JPH0790434A - 水素還元雰囲気の清浄化と制御のためのゲッタ物質及び装置並びにその製造方法 - Google Patents
水素還元雰囲気の清浄化と制御のためのゲッタ物質及び装置並びにその製造方法Info
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- JPH0790434A JPH0790434A JP11365391A JP11365391A JPH0790434A JP H0790434 A JPH0790434 A JP H0790434A JP 11365391 A JP11365391 A JP 11365391A JP 11365391 A JP11365391 A JP 11365391A JP H0790434 A JPH0790434 A JP H0790434A
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- getter
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 還元性雰囲気に維持されるべき不活性ガスで
充填された密閉容器においての使用に適したゲッタ装置
の開発。 【構成】 ゲッタ組成物は、三元合金Ｚｒ（Ｖ1-X ，Ｆ
ｅX ）2 （Ｘは０．２５〜０．７５の範囲にあり、そし
て最も好ましく０．５である。）から成る。粒寸１２８
μｍ以下の三元合金は焼結剤としての８０μ以下の粒寸
の２〜４０重量％ニッケルと混合される。ゲッタ装置２
１０は、真空高温下で粉末混合物を焼結することにより
作製される。加熱目的でフィラメント２１２を粉末混合
物に埋設して端子２１４、２１４’を設けることができ
る。Ｎｉ乃至Ｃｕの薄層２１８で被覆することも可能で
ある。ゲッタ装置は、酸素を収着するのみならず、水を
収着して水素を放出する。発生する追加量の水素が不活
性ガス密閉雰囲気を還元性雰囲気に維持する。水素脆化
にも耐性を有する。
充填された密閉容器においての使用に適したゲッタ装置
の開発。 【構成】 ゲッタ組成物は、三元合金Ｚｒ（Ｖ1-X ，Ｆ
ｅX ）2 （Ｘは０．２５〜０．７５の範囲にあり、そし
て最も好ましく０．５である。）から成る。粒寸１２８
μｍ以下の三元合金は焼結剤としての８０μ以下の粒寸
の２〜４０重量％ニッケルと混合される。ゲッタ装置２
１０は、真空高温下で粉末混合物を焼結することにより
作製される。加熱目的でフィラメント２１２を粉末混合
物に埋設して端子２１４、２１４’を設けることができ
る。Ｎｉ乃至Ｃｕの薄層２１８で被覆することも可能で
ある。ゲッタ装置は、酸素を収着するのみならず、水を
収着して水素を放出する。発生する追加量の水素が不活
性ガス密閉雰囲気を還元性雰囲気に維持する。水素脆化
にも耐性を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水素還元雰囲気の清浄
化及び制御のための組成物及びゲッタ装置並びにその製
造方法に関する。
化及び制御のための組成物及びゲッタ装置並びにその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】酸化を防止せねばならない金属が存在す
る密閉系或いは容器をヘリウム、ネオン、アルゴン等の
雰囲気とする多くの用途がよく知られている。金属は、
密閉容器内に置かれた構造部品乃至部材でありうるしま
た装置作動部品であることもある。その例は、ランプフ
ィラメント、金属蒸発源或いは反射器の反射要素等であ
る。
る密閉系或いは容器をヘリウム、ネオン、アルゴン等の
雰囲気とする多くの用途がよく知られている。金属は、
密閉容器内に置かれた構造部品乃至部材でありうるしま
た装置作動部品であることもある。その例は、ランプフ
ィラメント、金属蒸発源或いは反射器の反射要素等であ
る。
【０００３】この目的を実現するために、還元性雰囲気
を創成しそして金属の酸化を抑制するために不活性ガス
に或る量の水素を添加することが多いことも知られてい
る。実際上、次の２つの反応が起こる： 1/2 Ｏ2 ＋ Ｍｅ → ＭｅＯ （１） ＭｅＯ ＋ Ｈ2 → Ｈ2 Ｏ ＋ Ｍｅ （２） ＭｅＯ ＋ Ｈ2 ← Ｈ2 Ｏ ＋ Ｍｅ （２’）
を創成しそして金属の酸化を抑制するために不活性ガス
に或る量の水素を添加することが多いことも知られてい
る。実際上、次の２つの反応が起こる： 1/2 Ｏ2 ＋ Ｍｅ → ＭｅＯ （１） ＭｅＯ ＋ Ｈ2 → Ｈ2 Ｏ ＋ Ｍｅ （２） ＭｅＯ ＋ Ｈ2 ← Ｈ2 Ｏ ＋ Ｍｅ （２’）
【０００４】上記反応（２）は（２’）のように可逆的
に起こりうる平衡反応でありそして特にＨ2 Ｏ対Ｈ2 の
分圧比がある値を超えると左側に進行して（２’）金属
の酸化をもたらすことが銘記されるべきである。更に、
反応（２）が進行する（即ち還元）ときＨ2 の消耗が起
こり、従って密閉容器内で水素分圧の減少が生じ、その
後の反応効率の損失が生ずる。
に起こりうる平衡反応でありそして特にＨ2 Ｏ対Ｈ2 の
分圧比がある値を超えると左側に進行して（２’）金属
の酸化をもたらすことが銘記されるべきである。更に、
反応（２）が進行する（即ち還元）ときＨ2 の消耗が起
こり、従って密閉容器内で水素分圧の減少が生じ、その
後の反応効率の損失が生ずる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、こうした不活
性ガス密閉系において、密閉系内に存在する他の種不純
物（Ｏ2 、ＣＯ、ＣＯ2 等）を収着出来るだけでなく、
酸素及び水を収着することができ、水を解離して、水素
を放出することの出来るゲッタ装置を使用することが考
慮し得る。好ましくは、そうしたゲッタ装置は、水素源
として挙動すべきであり、また水素が後にゲッタにより
収着されるのを防止するために少なくとも水素で飽和さ
れるべきである。
性ガス密閉系において、密閉系内に存在する他の種不純
物（Ｏ2 、ＣＯ、ＣＯ2 等）を収着出来るだけでなく、
酸素及び水を収着することができ、水を解離して、水素
を放出することの出来るゲッタ装置を使用することが考
慮し得る。好ましくは、そうしたゲッタ装置は、水素源
として挙動すべきであり、また水素が後にゲッタにより
収着されるのを防止するために少なくとも水素で飽和さ
れるべきである。
【０００６】また、ゲッタ組成物は、それが使用される
用途と適合する平衡水素圧、水素脆化に対する良好な耐
性、最小限の粒子脱離性、並びに必ずしも高くなくても
よいが、不活性ガス中に存在するゲッタ収着性不純物の
ゲッタ装置に向けての拡散を増進するに充分の収着速度
を具備せねばならない。
用途と適合する平衡水素圧、水素脆化に対する良好な耐
性、最小限の粒子脱離性、並びに必ずしも高くなくても
よいが、不活性ガス中に存在するゲッタ収着性不純物の
ゲッタ装置に向けての拡散を増進するに充分の収着速度
を具備せねばならない。
【０００７】本発明の課題は、こうした特性を備えるゲ
ッタ組成物及びゲッタ装置並びにその製造方法を開発す
ることである。
ッタ組成物及びゲッタ装置並びにその製造方法を開発す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、ゲッタ
組成物は、三元合金Ｚｒ（Ｖ1-X ，ＦｅX ）2 （ここで
Ｘは０．２５〜０．７５の範囲にある）とＣｕ、Ａｌ及
びＮｉから成る群から選択される焼結物質（ニッケルが
好ましい）との混合物から成る。焼結物質は、水素を認
めうる程に収着してはならない（或いは少なくとも三元
合金より小さくなければならない）。この理由のため
に、ＺｒやＴｉのような金属はそれらの低いＨ2 平衡圧
力のために不適当である。
組成物は、三元合金Ｚｒ（Ｖ1-X ，ＦｅX ）2 （ここで
Ｘは０．２５〜０．７５の範囲にある）とＣｕ、Ａｌ及
びＮｉから成る群から選択される焼結物質（ニッケルが
好ましい）との混合物から成る。焼結物質は、水素を認
めうる程に収着してはならない（或いは少なくとも三元
合金より小さくなければならない）。この理由のため
に、ＺｒやＴｉのような金属はそれらの低いＨ2 平衡圧
力のために不適当である。
【０００９】本発明はまた、上記ゲッタ組成物を製造す
る方法並びに該組成物を収納しそして還元雰囲気を維持
することが所望される密閉容器内部に取付けるに適当な
ゲッタ装置を提供する。
る方法並びに該組成物を収納しそして還元雰囲気を維持
することが所望される密閉容器内部に取付けるに適当な
ゲッタ装置を提供する。
【００１０】
【作用】酸素を収着するのみならず水と結合することの
できるゲッタ装置の使用により密閉空間内に追加量の水
素が発生せしめ、これが反応（２）を進行せしめて、そ
して反応（２’）が進むのを防止する。こうして、ゲッ
タは装置は、密閉雰囲気中で酸素を収着しそして水素を
放出し、従って密閉雰囲気中の水素の欠乏を防止し、内
部金属部品の酸化を長期にわたって防止する。
できるゲッタ装置の使用により密閉空間内に追加量の水
素が発生せしめ、これが反応（２）を進行せしめて、そ
して反応（２’）が進むのを防止する。こうして、ゲッ
タは装置は、密閉雰囲気中で酸素を収着しそして水素を
放出し、従って密閉雰囲気中の水素の欠乏を防止し、内
部金属部品の酸化を長期にわたって防止する。
【００１１】
【実施例】図１を参照すると、例えばランプ、レーザ或
いは反射装置等のような一定空間１０４を外側雰囲気か
ら連続した閉鎖壁１０２により隔絶した密閉容器１００
の断面が示される。空間１０４は、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、
Ｘｅ或いはＮ2 のような不活性ガスが充填されそして金
属部品乃至部材１０６を収納している。金属部品乃至部
材１０６は、例示目的のため、壁１０２に固定されるも
のとして示したが、空間１０４内部の任意の位置に置く
ことができる。部品乃至部材１０６は、装置の構造部品
であり得るしまたその機能部品の場合もあり、例えばラ
ンプのフィラメント、金属蒸気放射のための高温表面等
である。記号Ｍｅにより先に総体的に示した金属はＣ
ｕ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｎｉ、Ｃｒその他である。
いは反射装置等のような一定空間１０４を外側雰囲気か
ら連続した閉鎖壁１０２により隔絶した密閉容器１００
の断面が示される。空間１０４は、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、
Ｘｅ或いはＮ2 のような不活性ガスが充填されそして金
属部品乃至部材１０６を収納している。金属部品乃至部
材１０６は、例示目的のため、壁１０２に固定されるも
のとして示したが、空間１０４内部の任意の位置に置く
ことができる。部品乃至部材１０６は、装置の構造部品
であり得るしまたその機能部品の場合もあり、例えばラ
ンプのフィラメント、金属蒸気放射のための高温表面等
である。記号Ｍｅにより先に総体的に示した金属はＣ
ｕ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ｎｉ、Ｃｒその他である。
【００１２】いずれの場合も、不活性ガス中に存在する
通常の不純物のみならず、ランプのような装置の高温で
の作動中空間１０４内には主にＯ2 及びＨ2 Ｏである気
体状の不純物が存在する。原子酸素及び水分子の分解に
より最終的に発生する酸素が先に呈示した反応（１）に
従って金属部品乃至部材１０６を酸化する。この作用
は、ほとんど例外なく、装置の有効な機能にとって非常
に有害である。それは、金属が酸化されるとき、容器内
で使用される場合に求められる代表的特性を失うか或い
は変質してしまうからである。
通常の不純物のみならず、ランプのような装置の高温で
の作動中空間１０４内には主にＯ2 及びＨ2 Ｏである気
体状の不純物が存在する。原子酸素及び水分子の分解に
より最終的に発生する酸素が先に呈示した反応（１）に
従って金属部品乃至部材１０６を酸化する。この作用
は、ほとんど例外なく、装置の有効な機能にとって非常
に有害である。それは、金属が酸化されるとき、容器内
で使用される場合に求められる代表的特性を失うか或い
は変質してしまうからである。
【００１３】空間の閉鎖前に、空間内部に任意の既知手
段により添加されるある分圧の水素が反応（１）が起こ
る可能性を低減することは事実である。これは、酸素の
一部が水素と結びついて金属酸化物の代わりに水を形成
しそして反応（２）によりすでに形成された酸化物に還
元反応を及ぼすからである。両方の場合、還元作用は空
間１０４内の水素の分圧の減少をもたらし、最終的に水
素は空間内で零にまで減じそしてそれ以上の反応を停止
する。
段により添加されるある分圧の水素が反応（１）が起こ
る可能性を低減することは事実である。これは、酸素の
一部が水素と結びついて金属酸化物の代わりに水を形成
しそして反応（２）によりすでに形成された酸化物に還
元反応を及ぼすからである。両方の場合、還元作用は空
間１０４内の水素の分圧の減少をもたらし、最終的に水
素は空間内で零にまで減じそしてそれ以上の反応を停止
する。
【００１４】本発明に従えば、ゲッタ装置１１０は、酸
素を収着するのみならず次の式に従って水と結合する目
的で空間１０４内に置かれている： ゲッタ ＋ Ｈ2 Ｏ ＝ （ゲッタ）Ｏ ＋ Ｈ2 （３）
素を収着するのみならず次の式に従って水と結合する目
的で空間１０４内に置かれている： ゲッタ ＋ Ｈ2 Ｏ ＝ （ゲッタ）Ｏ ＋ Ｈ2 （３）
【００１５】それにより、追加量の水素が発生せしめら
れ、これが反応（２）を進行せしめて収率を８０％以上
まで増大し、そして反応（２’）が進むのを防止する。
こうして、ゲッタは酸素を捕捉しそして水素を放出す
る。こうして水を分解することは反応（２’）の進行を
防止する。
れ、これが反応（２）を進行せしめて収率を８０％以上
まで増大し、そして反応（２’）が進むのを防止する。
こうして、ゲッタは酸素を捕捉しそして水素を放出す
る。こうして水を分解することは反応（２’）の進行を
防止する。
【００１６】本発明に従うゲッタ組成物は、三元合金Ｚ
ｒ（Ｖ1-X ，ＦｅX ）2 （ここでＸは好ましくは０．２
５〜０．７５の範囲にあり、そして最も好ましい具体例
では０．５である。）から成る。１２８μｍ以下、通常
１２６μｍ以下の粒寸にまで細寸化されたこの三元合金
は焼結剤としての８０μ以下の粉末寸法における２〜４
０重量％ニッケルと混合される。ゲッタ装置は、例えば
るつぼにおいて真空高温下で粉末混合物を焼結すること
により作製される。例えば、フィラメントを粉末混合物
に埋設し、図２に示すようなゲッタ装置２１０を得るこ
とができる。図２では、ゲッタ装置の加熱のため電源に
接続するべく絶縁スリーブ２１６、２１６’を備える端
子２１４、２１４’を有する内部フィラメント２１２が
示されている。この型式のゲッタ装置は、その焼結構造
によりそしてニッケルの存在により、水素脆化への高い
耐性を示す（７０トル・ｌ／ｇ水素までの）。脆化耐性
を増大するために、ゲッタ装置２１０を追加焼結段階に
よりＮｉ或いはＣｕの薄い層２１８で被覆することも可
能である。
ｒ（Ｖ1-X ，ＦｅX ）2 （ここでＸは好ましくは０．２
５〜０．７５の範囲にあり、そして最も好ましい具体例
では０．５である。）から成る。１２８μｍ以下、通常
１２６μｍ以下の粒寸にまで細寸化されたこの三元合金
は焼結剤としての８０μ以下の粉末寸法における２〜４
０重量％ニッケルと混合される。ゲッタ装置は、例えば
るつぼにおいて真空高温下で粉末混合物を焼結すること
により作製される。例えば、フィラメントを粉末混合物
に埋設し、図２に示すようなゲッタ装置２１０を得るこ
とができる。図２では、ゲッタ装置の加熱のため電源に
接続するべく絶縁スリーブ２１６、２１６’を備える端
子２１４、２１４’を有する内部フィラメント２１２が
示されている。この型式のゲッタ装置は、その焼結構造
によりそしてニッケルの存在により、水素脆化への高い
耐性を示す（７０トル・ｌ／ｇ水素までの）。脆化耐性
を増大するために、ゲッタ装置２１０を追加焼結段階に
よりＮｉ或いはＣｕの薄い層２１８で被覆することも可
能である。
【００１７】こうしたゲッタ装置は、コンパクトであ
り、脱離性の粒子をあるとしても最小限しか有しない。
更に、これらは密閉容器１００内で水素源を与えるよう
に水素化されうる。ゲッタ装置は次の実施例に示される
ように高い水素平衡圧力を有する。
り、脱離性の粒子をあるとしても最小限しか有しない。
更に、これらは密閉容器１００内で水素源を与えるよう
に水素化されうる。ゲッタ装置は次の実施例に示される
ように高い水素平衡圧力を有する。
【００１８】（実施例）この例は、本発明によるゲッタ
装置の作製の好ましい態様及び性能を呈示することを目
的とする。
装置の作製の好ましい態様及び性能を呈示することを目
的とする。
【００１９】ゲッタ装置として所望される最終混合物の
７０重量％に相当する量の、１５０μｍ以下の粒寸を有
するＺｒ（Ｖ0.15，Ｆ0.5 ）2 三元合金粉末を分篩によ
り得た。これを粒寸６０μｍ以下の粉末ニッケル３０重
量％と回転シリンダにおいて４時間混合した。この混合
物をるつぼ内に置きそして１×１０-5トル（１．３×１
０-5ｍｂａｒ）より高い真空下で１０００℃において約
１時間熱処理した。
７０重量％に相当する量の、１５０μｍ以下の粒寸を有
するＺｒ（Ｖ0.15，Ｆ0.5 ）2 三元合金粉末を分篩によ
り得た。これを粒寸６０μｍ以下の粉末ニッケル３０重
量％と回転シリンダにおいて４時間混合した。この混合
物をるつぼ内に置きそして１×１０-5トル（１．３×１
０-5ｍｂａｒ）より高い真空下で１０００℃において約
１時間熱処理した。
【００２０】図２に示したフィラメント２１２をあらか
じめ配置した型内で焼結を行うことにより得られたゲッ
タ装置を図１に１１０で概略示したように試験される密
閉系内に取付けた。試験の結果、図３、４、５及び６図
のグラフが得られた。図３から、１０-2〜１０-4トル
（１．３×１０-2〜１．３×１０-4ｍｂａｒ）範囲内の
水素分圧において、２５０〜３５０℃の温度範囲に対し
て、Ｈ2 の濃度は２０〜７５トルｌ／ｇであることがわ
かる。
じめ配置した型内で焼結を行うことにより得られたゲッ
タ装置を図１に１１０で概略示したように試験される密
閉系内に取付けた。試験の結果、図３、４、５及び６図
のグラフが得られた。図３から、１０-2〜１０-4トル
（１．３×１０-2〜１．３×１０-4ｍｂａｒ）範囲内の
水素分圧において、２５０〜３５０℃の温度範囲に対し
て、Ｈ2 の濃度は２０〜７５トルｌ／ｇであることがわ
かる。
【００２１】図４を参照すると、本ゲッタのＣＯに対す
る収着量の関数としてのポンピング速度が示され、これ
からこの気体に対する良好な収着容量が確認され、従っ
て不可逆的に収着したすべての気体に対して同様の良好
な収着容量が得られることがわかる。なぜなら、ＣＯは
この型式の試験に対してそうした気体の代表例であるか
らである。
る収着量の関数としてのポンピング速度が示され、これ
からこの気体に対する良好な収着容量が確認され、従っ
て不可逆的に収着したすべての気体に対して同様の良好
な収着容量が得られることがわかる。なぜなら、ＣＯは
この型式の試験に対してそうした気体の代表例であるか
らである。
【００２２】最後に、図５及び６を参照すると、図６に
は４．６トル（６．１ｍｂａｒ）の全圧において経時的
なゲッタの重量増大として表したゲッタ装置へのＨ2 Ｏ
の収着様相を示し、他方図５はやはり様々の温度におい
て重量増加分として表した収着Ｈ2 Ｏの量の関数として
のＨ．Ｐ．Ｕ．（すなわち、Hydrogen Pick Up 保持さ
れたＨ2 の％に相当する）の挙動を示すグラフである。
は４．６トル（６．１ｍｂａｒ）の全圧において経時的
なゲッタの重量増大として表したゲッタ装置へのＨ2 Ｏ
の収着様相を示し、他方図５はやはり様々の温度におい
て重量増加分として表した収着Ｈ2 Ｏの量の関数として
のＨ．Ｐ．Ｕ．（すなわち、Hydrogen Pick Up 保持さ
れたＨ2 の％に相当する）の挙動を示すグラフである。
【００２３】
【発明の効果】密閉不活性ガス雰囲気中の経時的な水素
の消耗を防止して密閉容器内に置かれる金属の酸化を長
期にわたって防止する。本ゲッタ装置は、コンパクトで
あり、脱離粒子をあるとしても最小限しか有しない。更
に、これらは密閉容器内で水素源を与えるように水素化
されうる。ゲッタ装置は高い水素平衡圧力を有する。こ
の型式のゲッタ装置は、その焼結構造によりそしてニッ
ケルの存在により、水素脆化への高い耐性を示す。
の消耗を防止して密閉容器内に置かれる金属の酸化を長
期にわたって防止する。本ゲッタ装置は、コンパクトで
あり、脱離粒子をあるとしても最小限しか有しない。更
に、これらは密閉容器内で水素源を与えるように水素化
されうる。ゲッタ装置は高い水素平衡圧力を有する。こ
の型式のゲッタ装置は、その焼結構造によりそしてニッ
ケルの存在により、水素脆化への高い耐性を示す。
【図１】本発明のゲッタ装置により還元性雰囲気に維持
されるべき不活性ガスで充填された密閉容器を示す概略
図である。
されるべき不活性ガスで充填された密閉容器を示す概略
図である。
【図２】本発明のゲッタ装置の断面図である。
【図３】本発明にゲッタ組成物の様々の温度での水素濃
度の関数としてのＨ2 平衡圧を示すグラフである。
度の関数としてのＨ2 平衡圧を示すグラフである。
【図４】本発明ゲッタ組成物のＣＯに対する収着量の関
数としてのポンピング速度を示すグラフである。
数としてのポンピング速度を示すグラフである。
【図５】様々の温度において重量増加として表した収着
Ｈ2 Ｏの量の関数としてのＨ．Ｐ．Ｕ．（水素ピックア
ップ）の挙動を示すグラフである。
Ｈ2 Ｏの量の関数としてのＨ．Ｐ．Ｕ．（水素ピックア
ップ）の挙動を示すグラフである。
【図６】経時的なゲッタの重量増大として表したゲッタ
装置へのＨ2 Ｏの収着様相を示すグラフである。
装置へのＨ2 Ｏの収着様相を示すグラフである。
１００ 密閉容器 １０４ 空間 １０６ 金属部品乃至部材 １１０ ゲッタ装置 ２１０ ゲッタ装置 ２１２ 内部フィラメント ２１４、２１４’ 端子 ２１６、２１６’ 絶縁スリーブ ２１８ Ｎｉ或いはＣｕの薄い層
Claims (10)
- 【請求項１】 水素を添加した主として不活性ガスを含
む容器からＯ2 及びＨ2 Ｏを収着することのできる組成
物であって、１２８μｍ以下の粒寸を有するＺｒ（Ｖ
1-X ，ＦｅX ）2 （ここでＸは０．２５〜０．７５の範
囲にある）三元合金に８０μｍ以下の粒寸を有するニッ
ケル粉末を２〜４０重量％混合して成る組成物。 - 【請求項２】 Ｘが０．５に等しい請求項１の組成物。
- 【請求項３】 最終混合物において三元合金が７０重量
％でありそして残部がニッケルである請求項１或いは請
求項２の組成物。 - 【請求項４】 （ａ）１２８μｍ以下の粒寸を有する粉
末状の三元合金Ｚｒ（Ｖ1-X ，ＦｅX ）2 と８０μｍ以
下の粒寸を有する２〜４０重量％の粉末状ニッケルとを
混合する段階と、 （ｂ）前記混合物を真空下でのるつぼ内での熱処理によ
り焼結する段階とにより特徴づけられる請求項１〜３い
ずれか一つの組成物を含むゲッタ装置を製造する方法。 - 【請求項５】 焼結温度が１０００℃でありそして１時
間継続される請求項４のゲッタ装置を製造する方法。 - 【請求項６】 焼結用るつぼ内の圧力が１×１０-5トル
（１．３×１０-5ｍｂａｒ）以下である請求項４或いは
請求項５のゲッタ装置を製造する方法。 - 【請求項７】 粉末状ニッケル対粉末状三元合金の比率
が３：７である請求項４〜６のいずれか一つのゲッタ装
置を製造する方法。 - 【請求項８】 請求項４〜７のいづれか一つの方法によ
り製造された、密閉容器内で不活性ガスで充填された空
間のＯ2 及びＨ2 Ｏの収着のためのゲッタ装置であっ
て、ゲッタ装置を加熱するために三元合金とニッケルと
の焼結体中に加熱源に接続される端子を有するらせん形
態に巻かれたワイヤ導体を備えることを特徴とするゲッ
タ装置。 - 【請求項９】 外面にニッケル或いは銅の薄い金属焼結
膜を有する請求項８のゲッタ装置。 - 【請求項１０】 加熱に際して不活性ガス雰囲気中に水
素を放出するためあらかじめ水素化されている請求項８
或いは請求項９のゲッタ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT20081A IT1240631B (it) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | Composizione e dispositivo getter per la purificazione ed il controllo di atmosfera riducente di idrogeno e relativo processo di preparazione |
| IT20081A/90 | 1990-04-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0790434A true JPH0790434A (ja) | 1995-04-04 |
Family
ID=11163652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11365391A Pending JPH0790434A (ja) | 1990-04-20 | 1991-04-19 | 水素還元雰囲気の清浄化と制御のためのゲッタ物質及び装置並びにその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0790434A (ja) |
| IT (1) | IT1240631B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100523955B1 (ko) * | 1997-12-23 | 2006-01-12 | 사에스 게터스 에스.페.아. | 물리증착의공정에서의작업분위기를정화하기위한게터시스템 |
| JP2010529607A (ja) * | 2007-06-05 | 2010-08-26 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 有害物質を吸着するための手段を備える再充電可能なリチウム電池 |
-
1990
- 1990-04-20 IT IT20081A patent/IT1240631B/it active IP Right Grant
-
1991
- 1991-04-19 JP JP11365391A patent/JPH0790434A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100523955B1 (ko) * | 1997-12-23 | 2006-01-12 | 사에스 게터스 에스.페.아. | 물리증착의공정에서의작업분위기를정화하기위한게터시스템 |
| JP2010529607A (ja) * | 2007-06-05 | 2010-08-26 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 有害物質を吸着するための手段を備える再充電可能なリチウム電池 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT9020081A0 (it) | 1990-04-20 |
| IT1240631B (it) | 1993-12-17 |
| IT9020081A1 (it) | 1991-10-20 |
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