JPH0792900B2 - Magnetic head manufacturing method - Google Patents

Magnetic head manufacturing method

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JPH0792900B2 JP60282086A JP28208685A JPH0792900B2 JP H0792900 B2 JPH0792900 B2 JP H0792900B2 JP 60282086 A JP60282086 A JP 60282086A JP 28208685 A JP28208685 A JP 28208685A JP H0792900 B2 JPH0792900 B2 JP H0792900B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、VTRやDATなどの磁気記録再生装置に用いて効
果のある金属コア積層型磁気ヘッドの製造法に関するも
のである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a metal core laminated magnetic head effective for use in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a VTR and a DAT.

(従来の技術) 近年VTRは高密度記録に伴い、高抗磁力を持ったいわゆ
る金属テープが実用化されている。
(Prior Art) In recent years, so-called metal tapes having a high coercive force have been put into practical use with the high density recording of VTRs.

従って、これに対応する磁気ヘッドも飽和磁束密度の大
きい金属磁性材料、例えば、アモルファスやセンダスト
などのいわゆる金属コアが用いられている。
Therefore, a magnetic head corresponding to this also uses a metal magnetic material having a high saturation magnetic flux density, for example, a so-called metal core such as amorphous or sendust.

金属コアはバルク状態では高周波における渦電流損失が
大きく、この損失を防ぐため、金属コアはスパッタリン
グや蒸着などの膜形成技術によって補助基板上に層状に
形成している。
In the bulk state, the metal core has a large eddy current loss at high frequencies, and in order to prevent this loss, the metal core is formed in layers on the auxiliary substrate by a film forming technique such as sputtering or vapor deposition.

第2図は従来の金属ヘッドとその製造法の一例を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a conventional metal head and its manufacturing method.

第2図(a)はヘッド前面から見た概略図であり、ヘッ
ドトラック幅Wを成す磁気コアは上下から補助基板で挟
まれ、かつ、接着ガラスにより結合したコア半体対によ
って磁気ギャップgを構成している。
FIG. 2A is a schematic view seen from the front surface of the head, in which the magnetic core forming the head track width W is sandwiched from above and below by the auxiliary substrate, and the magnetic gap g is formed by the pair of core halves joined by the adhesive glass. I am configuring.

具体的な製造工程を第2図(b),(c)を用いて説明
する。
A specific manufacturing process will be described with reference to FIGS. 2 (b) and 2 (c).

即ち、第2図(b)の如く、一つの補助基板1上に必要
なヘッドトラック幅Wに相当する厚みの金属磁性材料、
例えば、アモルファスをスパッタリングによって層状に
設けた磁性層2を形成する。
That is, as shown in FIG. 2B, a metal magnetic material having a thickness corresponding to the head track width W required on one auxiliary substrate 1,
For example, the magnetic layer 2 is formed by layering amorphous by sputtering.

そして、前記磁性層2上からガラス薄膜3を介在させ、
もう一つの補助基板1′を重ね、そのガラス薄膜3を融
着させることにより、上下面から補助基板1,1′で挟持
した金属コア積層体4を構成する。
Then, the glass thin film 3 is interposed from above the magnetic layer 2,
Another auxiliary substrate 1'is stacked and the glass thin film 3 is fused to form a metal core laminated body 4 sandwiched by the auxiliary substrates 1 and 1'from the upper and lower surfaces.

第2図(c)は、この様な金属コア積層体4をA−A′
で切断することによって、コア半体5aと5bを製造してい
た。
FIG. 2 (c) shows such a metal core laminate 4 taken along line AA '.
The core halves 5a and 5b were manufactured by cutting with.

即ち、従来ヘッドはこの様なコア半体5aと5bを用い、必
要な巻線溝6の加工と磁気ギャップ形成面の加工を行
い、前記第2図(a)に示したような磁気ヘッド体7を
製造していたものである。
That is, the conventional head uses the core halves 5a and 5b as described above to perform the necessary processing of the winding groove 6 and the processing of the magnetic gap forming surface, and the magnetic head assembly as shown in FIG. 7 was manufactured.

(発明が解決しようとする問題点) 以上述べた従来の製造法では、補助基板1,1′間に挟持
したヘッドトラック幅W相当の厚みの金属磁性層(磁気
コア)2の形成を、補助基板の一つである補助基板1上
にその全厚をスパッタリングにより膜形成する製造法で
ある。
(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional manufacturing method described above, formation of the metal magnetic layer (magnetic core) 2 having a thickness corresponding to the head track width W sandwiched between the auxiliary substrates 1 and 1'is assisted. This is a manufacturing method in which a film is formed by sputtering on the auxiliary substrate 1 which is one of the substrates.

しかしながら、この様なスパッタリング法は、その膜形
成速度が極めて遅く時間がかかる。このことは、磁気コ
ア2の製造に時間を要し、製造コストが高くつくもので
あった。
However, such a sputtering method has a very slow film forming rate and takes a long time. This means that it takes time to manufacture the magnetic core 2 and the manufacturing cost is high.

更に、補助基板1上に形成する磁性膜厚が厚くなる程、
その膜厚内部のストレスが内在して磁性層2から補助基
板1に応力が加わり、反りが発生し、平面度が悪くな
る。
Furthermore, the thicker the magnetic film formed on the auxiliary substrate 1 is,
The internal stress of the film thickness causes stress to be applied to the auxiliary substrate 1 from the magnetic layer 2, causing warpage and deteriorating the flatness.

従って、ガラス層2を介して、もう一方の接着補助基板
1′との間に間隙8が生じ、極端な場合には補助基板
1′が接着不良を起したり加工途中で剥離する等の問題
があった。
Therefore, a gap 8 is formed between the glass substrate 2 and the other bonding auxiliary substrate 1 ', and in an extreme case, the auxiliary substrate 1'may cause defective adhesion or peel off during processing. was there.

更に、前記同様、補助基板1の一つに金属磁性層2の全
厚を形成する従来技術では、その基板1上での場所によ
る膜厚分布に差異を生じ、前記反りと同じ構造で間隙8
を生じる問題があった。
Further, similarly to the above, in the prior art in which the total thickness of the metal magnetic layer 2 is formed on one of the auxiliary substrates 1, there is a difference in the film thickness distribution depending on the location on the substrate 1, and the gap 8 has the same structure as the warp.
There was a problem that caused.

以上の如き磁性層2の応力や膜厚分布のバラツキは磁性
層2の磁気特性の劣化を招き、これによって構成される
磁気ヘッドの電磁変換特性と、ヘッドトラック幅Wなど
の機械的寸法精度不良など、の磁気ヘッドの品質も低下
させる問題があった。
The variations in the stress and the film thickness distribution of the magnetic layer 2 as described above lead to the deterioration of the magnetic characteristics of the magnetic layer 2, and the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic head constituted thereby and the poor mechanical dimensional accuracy such as the head track width W. There is a problem that the quality of the magnetic head also deteriorates.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記問題を解決するため、金属磁性層2を挟
持する上下の補助基板1,1′のそれぞれに、必要なヘッ
ドトラック幅Wを分割してスパッタリング膜を形成す
る。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention divides the required head track width W into each of the upper and lower auxiliary substrates 1, 1 ′ sandwiching the metal magnetic layer 2. A sputtering film is formed.

(作用) 本発明は上記手段と構成により、金属磁性層2のスパッ
タ時間を半減させて製造時間を短縮させ、しかも、磁性
膜内部ストレスの減少と、膜厚分布改善によるコア平面
度の精度を高めて、金属コア積層体4を強固に接着し、
剥離等の悪影響を防止し、信頼性の高いヘッドを確保す
る。
(Operation) With the above means and configuration, the present invention halves the sputtering time of the metal magnetic layer 2 to shorten the manufacturing time, and further reduces the internal stress of the magnetic film and improves the accuracy of the core flatness by improving the film thickness distribution. Raise and firmly bond the metal core laminate 4,
Prevents adverse effects such as peeling and secures a highly reliable head.

(実施例) 第1図は本発明による磁気ヘッドとその製造工程を示す
一実施例図であり、ビデオヘッド製造法の一例を示すも
のである。
(Embodiment) FIG. 1 is an embodiment showing a magnetic head and a manufacturing process thereof according to the present invention, and shows an example of a video head manufacturing method.

ここで、第1図(a)は磁気ヘッド、 第1図(b)〜(e)は積層コアの製造工程図である。Here, FIG. 1A is a manufacturing process diagram of a magnetic head, and FIGS. 1B to 1E are manufacturing process diagrams of a laminated core.

一対のコア半体15a,15bは、二つの補助基板10,10′のそ
れぞれに磁性層11,11′をスパッタリングし、結晶化さ
れた接着ガラス層12で接着一体化する。
The pair of core halves 15a and 15b are formed by sputtering the magnetic layers 11 and 11 'on the two auxiliary substrates 10 and 10', respectively, and adhering them together by the crystallized adhesive glass layer 12.

また、前記コア半体対は、磁気ギャップgを境として、
接着ガラス層12よりも低融点ガラスで結合している。
The pair of core halves have a magnetic gap g as a boundary.
Bonding is performed with a glass having a lower melting point than that of the adhesive glass layer 12.

以下、本発明の実施例の製造法について説明する。Hereinafter, the manufacturing method of the embodiment of the present invention will be described.

第1図(b)は、非磁性材から成る二つの補助基板10,1
0′の一面に、磁性層11,11′をスパッタリングによっ
て、その合計厚さが所望のヘッドトラック幅Wになる様
につけると共に、少なくとも片方の磁性層11上に接着ガ
ラス層12として、結晶化ガラスをスパッタリングによっ
て介在させた後、前記、磁性層の結晶化温度よりも低い
温度で加熱して磁性層11,11′を接着し、補助基板で挟
持された磁性層を有する積層体13を構成する。
FIG. 1 (b) shows two auxiliary substrates 10,1 made of non-magnetic material.
Magnetic layers 11 and 11 'are sputtered on one surface of 0' so that the total thickness thereof becomes a desired head track width W, and at least one magnetic layer 11 is crystallized as an adhesive glass layer 12. After interposing glass by sputtering, the laminate is heated at a temperature lower than the crystallization temperature of the magnetic layer to bond the magnetic layers 11 and 11 'to each other to form a laminated body 13 having a magnetic layer sandwiched by auxiliary substrates. To do.

更に、積層体13をB−B′線でダイヤモンド刃で切断
し、更に砥石などで成形した巻線溝14を加工することに
より、通常にコア半体対15a,15bを構成するものであ
る。
Further, the laminated body 13 is cut by a BB 'line with a diamond blade, and the winding groove 14 formed with a grindstone or the like is processed to normally form the core half pair 15a, 15b.

この様なコア半体対15a,15bを用い、磁気ギャップ形成
面19a,19bで突き合わせ、磁気ギャップ形成面19a,19bと
その近傍あるいは巻線溝14中の配した結合ガラス16を、
前記磁性層および接着ガラス層12の両方の結晶化温度に
比べ同等もしくは低温で加熱して一体に結合し磁気ギャ
ップgを形成した磁気ヘッド17を得るものである。
Using such a pair of core halves 15a, 15b, butted at the magnetic gap forming surfaces 19a, 19b, the magnetic gap forming surfaces 19a, 19b and the vicinity or the coupling glass 16 arranged in the winding groove 14,
A magnetic head 17 having a magnetic gap g formed by heating at a temperature equal to or lower than the crystallization temperature of both the magnetic layer and the adhesive glass layer 12 and integrally forming the magnetic gap g is obtained.

次に、前記磁気ヘッド17がCo−Nb−Zr系アモルファス合
金を用いた場合について述べる。
Next, a case where the magnetic head 17 uses a Co—Nb—Zr type amorphous alloy will be described.

結晶化ガラス又はセラミックスなどの非磁性材料から成
る平面加工した補助基板10,10′を同一面上に並べ、前
記アモルファスをスパッタリングにより毎分60〜100Å
の速度で付着させる。
Auxiliary substrates 10 and 10 'which are made of a non-magnetic material such as crystallized glass or ceramics are processed on the same plane, and the amorphous material is sputtered by 60 to 100Å / min.
Attach at the speed of.

例えば、8mmVTRのLPモード仕様の15μmトラック幅であ
れば、それぞれの補助基板上にそのトラック幅の半分の
厚みを付着させる訳である。
For example, if the track width of the LP mode specification of 8 mm VTR is 15 μm, half the track width is attached on each auxiliary substrate.

次に、少なくとも一方のアモルファス膜上に、前記アモ
ルファスの結晶下温度(500〜550℃)以下の温度で結晶
化する、いわゆる低融点結晶化ガラスをスパッタリング
により約1000Å膜付けし、他方のアモルファス面11′を
重ね合わせて、約480℃で約30分間加熱、接着すること
によって、補助基板10,10′間に1000Åのガラス絶縁層
を持つ15μmのアモルファス積層体13ができる。
Next, on at least one amorphous film, a so-called low melting point crystallized glass that crystallizes at a temperature below the amorphous under-crystallization temperature (500 to 550 ° C) is attached by sputtering to about 1000Å film, and the other amorphous surface. By superimposing 11 'and heating and adhering at about 480 ° C. for about 30 minutes, a 15 μm amorphous laminated body 13 having a 1000 Å glass insulating layer is formed between the auxiliary substrates 10 and 10'.

この様な積層体13を切断してコア半体15a,15bを構成
し、両コア半体に必要な形状と寸法加工を行い、ギャッ
プ材、例えばガラスを介して、左右アモルファスコアの
トラック位置合わせを行い、ヘッドトラック幅Wを構成
し、前記、ギャップ面から巻線溝14に設けた非結晶ガラ
スである結合ガラス16を、前記アモルファスの結晶化温
度よりも低い480℃で30分間加熱することにより両コア
半体対を一体化させ、磁気ヘッド17を得るものである。
Such a laminated body 13 is cut to form core halves 15a and 15b, and the required shape and dimension processing are performed on both core halves, and the track alignment of the left and right amorphous cores is performed via a gap material, for example, glass. And forming the head track width W, and heating the bonded glass 16, which is the amorphous glass provided in the winding groove 14 from the gap surface, at 480 ° C., which is lower than the crystallization temperature of the amorphous material, for 30 minutes. The magnetic core 17 is obtained by integrating both core half pairs by.

更に、前記磁気ヘッド17を例えば30μm程度の幅広のヘ
ッドトラック幅で構成する場合について第1図(e)を
用いて説明する。
Further, a case where the magnetic head 17 is configured with a wide head track width of, for example, about 30 μm will be described with reference to FIG.

即ち、基本的には、前述の15μm仕様と同じであり、補
助基板10,10′上に30μmの半分の15μmのアモルファ
スをスパッタリングにより付着する。
That is, it is basically the same as the above-mentioned 15 μm specification, and 15 μm of amorphous material, which is half of 30 μm, is deposited on the auxiliary substrates 10 and 10 ′ by sputtering.

しかしながら、アモルファスコアの高周波特性を高める
ためには、前記15μmの中に絶縁層を入れた積層コアと
することが好ましいものである。
However, in order to improve the high frequency characteristics of the amorphous core, it is preferable to use a laminated core having an insulating layer in the above 15 μm.

従って、アモルファスを7.5μmスパッタリングした時
点で、約1000Åの例えばSiO3絶縁層18,18′をスパッタ
リングにより介在させた後、引き続き残りのアモルファ
スをスパッタリングして15μmとする。
Therefore, when the amorphous is sputtered to a thickness of 7.5 μm, the SiO 3 insulating layers 18 and 18 ′ having a thickness of about 1000 Å are interposed by sputtering, and then the remaining amorphous is sputtered to a thickness of 15 μm.

また、このSiO2に代えて、前記接着ガラス層12と同様、
低融点結晶化ガラスをスパッタリングしてもよい。
Further, instead of this SiO 2 , similar to the adhesive glass layer 12,
Low melting point crystallized glass may be sputtered.

何れにしても、そのヘッドトラック幅Wが厚くなると、
前記の如く、必要な層間絶縁層を介在した積層コアとす
ることが出来、それらを補助基板間で挟持し、アモルフ
ァス上の結晶化ガラスによって接着することにより、以
後の加熱処理に対して積層体は変動しない接着力を有す
ることが出来る。
In any case, if the head track width W becomes thicker,
As described above, it is possible to form a laminated core in which the necessary interlayer insulating layers are interposed, and sandwich them between the auxiliary substrates and bond them with the crystallized glass on the amorphous body, so that the laminated body can be subjected to the subsequent heat treatment. Can have a consistent adhesion.

以上の通り、本発明の製造法は、そのトラック幅Wが厚
い程そのスパッタ時間の短縮効果が現われ、かつ、積層
による高周波損失の防止効果と、コア内部ストレスの減
少などの効果が高まるものである。
As described above, in the manufacturing method of the present invention, the thicker the track width W, the shorter the sputtering time, and the higher the effect of preventing high frequency loss due to stacking and the effect of reducing the stress inside the core. is there.

従って、今後の超高周波域対応(MUSE)ヘッドなどに最
大の効果が発揮できるものである。
Therefore, the maximum effect can be exhibited in the future high frequency compatible (MUSE) heads.

前記説明において、その磁気コアをスパッタリングによ
り形成する方法について述べたが、蒸着法やイオンプレ
ーティング法等の薄膜形成技術で同様に実現できる。
Although the method of forming the magnetic core by sputtering has been described in the above description, it can be similarly realized by a thin film forming technique such as a vapor deposition method or an ion plating method.

更に、接着ガラスについてもスパッタリングで介在させ
たが、蒸着法やガラス微粉を溶剤に混在させ塗布させる
方法や、ガラス薄板を直接介在させ加熱接着することも
出来る。
Further, although the adhesive glass was also interposed by sputtering, a vapor deposition method, a method of mixing glass fine powder in a solvent and coating, or a glass thin plate may be directly interposed to perform heat adhesion.

また、前記説明において、磁気コアがアモルファスであ
る場合について述べたが、他にセンダストなどの高飽和
磁束密度を有する金属材料も適用できるし、センダスト
の場合を考えると、その結晶化温度に相当する処理温度
が少なくとも800℃以上でも許容できるため、接着ガラ
スや結合ガラスの選択が広く有効である。
Further, in the above description, the case where the magnetic core is amorphous has been described, but a metal material having a high saturation magnetic flux density such as sendust can also be applied, and when the case of sendust is considered, it corresponds to its crystallization temperature. Since a treatment temperature of at least 800 ° C is acceptable, adhesive glass and bonded glass are widely selected.

(発明の効果) 以上の通り、本発明の製造工程により構成した磁気ヘッ
ドは、必要なヘッドトラック幅Wを形成するコアが半分
のスパッタ時間で出来るため、製造時間が短縮でき、ヘ
ッドのコストダウンができる。
(Effects of the Invention) As described above, in the magnetic head configured by the manufacturing process of the present invention, since the core forming the required head track width W can be formed in half the sputtering time, the manufacturing time can be shortened and the head cost can be reduced. You can

また、スパッタリングしたアモルファス間を結晶化ガラ
スで接着するため積層構造となり、渦電流損を防止でき
る効果を発揮すると共、ギャップ形成などの後工程の熱
処理に対しても、コア積層が変動せず、高寸法精度のト
ラック幅Wと磁気ギャップgが得られ、従って、高信頼
度の磁気ヘッド17が製造できる効果がある。
In addition, since the sputtered amorphous materials are bonded with crystallized glass to form a laminated structure, the effect of preventing eddy current loss is exhibited, and the core laminated layer does not change even in the heat treatment in the subsequent step such as gap formation, The track width W and the magnetic gap g with high dimensional accuracy can be obtained, so that the magnetic head 17 with high reliability can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による磁気ヘッドとその製造工程を示す
一実施例図、第2図は従来の金属ヘッドとその製造法の
一例を示す図である。 10,10′……補助基板、11,11′……磁性層、 12……接着ガラス層、13……積層体、 14……巻線溝、15a,15b……コア半体、 16……結合ガラス、17……磁気ヘッド、 18,18′……絶縁層。
FIG. 1 is an embodiment diagram showing a magnetic head according to the present invention and a manufacturing process thereof, and FIG. 2 is a diagram showing an example of a conventional metal head and a manufacturing method thereof. 10, 10 '... Auxiliary substrate, 11, 11' ... Magnetic layer, 12 ... Adhesive glass layer, 13 ... Laminated body, 14 ... Winding groove, 15a, 15b ... Core half, 16 ... Bonded glass, 17 ... magnetic head, 18, 18 '... insulating layer.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】補助基板上に金属磁性膜とSiO2とを交互に
スパッタリングあるいは蒸着によって付着させたコア素
子の一対を用い、前記コア素子の金属磁性膜間の1箇所
に結晶化ガラスを介してコア素子を重ね合わせ、第1の
熱処理により結晶化ガラスで接着せしめて積層体を構成
し、さらに前記積層体を切断して両補助基板間の切断面
を磁気ギャップ形成面とする一対の磁気ヘッドコア半体
を構成し、少なくとも片方のコア半体に巻線溝を設け前
記磁気ギャップ形成面を平滑仕上げした後、両磁気ギャ
ップ形成面を、必要なギャップ幅のガラスあるいは酸化
物金属を介して所望のヘッドトラック幅になるように対
向させ、巻線溝あるいは補助基板の適当な箇所に設けた
非結晶化ガラスを第2の熱処理により熔融結合させ、両
コア半体を一体に結合させたことを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造法。
1. A pair of core elements in which a metal magnetic film and SiO 2 are alternately deposited on an auxiliary substrate by sputtering or vapor deposition, and crystallized glass is interposed at one position between the metal magnetic films of the core element. Core elements are superposed on each other and adhered with crystallized glass by the first heat treatment to form a laminated body, and the laminated body is further cut to form a magnetic gap forming surface at a cut surface between both auxiliary substrates. After forming a head core half and providing a winding groove on at least one of the core halves to smooth the magnetic gap forming surface, both magnetic gap forming surfaces are provided with a glass or oxide metal having a required gap width. Both core halves are united by facing each other with a desired head track width and melt-bonding the non-crystallized glass provided in the winding groove or the appropriate position of the auxiliary substrate by the second heat treatment. Preparation of the magnetic head, characterized in that engaged.
【請求項2】金属磁性膜にアモルファス合金を用い、第
1と第2の熱処理温度を、前記アモルファス合金の結晶
温度よりも低い温度で行うことを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の磁気ヘッドの製造法。
2. The amorphous magnetic alloy is used for the metal magnetic film, and the first and second heat treatment temperatures are lower than the crystallizing temperature of the amorphous alloy. A method for manufacturing the magnetic head described.
【請求項3】金属磁性膜にセンダスト合金を用い、第1
の熱処理温度より第2の熱処理温度を高い温度で行うこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の磁気ヘ
ッドの製造法。
3. A sendust alloy is used for the metal magnetic film,
The method of manufacturing a magnetic head according to claim (1), wherein the second heat treatment temperature is higher than the heat treatment temperature.
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