JPH0797093B2 - Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置 - Google Patents
Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置Info
- Publication number
- JPH0797093B2 JPH0797093B2 JP63198446A JP19844688A JPH0797093B2 JP H0797093 B2 JPH0797093 B2 JP H0797093B2 JP 63198446 A JP63198446 A JP 63198446A JP 19844688 A JP19844688 A JP 19844688A JP H0797093 B2 JPH0797093 B2 JP H0797093B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray photoelectron
- sample surface
- etching
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置に関す
る。
る。
（従来の技術） 測定試料にＸ線を照射し、測定試料から放出される光電
子のエネルギーを分析することによって、測定試料の表
面分析（10〜20Å）を行うのがＸ線光電子分光装置（ES
CA）である。本発明はこのESCAを用いて３次元マッピン
グを行おうとするものである。
子のエネルギーを分析することによって、測定試料の表
面分析（10〜20Å）を行うのがＸ線光電子分光装置（ES
CA）である。本発明はこのESCAを用いて３次元マッピン
グを行おうとするものである。
従来、ESCAを用いて３次元マッピングを行う場合、一度
試料面の２次元マッピングを行った後、測定装置から試
料を取り出し、別の試料面イオンエッチング装置に移し
て、測定試料表面をエッチングした後、再度Ｘ線光電子
分光装置にセットしてマッピングを行う。このような動
作を繰り返すことによって３次元のマッピングを行って
いた。しかし、このような方法によれば手間と時間が多
大にかかり、測定能率が著しく悪い上試料に汚染が起こ
ると云う問題があった。
試料面の２次元マッピングを行った後、測定装置から試
料を取り出し、別の試料面イオンエッチング装置に移し
て、測定試料表面をエッチングした後、再度Ｘ線光電子
分光装置にセットしてマッピングを行う。このような動
作を繰り返すことによって３次元のマッピングを行って
いた。しかし、このような方法によれば手間と時間が多
大にかかり、測定能率が著しく悪い上試料に汚染が起こ
ると云う問題があった。
また上述した難点を避けるため、同一装置内でＸ線光電
子検出手段がにらむ試料面上の点を同時にイオンビーム
で照射してエッチングするようにすると、イオン照射に
よる２次放射や、エッチングによる揮発物がＸ線光電子
検出手段に付着し、そこから放出されるＸ線光電子がＸ
線光電子検出手段に侵入し、試料からのＸ線光電子検出
信号の雑音になると云う問題があった。
子検出手段がにらむ試料面上の点を同時にイオンビーム
で照射してエッチングするようにすると、イオン照射に
よる２次放射や、エッチングによる揮発物がＸ線光電子
検出手段に付着し、そこから放出されるＸ線光電子がＸ
線光電子検出手段に侵入し、試料からのＸ線光電子検出
信号の雑音になると云う問題があった。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は、測定装置から測定試料を取り出すことなく３
次元マッピングを行えるようにすることを目的とする。
次元マッピングを行えるようにすることを目的とする。
（課題を解決するための手段） Ｘ線光電子分光装置において、試料ステージの距離Ｌを
離してＸ線光電子検出手段の視点とイオンビーム照射点
を位置させ、試料走査手段に試料のＸ軸方向走査範囲に
上記距離Ｌを加えた範囲で往復移動させるようにした。
離してＸ線光電子検出手段の視点とイオンビーム照射点
を位置させ、試料走査手段に試料のＸ軸方向走査範囲に
上記距離Ｌを加えた範囲で往復移動させるようにした。
本発明は、Ｘ線光電子分光装置において、試料面分析点
と試料ステージの同一Ｘ軸上にイオンビーム照射点即ち
エッチング点が位置するようにイオン源を付設すること
によって、イオン源から発射するイオンビームで試料表
面の分析点を順次イオンエッチングし、試料ステージを
Ｘ軸方向に移動させていくと、そのエッチングした点が
順次Ｘ線照射点（分析点）に移動し、順次エッチングし
た試料面をＸ線光電子分光することを可能となる。この
ようにして、試料のＸ軸方向往復運動を繰り返しなが
ら、往行程でイオンエッチングとＸ線光電子分析を行う
ことより、試料面の深さ方向への分析を進めて行くこと
ができる。また、分析点をＸ線光電子分光している間
に、イオンビームで次の分析点をエッチングできるの
で、試料表面を切削するための時間が大幅に減少され
る。即ち、Ｘ線光電子分光とエッチング動作の両方を同
時に行うことにより、試料を装置外に取り出すことなし
に、３次元マッピングを連続的に効率的に行うことが可
能となった。
と試料ステージの同一Ｘ軸上にイオンビーム照射点即ち
エッチング点が位置するようにイオン源を付設すること
によって、イオン源から発射するイオンビームで試料表
面の分析点を順次イオンエッチングし、試料ステージを
Ｘ軸方向に移動させていくと、そのエッチングした点が
順次Ｘ線照射点（分析点）に移動し、順次エッチングし
た試料面をＸ線光電子分光することを可能となる。この
ようにして、試料のＸ軸方向往復運動を繰り返しなが
ら、往行程でイオンエッチングとＸ線光電子分析を行う
ことより、試料面の深さ方向への分析を進めて行くこと
ができる。また、分析点をＸ線光電子分光している間
に、イオンビームで次の分析点をエッチングできるの
で、試料表面を切削するための時間が大幅に減少され
る。即ち、Ｘ線光電子分光とエッチング動作の両方を同
時に行うことにより、試料を装置外に取り出すことなし
に、３次元マッピングを連続的に効率的に行うことが可
能となった。
（実施例） 第１図に本発明の一実施例を示す。第１図において、１
は試料Ｓの表面をイオンエッチングするためのイオン
源、２は試料ＳにＸ線を照射して試料Ｓを励起させるＸ
線源、３は励起された試料Ｓから放出される光電子を検
出・分析する光電子分析器で、光電子顕微鏡やエネルギ
ー分析器が用いられる。S0は分析点、E0はエッチング点
である。
は試料Ｓの表面をイオンエッチングするためのイオン
源、２は試料ＳにＸ線を照射して試料Ｓを励起させるＸ
線源、３は励起された試料Ｓから放出される光電子を検
出・分析する光電子分析器で、光電子顕微鏡やエネルギ
ー分析器が用いられる。S0は分析点、E0はエッチング点
である。
第２図を用いて、測定動作を説明する。まず、そのまま
の試料表面を２次元で分析した後、試料ステージ（不図
示）を駆動させ、試料の測定領域の左端をイオン源１直
下のイオンエッチング点に移動させて（同図Ａ）、試料
表面をエッチングし、順次試料を左に移動させながら、
試料表面を順次エッチングする。エッチングされた測定
領域の左端が分析点S0に位置した時に（同図Ｂ）、Ｘ線
源２からＸ線を試料Ｓに照射し、試料表面から放出され
る光電子を光電子分析器３で分析する。
の試料表面を２次元で分析した後、試料ステージ（不図
示）を駆動させ、試料の測定領域の左端をイオン源１直
下のイオンエッチング点に移動させて（同図Ａ）、試料
表面をエッチングし、順次試料を左に移動させながら、
試料表面を順次エッチングする。エッチングされた測定
領域の左端が分析点S0に位置した時に（同図Ｂ）、Ｘ線
源２からＸ線を試料Ｓに照射し、試料表面から放出され
る光電子を光電子分析器３で分析する。
試料を順次左（Ｘ軸方向）に移動しながら、イオンエッ
チングとＸ線による光電子分析の両方の作業を繰り返
す。測定領域の右端がエッチング点E0を越えた時点で
（同図Ｃ）、イオンエッチングを中止する。試料Ｓを更
に左に順次移動させ、試料面の分析作業だけを行う。測
定領域の右端が分析点Ｓに位置した時点で（同図Ｄ）、
試料面の分析を終了し、試料を上方（Ｙ軸方向）に１ピ
ッチ移動させた後、右に移動させて最初のＸ軸の位置に
セットする（同図Ｅ）。以下最初（同図Ａ）に戻り、同
図Ｄまでの動作を繰り返す。
チングとＸ線による光電子分析の両方の作業を繰り返
す。測定領域の右端がエッチング点E0を越えた時点で
（同図Ｃ）、イオンエッチングを中止する。試料Ｓを更
に左に順次移動させ、試料面の分析作業だけを行う。測
定領域の右端が分析点Ｓに位置した時点で（同図Ｄ）、
試料面の分析を終了し、試料を上方（Ｙ軸方向）に１ピ
ッチ移動させた後、右に移動させて最初のＸ軸の位置に
セットする（同図Ｅ）。以下最初（同図Ａ）に戻り、同
図Ｄまでの動作を繰り返す。
（発明の効果） 本発明によれば、一つの装置内で試料面の光電子分析と
同時に試料表面のエッチングを行うことができるので、
試料を分析装置とエッチンク装置との間で移し替えるこ
とに伴う試料面の汚染と云う問題がなくなりかつ３次元
的分析の能率が向上するばかりでなく、一つ装置内で試
料の移動を試料面の２次元的走査のための移動を利用し
て行うようにしたので、一つの画素を分析している間に
他の画素部分が離れた所でエッチングされることにな
り、イオンエッチングによる２次放射が分析結果に影響
することも、エッチングによる揮散物質がＸ線源やＸ線
光電子分析装置に付着し、その付着層からＸ線照射によ
って放出される電子等によるＸ線光電子スペクトルのバ
ックグラウンドレベルが高められ分析感度が低下すると
云う問題も回避されるのである。
同時に試料表面のエッチングを行うことができるので、
試料を分析装置とエッチンク装置との間で移し替えるこ
とに伴う試料面の汚染と云う問題がなくなりかつ３次元
的分析の能率が向上するばかりでなく、一つ装置内で試
料の移動を試料面の２次元的走査のための移動を利用し
て行うようにしたので、一つの画素を分析している間に
他の画素部分が離れた所でエッチングされることにな
り、イオンエッチングによる２次放射が分析結果に影響
することも、エッチングによる揮散物質がＸ線源やＸ線
光電子分析装置に付着し、その付着層からＸ線照射によ
って放出される電子等によるＸ線光電子スペクトルのバ
ックグラウンドレベルが高められ分析感度が低下すると
云う問題も回避されるのである。
第１図は本発明の一実施例の要部側面図、第２図は測定
点及びエッチング点の移動動作説明図である。 １……イオン源、２……光電子顕微鏡、３……Ｘ線源。
点及びエッチング点の移動動作説明図である。 １……イオン源、２……光電子顕微鏡、３……Ｘ線源。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−138242（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−110951（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−138242（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−41856（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】試料面を走査しながらＸ線光電子分析を行
う装置において、同一装置内にＸ線光電子検出手段とＸ
線源と共に試料面をエッチングするためのイオン源を設
け、同イオン源が上記Ｘ線光電子検出手段の試料面上の
視点Soを通る試料面上のＸ軸走査線上でSoより離れた点
Eoを照射するようにし、試料走査手段が試料面の走査範
囲のＸ軸方向の幅に上記SoとEoとの間の距離を加えた範
囲でＸ軸方向走査動作を行うようにしたことを特徴とす
るＸ線光電子分光３次元マッピング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63198446A JPH0797093B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63198446A JPH0797093B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0247544A JPH0247544A (ja) | 1990-02-16 |
| JPH0797093B2 true JPH0797093B2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=16391228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63198446A Expired - Lifetime JPH0797093B2 (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0797093B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004045172A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Fujitsu Ltd | ３次元構造評価方法 |
| EP1676937B1 (en) | 2004-11-26 | 2016-06-01 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | UV curable catalyst compositions |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56138242A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-28 | Shimadzu Corp | X-ray photoelectron analysis equipment |
| JPS5941856U (ja) * | 1982-09-03 | 1984-03-17 | 日本電子株式会社 | 分析装置等における試料面エツチング装置 |
| JPS61110951A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Shimadzu Corp | 複合表面分析装置 |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP63198446A patent/JPH0797093B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0247544A (ja) | 1990-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5956730B2 (ja) | Ｘ線分析装置及び方法 | |
| JPH05101800A (ja) | 電子ミクロ分析方式における標的領域をサンプル表面上に求める方式 | |
| JP2019129072A (ja) | 走査電子顕微鏡および測定方法 | |
| JP2548834B2 (ja) | 電子ビーム寸法測定装置 | |
| JPH0797093B2 (ja) | Ｘ線光電子分光３次元マッピング装置 | |
| EP0452825B1 (en) | Method and apparatus for background correction in analysis of a specimen surface | |
| JPH07270346A (ja) | 微小部分析方法 | |
| JPH07128259A (ja) | Ｘ線マッピング分析方法 | |
| JP2000214111A (ja) | 電子プロ―ブマイクロアナライザ | |
| JPH0119804Y2 (ja) | ||
| JP2917475B2 (ja) | Ｘ線分析装置 | |
| JPH076609Y2 (ja) | 集束イオンビーム加工装置 | |
| JPH08287864A (ja) | 質量分析装置および分析方法 | |
| JP2861153B2 (ja) | 荷電粒子ビーム照射型分析装置 | |
| JP2000155103A (ja) | 電子線装置 | |
| JP2001167726A (ja) | 仕事関数像生成装置 | |
| JPS62285048A (ja) | 元素濃度分布測定方法 | |
| JPH08247971A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPH10213556A (ja) | 表面元素分析装置及び分析方法 | |
| JPH0682399A (ja) | 電子線分析方法と分析装置 | |
| JPS63237344A (ja) | 試料表面分析装置 | |
| JPH0933461A (ja) | 陽電子ビーム分析装置 | |
| TW202006778A (zh) | 用於將光束對準帶電粒子束之方法 | |
| JP2502050B2 (ja) | 電子線マイクロアナライザ | |
| JPH07234195A (ja) | 結晶表面分析装置 |