JPH079946U - 上層クラッド付き光ファイバ母材の製造装置 - Google Patents

上層クラッド付き光ファイバ母材の製造装置

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JPH079946U
JPH079946U JP067749U JP6774993U JPH079946U JP H079946 U JPH079946 U JP H079946U JP 067749 U JP067749 U JP 067749U JP 6774993 U JP6774993 U JP 6774993U JP H079946 U JPH079946 U JP H079946U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光ファイバ母材ロッドのコアに対して上層ク
ラッドをほぼ同心に設けた上層クラッド付光ファイバ母
材を製造する装置を提供する。 【構成】 本製造装置は、第1支持手段と第2支持手段
とにより母材ロッド22の高さ方向の大部分を管30内
に支持し、管30の内径は母材ロッド22の外径よりも
大きくこれらの間に所定の間隙を与え、母材ロッド22
を内部に入れた管30を漸次、制御された加熱領域に加
熱手段60により導入し、管の外側と内側との間に圧力
勾配をつくりこれを維持する手段70によって、管の外
側が内側よりも高い圧力を有するように構成されてい
る。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案はガラス管をガラスロッド上に押しつぶして光ファイバの母材ロッドを 作る方法及び装置に関する。
【0002】
【従来技術】
光ファイバの需要が多いのでMCVD(改良型科学的気相堆積)工程の生産性 増大への努力が促されている。しかし、MCVD工程の処理速度はサブストレー ト管の壁厚によって制限される。最適な光学的および幾何学的特性を有した光フ ァイバを得るには、光ファイバ母材は特定の制限値を有したコア対クラッドの質 量比を待たなければならない。大径の母材を得るためにサブストレート管の質量 を増やすにはサブストレート管の壁厚を大きくすると、反応物質を含んだガスに 対する熱伝導率が減少してガラス粒子の各層の堆積に要する時間が長くなる。も し、サブストレート管の壁厚が大きすぎると、熱伝導率が不充分となり気泡の形 成や不完全締結をもたらす。
【0003】 MCVD工程の生産性を高める1つの方法は、まず、所望のコア対クラッド質 量比以上の質量比を有した下層クラッド母材をつくることであり、この母材は上 層クラッド管と称されるガラス管に挿入され母材上に押しつぶされる、これはロ ッド/管技術と称されている。母材のコアのまわりに追加される上層クラッドに よる偏心を最小にすることが望ましい。
【0004】 上層クラッドの管に母材を挿入するには従来手動で行なっていた。現在の性能 テストのレベルでは、母材が管の内表面に接触していても有害であるとは考えら れていなかった。しかし、上層クラッドの管と下層クラッドの母材との間の径方 向の不一致は最小とするべきであり、さもなくば線引されて得られた光ファイバ のコアは偏心しすぎたものとなり、光ファイバ間のスプライス特性が悪いものと なる。ガラスロッドをガラス管内に挿入する方法および装置としては、さらに巧 妙なものが知られている。
【0005】 1985年3月19日付けのエッチ・マツムラ等による米国特許第4,505 ,729号は光ファイバ母材の製造方法を開示しており、この工程は前述のロッ ド/管技術の変形である。マツムラ等の方法ではドープされたガラス粒子層が石 英サブストレート管の内表面に堆積される。ロッドが同軸的に挿入されたサブス トレート管は、管内圧が減少してつぶされ母材をつくりこの母材のクラッドある いはジャケットは断面が楕円である。
【0006】
【考案が解決すべき課題】
従来技術にとって必要なもの及び従来技術に備わってないと考えられるものは 、光ファイバの強度及びコアの同心性を落とすことなく、母材ロッドに上層クラ ッドを迅速に形成する方法および装置である。ガラス母材ロッドを前以て挿入し たガラス管をロッド上に押しつぶす方法および装置において、要望される方法お よび装置は、ほぼ同心の層を有しロッドと管との間にエアポケットを有さない母 材をもたらすものである。望ましくは、このような要望される方法および装置は 、現存する工場設備の能力を増大させるものである。光ファイバの生産能力をあ げると、それ以上に歩留まりが減少するので、ロッド/管製造技術の要望される 押しつぶし工程によって歩留まりを減少させないよう注意する必要がある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前述の問題点は、上層クラッド付きの母材を製造する本考案の装置によって解 決される。まず、所定の光学的および幾何学的特性を有し、ほぼ真っすぐな母材 ロッドと管とをつくる。母材ロッドを管に対して位置決めした後、これらを相対 的に動かして母材ロッドの大部分を管内に配設する。母材ロッドの外径と母材ロ ッドの外周に配設された管の内径との差は所定値を超えない。管およびその内部 の母材ロッドは、それらの長さ方向各部に対して漸次、制御された加熱領域に導 入される一方、管の外側と内側とに圧力勾配をつくって外側の圧力を内側よりも 高くしている。
【0008】 好ましい実施例においては、管の内側の圧力は周囲圧力よりも低くされる。そ して、管の内側の圧力は約0.15〜0.2大気圧であり、周囲圧力は大気圧で ある。
【0009】
【実施例】
図1を参照するに、全体として符号20で示され、母材ロッド22と上層クラ ッド24とより成る母材(図2参照)をつくる装置が示されている。母材ロッド 22は各々所定の光学的および幾何学的特性を有したコアと下層クラッドとを含 むロッドである。母材ロッド22は、例えば改良型気相堆積(MCVD)と称さ れる公知の工程によって製造できる。MCVD工程は前述の従来技術の米国特許 第4,217,027号に開示されており、ここで参照のために言及しておく。
【0010】 生産効率を上げるために母材ロッド22に対して上層クラッド24がつくられ る。これには、所定の光学的および幾何学的特性を有したガラスより成る管30 (図1、図3、図4)をつくり、この管30内に母材ロッド22を配設し、管を ロッド(図2参照)上に押しつぶしている。押しつぶされた管とコアとの同心性 を確実にするために、管30とこの内部に挿入されたロッドとはほぼ真っすぐで なければならない。
【0011】 図1からわかるように、管30はその長さ方向の軸31を垂直にして配設され る。また、管30は、垂直旋盤枠37の下腕35に支持されたホルダ33に取付 けられたジンバル型チャック32に取付けられているので、管30はヒンジ結合 されてその底部でどのような方向に対しても旋動することができる。好ましくは 、下方のチャック32は管30の外表面に対してシールをも与えている。母材ロ ッド22は、上方のチャック41から懸垂されて管と位置決めされる。上方のチ ャック41は旋盤枠37に対して片持ち梁支持された上腕43によって支持され る。この後、下腕35と上腕43とを相対的に動かし、従って、管と母材ロドと を相対的に動かして母材ロッドの長さ方向の大部分を管内に配設する。
【0012】 母材ロッド22に対する管30の同心性を保つために以下の工程がとられる。 母材ロッド22はほぼ真っすぐでなければならない。さらに、母材ロッド22の 外表面と管30の内表面との間隙44(図4参照)がすべての位置において制御 される。このことは、管30と母材ロッド22とを以下のように選定することに よって行なえる。すなわち、外層クラッド管30の内径と母材ロッド外径との差 は、管とロッドとの間の間隙が所定値より大きくならないように選定される。ロ ッド外径が17.5mmであって管内径が19mmであると所定値は1.5mm である。当然ロッドは管内に同心的に配設されるので(図4参照)、約0.75 mm以下である均一な間隙44を好適に与えている。
【0013】 母材ロッド22を管30に対してその中心に最初に設定できると好ましいので あるが、ロッド挿入時にこのことがいつも達成されるものではない。押しつぶし 工程の前で、時にはロッドが管に触っていたり、管に対して同心でないことがあ る(図5参照)。押しつぶし工程前に、このような接触や非同心状態があると、 その結果得られる外層クラッド付き母材は、MCVD工程でつくられた母材ロッ ドの中心よりずれた中心を有する。母材ロッド22のコアの中心と母材ロッドと 外層クラッド管30との合成体の中心との距離を偏心と称する。
【0014】 押しつぶし工程前における管30内の母材ロッドの偏心を減少させるためには 、従って管に対してオフセットを与える。このオフセットの動きは、管の底部を ジンバル型チャックに結合してあらゆる方向に旋動できるようにすることによっ て容易に行なえる。
【0015】 押しつぶし工程を始める前に、母材ロッド22の垂直方向位置を管30に対し て調節する。最初に中心決めカラー51を管30の上端に取付ける(図6参照) 。中心決めカラー51内には、例えば弾性材の環53を設ける。弾性材は母材ロ ッド22と管30とに係合して、ロッドをカラーの位置において、管30の中心 に位置決めする。次に、リング状トーチ60を母材ロッドの自由端62(図6参 照)の下約10cmの位置に設置する。リング状トーチは、1984年10月1 6日付けのジェー・アール・ニス(J.R.Nis)およびシー・ディー・スペ インアワー(C.D.Spainhour)による米国特許第4,477,24 4号に示されたトーチと同様の構造を有し、この米国特許をここに参照として言 及しておく。例えば、オキシ水素トーチであるこのトーチ60は管30の全周を 取り囲む。もちろん、管30の一部しか取り囲まないトーチも使用することがで きる。管30とロッド22をそれらの長さ方向軸のまわりに回転すると、トーチ 60は管30を充分に加熱して管30を再位置決めするとともにトーチの設置位 置でオフセット63(図7参照)を形成し、そして管30が母材ロッド22の中 心に位置決めされる。実際では、管30は、特定の位置で加熱することによって 、また、母材ロッド22に対して再位置決めすることによって、その応力が軽減 される。
【0016】 オフセット63の効果は母材ロッド22の大部分を管30に対してほぼ同心に 位置決めすることである。このオフセットによって、母材ロッド22の先端が管 30の壁と接触する可能性を大幅に減少させている。
【0017】 オフセット63の形成後、中心決めカラーを取り除いてリング状トーチ60を 管30の基部から上端65へ上昇させる(図1参照)。トーチ60は管30の上 端65あるいはその近くで所定の時間滞まり、その部分で管を母材ロッド22に シールする。
【0018】 トーチ60が管30の上端あるいはその近くで所定の時間滞まることを開始す ると、下腕35とホルダ33に延びて管の下端に結合された装置70(図1参照 )の導管72を介して、管の外側よりも低い圧力を管内に発生するよう制御され る。その結果、管30の上端部と母材ロッド22との間のシールがこの管内減圧 によって達成される。好ましい実施例においては、管の内側の圧力は例えば約0 .15から0.2気圧の範囲である。ジンバル型チャック32は好ましくは真空 カプラとして作用し、管30に対する空密シールによって管とロッド22との間 の真空を維持できる。
【0019】 所定の滞留時間の後、トーチは管の長さ方向を下方に移動される。トーチ60 が管30の長さ方向を下方に移動され、管をその長方向の各部に対して漸次加熱 領域に導入される間維持される真空状態によって、管30は比較的早い速度で母 材ロッド22(図8参照)上に押しつぶされた図2に示す上層クラッド付き母材 を形成する。加熱領域はあまり高い温度を避けるように制御される。低い温度を 使用することによって、径方向温度勾配が管の長さ方向の各部に対して確立され る。このことによって、管30が加熱領域での管のスティフネスの故に母材ロッ ド22に対して位置決めを維持される。
【0020】 トーチ60が管30の長さ方向に移動する際、管と母材ロッド22は回転させ られる。これは管30とロッド22の加熱が一般的に対称でないから行われる。 また、管30とその内部のロッド22はトーチ60の加熱領域においてあるいは 正確に中心の位置決めがなされていない場合がある。この場合に得られるロッド および管からなる製品はよりゆるやかな回転速度によって改善されることが見出 された。速度が速くなると、遠心力効果が増大して偏心に悪影響を及ぼす。好ま しい実施例においては回転速度は10rpmである。
【0021】 本考案の好ましい実施例においては、管30の内側の圧力は外側の圧力より低 くされていることに注目されたい。好ましい実施例によれば、管30を真空カプ ラチャック32を介して真空装置70に結合することによって減圧している。し かし、同一効果を得るのには、管30の外側の圧力を内側の圧力よりも高くする こともできる。重要なことは、管30の外側と内側とに圧力勾配をつけて、外側 の圧力を内側の圧力よりも高くすることである。
【0022】 本考案の装置によれば、管30が母材ロッド22に押しつぶされる速度が速く なり、約7cm/min の押しつぶし速度が得られた。従来と比較すると、水平旋盤 構成を用いMCVD工程で母材をつくるのに用いる以外は、圧力勾配を用いない 場合、約1cm/min の押しつぶし速度である。周知のように従来の工程では、管 の内側の圧力を大気圧よりも少し高くして母材管の押しつぶしを行っている。
【0023】 上述の圧力勾配は、管をロッド上に押しつぶす速度を早めるのに役立つ。しか し、最終母材が楕円形となるのを避け、かつ最終母材の上層クラッドが母材ロッ ドのコアと同心となるようにするために、さらに工程をつけ加える。追加の工程 は、管とロッドとの間隙の制御工程、加熱領域の制御工程および管30と挿入さ れたロッドとの初期同心性の制御工程を含む、加熱領域の幅とその温度ならびに 勾配特性を制御し、かつ、管30と母材ロッド22との間隙ならびに初期同心性 を制御することによって、最終母材が楕円形となることなく管の押しつぶしを早 めるのに真空状態を用いることができる。
【0024】 従来技術に開示されたところから予期される結果に反して、本考案の方法およ び装置を使用すると、最終の上層クラッド付き母材の品質は良好である。従来技 術によれば、押しつぶしの際に圧力が必要であるが、真空状態を利用すると、母 材の一部が楕円形となると思われている。たとえば、偏光光ファイバをつくるた めには、光ファイバ母材管をつくった後に、管の内側を真空状態にして押しつぶ す。真空状態によって管がより一層楕円形となるので、押しつぶしの後の光ファ イバは、押しつぶし工程の初期の管よりもより楕円形となる。非零楕円性は一般 に押しつぶし工程の初期に管の内側の真空状態によってつくられる。押しつぶし 工程で初期圧力を加え、管の径が小さくなるに従ってこの圧力は増大するので、 管がさらに押しつぶされていく間所与の楕円性を維持している。
【0025】 管に比較してロッドが小さいときには、管をつぶすことは比較的簡単であると いうことが見出された。従来技術はこの原理に従って上層クラッド管の最終形状 の楕円性を達成している。しかし、ロッドの大きさが管の内径に近づくと、管を つぶすのに充分な余裕がない。本考案の方法および装置においては、管30の内 壁と母材ロッド22の外表面との間隙が制御され、この間隙は充分に小さいので 楕円性を最小にしている。
【0026】 さらに、従来技術によれば、押しつぶしの際、正の内圧の助けをかりて円形性 を保持している。1979年5月15日付のダブル・ヂー・フレンチ(W.G. French)およびダブル・タスカ(W.Tasker)による米国特許第4 ,154,591号を参照されたい。しかし、大気圧より少し高い圧力を例えば MCVD工程での母材押しつぶしの際に用いると、上層クラッド管を満足に与え られないことが見出された。MCVD工程で正の圧力を用いた押しつぶしは非対 称となり空気のボイドを形成することが見出された。対照的に、本考案の方法お よび装置を用いると、母材ロッドと管との間にボイドが形成されないことが見出 された。
【0027】 最終母材製品の偏心を最小にするよう注意することは明かである。旋盤でこれ を行なうと、これが垂直であっても、熱の大部分は管30に与えられ、管のみが 変形する。もし管30が偏心していると、管はまず一点でロッド表面が接触しロ ッドに固着する材料が動かなくなる。初めに固着した一点での管の壁厚は固定さ れたものとなる。管30の残りの部分はさらに押しつぶされていくに従って管の 壁厚は大きくなる。従って、管が母材ロッドに最後に接触する部分の上層クラッ ド付き母材は最大の壁厚を有し、最初に母材ロッドに接触する部分は最小の壁厚 を有する。これら二つの位置は一般に径方向に逆の位置にあり、望ましくない偏 心となる。
【0028】 最終ロッドとの管の断面形状を得るために真空引きを用いたある種の従来技術 とちがって、本考案の装置は、ロッドと管の同心性を維持しつつ比較的速い管の 押しつぶしを行なう。たとえば、本考案の方法および装置によってつくられた上 層クラッド付き母材ロッドから線引きされた光ファイバの偏心は1ミクロン以下 であることが見出された。
【0029】 加熱領域は温度勾配が比較的急峻になるように制御される。良く知られている ように、加熱領域とは、温度が使用するガラスの溶融点である1600℃になる 場所からこの温度以下に下がる場所までの領域である。図1の垂直旋盤構成に用 いたトーチでは、温度が1600℃からその最大値に上昇する距離は比較的短く 、代表的には約10mmである。加熱領域が比較的狭くかつ急峻になるように制 御することによって問題が解決される。
【0030】 さらに、押しつぶしの結果、管30のほぼ全表面が母材ロッドにつくようにこ の加熱領域を制御している。このことによって光ファイバの強度を下げる管とロ ッドとの間のボイドの形成を避けるのに役立つ。また、初めに管とロッドとの位 置合わせを行ない、加熱領域の幅を不安定性が生じる程広くしていないので、押 しつぶされた管はロッドと同心である。
【0031】 図1に示した構成の変形も使用可能である。たとえば、管30の代わりにロッ ド22をチャック32に取付け、ロッドの代わりに管30を上部チャック41に 取付けることもできる。本考案の方法および装置は、母材ロッドと管が線引き炉 (図9参照)に導入される際に管30を母材ロッド22に押しつぶすのにも適用 できる。垂直旋盤構成において、管30は加熱されこの熱エネルギはロッドにさ らに放射される。線引き炉において、熱エネルギが管30と母材ロッド22の両 者に直接与えられる。さらに、加熱領域の炉内での最大温度は旋盤での最大温度 よりも高い。従って母材ロッド22と管30との両者はより高い温度になり、前 述した旋盤での押しつぶしに比較して、炉内での管30の母材ロッド22への押 しつぶしの間より低い粘度とより高い流動性となる。しかし、軸対称の線引き力 が線引きの間母材ロッド22と管30との両者に作用する。上層クラッドを付け る線引きの間に、このより高い流動性と母材ロッド22と管30とに作用する軸 対称の線引き力との両者が母材ロッドと管とに対して自己中心決め機構を与え、 前述した管30内の母材ロッド22の偏心に対して逆に働きかけようとする。
【0032】 図9からわかるように、把手部82を備えた母材ロッド22はチャック84か ら懸垂される。母材ロッド22が管30に入る入口には真空カプラ86が備えら れ、入口をシールして管の内壁とロッドとの外表面との間の空間を所定の圧力に 維持する。母材ロッド22と管30は、例えばジルコン誘導炉である炉80に導 入される。
【0033】 母材ロッド22と管30とが炉内に導入されると、好ましい実施例では真空装 置(図示せず)が真空カプラ86を介して管と母材ロッド管の空間に結合される 。炉80内の管はその長さ方向の各部が漸次母材ロッド22上に押しつぶされ、 光ファイバ88が上層クラッド付き母材から線引きされる。管30とロッド22 が同時に流体となる炉の線引き部分において、光ファイバの線引き力は管とロッ ドに対する自己中心決め機構を与えるものと考えられる。母材ロッド22と管3 0の両者に作用する軸対称な線引きテンションが位置合わせに役立つ。
【0034】 線引きされた光ファイバ88の直径は、炉から出た直後に装置91によって測 定され、この測定値は制御システムの入力となる。制御システムでは、測定値が 所望値と比較されここでの出力信号によって光ファイバの直径が所望値に近づく ように線引き速度を調節している。
【0035】 光ファイバ88の直径を測定した後、装置93によって光ファイバに保護被膜 が付けられる。次に被膜のついた光ファイバ88は、中心決めゲージ95、被膜 を処理する装置96および被膜付きの光ファイバの直径を測定する装置97を経 た後、ケーブルとして使われる前にキャプスタン99を介して試験および保管の ために巻枠に巻き取られる。光ファイバの本来的な高強度を維持しておくことは 、光ファイバのリボン工程、ジャケット工程、接続工程およびケーブル工程なら びにサービス寿命の期間において大切である。
【0036】 管30を押しつぶすのに線引き炉を用いると、温度が高いのでガラスの粘度が 低い。このため、ガラスが流動することとなるが、軸対称な線引き力によって母 材ロッド22とこれに対して押しつぶされる管30を同心的に線引きすることが 容易となる。炉内においては、一般に最大温度への上昇はリングトーチを使用し たときよりも急であるが、加熱領域を通過するロッドの速度は旋盤構成よりも遅 い。管の押しつぶしが時間と温度に依存し炉の温度はある程度固定されているの で、加熱領域は炉30に沿ったその長さを制御することによって制御される。温 度勾配は管がロッド状に押しつぶされる領域において比較的急峻である。
【0037】 図10に示す他の実施例の構成において、光ファイバを線引きする際に管が母 材ロッドに押しつぶされる。母材ロッド100は例えばMCVD工程でつくられ る。母材ロッドの外径よりも少し大きな内径と把手部分102とを有する管10 4は、母材ロッドのまわりに配設される。管104は端部108でロッドにシー ルされる。次に、管の他の部分は管の内周縁の複数の場所110でロッドに止め られる。把手部分102の端部には開口111が形成され、真空装置が支持チャ ック112を介して結合されているので、光ファイバの線引きの間管内の圧力を 制御できる。ロッドと管を上部チャックで支持するのに母材ロッドのいずれの部 分をも使用していないので、この構成は比較的高価な母材ロッドを最大限使用で きる。
【0038】 管を内部にシールした母材ロッドを炉113の上方に懸垂するために管の把手 部分102が支持される。次に図9に示す実施例のように、母材ロッドと管は炉 内に進められ炉からの光ファイバ114の線引きを容易にする。管104の長さ が短くなるに従って、管内の圧力は外側との圧力の勾配を制御された範囲内に維 持するよう調節される。
【0039】 ガラスの粘度を制御する加熱領域の温度と幅、母材ロッドと上層クラッド管と の間の間隙の大きさおよび間隙内圧力、ならびに上層クラッド管内の母材ロッド の中心性を最適化することによって、比較的小さな偏心の上層クラッド付き母材 を製造した。これらすべてのパラメータは処理速度と最終光ファイバの形状に影 響し、光ファイバの強度は加熱領域の特性の影響を受ける。これらパラメータを 最適化することによって、現在の市場の光ファイバシステムに要求される仕様を 満足する強度とコア中心性を有した光ファイバを製造する高速の上層クラッド付 け工程が得られる。ここで説明した上層クラッド付け工程は、光ファイバの歩留 まりの低下を避けながら製造能力を格段に向上させる。
【0040】 以上説明した構成は単に本考案を説明するためのものであることを理解された い。当業者にとっては本考案の原理を実施して本考案の精神および範囲に入る他 の構成を考えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】母材ロッドを管内に挿入して管との位置決めを
行ない、管を母材ロッド上に押しつぶすための装置の斜
視図。
【図2】本考案の方法および装置によってつくられた上
層クラッド付き母材の断面図。
【図3】母材ロッドの直径と管の内径との差を説明のた
めに誇張して示した管内の母材ロッドを示す断面正面
図。
【図4】図3のロッドと管の断面図。
【図5】管内の母材ロッドの位置を示す図。
【図6】管内の母材ロッドの位置を示す図。
【図7】管内の母材ロッドの位置を示す図。
【図8】内部に母材ロッドを配設した管に沿ってトーチ
を移動させて管を母材ロッド上に押しつぶすのを示した
一部断面正面図。
【図9】光ファイバの線引きの間に管を母材ロッド上に
押しつぶしてロッドに上層クラッドを付けるのに使用で
きる他の装置を示す図。
【図10】光ファイバの線引きの間に管を母材ロッド上
に押しつぶす構成の他の実施例を示す図。
【符号の説明】
21・・・・・・・・・・・・・・・・光ファイバ母材 22・・・・・・・・・・・・・・・・母材ロッド 24,30・・・・・・・・・・上層クラッド管 42,41・・・・・・・・・・チャック 60・・・・・・・・・・・・・・・・トーチ 80,113・・・・・・・・炉
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 アンソニー トーマス デ−アネッサ アメリカ合衆国 30067 ジョージア,マ リエッタ,エス.イー.,フォックス ヒ ルズ ドライヴ 3743 (72)考案者 フランツ トーマス ゲイリング アメリカ合衆国 07960 ニュージャーシ イ,モリスタウン,ポスト ハウス ロー ド(番地なし) (72)考案者 ウィリアム マルコルム フレイガル アメリカ合衆国 30084 ジョージア,タ ッカー,ウィンディ コート 3650 (72)考案者 トーマス ジョン ミラー アメリカ合衆国 08502 ニュージャーシ イ,ベルメド,カムデン ロード 26

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コアと内層クラッドとを有したほぼ真っ
    すぐな母材ロッドを担持する第1支持手段と、 所定の特性の光学部材より成る管を担持する第2支持手
    段と、前記第1、第2支持手段は母材ロッドの長さ方向
    の大部分を前記管内において担持でき、前記管の内径は
    母材ロッドの外径よりも大きくこれらの間に所定の間隙
    を与え、 前記母材ロッドを内部に配設した管を、その長さ方向各
    部に対して漸次、制御された加熱領域に導入する加熱手
    段と、そして前記管とその内部に対して漸次、加熱領域
    に導入する前記加熱手段と相俟って、前記管の外側が内
    側よりも高い圧力を有するように管の外側と内側との間
    に圧力勾配をつくりこれを維持する手段とより成る、光
    ファイバの母材ロッドに上層クラッドを形成する装置。
  2. 【請求項2】 前記管内に入る母材ロッドの先端部の管
    のまわりに配設されて母材ロッドと管とをこの先端部に
    おいて互いに同心に配設する手段をさらに有する請求項
    1記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記第1、第2支持手段は前記管と母材
    ロッドとをそれらの長さ方向の軸がほぼ垂直になるよう
    に支持する請求項1記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記第2支持手段は前記管をその下端で
    旋動できる請求項3記載の装置。
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