JPH0785668A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH0785668A
JPH0785668A JP5229225A JP22922593A JPH0785668A JP H0785668 A JPH0785668 A JP H0785668A JP 5229225 A JP5229225 A JP 5229225A JP 22922593 A JP22922593 A JP 22922593A JP H0785668 A JPH0785668 A JP H0785668A
Authority
JP
Japan
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sense amplifier
power supply
level
sense
amplifier
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5229225A
Other languages
English (en)
Inventor
Masami Nakajima
正美 中島
Hiroshi Yamamoto
浩史 山本
Kouya Sofue
功弥 祖父江
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP5229225A priority Critical patent/JPH0785668A/ja
Priority to US08/305,722 priority patent/US5508965A/en
Priority to KR1019940023159A priority patent/KR0137084B1/ko
Publication of JPH0785668A publication Critical patent/JPH0785668A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明はセンスアンプの活性化に基づく電源ノ
イズの発生を抑制し得る半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。 【構成】ワード線WLの選択に基づいて選択された記憶
セルCeからセル情報がビット線BL,バーBLに読み
出され、センスアンプ活性化信号LEに基づいて電源P
NSが供給されて活性化されるセンスアンプ1でビット
線BL,バーBLに読み出されたセル情報が増幅され
る。センスアンプ1と電源PNSとの間には活性化制御
回路4が介在されるとともに、該活性化制御回路4には
電源電圧に充電した容量Cが接続され、活性化制御回路
4によりセンスアンプ活性化信号LEの入力に基づいて
所定時間に限り前記容量Cが前記センスアンプ1に接続
され、所定時間経過後はセンスアンプ1に前記電源PN
Sが接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、大容量化された半導
体記憶装置に関するものである。近年、半導体記憶装置
は大容量化が益々進んでいる。このような半導体記憶装
置では、書き込みモード、読み出しモード及びセル情報
のセルフーリフレッシュモードにおいて、同時に動作す
る回路が増大して、電源ノイズが増大する傾向にある。
そこで、電源ノイズの増大を防止しながら、記憶容量の
大容量化を図ることが必要となっている。
【0002】
【従来の技術】従来のDRAMの一例を図6に従って説
明する。記憶セルCeはワード線WLと、ビット線B
L,バーBLの何れかに接続され、ロウデコーダ及びコ
ラムデコーダによりワード線WL及びビット線BL,バ
ーBLを選択することにより、記憶セルCeが選択され
る。
【0003】前記ビット線BL,バーBLにはセンスア
ンプ1が接続される。このセンスアンプ1はPチャネル
MOSトランジスタTr1,Tr2と、NチャネルMOSト
ランジスタTr3,Tr4とから構成され、高電位側電源P
SGと、低電位側電源NSGとが供給されると活性化さ
れる。
【0004】前記センスアンプ1には電源VccからPチ
ャネルMOSトランジスタTr5を介して前記高電位側電
源PSGが供給され、グランドGNDからNチャネルM
OSトランジスタTr6を介して前記低電位側電源NSG
が供給される。
【0005】前記トランジスタTr5のゲートにはセンス
アンプ活性化信号LEがインバータ回路2aを介して入
力され、前記トランジスタTr6のゲートにはセンスアン
プ活性化信号LEが入力されている。
【0006】このように構成されたDRAMの読み出し
動作を図7に従って説明する。ビット線BL,バーBL
が例えば1/2Vccのリセット電位にリセットされてい
る状態からワード線WLが選択されて、その電位がHレ
ベルに引き上げられる。
【0007】すると、当該ワード線WLに接続された記
憶セルCeからセル情報が読み出され、例えばビット線
BLの電位がビット線バーBLの電位より僅かに上昇す
る。この状態で、センスアンプ活性化信号LEがHレベ
ルに引き上げられると、トランジスタTr5,Tr6がオン
されて、センスアンプ1に高電位側電源PSGと、低電
位側電源NSGとが供給される。
【0008】すると、センスアンプ1が活性化されてビ
ット線BL,バーBLの電位差が拡大され、このセル情
報がコラムゲート、データバス、出力バッファ回路等を
介して出力データとして出力される。
【0009】次いで、選択されていたワード線WLの電
位がLレベルに引き下げられ、センスアンプ活性化信号
LEがLレベルとなると、センスアンプ1が不活性化さ
れ、ビット線BL,バーBLの電位が同一レベルにリセ
ットされる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなDRAM
では、記憶容量の増大にともなって、例えば上記読み出
し動作時に多数のセンスアンプ1が同時に活性化され
る。すると、図7に破線で示すように電源Vccの電圧レ
ベルが一時的に低下するとともに、電源Vssの電圧レベ
ルが一時的に上昇する電源ノイズNが発生する。
【0011】そして、このような電源ノイズNが周辺回
路の誤動作の原因となるという問題点がある。この発明
の目的は、センスアンプの活性化に基づく電源ノイズの
発生を抑制し得る半導体記憶装置を提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、ワード線WLの選択に基づいて選
択された記憶セルCeからセル情報がビット線BL,バ
ーBLに読み出され、センスアンプ活性化信号LEに基
づいて電源PNSが供給されて活性化されるセンスアン
プ1で前記ビット線BL,バーBLに読み出されたセル
情報が増幅される。前記センスアンプ1と前記電源PN
Sとの間には活性化制御回路4が介在されるとともに、
該活性化制御回路4には電源電圧に充電した容量Cが接
続され、前記活性化制御回路4により前記センスアンプ
活性化信号LEの入力に基づいて所定時間に限り前記容
量Cが前記センスアンプ1に接続され、所定時間経過後
は前記センスアンプ1に前記電源PNSが接続される。
【0013】また、図2及び図4に示すように前記活性
化制御回路4は前記センスアンプ活性化信号LEに基づ
いて前記容量C1,C2を所定時間に限り前記センスア
ンプ1に接続するワンショットパルス発生回路3と、前
記センスアンプ活性化信号LEの入力から所定時間後に
前記センスアンプ1に電源PSG,NSGを接続する遅
延回路2b,2eとから構成される。
【0014】
【作用】センスアンプ活性化信号LEに基づいて、まず
容量Cからセンスアンプ1に電源電圧が供給され、所定
時間後にセンスアンプ1に電源PNSが供給される。
【0015】
【実施例】図2は本発明を具体化した第一の実施例を示
す。なお、前記従来例と同一構成部分は同一符号を付し
てその説明を省略する。
【0016】センスアンプ1に低電位側電源NSGを供
給する為のトランジスタTr6のゲートには、センスアン
プ活性化信号LEが偶数段のインバータ回路2bを介し
て入力される。従って、トランジスタTr6のゲートには
センスアンプ活性化信号LEがインバータ回路2bによ
る遅延時間後に出力信号φ2として入力される。
【0017】前記センスアンプ活性化信号LEはワンシ
ョットパルス発生回路3に入力される。前記ワンショッ
トパルス発生回路3はセンスアンプ活性化信号LEのL
レベルからHレベルへの立ち上がりに基づいて、一定時
間Lレベルとなるパルス信号を出力する。なお、出力信
号のLレベルのパルス幅は、ワンショットパルス発生回
路3を構成する奇数段のインバータ回路2cにより設定
され、前記インバータ回路2bの遅延時間と一致するよ
うに構成される。
【0018】前記ワンショットパルス発生回路3の出力
信号は、インバータ回路2dに入力され、同インバータ
回路2dの出力信号φ1はNチャネルMOSトランジス
タTr7のゲートに入力される。
【0019】前記トランジスタTr7のドレインは前記ト
ランジスタTr6のドレインに接続され、同トランジスタ
Tr7のソースは容量C1を介して電源Vccに接続されて
いる。
【0020】前記容量C1の低電位側端子はNチャネル
MOSトランジスタTr8のドレインに接続され、同トラ
ンジスタTr8のソースは電源Vssに接続されている。ま
た、前記トランジスタTr8のゲートには外部から入力さ
れる制御信号RASバーが入力される。
【0021】次に、上記のように構成されたDRAMの
読み出し動作を図3に従って説明する。さて、読み出し
動作に先立って、制御信号RASバーがHレベルにある
状態では、トランジスタTr8はオンされ、容量C1の低
電位側端子レベルφ3は電源Vssレベルとなる。
【0022】次いで、制御信号RASバーがLレベルに
立ち下がると、トランジスタTr8がオフされる。また、
ワード線WLが選択されると、ビット線BL,バーBL
に僅かな電位差が生じる。
【0023】この状態でセンスアンプ活性化信号LEが
Hレベルに立ち上がると、トランジスタTr5がオンされ
て、センスアンプ1の高電位側電源PSGがHレベルに
立ち上がる。
【0024】また、ワンショットパルス発生回路3によ
りインバータ回路2dの出力信号φ1がHレベルとな
り、トランジスタTr7が一時的にオンされる。すると、
容量C1の低電位側端子レベルφ3によりセンスアンプ
1に電源Vssレベルの低電位側電源NSGが供給され、
同センスアンプ1が活性化される。
【0025】このとき、センスアンプ1の動作により容
量C1の低電位側端子レベルφ3が上昇する。次いで、
ワンショットパルス発生回路3によりインバータ回路2
dの出力信号φ1が立ち下がってトランジスタTr7がオ
フされるとともに、遅延回路2bの出力信号φ2が立ち
上がってトランジスタTr6がオンされる。
【0026】すると、センスアンプ1の低電位側電源N
SGとして、電源Vssレベルが引き続いて供給され、セ
ンスアンプ1の活性化が継続され、同センスアンプ1の
活性化により、ビット線BL,バーBLの電位差が拡大
される。
【0027】次いで、制御信号RASバーがHレベルに
立ち上がると、トランジスタTr8がオンされて容量C1
の低電位側端子レベルφ3はグランドGNDレベルまで
引き下げられる。
【0028】そして、ワード線WLがLレベルとなって
記憶セルCeの選択が停止され、センスアンプ活性化信
号LEがLレベルに立ち下がると、センスアンプ1の高
電位側電源PSG及び低電位側電源NSGは同一レベル
となる。
【0029】すると、センスアンプ1が不活性化され、
ビット線BL,バーBLの電位がリセットされる。以上
のようにこのDRAMでは、センスアンプ活性化信号L
EがHレベルとなってセンスアンプ1が活性化される
と、同センスアンプ1の低電位側電源NSGはまず容量
C1の低電位側端子レベルφ3に接続され、同センスア
ンプ1から容量C1に電荷が吸収される。
【0030】次いで、低電位側電源NSGは電源Vssに
接続されて、センスアンプ1から電源Vssに電荷が吸収
される。従って、このようなセンスアンプ1が同時に多
数個活性化されても、各センスアンプ1から電源Vssへ
の電荷の急激な流れ込みを防止することができるので、
電源Vssレベルの上昇による電源ノイズの発生を抑制す
ることができる。
【0031】また、容量C1からの電荷の引き抜きはセ
ンスアンプ1によりビット線BL,バーBLの電位差を
拡大した後に、制御信号RASバーの立ち上がりに基づ
いて行われるので、容量C1からの電荷の引き抜きによ
る電源Vssの電圧変動に対する影響を低減することがで
きる。
【0032】次に、この発明を具体化した第二の実施例
を図4に従って説明する。なお、前記第一の実施例と同
一構成部分は同一符号を付して、その説明を省略する。
センスアンプ活性化信号LEは奇数段のインバータ回路
2eを介してトランジスタTr5のゲートに入力される。
従って、トランジスタTr5のゲートにはセンスアンプ活
性化信号LEを反転させた信号φ4がインバータ回路2
eによる遅延時間後に入力される。
【0033】前記センスアンプ活性化信号LEはワンシ
ョットパルス発生回路3に入力され、同ワンショットパ
ルス発生回路3の出力信号φ5はPチャネルMOSトラ
ンジスタTr9のゲートに入力される。
【0034】前記トランジスタTr9のドレインは前記ト
ランジスタTr5のドレインに接続され、同トランジスタ
Tr9のソースは、容量C2の高電位側端子に接続されて
いる。
【0035】前記容量C2の高電位側端子はPチャネル
MOSトランジスタTr10 のドレインに接続され、同ト
ランジスタTr10 のソースは電源Vccに接続され、同ト
ランジスタTr10 のゲートには制御信号RASバーがイ
ンバータ回路2fを介して入力されている。
【0036】次に、上記のように構成されたDRAMの
読み出し動作を図5に従って説明する。さて、読み出し
動作に先立って、制御信号RASバーがHレベルにある
状態では、トランジスタTr10 はオンされ、容量C2の
高電位側端子レベルφ6は電源Vccレベルとなる。
【0037】次いで、制御信号RASバーがLレベルに
立ち下がると、トランジスタTr10がオフされる。ま
た、ワード線WLが選択されると、ビット線BL,バー
BLに僅かな電位差が生じる。
【0038】この状態でセンスアンプ活性化信号LEが
Hレベルに立ち上がると、トランジスタTr6がオンされ
て、センスアンプ1の低電位側電源NSGが電源Vssレ
ベルに引き下げられる。
【0039】また、ワンショットパルス発生回路3の出
力信号φ5が立ち下がって、トランジスタTr9が一時的
にオンされる。すると、容量C2の高電位側端子レベル
φ6によりセンスアンプ1に電源Vccレベルの高電位側
電源PSGが供給され、同センスアンプ1が活性化され
る。
【0040】このとき、センスアンプ1の動作により容
量C2の高電位側端子レベルφ6が低下する。次いで、
ワンショットパルス発生回路3の出力信号φ5が立ち上
がってトランジスタTr9がオフされるとともに、インバ
ータ回路2eの出力信号φ4が立ち下がってトランジス
タTr5がオンされる。
【0041】すると、センスアンプ1の高電位側電源P
SGとして、電源Vccレベルが引き続いて供給され、セ
ンスアンプ1の活性化が継続され、同センスアンプ1の
活性化により、ビット線BL,バーBLの電位差が拡大
される。
【0042】次いで、制御信号RASバーがHレベルに
立ち上がると、トランジスタTr10がオンされて容量C
2の高電位側端子レベルφ6は電源Vccレベルまで引き
上げられる。
【0043】そして、ワード線WLがLレベルとなって
記憶セルCeの選択が停止され、センスアンプ活性化信
号LEがLレベルに立ち下がると、センスアンプ1の高
電位側電源PSG及び低電位側電源NSGは同一レベル
となる。
【0044】すると、センスアンプ1が不活性化され、
ビット線BL,バーBLの電位がリセットされる。以上
のようにこのDRAMでは、センスアンプ活性化信号L
EがHレベルとなってセンスアンプ1が活性化される
と、同センスアンプ1の高電位側電源PSGはまず容量
C2の高電位側端子レベルφ6に接続され、同容量C2
からセンスアンプ1に電荷が供給される。
【0045】次いで、高電位側電源PSGは電源Vccに
接続されて、電源Vccからセンスアンプ1に電荷が供給
される。従って、このようなセンスアンプ1が同時に多
数個活性化されても、電源Vccから各センスアンプ1へ
の電荷の急激な流れ込みを防止することができるので、
電源Vccレベルの低下による電源ノイズの発生を抑制す
ることができる。
【0046】また、容量C2への電荷の供給はセンスア
ンプ1によりビット線BL,バーBLの電位差を拡大し
た後に、制御信号RASバーの立ち上がりに基づいて行
われるので、容量C2への電荷の供給による電源Vccの
電圧変動に対する影響を低減することができる。
【0047】なお、前記第一の実施例と第二の実施例と
を組み合わせて、電源Vccレベルの低下による電源ノイ
ズと、電源Vssレベルの上昇による電源ノイズをともに
抑制する構成とすることもできる。
【0048】
【発明の効果】以上詳述したように、この発明はセンス
アンプの活性化に基づく電源ノイズの発生を抑制し得る
半導体記憶装置を提供することができる優れた効果を発
揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】第一の実施例を示す回路図である。
【図3】第一の実施例の動作を示す波形図である。
【図4】第二の実施例を示す回路図である。
【図5】第二の実施例の動作を示す波形図である。
【図6】従来例を示す回路図である。
【図7】従来例の動作を示す波形図である。
【符号の説明】
1 センスアンプ 4 活性化制御回路 Ce 記憶セル BL,バーBL ビット線 WL ワード線 LE 活性化信号 PNS 電源 C 容量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 祖父江 功弥 愛知県春日井市高蔵寺町2丁目1844番2 富士通ヴィエルエスアイ株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワード線(WL)の選択に基づいて選択
    された記憶セル(Ce)からセル情報をビット線(B
    L,バーBL)に読み出し、センスアンプ活性化信号
    (LE)に基づいて電源(PNS)が供給されて活性化
    されるセンスアンプ(1)で前記ビット線(BL,バー
    BL)に読み出されたセル情報を増幅する半導体記憶装
    置であって、 前記センスアンプ(1)と前記電源(PNS)との間に
    は活性化制御回路(4)を介在させるとともに、該活性
    化制御回路(4)には電源電圧に充電した容量(C)を
    接続し、前記活性化制御回路(4)は前記センスアンプ
    活性化信号(LE)の入力に基づいて所定時間に限り前
    記容量(C)を前記センスアンプ(1)に接続し、所定
    時間経過後は前記センスアンプ(1)に前記電源(PN
    S)を接続することを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記活性化制御回路(4)は前記センス
    アンプ活性化信号(LE)に基づいて前記容量(C1,
    C2)を所定時間に限り前記センスアンプ(1)に接続
    するワンショットパルス発生回路(3)と、前記センス
    アンプ活性化信号(LE)の入力から所定時間後に前記
    センスアンプ(1)に電源(PSG,NSG)を接続す
    る遅延回路(2b,2e)とから構成したことを特徴と
    する請求項1記載の半導体記憶装置。
JP5229225A 1993-09-14 1993-09-14 半導体記憶装置 Withdrawn JPH0785668A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5229225A JPH0785668A (ja) 1993-09-14 1993-09-14 半導体記憶装置
US08/305,722 US5508965A (en) 1993-09-14 1994-09-14 Semiconductor memory device
KR1019940023159A KR0137084B1 (ko) 1993-09-14 1994-09-14 반도체 메모리 장치
US08/584,471 US5619465A (en) 1993-09-14 1996-01-11 Semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5229225A JPH0785668A (ja) 1993-09-14 1993-09-14 半導体記憶装置

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