersection cell, noise is large and two pairs of I / O lines are required. FIG. 6 shows another conventional example. Memory cells (fo
It is a high S / N in general because it is called an "dedded dataline arrargement" or a 2-intersection cell, and SA is YDEC.
Since it can be arranged at one end of MA1 and MA2 regardless of the I / O line, the layout is easy. However, the disadvantage is that if one data line is divided into 2n (n = 2 in this example) for the purpose of reducing the capacity of the data line and increasing the read signal to the SA input terminal, I / O line And SA are n sets, Y
DEC requires n / 2 pairs, and the larger n is, that is, the higher the integration and the larger the capacity, the larger the area.

【0005】図7は他の従来例である。利点としては、
2交点セルのレイアウトだから、データ線を2分割し、
MOSTQ0,Q1,Q0 ̄,Q1 ̄で選択すれば、その中
点でセンスできる。したがってメモリセルMCからのS
A入力端への読み出し信号は、データ線の容量が分割に
よって半分となるから、従来方式(図6)の2倍にでき
る。欠点としては、レイアウトは2交点セルだが、動
作は1交点セルなので雑音が大きい。I/O線のとり
出しが片側なので、MA1側のメモリセルMCへの書き
こみ動作が、I/O線からQ1 ̄とQ0ならびにQ1とQ0
 ̄を介して行われるので低速である、読み出し時に、
増幅された信号が、Q1 ̄とQy ̄、ならびにQ0とQy
介して、I/O ̄ ̄,I/Oに出力されるので低速であ
る、2交点セルのレイアウトでは、データ線ピッチが
1交点セルのはほぼ2倍なので、YDECとI/O線を
MA1とMA2の中点であるSA部に配置できない。し
たがって上記のように低速になる、I/O線をMA1
側からもとり出そうとすると、上記の低速の欠点は解決
できる。しかしI/O線とYDECの分だけ面積が増大
する、などである。尚本従来例はIEEE J.Solid-State C
ircuits,vol. SC-15,No.5,Oct. 1980, P.831に記載
されている。
FIG. 7 shows another conventional example. The advantage is that
Since the layout is a 2-intersection cell, divide the data line in two,
If MOSTQ 0 , Q 1 , Q 0  ̄ and Q 1  ̄ are selected, it is possible to sense at the midpoint. Therefore, S from the memory cell MC
The read signal to the A input terminal can be doubled as compared with the conventional method (FIG. 6) because the capacity of the data line is halved due to the division. As a drawback, the layout has two intersection cells, but the operation is one intersection cell, so noise is large. Since the I / O line is taken out on one side, the write operation to the memory cell MC on the MA1 side can be performed from the I / O line by Q 1 − and Q 0 and Q 1 and Q 0.
It is slow because it is done via  ̄, at the time of reading,
The amplified signal is output to I / O and I / O via Q 1 and Q y as well as Q 0 and Q y , so the data is slow in the two-intersection cell layout. Since the line pitch is almost twice that of the one-intersection cell, the YDEC and I / O lines cannot be arranged in the SA part which is the midpoint between MA1 and MA2. Therefore, as described above, the I / O line, which is slow, is set to MA1.
If you try to take it out from the side as well, you can solve the above-mentioned drawback of low speed. However, the area increases by the I / O line and YDEC. This conventional example is IEEE J. Solid-State C
ircuits, vol. SC-15, No. 5, Oct. 1980, P.831.

【0006】図8は従来の他の例で、詳細はISSCC81 Te
chnical Digest,P.84に記載されている。利点は、2交
点セルなので、低雑音である上に、データ線を2分割
し、その中点でセンスできる。すなわちSA入力端への
読み出し信号は従来方式(図6)の2倍にできる、こと
である。しかし欠点としては、I/O線のとり出しが
片側だから、MA1に属するメモリセルMCへの書きこ
み動作が、Qy ̄とQ1とQ0、ならびにQyとQ1 ̄とQ0
 ̄を介して行われるので低速である。読み出し時に、
増幅された信号が、Q1とQy ̄ならびにQ1 ̄とQyを介
して、I/O線に出力されるので、読み出し動作が低速
である、2交点セルでは、データ線ピッチが1交点セ
ルの2倍なので、YDECとI/O線をMA1とMA2
の中点であるSA部に配置できない。したがって上記の
ように低速となる、I/O線をMA1例からもとり出
そうとすると、上記の低速の欠点は解決できる。しかし
I/O線とYDEC分だけ面積が増大する、などがあげ
られる。
FIG. 8 shows another conventional example, and the details are ISSCC81 Te.
chnical Digest, P.84. The advantage is that since it is a two-intersection cell, it has low noise, and the data line can be divided into two and sensed at the midpoint. That is, the read signal to the SA input terminal can be doubled as compared with the conventional method (FIG. 6). However, as a drawback, since the I / O line is taken out on one side, the write operation to the memory cell MC belonging to MA1 is performed with Q y − , Q 1 and Q 0 , and Q y , Q 1 − and Q 0.
It is slow because it is done via  ̄. When reading,
Since the amplified signal is output to the I / O line via Q 1 and Q y and Q 1 − and Q y , the data line pitch is 1 in the 2-intersection cell where the read operation is slow. Since it is twice as large as the intersection cell, YDEC and I / O lines are set to MA1 and MA2.
It cannot be placed in the SA part, which is the middle point. Therefore, if the I / O line, which becomes slow as described above, is also taken out from the MA1 example, the above-mentioned drawback of low speed can be solved. However, the area increases by I / O lines and YDEC.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、チップ
面積を有効に活用した高集積の半導体メモリ装置を提供
することにある。 かかる目的を達成するための本発明の
代表的な実施形態による半導体メモリ装置は、 複数のワ
ード線(W)と、該複数のワード線(W)と交叉するよ
うに配置された複数のデータ線対(D ,D  ̄ ̄;D
’,D ’ ̄ ̄ ̄)と、上記複数のワード線のうちの
一本のワード線と上記複数のデータ線対のうちの一対の
データ線対とが交叉する二つの部分のうち一方に設けら
れたメモリセルとを有する折り返しデータ線方式の第1
と第2のメモリアレー(MA,MA’)と、 上記第1の
メモリアレー(MA)のデータ線対(D ,D  ̄ ̄)
と上記第2のメモリアレー(MA’)のデータ線対(D
’,D ’ ̄ ̄ ̄)とに共通に設けられるとともに上
記第1のメモリアレー(MA)の上記データ線対
(D ,D  ̄ ̄)と上記第2のメモリアレー(M
A’)の上記データ線対(D ’,D ’ ̄ ̄ ̄)との
間に配置された共通データ線対(CD ,CD  ̄ ̄)
と、 上記第1のメモリアレー(MA)の上記データ線対
(D ,D  ̄ ̄)と上記共通データ線対(CD ,C
 ̄ ̄)とを接続する第1のスイッチ手段(GC)
と、 上記第2のメモリアレー(MA’)の上記データ線
対(D ’,D ’ ̄ ̄ ̄)と上記共通データ線対(C
,CD  ̄ ̄)とを接続する第2のスイッチ手段
(GC’)と、 上記共通データ線対に現われる信号を増
幅する如く上記共通データ線対(CD ,CD  ̄ ̄)
にその二入力が接続された増幅器(SA)と、 上記共通
データ線対(CD ,CD  ̄ ̄)と接続された第3の
スイッチ手段(SW)と、 上記第3のスイッチ手段(S
W)を介して上記共通データ線対(CD ,CD
 ̄)に接続された共通信号線対(I/O,I/O ̄ ̄
 ̄)と、 上記第1のスイッチ手段(GC)と上記第2の
スイッチ手段(GC’)とを制 御する第1のデコード手
段(XDEC)と、 上記第3のスイッチ手段(SW)を
制御する第2のデコード手段(YDEC)と、 上記第2
のデコード手段(YDEC)と上記第3のスイッチ手段
(SW)との間に接続されるとともに上記第3のスイッ
チ手段(SW)を制御する制御線(YC)とを具備して
なり、 上記メモリセルは、1つの容量と1つのトランジ
スタとを有し、 上記第1のメモリアレー(MA)の上記
データ線対(D ,D  ̄ ̄)は上記第2のデコード手
段(YDEC)と上記第3のスイッチ手段(SW)との
間に配置され、 上記制御線(YC)は、上記第1のメモ
リアレー(MA)の上記デタータ線対(D ,D
 ̄)を構成する導電層の上に絶縁膜を介して設けられた
他の導電層により構成されるとともに、上記第1のメモ
リアレー(MA)の上記データ線対(D ,D  ̄ ̄)
に略平行となる如く上記第1のメモリアレー(MA)の
上に配置されてなることを特徴とする(図17参照)。
すなわち、第1と第2のメモリアレーに共通の共通信号
線対を有し、第1と第2のメモリアレーのデータ線対と
共通信号線対を接続する第3のスイッチ手段が第1と第
2のメモリアレーの間に配置されるとともに、第1のメ
モリアレーが第2のデコード手段と第3のスイッチ手段
との間に配置され、第3のスイッチ手段を制御する制御
線が、第1のメモリアレーのデータ線対を構成する導電
層の上に絶縁膜を介して設けられた他の導電層により構
成されるとともに、第1のメモリアレーの折り返しデー
タ線方式のデータ線対に略平行となる如く第1のメモリ
アレー上に配置されてなることを特徴とするものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a chip
Providing highly integrated semiconductor memory devices that effectively utilize area
To do. In order to achieve such an object of the present invention
A semiconductor memory device according to a representative embodiment has a plurality of wires.
The word line (W) and the plurality of word lines (W) are crossed.
A plurality of data line pairs (D 0 , D 0  ̄; D
0 ', D 0 '), and one of the above word lines
One word line and one of the plurality of data line pairs
It is provided in one of the two parts where the data line pair intersects.
Of a folded data line system having a memory cell
And the second memory array (MA, MA ') and the first memory array
Memory array (MA) data line pairs (D 0 , D 0  ̄)
And the data line pair (D) of the second memory array (MA ').
0 ', D 0' above with commonly provided in ¯¯¯) and
The data line pair of the first memory array (MA)
(D 0 , D 0  ̄) and the second memory array (M
A ') with the above data line pair (D 0 ', D 0 ' ̄  ̄  ̄)
Common data line pair (CD 0 , CD 0  ̄) placed between
And the data line pair of the first memory array (MA)
(D 0 , D 0  ̄) and the common data line pair (CD 0 , C
First switch means (GC) to connect with D 0
And the data line of the second memory array (MA ')
Pair (D 0 ', D 0 '  ̄  ̄) and the common data line pair (C
Second switch means for connecting D 0 , CD 0  ̄)
(GC ') and the signal appearing on the common data line pair
The common data line pair (CD 0 , CD 0  ̄) as wide as possible
Common to the amplifier (SA) whose two inputs are connected to
The third connected to the data line pair (CD 0 , CD 0  ̄  ̄)
The switch means (SW) and the third switch means (S
W) via the common data line pair (CD 0 , CD 0
Common signal line pair (I / O, I / O)
), The first switch means (GC) and the second switch means
First decoding hand control the switch means (GC ')
The stage (XDEC) and the third switch means (SW)
Second decoding means for controlling the (YDEC), the second
Decoding means (YDEC) and the third switch means
(SW) and is connected to the third switch.
And a control line (YC) for controlling the switch means (SW).
The above memory cell has one capacity and one transistor.
Of the first memory array (MA).
The data line pair (D 0 , D 0  ̄) is the second decoding
Of the stage (YDEC) and the third switch means (SW)
The control line (YC) disposed between the
The above-mentioned data line pair (D 0 , D 0 ) of the rear array (MA)
It is provided on the conductive layer that constitutes the
It is composed of another conductive layer, and has the above-mentioned first memo.
The above data line pair (D 0 , D 0  ̄) of the rear array (MA )
Of the first memory array (MA) so that it is substantially parallel to
It is characterized by being arranged above (see FIG. 17).
That is, a common signal common to the first and second memory arrays
A line pair, and a data line pair of the first and second memory arrays
The third switch means for connecting the common signal line pair includes the first and the third switch means.
The first memory is arranged between the two memory arrays.
Moriaray has a second decoding means and a third switching means.
And a control disposed between and for controlling the third switch means
The lines form a conductive line forming a data line pair of the first memory array.
Another conductive layer provided on the layer through an insulating film.
Is completed and the first memory array return date is
The first memory so that it is substantially parallel to the data line pair of the data line system.
It is characterized by being arranged on an array.
It

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【作用】本発明の代表的な実施形態によれば、以下のよ
うな作用効果がある。 (1)共通信号線から見て、第1のメモリアレーのデー
タ線対と第2のメモリアレーのデータ線対のバランスが
とれるため、どちらのメモリアレーからの読み出しに対
しても読み出し時間のアンバランスがない。 (2)第2デコード手段が第1のメモリアレーと第2の
メモリアレーの間に配置されないため、メモリアレー部
の面積縮小が図れる。 (3)制御線が、第1のメモリアレーのデータ線対を構
成する導電層の上に絶縁膜を介して設けられた他の導電
層により構成されるため、メモリアレーの面積を増大さ
せることがない。 (4)制御線が折り返しデータ線方式のデータ線対に略
平行に配置されているので、データ線対の両データ線に
対して制御線からの雑音が同相となり、雑音の影響が小
さい。
According to the typical embodiment of the present invention,
It has a naive effect. (1) When viewed from the common signal line, the data of the first memory array
The balance between the data line pair and the data line pair of the second memory array
Read from which memory array.
However, there is no imbalance in read time. (2) The second decoding means includes a first memory array and a second memory array.
Since it is not placed between memory arrays, the memory array section
Area can be reduced. (3) The control line configures the data line pair of the first memory array.
Another conductive layer provided on the conductive layer formed through an insulating film
Because it is composed of layers, it increases the area of the memory array.
There is nothing to do. (4) The control line is almost the same as the data line pair of the folded data line system.
Since they are arranged in parallel, both data lines of the data line pair
On the other hand, the noise from the control line is in phase, and the effect of noise is small.
Sai.

【0010】[0010]

【実施例】以下実施例を用いて説明する。EXAMPLES Examples will be described below.

【0011】図9は本発明の概念を示したものである。
すなわち、ワード線Wとデータ線Dijでマトリクスを構
成してメモリアレーを形成するメモリにおいて、1本の
データ線を図示するようにD00,D01,D02,D03のよ
うに分割し、分割した各データ線の一部に、Yデコーダ
とYドライバ(図中ではYDEC)による出力制御信号
YC0で制御されるスイッチSW00,SW01,SW02
SW03を設け、他に属する分割されたデータ線(たとえ
ばD10)と共通な共通入出力線I/O0,I/O1,I
/O2,I/O3との間でデータの授受を行うようにし
たものである。こうすることによって、データ線が細分
化されるために、Xデコーダとワードドライバ(図中で
はXDECにて総称)で選択ワード線Wに現われたワー
ド電圧によってメモリセルMCからデータ線D00に高速
で高出力電圧の読み出し信号が得られる。本方式では細
分化することによるチップ面積の増加は抑えられる。す
なわち従来例(図3)のように各スイッチ部分にYDE
Cをレイアウトする必要がなく、細分化されたデータ線
に共通なYDECでまに合うからである。
FIG. 9 shows the concept of the present invention.
That is, in a memory that forms a memory array by forming a matrix with word lines W and data lines D ij , one data line is divided into D 00 , D 01 , D 02 and D 03 as shown in the figure. , A switch SW 00 , SW 01 , SW 02 , which is controlled by an output control signal YC 0 by a Y decoder and a Y driver (YDEC in the figure) on a part of each divided data line.
A common input / output line I / O0, I / O1, I common to other divided data lines (eg, D 10 ) provided with SW 03
Data is exchanged between / O2 and I / O3. By doing so, the data lines are subdivided, so that the word voltage appearing on the selected word line W by the X decoder and the word driver (generally referred to as XDEC in the figure) causes high speed transfer from the memory cell MC to the data line D 00 . A high output voltage read signal can be obtained at. In this method, an increase in chip area due to subdivision can be suppressed. That is, as in the conventional example (Fig. 3), YDE is attached to each switch part.
This is because it is not necessary to lay out C, and YDEC that is common to the subdivided data lines is sufficient.

【0012】さらに図9で、YCをDijと異なる製造工
程で形成すれば、立体配線が可能となるから、メモリア
レーの面積増加はない。たとえばワード線をポリSiあ
るいはMoなどの金属で、Dijの主要部を第1層目のA
1で、YCを第2層目のA1で形成することも考えられ
る。あるいはワード線を第1層目のA1で、Dijの主要
部をpoly Siあるいは拡散層で形成し、YCを第2層
目のA1で形成することも考えられる。これは第10,
11の1トランジスタセルに示すようにメモリセル(図
10は2交点セル、11図は1交点セル)によって異な
るわけであるが、要するに立体配線を行えばよい。
Further, in FIG. 9, if YC is formed by a manufacturing process different from that of D ij , three-dimensional wiring becomes possible, so that the area of the memory array does not increase. For example, the word line is made of metal such as poly-Si or Mo, and the main part of D ij is made of A in the first layer.
It is also conceivable that YC is formed by A1 in the second layer. Alternatively, it is conceivable that the word line is formed by A1 of the first layer, the main part of D ij is formed by poly Si or a diffusion layer, and YC is formed by A1 of the second layer. This is the tenth
As shown in the 11-transistor cell 11, the memory cells (two-intersection cells in FIG. 10 and one-intersection cell in FIG. 11) differ, but in short, three-dimensional wiring may be performed.

【0013】即ち、図12に示す1交点セルの場合の従
来例aと本発明b、及び図13に示す2交点セルの場合
の本発明a,bに於て、本発明ではYC(図中破線)を
ワード線Wやデータ線Dを設ける層とは別の層に設ける
ことにより、レイアウト上の問題やYCを設けることに
よるセル面積増大の問題を解決したのである。
That is, in the conventional example a in the case of the one-intersection cell shown in FIG. 12 and the present invention b, and in the present invention a and b in the case of the two-intersection cell shown in FIG. 13, YC (in the figure) By providing the broken line) in a layer different from the layer in which the word line W and the data line D are provided, the layout problem and the problem of increasing the cell area due to the provision of YC are solved.

【0014】更に、図14及び図15は2交点セルにお
いて、データ対線2組で1本のYCを共有する例であ
る。図14は同じサブアレー内の隣接対線と共有した場
合で、bはaのデータ線を2分割してI/Oを中間に配
置した例である。図15は、異なるサブアレー内の対線
とYCを共有したもので、bは上記同様にデータ対線を
さらに2分割した例である。
Further, FIGS. 14 and 15 show an example in which two YCs are shared by two pairs of data lines in a two-intersection cell. FIG. 14 shows a case of sharing with an adjacent pair line in the same sub array, and b is an example in which the data line of a is divided into two and I / Os are arranged in the middle. In FIG. 15, YC is shared with the pair lines in different subarrays, and b is an example in which the data pair lines are further divided into two as in the above.

【0015】また、図16は、2交点セルを用いた図9
の具体例であり、図17は図16のさらに詳細な具体例
を示す。すなわち図16は、データ対線、Dij,Dij
と他のデータ対線D′ij,D′ij ̄ ̄に共通に差動増幅
器(センスアンプ:以下SAと略す)を配置した例であ
る。SAを共通にしXDECで制御されるゲートコント
ロールGCを介してDij,Dij ̄あるいはD′ij,D′
ij ̄ ̄に結線し、いずれか一方の、選択されたメモリセ
ルMCに属するGCをONにすれば、MCからの読み出
し信号電圧は図8同様に十分得られる。その信号電圧は
各SAで増幅され、この増幅された信号は、YDECで
制御されて出力されるYCによって制御される。たとえ
ばYC0が選択された結果、YC0にパルス電圧が現われ
ると、YC0によって制御されるSAの出力だけが各I
/O線I/O0,I/O1,……に現われ、さらにリー
ド/ライトコントロール回路(RWC)によって、アド
レス信号Aと書き込み読み出し制御信号WEに制御され
たデータ出力Doutがチップ外部にとり出される。書き
こみも同様に、チップ外部からのデータ入力Diが選択
されたI/O線に入力されて、選択されたMCに入力さ
れることによって行われる。
Further, FIG. 16 shows the case of FIG.
FIG. 17 shows a more detailed specific example of FIG. That is, FIG. 16 shows data pair lines D ij and D ij
And another data pair line D ′ ij , D ′ ij — is a common differential amplifier (sense amplifier: hereinafter abbreviated as SA). D ij via the gate control GC controlled by XDEC the SA in common, D ij ¯ or D 'ij, D'
By connecting to ij and turning on one of the GCs belonging to the selected memory cell MC, a sufficient read signal voltage from MC can be obtained as in FIG. The signal voltage is amplified by each SA, and the amplified signal is controlled by YC which is controlled by YDEC. For example results YC 0 is selected, the pulse voltage appears in YC 0, only the output of the SA, which is controlled by the YC 0 each I
/ O lines I / O0, I / O1, ..., and the data output Dout controlled by the address signal A and the write / read control signal WE is taken out of the chip by the read / write control circuit (RWC). . Similarly, writing is performed by inputting the data input D i from the outside of the chip to the selected I / O line and then to the selected MC.

【0016】図17及び図18を用いてさらに詳細に説
明する。まずプリチャージ信号φpによって全ノード
(D0,D0 ̄,CD0,CD0 ̄ ̄,D′0,D′0 ̄ ̄な
ど)が高電位にプリチャージされた後、XDECによっ
てワード線Wが選択されてワードパルスφwが出力され
ると、それに接続されるMCが選択されて、それに対応
したデータ線(たとえばD0)に、MCの記憶容量Cs
データ線の容量とで決定される微少信号電圧が出力され
る。同時にダミーセルDCからも、φDWをONすること
によってCD0に参照電圧が発生する。尚、ワード線が
選択される以前に、選択されるMCが属さないゲートコ
ントロールGC′は、GCL′はプリチャージ時の高レ
ベルから低レベルにすることによってOFFとなり、G
CはONのままとなっている。したがっとD0,CD0
はMCからの情報に対応した信号電圧が、D0 ̄,CD0
 ̄ ̄にはDCからの参照電圧が現われる。この参照電圧
は、DCの容量がCs/2に選ばれているために、MC
の情報“1”“0”に対応してD0,CD0に現われる読
み出し電圧の中間に設定されるから、センスアンプSA
の入力端には、情報“1”、“0”に対応した微妙な変
動電圧が常に現われることになる。その後に起動パルス
φaによってSAを動作させて上記の差動電圧を増幅す
る。その後でYデコーダYDECで選択されたYCにφ
yが出力され、増幅された差動電圧は、スイッチSWを
経てI/O線に差動でとり出される。本回路の特長は、
図8のようにI/O線のとり出しが片側ではなく、M
AとMA′の中間になっているので高速に読み出し書き
込み動作ができる、プリチャージ回路PCや、DCが
MA,MA′に共通化されているのでそれだけ面積が小
になる、ことである。もちろんこれらの回路を共通にせ
ずに従来のように各MA,MA′に配置することもでき
る。尚図18は電源電圧Vcc=5Vの例であり、φp
GCL,GCL′が7.5Vなのは、データ線D0,D0
 ̄に同じ電圧がプリチャージされるように、十分高電圧
を与えるためである。また、φW,φDWを7.5Vにして
いるのは、ワード線をコンデンサで7.5Vに昇圧する
ことによって、メモリセルからの読み出し電圧を高くと
るためである。このための具体的回路はよく知られてい
るので図中には省略してある。またφyが7.5Vなの
は、CD0,CD0 ̄ ̄からI/O,I/O ̄ ̄に高速に
信号がとり出せるように、SW内のMOSTのgmを高
めるためである。φyを7.5Vに昇圧する方式は、本発
明の方式に特有なものなので図19〜21に具体的に示
した。すなわち従来は、図6のようなデータ線D0,D0
 ̄から高速でI/O線に信号をとり出す為に図19のよ
うな回路が用いられている。本回路の欠点はQtとQt
のゲート電圧が、非選択の場合にフローティング状態に
なることである。しかしたとえフローティングになって
いても、このゲートからの引出線は短いために、結合電
圧が現われてQt,Qt ̄が非選択のはずなのにONにな
ることはない。しかしこの回路を本発明にそのまま使う
わけにはいかない。なぜならYCはメモリアレー内をか
なり長く走る配線になり結合電圧も増大するからであ
る。そこで図20及び図21の回路を用いればよい。Q
1とQ2により非選択YCは低インピーダンスでアース電
位になるので結合電圧はYCにほとんど現われない。
This will be described in more detail with reference to FIGS. 17 and 18. First, all nodes (D 0 , D 0  ̄, CD 0 , CD 0  ̄, D ′ 0 , D ′ 0  ̄, etc.) are precharged to a high potential by the precharge signal φ p , and then the word line is XDEC. When W is selected and the word pulse φ w is output, the MC connected to it is selected and the corresponding data line (for example, D 0 ) has the storage capacity C s of the MC and the capacity of the data line. The determined minute signal voltage is output. At the same time, by turning on φ DW from the dummy cell DC, a reference voltage is generated on CD 0 . Before the word line is selected, the gate control GC 'to which the selected MC does not belong is turned off by changing GCL' from the high level during precharge to the low level.
C remains ON. Therefore the D 0, CD 0 signal voltage corresponding to the information from the MC to the, D 0 ¯, CD 0
The reference voltage from DC appears in  ̄. This reference voltage is MC because the DC capacity is selected to be Cs / 2.
Is set to the middle of the read voltage appearing on D 0 and CD 0 corresponding to the information "1" and "0" of the sense amplifier SA.
A delicate fluctuation voltage corresponding to the information "1" and "0" always appears at the input terminal of. After that, the SA is operated by the start pulse φ a to amplify the differential voltage. After that, φ is selected for YC selected by the Y decoder YDEC.
y is output and the amplified differential voltage is differentially taken out to the I / O line via the switch SW. The features of this circuit are
As shown in Fig. 8, the I / O line is not taken out on one side, but M
Since it is between A and MA ', high-speed read / write operation can be performed, and since the precharge circuit PC and DC are shared by MA and MA', the area becomes smaller accordingly. Of course, these circuits can be arranged in each MA and MA 'as in the conventional case without making them common. Note that FIG. 18 shows an example in which the power supply voltage V cc = 5V, and φ p ,
GCL and GCL 'are 7.5 V because the data lines D 0 and D 0
This is because a sufficiently high voltage is applied to  ̄ so that the same voltage is precharged. Further, φ W and φ DW are set to 7.5 V in order to increase the read voltage from the memory cell by boosting the word line to 7.5 V by the capacitor. A specific circuit for this purpose is well known and therefore omitted in the drawing. The reason why φ y is 7.5 V is to increase the gm of the MOST in SW so that a signal can be taken out from CD 0 , CD 0  ̄ to I / O, I / O  ̄ at high speed. The method of boosting φ y to 7.5 V is unique to the method of the present invention, and therefore is specifically shown in FIGS. That is, conventionally, the data lines D 0 and D 0 as shown in FIG.
A circuit as shown in FIG. 19 is used in order to extract the signal from the I / O line at high speed. The drawbacks of this circuit are Q t and Q t
That is, the gate voltage of is in a floating state when it is not selected. However, even if it is in a floating state, since the lead line from this gate is short, a coupling voltage appears and Q t and Q t  ̄ are not turned on although they should have been unselected. However, this circuit cannot be directly used in the present invention. This is because YC becomes a wiring that runs in the memory array for a long time, and the coupling voltage also increases. Therefore, the circuits of FIGS. 20 and 21 may be used. Q
Due to 1 and Q 2 , the unselected YC has a low impedance and becomes the ground potential, so that the coupling voltage hardly appears in the YC.

【0017】図22は、図17において、YCとデータ
対線D0,D0 ̄との結合容量を等しくし、D0とD0 ̄の
容量を等しくして等価的に雑音を減少させるための一実
施例である。2交点セルの場合には、図10に示すよう
に、YCをD0,D0 ̄の中間にレイアウトしたとして
も、層が異なるために、製造工程でおこるマスクずれに
よってD0,D0 ̄の容量が異なってしまい、これが雑音
源にもなる。そこでマスクずれがおきても、YCを対線
(D0,D0 ̄)内のいずれか一方のデータ線に奇数回交
叉させる(図では1回交叉)ことによって、D0,D0
ともにC0+C1の容量を等しく分かつことができる。図
23は他の一実施例で、対線同志を奇数回交叉させた例
である。
In FIG. 22, in order to reduce the noise equivalently by making the coupling capacitances of YC and the data pair lines D 0 and D 0  ̄ in FIG. 17 equal and making the capacitances of D 0 and D 0  ̄ equal. FIG. In the case of a two-intersection cell, even if YC is laid out in the middle of D 0 and D 0 as shown in FIG. 10, since the layers are different, D 0 and D 0  ̄ due to the mask shift occurring in the manufacturing process. The capacity of each is different, which also becomes a noise source. Therefore, even if a mask shift occurs, YC is made to intersect with one of the data lines in the paired line (D 0 , D 0  ̄) an odd number of times (in the figure, once), so that D 0 , D 0
Both can share the capacitance of C 0 + C 1 equally. FIG. 23 shows another embodiment, which is an example in which paired lines are crossed an odd number of times.

【0018】図24は、図16及び図17の実施例にお
いて、SWがYCだけで制御されるのに対して、YCと
XDECによって制御されるIOCで制御される例であ
る。すなわち選択されたXとYの交点に存在するSWの
みがONとなるから図16のI/O0,I/O1などに
任意に出力をとり出すことができる。これは前もってI
/O0,I/O1をデコードできることを意味するか
ら、RWCに簡略化された回路が採用できる。
FIG. 24 shows an example in which SW is controlled only by YC in the embodiments of FIGS. 16 and 17, while SW is controlled by IOC controlled by YC and XDEC. That is, only the SW existing at the intersection of the selected X and Y is turned ON, so that the output can be arbitrarily taken out to I / O0, I / O1 and the like in FIG. This is I in advance
Since it means that / O0 and I / O1 can be decoded, a simplified circuit can be adopted for RWC.

【0019】図25は、図24を拡張することによっ
て、YCを各データ対線対応ではなく、2組のデータ対
線対応に設けた例である。こうすることによってYCの
配線本数が半分、すなわち配線ピッチはこれまでの実施
例の2倍に拡がるので製造が容易となる。本回路の動作
は、図24と同様に、IOC0,IOC1とYCとの一
致が取れたSWのみがONとなるが、ここでは、IOC
0とIOC1にX系アドレス信号の他にY系アドレス信
号の情報が含まれている点で異なる。すなわち、データ
線D0,D0 ̄の対が選ばれるときは、IOC0データ線
1,D1 ̄の対が選ばれるときは、IOC1がX,YD
ECによって選択される(通常は信号“1”が出力され
る)。なお、上に述べたX系、Y系アドレス信号とは、
単純に平面的な2次点の配置におけるX,Yを意味する
ものであり、メモリの論理的なアドレスとは区別される
べきものであることは言うまでもない。
FIG. 25 shows an example in which YC is provided not for each data pair line but for two sets of data pair lines by expanding FIG. By doing so, the number of YC wirings is half, that is, the wiring pitch is doubled as compared with the previous embodiments, so that the manufacturing is facilitated. In the operation of this circuit, only SWs in which IOC0, IOC1 and YC are matched are turned on as in the case of FIG. 24.
0 and IOC1 are different in that they include information on the Y-system address signal in addition to the X-system address signal. That is, when the pair of data lines D 0 and D 0  ̄ is selected, when the pair of IOC0 data lines D 1 and D 1  ̄ is selected, IOC1 is X and YD.
It is selected by the EC (normally the signal "1" is output). The X-system and Y-system address signals described above are
It goes without saying that it simply means X and Y in the arrangement of the secondary points on a plane and should be distinguished from the logical address of the memory.

【0020】なお、ここでは2組のデータ対線対応にY
Cを設けたが、任意の組数のデータ対線に対応して設け
ることのできることは言うまでもない。
It should be noted that here, Y is used for two pairs of data pairs.
Although C is provided, it goes without saying that it can be provided corresponding to any number of pairs of data lines.

【0021】図26は、上記同様のYCの配線ピッチを
たとえば2倍に拡げる別の実施例であり、ここでは、I
/O線を2組設け、CDO,CDO ̄ ̄ ̄にはI/O−
0,I/O−0 ̄ ̄ ̄ ̄ ̄,CD1,CD1 ̄ ̄ ̄は、
I/O−1,I/O−1 ̄ ̄ ̄ ̄ ̄をSWによって接続
し、外部との信号授受を行なう構成になっている。この
2組のI/O線は、たとえば図9で述べたRWCによっ
てそのいずれかを選択して、Di,Doutと接続する
が、この他にDi,Doutを複数本設け選択動作なし
に、直接Di、Doutとの接続することも可能であ
る。
FIG. 26 shows another embodiment in which the YC wiring pitch similar to the above is doubled, for example, in this case, I
Two sets of / O lines are provided, and I / O-for CDO and CDO
0, I / O-0 ̄ ̄ ̄ ̄, CD1, CD1 ̄ ̄
The I / O-1 and I / O-1 are connected by SW to exchange signals with the outside. These two sets of I / O lines are connected to Di and Dout by selecting one of them by, for example, the RWC described in FIG. 9, but in addition to this, a plurality of Di and Dout are provided and the selection operation is directly performed. It is also possible to connect to Di and Dout.

【0022】本実施例によっても、図25と同様にYC
の配線ピッチを拡げることができ、製造が容異になる。
Also according to this embodiment, YC as in FIG.
The wiring pitch can be expanded, and the manufacturing becomes different.

【0023】さてこれまでの実施例は、図9,16及び
17を基本としてきたが、図1に示すようにX,Yデコ
ーダを近接に配置した構成がとれることも明らかであ
る。図27はそのための一実施例である。ここでは、前
に述べた図17の実施例において、X,Yデコーダを共
用した例を示したが、他の実施例においても同様に適用
可能なことは言うまでもない。
Although the above-described embodiments have been based on FIGS. 9, 16 and 17, it is also clear that the X and Y decoders may be arranged close to each other as shown in FIG. FIG. 27 shows an embodiment for that purpose. Here, an example in which the X and Y decoders are shared is shown in the embodiment of FIG. 17 described above, but it goes without saying that the same can be applied to other embodiments.

【0024】同図のXDEC,Y−DECは図28に示
すように、時間帯を分けてXデコーダの動作AおよびY
デコーダの動作Bを行なう。WD,YDによってこの出
力φxyとφx,φyの一致がとられ、W,YCの出力が形
成される。また図27でWD,YDは単なる論理積の記
号で示してあるが、具体的にはたとえば図20に示すよ
うな回路のように構成される。以上のように形成され
た、W,YDは既に述べた他の実施例と同じように、配
置、配線がなされ、所定の動作を行なう。
As shown in FIG. 28, the XDEC and Y-DEC shown in the figure divide the time zone into operations A and Y of the X decoder.
The operation B of the decoder is performed. The outputs φ xy and φ x , φ y are matched by WD and YD, and the outputs of W and YC are formed. Further, in FIG. 27, WD and YD are shown by simple AND symbols, but specifically, they are configured as a circuit as shown in FIG. 20, for example. The W and YD formed as described above are arranged and wired in the same manner as the other embodiments described above, and perform a predetermined operation.

【0025】本実施例においても図1の従来技術で指摘
した問題点のうち、のデコーダの制御性に関する問題
点は残るが、WとYCと異なる層の導体で形成し、また
2交点形のメモリセルを用いることにより、,の問
題点は解決でき、実用価値が高くなる。
In this embodiment as well, among the problems pointed out in the prior art of FIG. 1, there remains a problem concerning the controllability of the decoder, but it is formed by a conductor of a layer different from W and YC, and is of a two-intersection type. By using the memory cell, the problem of can be solved and the practical value is increased.

【0026】なお、図27において、図面右部に示した
XDECにはYデコーダの機能を持たしていないが、こ
れはYCの形成に必要とするデコーダの数が図面左部の
デコーダの数以内であることを仮定したためであり、場
合によっては右部のデコーダにも左部デコーダと同様の
機能を持たせる場合もありうる。また、WDとYDを並
置して設計することが占有面積の関係で困難な場合に
は、YDの回路を複数のデコーダ部に分配して設計する
ことも可能である。
In FIG. 27, the XDEC shown on the right side of the drawing does not have the function of a Y decoder, but the number of decoders required for forming YC is within the number of decoders on the left side of the drawing. This is because it is assumed that, and the right decoder may have the same function as the left decoder in some cases. Further, when it is difficult to design WD and YD juxtaposed with each other due to the occupied area, it is possible to distribute the YD circuit to a plurality of decoder sections for design.

【0027】図29及び図30は、これまで述べてきた
実施例が2交点セルを対象にしてきたのに対して、1交
点セルあるいはフリップフロップ型のスタティック型メ
モリセルに対する実施例である。図29のXDECの配
置について述べる。通常の2交点セルはワード線は比較
的抵抗の高い配線材(たとえば、poly Si)が使用さ
れるので、そのワード線遅延時間が問題となる。そこで
その時間を極力小さく抑えるために、図16のように、
ワード線を分割しその中心にXデコーダやドライバ(X
DECと総称して図示してある)を配置したわけであ
る。これに対し、1交点セルではワード線が抵抗の低い
A1で形成されているために、ワード線を分割する必要
はなく、図29のようにXDECは一端に配置でき、ド
ライバも片側1個でよいために面積が小にできる。した
がって使用するメモリセルに応じてXDECの位置も適
宜変えることができる。
29 and 30 are examples for a one-intersection cell or a flip-flop type static memory cell, whereas the above-described embodiments have been intended for a two-intersection cell. The arrangement of XDEC in FIG. 29 will be described. Since a word line of a normal two-intersection cell uses a wiring material having a relatively high resistance (for example, poly Si), the word line delay time becomes a problem. Therefore, in order to keep the time as small as possible, as shown in FIG.
Divide the word line and use an X decoder or driver (X
(DEC is collectively shown). On the other hand, since the word line is formed of A1 having a low resistance in the one-intersection cell, it is not necessary to divide the word line, the XDEC can be arranged at one end as shown in FIG. 29, and the driver is also one on each side. Because it is good, the area can be reduced. Therefore, the position of the XDEC can be changed appropriately according to the memory cell used.

【0028】次に以上の実施例を用いて実際にチップ設
計する場合に問題となる周辺回路の配置について、本発
明と直接関連する具体的実施例を述べる。
Next, with respect to the arrangement of the peripheral circuits which becomes a problem when the chip is actually designed by using the above-mentioned embodiment, a concrete embodiment directly related to the present invention will be described.

【0029】メモリLSIは汎用性が重視されるため
に、世界標準のDIP(Dual in LinePackage)が用い
られる。このDIPには細長いチップ形状のものほど収
容しやすい。一方本発明では、データ線を細分化するこ
とに特長がある。しかしデータ線を細分化するほどデー
タ線方向、つまりYC方向は長くなる。そこでYC方向
をチップ長辺方向に一致させるようにメモリセルを配置
すれば、DIPに収容しやすいメモリを設計できること
になる。図16及び図17を用いたこの場合のチップの
概念図を図31に示す。ここでPRC1,PRC2はア
ドレスバッファ回路やその他の制御回路を示す。
Since universality is emphasized for the memory LSI, the world standard DIP (Dual in Line Package) is used. The longer the chip shape, the easier it is to accommodate in this DIP. On the other hand, the present invention is characterized in that the data lines are subdivided. However, as the data lines are subdivided, the data line direction, that is, the YC direction becomes longer. Therefore, by arranging the memory cells so that the YC direction coincides with the long side direction of the chip, it is possible to design a memory that can be easily accommodated in the DIP. A conceptual diagram of the chip in this case using FIGS. 16 and 17 is shown in FIG. Here, PRC1 and PRC2 indicate an address buffer circuit and other control circuits.

【0030】なお、この場合はYC線がメモリアレーM
0′の上を通るが、末端のメモリアレーMA0の上を通
らないことになる。もしメモリアレーMA0,MA0′が
1交点セルあるいはフリップフロップ型のスタティック
型メモリセルの配置であった場合、対となるデータ線の
一方のみにYC線が並置されることになり、YC線から
の雑音が対となるデータ線の一方のみに与えられること
になる。しかしながら、本実施例では2交点セルすなわ
ち折り返しデータ線方式なので、必ず対となるデータ線
の両方にYC線が並置されることになり、YC線からの
雑音の影響は低減されるという利点をもつ。
In this case, the YC line is connected to the memory array M.
It will pass over A 0 ′ but not over the end memory array MA 0 . If the memory arrays MA 0 and MA 0 ′ are arranged with one-intersection cell or a flip-flop type static memory cell, the YC line is arranged in parallel with only one of the paired data lines. The noise from is applied to only one of the paired data lines. However, in the present embodiment, since the two-intersection cell, that is, the folded data line system is used, the YC lines are always arranged in parallel on both of the paired data lines, and the effect of noise from the YC lines is reduced. .

【0031】図32は、前述したようにYCのピッチを
拡げ、その中にYCとは異なる信号や給電線をYCと同
じ層を用いて配置した例である。たとえばこの信号が周
辺回路PRC1,PRC2間のやりとりだけに関係する
信号とすれば、メモリアレー内をメモリアレーの面積を
大きくすることなく走らせることができるから、チップ
面積の低減になる。
FIG. 32 shows an example in which the pitch of YC is expanded as described above, and a signal and a feeder line different from YC are arranged in the same layer as YC. For example, if this signal is a signal related only to the communication between the peripheral circuits PRC1 and PRC2, the chip area can be reduced because the memory array can be run without increasing the area of the memory array.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上から明らかなように、本発明によれ
ば、高速、高集積メモリが実現できる。
As is apparent from the above, according to the present invention, a high speed and highly integrated memory can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来例を説明するための図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional example.

【図2】従来例を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a conventional example.

【図3】従来例を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a conventional example.

【図4】従来例を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a conventional example.

【図5】従来例を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional example.

【図6】従来例を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional example.

【図7】従来例を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a conventional example.

【図8】従来例を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional example.

【図9】本発明を説明するための概念を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a concept for explaining the present invention.

【図10】メモリセルを説明するための図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a memory cell.

【図11】メモリセルを説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a memory cell.

【図12】従来例(a)と本発明(b)との比較説明す
るための図である。
FIG. 12 is a diagram for comparing and explaining a conventional example (a) and the present invention (b).

【図13】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図14】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図15】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing an example of the present invention.

【図16】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing an example of the present invention.

【図17】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing an example of the present invention.

【図18】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing an example of the present invention.

【図19】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing an example of the present invention.

【図20】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 20 is a diagram showing an example of the present invention.

【図21】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 21 is a diagram showing an example of the present invention.

【図22】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing an example of the present invention.

【図23】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing an example of the present invention.

【図24】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 24 is a diagram showing an example of the present invention.

【図25】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 25 is a diagram showing an example of the present invention.

【図26】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 26 is a diagram showing an example of the present invention.

【図27】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing an example of the present invention.

【図28】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 28 is a diagram showing an example of the present invention.

【図29】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 29 is a diagram showing an example of the present invention.

【図30】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 30 is a diagram showing an example of the present invention.

【図31】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 31 is a diagram showing an example of the present invention.

【図32】本発明の一実施例を示す図である。FIG. 32 is a diagram showing an example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SA…センスアンプ、YC…制御線、MA…メモリアレ
ー、W…ワード線、D…データ線、MC…メモリセル、
SW…スイッチ、DC…ダミーセル。
SA ... sense amplifier, YC ... control line, MA ... memory array, W ... word line, D ... data line, MC ... memory cell,
SW ... switch, DC ... dummy cell.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数のワード線と、該複数のワード線と交
叉するように配置された複数のデータ線対と、上記複数
のワード線のうちの一本のワード線と上記複数のデータ
線対のうちの一対のデータ線対とが交叉する二つの部分
のうち一方に設けられたメモリセルとを有する折り返し
データ線方式の第1と第2のメモリアレーと、 上記第1のメモリアレーのデータ線対と上記第2のメモ
リアレーのデータ線対とに共通に設けられるとともに上
記第1のメモリアレーの上記データ線対と上記第2のメ
モリアレーの上記データ線対との間に配置された共通デ
ータ線対と、 上記第1のメモリアレーの上記データ線対と上記共通デ
ータ線対とを接続する第1のスイッチ手段と、 上記第2のメモリアレーの上記データ線対と上記共通デ
ータ線対とを接続する第2のスイッチ手段と、 上記共通データ線対に現われる信号を増幅する如く上記
共通データ線対にその二入力が接続された増幅器と、 上記共通データ線対に接続された第3のスイッチ手段
と、 上記第3のスイッチ手段を介して上記共通データ線対に
接続された共通信号線対と、 上記第1のスイッチ手段と上記第2のスイッチ手段とを
制御する第1のデコード手段と、 上記第3のスイッチ手段を制御する第2のデコード手段
と、 上記第2のデコード手段と上記第3のスイッチ手段との
間に接続されるとともに上記第3のスイッチ手段を制御
する制御線とを具備してなり、 上記メモリセルは、1つの容量と1つのトランジスタと
を有し、 上記第1のメモリアレーの上記データ線対は上記第2の
デコード手段と上記第3のスイッチ手段との間に配置さ
れ、 上記制御線は、上記第1のメモリアレーの上記データ線
対を構成する導電層の上に絶縁膜を介して設けられた他
の導電層により構成されるとともに、上記第1のメモリ
アレーの上記データ線対に略平行となる如く上記第1の
メモリアレー上に配置されてなることを特徴とする半導
体メモリ装置。
1. A plurality of word lines, a plurality of data line pairs arranged so as to intersect the plurality of word lines, one word line of the plurality of word lines, and the plurality of data lines. A first and a second memory array of a folded data line system having a memory cell provided in one of two portions where a pair of data line pairs of the pair intersect with each other; The data line pair and the data line pair of the second memory array are commonly provided and are arranged between the data line pair of the first memory array and the data line pair of the second memory array. Common data line pair, first switch means for connecting the data line pair and the common data line pair of the first memory array, the data line pair and the common data of the second memory array. Connect the wire pair Second switch means, an amplifier whose two inputs are connected to the common data line pair so as to amplify a signal appearing on the common data line pair, and third switch means connected to the common data line pair. A common signal line pair connected to the common data line pair via the third switch means, first decoding means for controlling the first switch means and the second switch means, A second decode means for controlling the third switch means; and a control line connected between the second decode means and the third switch means and controlling the third switch means. and will be, the memory cells, and a single capacitor and a single transistor, the data line pair of said first memory array between said second decoding means and the third switching means And the control line is formed by another conductive layer provided via an insulating film on the conductive layer forming the data line pair of the first memory array, and A semiconductor memory device arranged on the first memory array so as to be substantially parallel to the data line pair of the memory array.
【請求項2】請求項1に記載の半導体メモリ装置におい
て、 上記制御線は上記第1のメモリアレーの上記データ線対
の一方のデータ線と他方のデータ線との両方のデータ線
に対してほぼ等しい結合容量となる如く配置されること
を特徴とする半導体メモリ装置。
The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the control lines for both data lines with one data line and the other data line of said data line pair of said first memory array A semiconductor memory device, wherein the semiconductor memory devices are arranged so as to have substantially equal coupling capacitances.
【請求項3】請求項1又は請求項2のいずれかに記載の
半導体メモリ装置において、 上記共通信号線対は上記複数のワード線とほぼ同じ方向
に配置されることを特徴とする半導体メモリ装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the common signal line pair is arranged in substantially the same direction as the plurality of word lines. .
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