JPH0793564A - 情報抽出マスク生成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 画像抽出マスクを生成する際の所要時間を短
縮する。処理に必要なメモリの容量を低減する。 【構成】 入力画像デ−タをラスタ走査順に調べ（Ｓ６
１）、有効画素が検出されたら輪郭線の追跡を開始し
（Ｓ６４）、輪郭線にならない画素を消去し（Ｓ６Ｄ，
ＳＡ４）、有効な輪郭線を検出したら、副走査方向の凹
凸を示す特徴情報が含まれる輪郭線テ−ブルを作成し
（Ｓ６９）、輪郭線の追跡が完了すると、輪郭線テ−ブ
ルから、塗り潰し開始点及び終了点を記述したマスクテ
−ブルを作成し（Ｓ６Ｃ）、ラスタ走査を再開し、同一
ラスタライン上に既に抽出済の輪郭線がある場合には、
マスクテ−ブルに基づいてそのライン上の輪郭線内部の
各画素をマスク画素値に置き換え（Ｓ６５，Ｓ８１〜Ｓ
８Ａ，Ｓ９１〜Ｓ９Ｈ）て、マスクデ−タを生成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば入力された２次
元画像デ−タから、その中の一部分の領域の情報を抽出
するために利用される、抽出領域を示すマスクを生成す
るための情報抽出マスク生成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、２次元画像中の一部分の領域
を抽出する場合には、特定の領域中の各々の画素につい
てそれが抽出すべき画素か抽出しない画素かを示すマス
ク情報をまず生成し、このマスク情報に従って２次元画
像中から必要な情報だけを切出すようにしている。

【０００３】この種のマスク情報を生成する場合、従来
より、２次元画像デ−タを処理して特定領域のパタ−ン
の輪郭線を抽出し、その後、再び２次元画像デ−タを処
理し、前の処理で抽出された輪郭線の情報を利用して、
マスク情報を生成している。この種の技術は、例えば特
開平４−１６３６７４号公報に開示されている。

【０００４】また、２値画像デ−タからパタ−ンの輪郭
線を抽出する場合、一般に、次の手順で処理が実施され
る。

【０００５】（１）２値画像を基準点からラスタ走査
し、走査順に各画素のデ−タを取込む。 （２）追跡済みのマ−クが付いていない有効画素（ドッ
ト）が存在する位置では、その点をＰ０としてドットパ
タ−ンの輪郭追跡を開始する。画像全体を捜しても点Ｐ
０が存在しなければ処理を終了する。

【０００６】（３）開始点Ｐ０に隣接する８方向の近傍
画素方向に、図４に示す順番で探索を開始する。そして
次に出会った有効画素の存在する点を次の輪郭点Ｐ１と
する。この時、Ｐ０に隣接点が存在しない場合は、その
点を孤立点とし、上記（２）の手順に戻る。

【０００７】（４）検出したｉ番目の輪郭点Ｐ(i)にマ
−ク付けを実施した後、更にこの輪郭点Ｐ(i)に隣接す
る８方向の近傍画素の中から次の輪郭点Ｐ(i+1)を抽出
する。具体的には、図５に示すように、ｉ番目の輪郭点
５０２の８方向近傍画素について、直前にマ−ク付けし
たｉ−１番目の輪郭点５０１の位置から、反時計回り方
向に（図中に示した数字の小さい順に）各画素を調べ、
有効画素を探索し、最初に検出した有効画素を次の輪郭
点Ｐ(i+1)とする。

【０００８】（５）以下、上記（４）の手順を繰り返し
実行し、次々に輪郭点を求める。但し、Ｐ(ｎ＋ｉ)＝Ｐ
(ｉ)，Ｐ(ｎ)＝Ｐ０になったら、Ｐ０，Ｐ１，Ｐ２，・
・Ｐ(n-1)を１つの領域の輪郭点列とみなし、次の手順
（６）に進む。

【０００９】（６）他の画像領域の輪郭点列を抽出する
ために上記(２)の手順に戻る。

【００１０】なお、輪郭線の抽出に先立ち、対象物を囲
む最小の矩形形状の領域を切出す処理を実施する場合も
ある。

【００１１】特開平４−１６３６７４号公報の技術で
は、次のようにしてマスク情報を生成している。まず、
輪郭線の抽出を実施し、その後、対象物を囲む最小の矩
形形状の領域をマスク領域として仮に設定する。次に、
仮に定めたマスク領域（矩形）の各辺からそれに対向す
る辺に向かって、対象物の輪郭線に到達するまで、画素
を順に探索し、輪郭線に到達するまでに検出した全ての
画素をマスク領域から除外する。この動作を繰り返して
マスク領域を順次に修正し、最終的に得られたマスク領
域に従ってマスク情報を生成する。

【００１２】また、次のようにしてマスク情報を生成す
る方法も知られている。まず、輪郭線の抽出を実施す
る。その後、オペレ−タによって予め指定された輪郭線
内部の点を基準にして、その点を含む水平線の左右の画
素を探索し、輪郭線に到達するまで全ての画素を塗りつ
ぶす（マスク情報の画素とする）。この水平線の上側及
び下側に隣接する各水平線についても、同様に左右方向
の輪郭線に到達するまで全ての画素を塗りつぶす。更
に、この処理を上方向及び下方向の各水平線に対して繰
り返し実施し、輪郭線の上端及び下端に達したら処理を
終了する。これによって、輪郭線で囲まれる領域全体の
画素がマスク情報として生成される。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】従来の方法では、輪郭
線の抽出と、マスク情報の生成とが完全に独立してお
り、それらの処理を別々に実行しているが、処理に要す
る時間が長く、また操作が煩雑になる。例えば、輪郭線
を抽出する処理においては、前述のようにＰ(ｎ＋ｉ)＝
Ｐ(ｉ)，Ｐ(ｎ)＝Ｐ０の判定を必要とするが、そのため
には、個々の点列を保持するためのメモリが必要であ
り、またこの判定処理にかなり時間を要する。更に、オ
ペレ−タが指定した輪郭線内部の基準点に基づいてマス
ク情報を生成する処理においては、輪郭線に多数の凹凸
が含まれる場合、１回の探索処理だけでは正確なマスク
情報を生成できないので、基準点を何回も繰り返し指定
せざるを得ない場合があり、煩雑な操作を強いられる。
また、マスク情報を生成するためにマスク領域外の画素
を検出する処理においては、輪郭線の外側の領域を画素
単位で拡大する際に様々なチェック処理を必要とする
が、この処理にはかなり時間を要する。

【００１４】従って本発明は、マスク情報の生成に必要
な処理全体の所要時間を短縮することを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の情報抽出マスク生成方法では、入力画像デ
−タ中の各画素を、ラスタ走査順に調べ（Ｓ６１）、有
効画素が検出されたら、その画素位置から輪郭線の追跡
を開始し（Ｓ６４）、輪郭線の追跡中に、輪郭線になら
ない画素が検出された場合には当該画素を消去し（Ｓ６
Ｄ，ＳＡ４）、輪郭線の追跡中に、有効な輪郭線を検出
した場合には、該輪郭線の副走査方向の凹凸を示す特徴
情報が含まれる輪郭線テ−ブルを作成し（Ｓ６９）、輪
郭線の追跡が完了すると、作成された輪郭線テ−ブルに
基づいて、塗り潰し開始点及び終了点を記述したマスク
テ−ブルを作成して（Ｓ６Ｃ）から、各画素のラスタ走
査を再開し、ラスタ走査において、同一ラスタライン上
に既に抽出済の輪郭線がある場合には、該輪郭線のマス
クテ−ブルに基づいて、そのライン上の輪郭線内部の各
画素をマスク画素値に置き換え（Ｓ６５，Ｓ８１〜Ｓ８
Ａ，Ｓ９１〜Ｓ９Ｈ）て、マスクデ−タを生成する。

【００１６】また、本発明の好ましい態様では、予め入
力画像デ−タを可視表示し（Ｓ２２）、所定の手書き入
力操作に応答して入力画像デ−タを修正し（Ｓ２６）、
修正が完了した入力画像デ−タを処理してマスクデ−タ
を生成する（Ｓ２７）。

【００１７】また、本発明の好ましい態様では、各々の
画素が多値情報でなる入力画像デ−タに対しては、濃度
が予め定めたしきい値以上の画素のみを有効画素とし
て、前記輪郭線の追跡を実行する。

【００１８】なお上記括弧内に示した記号は、後述する
実施例中の対応する要素の符号を参考までに示したもの
であるが、本発明の各構成要素は実施例中の具体的な要
素のみに限定されるものではない。

【００１９】

【作用】本発明においては、入力画像デ−タ中の各画素
を、ラスタ走査順に調べ、有効画素が検出される度に、
その画素位置から輪郭線の追跡を開始する。輪郭線の追
跡中には、輪郭線にならない画素が検出されると当該画
素を消去する。また輪郭線の追跡中に、有効な輪郭線を
検出した場合には、該輪郭線の副走査方向の凹凸を示す
特徴情報が含まれる輪郭線テ−ブルを作成する。輪郭線
の追跡が完了すると、作成された輪郭線テ−ブルに基づ
いて、塗り潰し開始点及び終了点を記述したマスクテ−
ブルを作成してから、各画素のラスタ走査を再開する。
また、ラスタ走査において、同一ラスタライン上に既に
抽出済の輪郭線がある場合には、該輪郭線のマスクテ−
ブルに基づいて、そのライン上の輪郭線内部の各画素を
マスク画素値に置き換えて、マスクデ−タを生成する。

【００２０】本発明によれば、１回のラスタ走査が終了
した時にはマスクデ−タの生成も完了しているので、ラ
スタ走査を何回も繰り返す必要がなく、従来の処理と比
べ、短い時間で処理を完了しうる。また本発明では、輪
郭線テ−ブルに基づいてマスクデ−タを生成するが、こ
の輪郭線テ−ブルに必要とされるメモリ容量は比較的小
さい。即ち、輪郭線テ−ブルの内容の大部分は輪郭線の
副走査方向の凹凸を示す特徴情報であり、それを保持す
るのに必要なメモリの容量は、輪郭線を構成する各画素
の座標を保持する場合と比べてはるかに少ない。

【００２１】ところで、例えば原稿画像をイメ−ジスキ
ャナで読取って得られた画像デ−タにおいては、本来は
黒画素の連続する１つのパタ−ンであっても、不要な白
画素の発生により、複数パタ−ンに分断される場合があ
る。この種の画像デ−タからマスクデ−タを生成する
と、輪郭線の途切れによって、所望のマスクデ−タが得
られない。しかし本発明の好ましい態様では、入力画像
デ−タが可視表示され、オペレ−タが手書き入力によっ
て入力画像デ−タを修正することができる。そして、修
正が完了した入力画像デ−タを処理してマスクデ−タを
生成するので、輪郭線の途切れを防止でき、正しいマス
クデ−タが得られる。

【００２２】また、本発明の好ましい態様では、各々の
画素が多値情報でなる入力画像デ−タを扱う場合には、
濃度が予め定めたしきい値以上の画素のみを有効画素と
して、前記輪郭線の追跡を実行するので、しきい値を調
整することにより、ノイズ画像を消去したり、輪郭線の
途切れを防止することができ、正しいマスクデ−タが得
られる。

【００２３】

【実施例】本発明を実施する一形式の装置の構成を図１
に示す。図１を参照すると、この装置は、コントロ−ラ
１００，液晶表示タブレット１０８，スタイラスペン１
１８，イメ−ジスキャナ２００，及びプリンタ３００を
備えている。コントロ−ラ１００は、ＣＰＵボ−ド１０
１，ペ−ジメモリボ−ド１０２，１０３，スキャナ・プ
リンタ・インタ−フェ−スボ−ド１０４，イメ−ジプロ
セッサボ−ド１０６，及びＬＣＤコントロ−ラボ−ド１
０７を備えており、これらはシステムバス１１２を介し
て互いに接続されている。

【００２４】ペ−ジメモリボ−ド１０２，１０３は、各
々、１ペ−ジ分の画像バッファメモリを備えている。イ
メ−ジスキャナ２００及びプリンタ３００は、各々、ス
キャナ・プリンタ・インタ−フェ−スボ−ド１０４に接
続されている。液晶表示タブレット１０８は、ＬＣＤコ
ントロ−ラボ−ド１０７に接続されている。

【００２５】イメ−ジプロセッサボ−ド１０６は、２つ
の画像の合成処理を高速で実行する画像処理プロセッサ
を備え、更に予め指定した画像に対して生成されるマス
クデ−タ、及び切り出された指定画像のデ−タを保持す
るためのワ−クＲＡＭを含んでいる。イメ−ジプロセッ
サボ−ド１０６は、ペ−ジメモリボ−ド１０２から画像
デ−タを読み出し、ペ−ジメモリボ−ド１０３にデ−タ
を転送し書き込む。また、イメ−ジプロセッサボ−ド１
０６は、ペ−ジメモリボ−ド１０２又は１０３からデ−
タを読み出し、ＬＣＤコントロ−ラボ−ド１０７にデ−
タを転送する。また、イメ−ジプロセッサボ−ド１０６
は、予め指定された矩形領域内の対象画像の輪郭線を抽
出し、その輪郭線に囲まれた領域のマスクデ−タを生成
し、このマスクデ−タをイメ−ジプロセッサボ−ド１０
６内のワ−クＲＡＭにストアする。また、生成したマス
クデ−タを使用して、ペ−ジメモリボ−ド１０２に保持
された画像デ−タの中から指定された画像デ−タを切り
出し、ワ−クＲＡＭにストアする。また、イメ−ジプロ
セッサボ−ド１０６は、切り出された画像デ−タ、又は
ペ−ジメモリボ−ド１０２の内容を、ペ−ジメモリボ−
ド１０３又はＬＣＤコントロ−ラボ−ド１０７に転送す
る。この転送の際、イメ−ジプロセッサボ−ド１０６内
のワ−クＲＡＭまたはペ−ジメモリボ−ド１０２の画像
デ−タに対してデ−タの拡大，縮小，回転，反転等の編
集加工を実施することができる。またイメ−ジプロセッ
サボ−ド１０６は、メモリボ−ド１０２，１０３又はワ
−クＲＡＭの画像デ−タを、縮小してＬＣＤコントロ−
ラボ−ド１０７内のビデオＲＡＭに書込む。ＬＣＤコン
トロ−ラボ−ド１０７は、ビデオＲＡＭに書込まれたデ
−タを、液晶表示タブレット１０８の表示部に表示す
る。液晶表示タブレット１０８の表面には、スタイラス
ペン１１８を認識できるタブレットが存在する。タブレ
ットで読取られたスタイラスペン１１８の座標情報は、
ＬＣＤコントロ−ラボ−ド１０７を介して、ＣＰＵボ−
ド１０１に伝達される。

【００２６】コントロ−ラ１００の実行する処理のう
ち、マスクデ−タの生成に関する処理の概略を図２に示
す。図２を参照して各ステップの内容を説明する。

【００２７】Ｓ２１：スキャナ２００を制御して、それ
にセットされた原稿画像を読取り、得られたビットマッ
プ形式の画像デ−タをペ−ジメモリ１０２にストアす
る。

【００２８】Ｓ２２：ペ−ジメモリ１０２に保持された
画像デ−タを、イメ−ジプロセッサボ−ド１０６を介し
て読み出し、画像を縮小してＬＣＤコントロ−ラボ−ド
１０７に転送し、液晶表示タブレット１０８の表示部に
画像を表示する。

【００２９】Ｓ２３：ここで、オペレ−タからの領域指
定入力を受付ける。画像が表示された液晶表示タブレッ
ト１０８の表面において、画像の一部分を含む矩形領域
をスタイラスペン１１８によってオペレ−タが指定する
と、ＣＰＵボ−ド１０１は指定された座標情報に基づい
て、矩形領域に対応する画像デ−タを抽出し、抽出した
領域の画像デ−タをイメ−ジプロセッサボ−ド１０６の
ワ−クＲＡＭ上に転送する。

【００３０】Ｓ２４：イメ−ジプロセッサボ−ド１０６
のワ−クＲＡＭ上の画像デ−タに対して、図形融合処理
を実施する。この処理では、画像中の各黒画素（二値情
報の場合には１の画素）についてその周囲の８近傍（又
は４近傍）に白画素（二値情報の場合には０の画素）が
１つでも存在する場合には全画素を白画素に変更する図
形縮小処理と、画像中の各白画素についてその周囲の８
近傍（又は４近傍）に黒画素が１つでも存在する場合に
は全画素を黒画素に変更する図形拡張処理とを適当な回
数だけ反復する操作を実行する。ｎ回の拡張の後で縮小
をｎ回行なえば、幅２ｎ以下の穴（欠落画素）が埋めら
れる。２回の拡張の後で縮小を２回行なって図形融合し
た例（８近傍の場合）を図１７に示す。

【００３１】Ｓ２５：例えば図１８に示す入力図形のよ
うに画素の欠落が連続的に生じている場合、このままで
は正確な図形の輪郭を検出することができない。そこで
この実施例では、オペレ−タの手書き入力による図形の
修正が可能である。オペレ−タが所定の入力操作を実行
することにより、ステップＳ２５から次のＳ２６に進
む。手書き入力を省略する場合には、ステップＳ２５か
らＳ２７に進む。

【００３２】Ｓ２６：オペレ−タの手書き入力、即ち液
晶表示タブレット１０８の表面におけるスタイラスペン
１１８の指定座標を順次に読取り、指定された画素位置
に対応するワ−クＲＡＭ上の画像デ−タに黒画素を補間
するとともに、ＬＣＤコントロ−ラボ−ド１０７上の表
示デ−タにも黒画素を補間する。これによって、例えば
図１８に示すように、正しい輪郭の追跡が可能になる。

【００３３】Ｓ２７：イメ−ジプロセッサボ−ド１０６
のワ−クＲＡＭ上に保持された画像デ−タを処理して、
必要なマスクデ−タを生成する。詳細については後述す
るが、概略で言うと、次のような処理を実施する。ラス
タ走査順に輪郭線の追跡を実施し、輪郭線とならない線
分は消去し、抽出した輪郭線の副走査方向の凹凸を記述
した輪郭線テ−ブルを作成し、既に抽出済の輪郭線があ
れば該輪郭線テ−ブルを基に作成されたマスクテ−ブル
に従ってその輪郭線内部をマスク画素値に置き換えて、
対象画像の切抜きマスクを生成する。

【００３４】Ｓ２８：ステップＳ２７で生成されたマス
クデ−タをＬＣＤコントロ−ラボ−ド１０７に転送し、
マスクデ−タパタ−ンを液晶表示タブレット１０８の表
示部に表示する。

【００３５】図２に示す処理を実行した後、得られたマ
スクデ−タを利用して、ペ−ジメモリボ−ド１０２上の
画像デ−タから、必要な部分の画像デ−タだけを切り出
し、それを別のメモリ領域にストアする。また、オペレ
−タの指示に従って、切り出された画像デ−タに対し、
拡大，縮小，回転，反転等の編集加工を実施し、編集後
の画像デ−タをペ−ジメモリボ−ド１０３にストアす
る。このような操作を何回か繰り返し、所望の編集合成
画像がペ−ジメモリボ−ド１０３上に得られたら、その
画像デ−タをプリンタ３００に出力し、ハ−ドコピ−を
生成する。

【００３６】図２のステップＳ２７の内容の詳細を、図
６，図７，図８，図９及び図１０に示し、図６中のステ
ップＳ６Ｃ及び図１０中のステップＳＡ８のサブル−チ
ンの内容を図１１に示す。各図面を参照してマスクデ−
タを生成する処理の内容を説明する。

【００３７】図６のステップＳ６１では、対象となる画
像デ−タをＸ方向（主走査方向）及びＹ方向（副走査方
向）にラスタ走査（図３参照）し、１つの画素デ−タを
入力する。画像デ−タの最後までラスタ走査が終了した
場合には、次のステップＳ６２を通って処理を終了す
る。黒画素が検出されるまで、ステップＳ６１，Ｓ６
２，Ｓ６３，Ｓ６４の処理を繰り返す。

【００３８】黒画素が検出されると、最初はステップＳ
６４からＳ６５を通り、Ｓ６６に進む。ステップＳ６６
では、当該黒画素の座標を輪郭線追跡の開始点とする１
つの輪郭線テ−ブルを生成する。輪郭線テ−ブルの内容
の例を図１５に示す。この時、黒画素の座標は、輪郭線
テ−ブル上に、開始点及びカレント座標として書き込ま
れる。

【００３９】次のステップＳ６７では、Ｓ６６で定めた
開始点から輪郭線の追跡を開始し、次の黒画素を入力す
る。ここで入力する黒画素の位置は、カレント座標（現
在位置）が開始点にある時には、その周囲の画素の中で
図４に示す番号順に調べて最初に見つかった黒画素の位
置であり、それ以外の場合には、図５に示すように、直
前の輪郭追跡点の位置を基準として定めた番号順に周囲
の画素を調べて、最初に見つかった黒画素の位置であ
る。即ち、反時計回りに周囲の画素をサ−チして、黒画
素を見つける。

【００４０】ステップＳ６７で黒画素が見つかった場合
には、ステップＳ６８を通ってＳ６９に進み、黒画素が
見つからない時にはステップＳ６Ｄに進む。ステップＳ
６９では、新しく見つかった画黒素に応じて、輪郭線テ
−ブルの内容を更新し、輪郭線追跡情報を輪郭線テ−ブ
ルに記憶する。そして通常は、ステップＳ６Ａ及びＳ６
Ｂを通ってＳ６７に戻り、輪郭線追跡を繰り返す。

【００４１】またステップＳ６７で黒画素が見つからな
い時には、ステップＳ６Ｄで、カレント座標の黒画素を
白画素に変更（消去）する。そして、カレント座標が開
始点か否かを次のステップＳ６Ｅで識別し、カレント座
標が開始点ならステップＳ６Ｇに進み、そうでなければ
ステップＳ６Ｆを通ってＳ６７に戻る。ステップＳ６Ｇ
では現在追跡中の輪郭線の情報を保持する１つの輪郭線
テ−ブルをクリアする。またステップＳ６Ｆでは、カレ
ント座標を前の座標に戻す。

【００４２】ステップＳ６Ｂでは、カレント座標と開始
点とを比較する。即ち、輪郭線の追跡中にカレント座標
が開始点に戻った場合には、１つの輪郭線が確定したの
で、その輪郭線の追跡を終了する。その場合には、次に
ステップＳ６Ｃに進み、現在の輪郭線テ−ブルの内容に
基づいて、図１６に示すようなマスクテ−ブルを作成す
る。この処理の詳細については後で説明する。

【００４３】また、ステップＳ６Ａでは、カレント座標
と終了点とを比較する。例えば、図１４に示すような図
形の場合、開始点を含む部分は輪郭線から伸びた線分で
あるため、輪郭線は形成されるが、カレント座標が終了
点に達する場合がある。この場合には、ステップＳ６Ａ
から図１０のステップＳＡ１に進む。ステップＳＡ１で
は、黒画素追跡の探索順を変更する。即ち、終了点（カ
レント座標とする）から図１２に示す番号順の時計回り
の探索順を設定する。

【００４４】ステップＳＡ２では、次の黒画素を入力す
る。ここで入力する黒画素の位置は、カレント座標が終
了点にある時には、その周囲の画素の中で図１２に示す
番号順に調べて最初に見つかった黒画素の位置であり、
それ以外の場合には、直前の輪郭追跡点の位置を基準と
して定めた時計回りの順番で周囲の画素を調べて、最初
に見つかった黒画素の位置である。

【００４５】ステップＳＡ２で黒画素が見つかった場合
には、ステップＳＡ３を通ってＳＡ６に進み、黒画素が
見つからない時にはステップＳＡ４に進む。ステップＳ
Ａ６では、新しく見つかった画黒素に応じて、輪郭線テ
−ブルの内容を更新し、輪郭線追跡情報を輪郭線テ−ブ
ルに記憶する。そして通常は、ステップＳＡ７を通って
ＳＡ２に戻り、輪郭線追跡を繰り返す。

【００４６】またステップＳＡ２で黒画素が見つからな
い時には、ステップＳＡ４で、カレント座標の黒画素を
白画素に変更（消去）する。そして、ステップＳＡ５で
は、カレント座標を前の座標に戻す。

【００４７】ステップＳＡ７では、カレント座標と終了
点とを比較する。即ち、この輪郭線の追跡中にカレント
座標が終了点に戻った場合には、１つの輪郭線が確定し
たので、その輪郭線の追跡を終了する。そして、次にス
テップＳＡ８に進み、現在の輪郭線テ−ブルの内容に基
づいて、マスクテ−ブルを作成する（Ｓ６Ｃの処理と同
一）。

【００４８】ここで、輪郭線テ−ブルＴ１とマスクテ−
ブルＴ２，Ｔ３について説明する。図１５において、左
側の輪郭線テ−ブルは、図３の画像デ−タについて輪郭
を追跡中のテ−ブルの内容を示しており、右側の輪郭線
テ−ブルは追跡が終了した時のテ−ブルの内容を示して
いる。図１５を参照すると、輪郭線テ−ブルには、輪郭
線ＩＤ，開始点座標，カレント終了点座標，カレント座
標，カレント傾き，及び特異点スタックＳＴ１が含まれ
ている。

【００４９】輪郭線ＩＤは、複数の輪郭線の各々を識別
するための番号、開始点座標は、輪郭線の追跡を開始し
た座標、カレント終了点座標は、輪郭線追跡時の最遠の
ラスタ走査ライン上の最左端の座標、カレント座標は、
輪郭線追跡中の現在の座標である。また、カレント傾き
は、輪郭線追跡中の現在の座標と直前の座標との向きを
示す情報であり、通常は図４に示す探索順の番号がその
まま割り当てられる。但し値が偶数の場合には、その直
前の奇数の値が割り当てられる。

【００５０】特異点スタックＳＴ１は、各特異点の特徴
情報を保持するスタックメモリである。この実施例で
は、輪郭線の凹凸部分の各頂点を特異点とし、各特異点
の最左端の座標をスタックに保持している。実際には、
輪郭線の追跡中に、カレント傾きの変化を検出し、それ
によって特異点を検出し、それを検出する度に特異点ス
タックにその特異点の情報を登録している。また、特異
点の凹凸パタ−ンを図１３に示すタイプ１，タイプ２，
タイプ３及びタイプ４のいずれかに分類し、分類したタ
イプも特徴情報として登録している。

【００５１】例えば図３及び図１５の例では、輪郭線の
追跡が終了した時に、副走査方向の各凹凸のそれぞれの
頂点の座標（ｘ２，ｙ２），（ｘ３，ｙ３），（ｘ４，
ｙ４），（ｘ５，ｙ５），（ｘ６，ｙ６），（ｘ７，ｙ
７），（ｘ８，ｙ８）及び（ｘ１，ｙ１）と、各々のタ
イプとが、それぞれスタック１，スタック２，スタック
３，スタック４，スタック５，スタック６，スタック７
及びスタック８に登録されている。

【００５２】図１５の輪郭線テ−ブルから作成されたマ
スクテ−ブルを図１６に示す。図１６から分かるよう
に、このマスクテ−ブルは、マスクテ−ブル基本部Ｔ２
と、それにリンクされた塗り潰し特異点テ−ブル群Ｔ３
で構成されている。マスクテ−ブル基本部Ｔ２には、輪
郭線ＩＤ（Ｄ１），開始点（Ｄ２），終了点（Ｄ３），
塗り潰し特異点ポインタ（Ｄ４），及び次ライン塗り潰
しスタックＳＴ２が含まれている。

【００５３】輪郭線ＩＤ（Ｄ１）は、複数の輪郭線の各
々を識別するための番号であり、開始点（Ｄ２）は、輪
郭線追跡を開始した座標であり、終了点（Ｄ３）は、輪
郭線の最遠のラスタライン上の最左端の座標である。塗
り潰し特異点ポインタ（Ｄ４）は、最初の塗り潰し特異
点テ−ブルの先頭のアドレスを保持する。次ライン塗り
潰しスタックＳＴ２は、ワ−クエリアであり、この内容
はラスタ走査中に変更される。

【００５４】塗り潰し特異点テ−ブル群Ｔ３は、輪郭線
テ−ブルＴ１の特異点スタックＳＴ１の内容を、タイプ
１とタイプ２の特異点に関する情報にまとめ直したもの
である。各塗り潰し特異点テ−ブルは、番号，タイプ，
開始点，左終了点，右終了点，及び次ポインタリンクア
ドレス（又はヌルコ−ド）で構成されている。

【００５５】番号は、複数の塗り潰し特異点テ−ブルの
各々を識別するためのものであり、タイプは、図１３に
示すタイプ１とタイプ２のいずれかを示す。開始点は、
特異点の座標である。また左終了点は、開始点の特徴点
に対し、左回りの輪郭線上において最も近い次のタイプ
１又はタイプ２の特徴点の座標である。右終了点は、開
始点の特徴点に対し、右回りの輪郭線上において最も近
い次のタイプ１又はタイプ２の特徴点の座標である。次
ポインタリンクアドレスは、次の塗り潰し特異点テ−ブ
ルの先頭アドレスの値を保持する。

【００５６】次ライン塗り潰しスタックＳＴ２の内容
は、各ラスタ走査ラインにおける塗り潰し区間の開始点
のｘ座標，終了点のｘ座標，及び開始点及び終了点の位
置に関する付加情報で構成されている。付加情報は、開
始点又は終了点と対応関係にある塗り潰し特異点テ−ブ
ルの番号と、そのテ−ブルの開始点に対して左右いずれ
に位置するかを示す情報でなっている。

【００５７】例えば図１６においては、図３におけるＹ
座標がｌのラスタ走査ラインにおける塗り潰し区間の情
報が、次ライン塗り潰しスタックＳＴ２に保持されてい
る。即ちこの例では、ｘａからｘｂまで，ｘｃからｘｄ
まで，及びｘｅからｘｆまでの範囲の画素をそれぞれ黒
画素に塗り潰せばよい。また、開始点ｘａは番号が０の
塗り潰し特異点テ−ブルと対応しており、開始点ｘ１，
ｙ１に対して左側の輪郭線上に位置している。

【００５８】輪郭線テ−ブルＴ１からマスクテ−ブルＴ
２，Ｔ３を生成する処理（Ｓ６Ｃ，ＳＡ８）の具体的な
内容を図１１に示す。図１１を参照してこの処理の内容
を説明する。

【００５９】ＳＢ１：マスクテ−ブル基本部Ｔ２の領域
をメモリ上に作成する。

【００６０】ＳＢ２：輪郭線テ−ブルＴ１の輪郭線ＩＤ
を、マスクテ−ブル基本部Ｔ２のＤ１の領域にストア
し、輪郭線テ−ブルＴ１の開始点座標を、マスクテ−ブ
ル基本部Ｔ２のＤ２の領域にストアする。

【００６１】ＳＢ３：輪郭線テ−ブルＴ１のカレント終
了点座標を、マスクテ−ブル基本部Ｔ２のＤ３の領域に
ストアする。

【００６２】ＳＢ４：番号０の塗り潰し特異点テ−ブル
（Ｔ３の１つ）の領域をメモリ上に作成し、その先頭ア
ドレス値を、マスクテ−ブル基本部Ｔ２のＤ４の領域
（ポインタ）にストアする。

【００６３】ＳＢ５：特異点スタックＳＴ１のスタック
ｎ（図１５ではスタック８）の内容を参照し、そのタイ
プ情報を、番号０の塗り潰し特異点テ−ブルのタイプの
位置にストアし、座標を開始点の位置にストアする。

【００６４】ＳＢ６：特異点スタックＳＴ１のスタック
ｎ−１（図１５ではスタック７）の内容を参照し、その
座標を、番号０の塗り潰し特異点テ−ブルの右終了点の
位置にストアする。

【００６５】ＳＢ７：特異点スタックＳＴ１のスタック
１の内容を参照し、その座標を、番号０の塗り潰し特異
点テ−ブルの左終了点の位置にストアする。

【００６６】ＳＢ８：作業用カウンタとして使用する変
数ｉに初期値の１（塗り潰し特異点テ−ブルの番号と対
応する）をストアする。

【００６７】ＳＢ９：スタックＳＴ１に対応する全ての
塗り潰し特異点テ−ブルの生成が完了したか否かを調べ
る。図１５の例ではｎ＝８である。

【００６８】ＳＢＡ：スタックＳＴ１に対応する全ての
塗り潰し特異点テ−ブルの生成が完了した場合、ここ
で、次ライン塗り潰しスタックＳＴ２に初期値をストア
する。実際には、番号０の塗り潰し特異点テ−ブルの開
始点のｘ座標と付加情報「０左」，及び開始点のｘ座標
と付加情報「０右」を、開始点及び終了点のペアとし
て、次ライン塗り潰しスタックＳＴ２にストアする。ま
たスタックの最後には、ヌルコ−ド（ｎｕｌｌ）を書込
む。

【００６９】ＳＢＢ：番号ｉの塗り潰し特異点テ−ブル
（Ｔ３の１つ）の領域をメモリ上に作成し、その先頭ア
ドレス値を、前の（番号がｉ−１の）塗り潰し特異点テ
−ブルの次ポインタリンクアドレスの位置にストアす
る。

【００７０】ＳＢＣ：特異点スタックＳＴ１のスタック
（ｎ−２×ｉ）の内容を参照し、そのタイプ情報を、番
号ｉの塗り潰し特異点テ−ブルのタイプの位置にストア
し、座標を開始点の位置にストアする。

【００７１】ＳＢＤ：特異点スタックＳＴ１のスタック
（ｎ−２×ｉ＋１）の内容を参照し、その座標を、番号
ｉの塗り潰し特異点テ−ブルの左終了点の位置にストア
する。

【００７２】ＳＢＥ：特異点スタックＳＴ１のスタック
（ｎ−２×ｉ−１）の内容を参照し、その座標を、番号
ｉの塗り潰し特異点テ−ブルの右終了点の位置にストア
する。

【００７３】ＳＢＦ：変数ｉの内容に１を加算してそれ
を更新する。このステップが終了すると、ステップＳＢ
９に戻り、上記動作を繰り返し実行する。

【００７４】さて、図６〜図１０に示す全体の処理の内
容について、これまでの説明に続く部分を説明する。図
６のステップＳ６１でラスタ走査を実施し、検出された
黒画素が、既に他の輪郭線の一部分である（マスクテ−
ブル基本部の次ライン塗り潰しスタックＳＴ２に定めら
れた開始点と終了点との間にある）場合には、ステップ
Ｓ６５から、図８のステップＳ８１に進む。

【００７５】この場合、スタックＳＴ２の終了点に達す
るまで、ステップＳ８１，Ｓ８２，Ｓ８３の処理を繰り
返し実行する。ステップＳ８２では、現在位置の画素を
黒画素に変更する。ステップＳ８３では、ラスタ走査を
実行し、次の１画素を入力する。従って、ステップＳ８
１，Ｓ８２，Ｓ８３の処理を繰り返す間に、現在のラス
タ走査ラインにおいて、スタックＳＴ２の開始点から終
了点までの全画素が、黒画素に塗り潰される。ここで塗
り潰された全画素が、マスクデ−タ（抽出対象画素）と
なる。

【００７６】走査画素位置がスタックＳＴ２の終了点に
達すると、ステップＳ８１からＳ８４に進む。Ｓ８４で
は、現在の走査位置の次ラインが、マスクテ−ブル基本
部Ｔ２の終了点Ｄ３のＹ座標より大きいか否かを調べ
る。ＹＥＳの場合には、ステップＳ８５に進み、処理中
の輪郭線に対する塗り潰しが完了したものとみなし、ス
タックＳＴ２の内容をクリアする。

【００７７】ステップＳ８６では、現在の走査位置の次
ラインが、マスクテ−ブル基本部Ｔ２のスタックＳＴ２
の終了点に対応する、特異点テ−ブルＴ３上の右終了点
又は左終了点のＹ座標より大きいか否かを識別する。Ｙ
ＥＳの場合には、ステップＳ８７に進み、スタックＳＴ
２の当該終了点ｘ座標と同一または直前の開始点に対応
する終了点情報を該終了点の位置にセ−ブした後、スタ
ックＳＴ２上の対応する開始点と終了点の１組の情報
を、ポップしてこのスタックから外す（消去する）。そ
して再びステップＳ８１の処理に戻る。

【００７８】ステップＳ８８では、現在の走査位置の次
ラインが、マスクテ−ブル基本部Ｔ２のスタックＳＴ２
の開始点に対応する、特異点テ−ブルＴ３上の右終了点
又は左終了点のＹ座標より大きいか否かを識別する。Ｙ
ＥＳの場合には、ステップＳ８９に進み、当該開始点−
終了点に対する次ラインの塗り潰しはないものとみな
し、スタックＳＴ２上の対応する開始点と終了点の１組
の情報を、ポップしてこのスタックから外す（消去す
る）。

【００７９】ステップＳ８Ａでは、次ラインの開始点を
求めるために、変数ｉを０にクリアする。そして図９の
ステップＳ９１に進む。Ｓ９１では、現在位置の画素に
隣接する次ラインの位置（ｘ，ｙ＋１）の画素を参照
し、それが黒画素か否か調べる。黒画素の場合には次の
ステップＳ９５に進み、そうでなければＳ９２に進む。
ステップＳ９２では変数ｉに１を加算してそれを更新
し、次のＳ９３では右側に隣接する画素が黒画素か否か
を調べる。黒画素が見つかるまで、ステップＳ９２及び
Ｓ９３を繰り返し、右側に向かって黒画素を探索する。
黒画素が見つかると、ステップＳ９３からＳ９４に進
み、ｘ＋ｉの座標を開始点に定める。

【００８０】ステップＳ９５では変数ｉに１を加算して
それを更新し、次のＳ９６では（ｘ−ｉ）が０以上か否
かを調べる。ＹＥＳならステップＳ９８に進み、ＮＯな
らＳ９７に進む。ステップＳ９７では、開始点をｘ＝０
に更新する。ステップＳ９８では、現在位置から左側に
向かって次ラインの隣接する位置（ｘ−ｉ，ｙ＋１）の
画素を参照し、それが黒画素か否かを調べる。黒画素が
検出されなくなるまで、ステップＳ９５，Ｓ９６，Ｓ９
８の処理を繰り返す。黒画素が検出されなくなると、そ
の直前の座標（ｘ−ｉ＋１）を開始点の座標とする。

【００８１】ステップＳ９Ａでは、次ラインの終了点を
求めるために、変数ｉを０にクリアする。次のステップ
Ｓ９Ｂでは、現在位置に隣接する次ラインの画素位置
（ｘ，ｙ＋１）の画素を参照し、それが黒画素か否かを
調べる。ＹＥＳであれば次にステップＳ９Ｃに進み、Ｎ
ＯならＳ９Ｆに進む。

【００８２】ステップＳ９Ｃでは変数ｉに１を加えてそ
れを更新し、次のステップＳ９Ｄでは次ラインの右側に
位置する画素位置（ｘ＋ｉ，ｙ＋１）の画素を参照して
それが黒画素か否かを調べる。そして、黒画素が検出さ
れる間は、ステップＳ９Ｃ，Ｓ９Ｄの処理を繰り返す。
白画素が検出されると、ステップＳ９ＤからＳ９Ｅに進
み、終了点をｘ＋ｉ−１に更新する。

【００８３】ステップＳ９Ｆでは変数ｉに１を加えてそ
れを更新し、次のステップＳ９Ｇでは次ラインの左側に
位置する画素位置（ｘ−ｉ，ｙ＋１）の画素を参照して
それが黒画素か否かを調べる。そして、黒画素が検出さ
れない間は、ステップＳ９Ｆ，Ｓ９Ｇの処理を繰り返
す。黒画素が検出されると、ステップＳ９ＧからＳ９Ｈ
に進み、終了点をｘ−ｉに更新する。

【００８４】また、ラスタ走査を実行している時に、走
査ライン（Ｙ座標）の変化を検出すると、図６のステッ
プＳ６３から図７のステップＳ７１に進む。Ｓ７１で
は、走査位置のＹ座標がマスクテ−ブルの終了点Ｄ３の
Ｙ座標より大きいか否かを調べる。ＹＥＳなら図６のＳ
６４に進み、ＮＯならＳ７２に進む。

【００８５】ステップＳ７２では、マスクテ−ブルの塗
り潰し特異点ポインタＤ４を使って、番号０の塗り潰し
特異点テ−ブルＴ３の内容を入力する。続くステップＳ
７３では、テ−ブルＴ３の開始点のＹ座標と現在位置の
Ｙ座標とが一致するか否かを調べる。ＹＥＳならＳ７４
に進み、ＮＯならＳ７８に進む。

【００８６】ステップＳ７４では、テ−ブルＴ３のタイ
プが「タイプ１」か否かを調べ、ＹＥＳならＳ７７に進
み、ＮＯならＳ７５に進む。Ｓ７５では、テ−ブルＴ３
のタイプが「タイプ２」か否かを調べ、ＹＥＳならＳ７
６に進み、ＮＯならＳ７８に進む。

【００８７】ステップＳ７６では、特異点テ−ブルＴ３
の開始点のＸ座標が、スタックＳＴ２の開始点−終了点
の間にある、１組の開始点，終了点デ−タを選択し、選
択したデ−タの終了点を、特異点テ−ブルＴ３の開始点
に置き換え、かつ、この開始点と選択したスタックＳＴ
２の終了点との１組のデ−タを、スタックＳＴ２に追加
する。即ち、それまで１組だった「開始点，終了点」の
デ−タを、２組のデ−タに分離する。

【００８８】ステップＳ７７では、特異点テ−ブルＴ３
の開始点を、１組の「開始点，終了点」のデ−タとし
て、スタックＳＴ２に追加する。

【００８９】ステップＳ７８では、処理中の塗り潰し特
異点テ−ブルの最後を参照し、他にも塗り潰し特異点テ
−ブルが存在するか否かを識別する。即ち、塗り潰し特
異点テ−ブルの最後に「次ポインタリンクアドレス」が
あれば（ｎｕｌｌでなければ）その「次ポインタリンク
アドレス」を使用して次の塗り潰し特異点テ−ブルを参
照し、ステップＳ７３に戻って処理を繰り返す。

【００９０】図６〜図１０に示した上記処理の全体の動
作についてもう１度説明する。まず最初に、図３に示す
ラスタ走査順に画像デ−タの各画素をチェックする。こ
のラスタ走査の実行中に黒画素が検出されると（Ｓ６
４）、ラスタ走査を中断し、黒画素が検出された画素位
置を開始点として、輪郭線の追跡を開始する（Ｓ６
６）。そして輪郭線の追跡を実施しながら、図１５に示
すような輪郭線テ−ブルを作成する（Ｓ６９）。また、
輪郭線を構成しない黒画素は消去する（Ｓ６Ｄ）。輪郭
線の追跡が終了すると、即ち、輪郭線の追跡中に参照座
標が開始点に戻ると（Ｓ６Ｂ）、それまでに作成した輪
郭線テ−ブルの内容に基づいて、図１６に示すようなマ
スクテ−ブルＴ２，Ｔ３を作成する。そして、前記ラス
タ走査を再開する。また、ラスタ走査の実行中に走査ラ
インが変化すると（Ｓ６３）、即ちＹ座標が変化する
と、図７に示す処理を実行し、それまでに作成されたマ
スクテ−ブルＴ２，Ｔ３の内容を参照し、塗り潰し特異
点テ−ブルＴ３の内容から、塗り潰し開始点と終了点を
示す情報を生成し、生成したデ−タを次ライン塗り潰し
スタックＳＴ２の中に書込む。また、ラスタ走査の実行
中に、検出した黒画素が既に追跡済の輪郭線の一部分で
ある場合（Ｓ６５）、即ち、それまでに作成したマスク
テ−ブルの次ライン塗り潰しスタックＳＴ２中の開始点
と走査位置が一致した場合、ラスタ走査をしながら、ス
タックＳＴ２中の開始点と終了点の間の全画素を黒画素
に変更し、塗り潰す（Ｓ８２，Ｓ８３）。次ライン塗り
潰しスタックＳＴ２の内容は、塗り潰しの進行に伴なっ
て、逐次更新される。ラスタ走査が完了した時には、例
えば図１４に示すようなマスクデ−タの生成が完了して
いる。

【００９１】なお上記実施例では、入力画像デ−タの各
画素が黒／白の２値画像である場合を想定して説明した
が、実際の画像デ−タにおいては、各画素が多値の濃度
情報を有する場合が多い。そのような多値の入力画像デ
−タを処理する場合には、予め定めた濃度しきい値以上
の値を有する画素のみをステップＳ６４，Ｓ６８等にお
いて黒画素とみなすように変更すればよい。またこの濃
度しきい値は、オペレ−タの指示により変更可能である
のが望ましい。

【００９２】

【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、１回の
ラスタ走査が終了した時にはマスクデ−タの生成も完了
しているので、ラスタ走査を何回も繰り返す必要がな
く、従来の処理と比べ、短い時間で処理を完了しうる。
また本発明では、輪郭線テ−ブルに基づいてマスクデ−
タを生成するが、この輪郭線テ−ブルに必要とされるメ
モリ容量は比較的小さい。即ち、輪郭線テ−ブルの内容
の大部分は輪郭線の副走査方向の凹凸を示す特徴情報で
あり、それを保持するのに必要なメモリの容量は、輪郭
線を構成する各画素の座標を保持する場合と比べてはる
かに少ない。

【００９３】本発明の好ましい態様では、入力画像デ−
タが可視表示され、オペレ−タが手書き入力によって入
力画像デ−タを修正することができる。そして、修正が
完了した入力画像デ−タを処理してマスクデ−タを生成
するので、輪郭線の途切れを防止でき、正しいマスクデ
−タが得られる。

【００９４】また、本発明の好ましい態様では、各々の
画素が多値情報でなる入力画像デ−タを扱う場合には、
濃度が予め定めたしきい値以上の画素のみを有効画素と
して、輪郭線の追跡を実行するので、しきい値を調整す
ることにより、ノイズ画像を消去したり、輪郭線の途切
れを防止することができ、正しいマスクデ−タが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明を実施する装置の構成例を示すブロッ
ク図である。

【図２】 図１の装置の動作の主要部分を示すフロ−チ
ャ−トである。

【図３】 処理対象画像デ−タの一例を示すマップであ
る。

【図４】 輪郭追跡時の画素の方向と追跡の順番を示す
平面図である。

【図５】 輪郭追跡時の画素の方向と追跡の順番を示す
平面図である。

【図６】 図２の画像マスク生成処理の内容の一部分を
示すフロ−チャ−トである。

【図７】 図２の画像マスク生成処理の内容の一部分を
示すフロ−チャ−トである。

【図８】 図２の画像マスク生成処理の内容の一部分を
示すフロ−チャ−トである。

【図９】 図２の画像マスク生成処理の内容の一部分を
示すフロ−チャ−トである。

【図１０】 図２の画像マスク生成処理の内容の一部分
を示すフロ−チャ−トである。

【図１１】 マスクテ−ブル生成処理の詳細を示すフロ
−チャ−トである。

【図１２】 輪郭追跡時の画素の方向と追跡の順番を示
す平面図である。

【図１３】 輪郭の凹凸パタ−ンのタイプを示す平面図
である。

【図１４】 輪郭線の追跡方向と生成するマスク画像を
示す平面図である。

【図１５】 輪郭線テ−ブルの一例を示すメモリマップ
である。

【図１６】 マスクテ−ブルの一例を示すメモリマップ
である。

【図１７】 図形融合処理での各時点の画素の構成を示
す平面図である。

【図１８】 入力図形，手書き修正図形，及びマスク画
像の画素構成を示す平面図である。

【符号の説明】

１００：コントロ−ラ １０１：ＣＰＵボ−
ド １０２，１０３：ペ−ジメモリボ−ド １０４：スキャナ・プリンタ・インタ−フェ−スボ−ド １０６：イメ−ジプロセッサボ−ド １０７：ＬＣＤコントロ−ラボ−ド １０８：液晶表示タブレット １１２：システムバ
ス １１８：スタイラスペン ２００：イメ−ジス
キャナ ３００：プリンタ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入力画像デ−タ中の各画素を、ラスタ走
   査順に調べ、 有効画素が検出されたら、その画素位置から輪郭線の追
   跡を開始し、 輪郭線の追跡中に、輪郭線にならない画素が検出された
   場合には当該画素を消去し、 輪郭線の追跡中に、有効な輪郭線を検出した場合には、
   該輪郭線の副走査方向の凹凸を示す特徴情報が含まれる
   輪郭線テ−ブルを作成し、 輪郭線の追跡が完了すると、作成された輪郭線テ−ブル
   に基づいて、塗り潰し開始点及び終了点を記述したマス
   クテ−ブルを作成してから、各画素のラスタ走査を再開
   し、 ラスタ走査において、同一ラスタライン上に既に抽出済
   の輪郭線がある場合には、該輪郭線のマスクテ−ブルに
   基づいて、そのライン上の輪郭線内部の各画素をマスク
   画素値に置き換えて、マスクデ−タを生成する、情報抽
   出マスク生成方法。
2. 【請求項２】 予め入力画像デ−タを可視表示し、所定
   の手書き入力操作に応答して入力画像デ−タを修正し、
   修正が完了した入力画像デ−タを処理してマスクデ−タ
   を生成する、前記請求項１記載の情報抽出マスク生成方
   法。
3. 【請求項３】 各々の画素が多値情報でなる入力画像デ
   −タに対しては、濃度が予め定めたしきい値以上の画素
   のみを有効画素として、前記輪郭線の追跡を実行する、
   前記請求項１記載の情報抽出マスク生成方法。