JPH0784243A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚
の基板間に、液晶材料、重合性化合物及び光重合開始剤
を含有する調光層形成材料を介在させ、前記調光層形成
材料に、波長３２０nm以下の紫外線を遮断し、かつ、波
長３７０nm以下に光強度が存在する紫外線を照射して前
記重合性化合物を重合させることにより、重合性化合物
から成る透明性固体物質及び液晶材料を含有する調光層
を有する光散乱型液晶表示素子の製造方法。 【効果】 本発明の製造方法によれば、面積で薄膜型の
ものであり、コントラストが高い液晶表示素子であるの
で、反射型型表示方式、透過型表示方式どちらにも適し
た光散乱型液晶表示素子が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、大面積になし得る光散
乱型液晶表示素子の製造方法に関し、更に詳しくは、光
の遮断、透過を電気的又は熱的に操作し得るものであっ
て、建物の窓やショーウィンドウで視野遮断のスクリー
ンや、採光コントロールのカーテンに利用されると共
に、文字や図形を表示し、高速応答性を以って電気的に
表示を切り換えることによって、広告板、案内板、装飾
表示板等の表示体、ＯＡ器材などのディスプレイー等の
ハイインフォーメーション表示体、またプロジェクショ
ン等の投影型表示装置として利用される光散乱型液晶表
示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板の間に支持された調光層を有し、前記調光層
が液晶材料及び透明性固体物質から成り、前記液晶材料
が連続層を形成し、前記透明性固体物質が前記液晶材料
中に３次元ネットワ−ク状に存在する光散乱型液晶表示
素子の製造方法において、液晶材料、重合性組成物、光
重合開始剤及びその他任意成分よりなる調光層構成材料
に紫外線を供給する場合、紫外線を直接、調光層構成材
料に照射する方法が用いられていた。

【０００３】特開平４−１８８１０５号公報には、短波
長紫外線の３９０nm以下をカットした紫外線を照射し、
光散乱型液晶表示素子を製造する方法が開示されてい
る。この方法によれば、形成された光散乱型液晶表示素
子の液晶材料の光劣化を防止し、抵抗及び電圧保持率を
低下させない点に効果があるが、白濁を向上させる効果
は、無かった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このように従来の方法
で作製された光散乱型液晶表示素子は、低電圧駆動性に
優れているが、電圧無印加時の白濁度が小さいため、コ
ントラストが低いという欠点を有していた。

【０００５】本発明が解決しようとする課題は、電圧無
印加時の白濁度に優れ、高コントラストが得られる光散
乱型液晶表示素子の製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、光散乱型液晶表示素子において、電圧無
印加時の白濁度に優れ、高コントラストが得られる光散
乱型液晶表示素子の製造方法を見いだした。

【０００７】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板
間に、液晶材料、重合性化合物及び光重合開始剤を含有
する調光層形成材料を介在させ、前記調光層形成材料に
紫外線を照射して前記重合性化合物を重合させることに
より、重合性化合物から成る透明性固体物質及び液晶材
料を含有する調光層を有する光散乱型液晶表示素子の製
造方法において、波長３２０nm以下の紫外線を遮断し、
かつ、波長３７０nm以下に光強度が存在する紫外線を照
射することを特徴とする光散乱型液晶表示素子の製造方
法を提供する。

【０００８】以下に光散乱型液晶表示素子の製造方法を
詳細に説明する。

【０００９】均一な三次元網目構造を有する光散乱型液
晶表示素子を製作する方法としては、例えば、 （１）液晶材料、重合性化合物及び光重合開始剤
を含有する均一溶液を２枚の透明性電極層を有する基板
間に狭持させ、これに波長３２０nm以下を遮断し、かつ
３７０nm以下に光強度が存在する紫外線を照射し、三次
元網目状の透明性固体物質及び液晶材料から成る調光層
を形成する方法。 （２）液晶材料、重合性化合物及び光重合開始剤
を含有する均一溶液を、一方の透明性電極層を有する基
板上にスピンコーター等のコーターを使用して塗布し、
ついで他方の基板を重ね、これに波長３２０nm以下を遮
断し、かつ３７０nm以下に光強度が存在する紫外線を照
射し、三次元網目状の透明性固体物質及び液晶材料から
成る調光層を形成する方法。 （３）液晶材料又は溶剤、重合性化合物及び光重
合開始剤を含有する均一溶液を２枚の透明性電極層を有
する基板間、または１枚の透明電極層を有する基板と補
助板の間に狭持させ、これに波長３２０nm以下を遮断
し、かつ３７０nm以下に光強度が存在する紫外線を照射
し、三次元網目状の透明性固体物質及び液晶材料から成
る調光層或いは三次元網目状の透明性固体物質及び溶剤
から成る複合層を形成する。次に、２枚の基板の一方
を、または補助板を剥離し、これら一方の基板上に形成
されている三次元網目構造を有する透明性高分子物質か
ら未硬化の重合性組成物及び液晶材料又は溶剤を洗
浄除去した後、基板上に形成された三次元網目構造を有
する透明性高分子物質を乾燥させる。その後、三次元網
目構造の透明性固体物質の中に任意の液晶を加熱しなが
ら浸漬させ、一方の基板を張り合わせて圧着し、２枚の
基板を接着固定する方法。などが挙げられる。

【００１０】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属等であっても良く、柔軟性を有する
材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであっ
ても良い。そして、基板は、２枚が対向して適当な間隔
を隔て得るものである。また、その少なくとも一方は、
透明性を有し、その２枚の間に挟持される調光層を外界
から視覚させるものでなければならない。但し、完全な
透明性を必須とするものではない。もし、この液晶パネ
ルが、パネルの一方の側から他方の側へ通過する光に対
して作用させるために使用される場合は、２枚の基板
は、共に適宜な透明性が与えられる。この基板には、目
的に応じて透明、不透明の適宜な電極が、その全面又は
部分的に配置されても良い。

【００１１】但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性
を有する材料の場合は、堅固な材料、例えば、ガラス、
金属等に固定したうえで、本発明の製造方法に用いるこ
とができる。

【００１２】基板に均一に付着させる透明性固体物質の
厚みを制御するために、２枚の基板間には、通常周知の
液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在さ
せるのが望ましい。スペーサーは、液晶材料及び重合性
化合物を含有する溶液、或は有機溶剤及び重合性化合物
を含有する溶液に混合しても良く、一方の基板上に塗布
しておいても良い。

【００１３】スペーサーとしては、例えば、マイラー、
アルミナ、ロッドタイプのガラスファイバー、ガラスビ
ーズ、ポリマービーズ等種々の液晶セル用のものが特に
制限なく使用できる。

【００１４】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の
液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であ
っても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識さ
れるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を
有するものが好ましく、製作後の光散乱型液晶表示素子
が、良好な特性を得られる液晶であれば良い。

【００１５】本発明で使用する液晶材料としては、ネマ
チック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が
好ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合
物や２色性染料等が適宜含まれていてもよい。

【００１６】本発明で使用する液晶材料は、以下に示し
た化合物群から選ばれた１種以上の化合物から成る配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、Δｎ、Δε及び重合
性組成物等との溶解性等を改善することを目的として適
宜選択、配合して用いることができる。

【００１７】液晶材料としては、例えば、４−置換安息
香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換
シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）
安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換
シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置
換シクロヘキシルエステル、４−置換４’−置換ビフェ
ニル、４−置換フェニル−４’−置換シクロヘキサン、
４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル
４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）
−５−置換ピリミジン等を挙げることができる。

【００１８】調光層中の液晶材料の割合は、６０重量％
以上が好ましく、７０〜９０重量％の範囲が特に好まし
い。（以下、「％」は、「重量％」を意味する）

【００１９】調光層形成材料中の重合性化合物として
は、高分子形成性モノマー又はオリゴマーが挙げられ、
調光層形成材料中に、これらのモノマー及びオリゴマー
は、併用することができる。

【００２０】高分子形成性モノマーとしては、例えば、
スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン；置換基として、メチレ、エチル、プロピ
ル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シク
ロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジ
ル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、
３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジエチルアミノエチルの如き基を有するアクリ
レート、メタクリレート又はフマレート；エチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，３−ブチレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプ
ロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のポリ
（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレート；
酢酸ビニル、酢酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロ
ニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘ
キセン、ジアリルフタレート、２−、３−又は４−ビニ
ルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリル
アミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド及び
それらのアルキルエーテル化合物；トリメチロールプロ
パン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくは
プロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又
はトリ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコール
１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロ
ピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）
アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート１モルとフェニルイソシアネート若しくはｎ−ブチ
ルイソシアネート１モルとの反応生成物；ジペンタエリ
スリトールのポリ（メタ）アクリレート；トリス−（ヒ
ドロキシエチル）−イソシアヌル酸のポリ（メタ）アク
リレート；トリス−（ヒドロキシエチル）−リン酸のポ
リ（メタ）アクリレート；ジ−（ヒドロキシエチル）−
ジシクロペンタジエンのモノ（メタ）アクリレート又は
ジ（メタ）アクリレート；ピバリン酸エステルネオペン
チルグリコールジアクリレート；カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ
アクリレート；直鎖脂肪族ジアクリレート；ポリオレフ
ィン変性ネオペンチルグリコールジアクリレート等を挙
げることができる。

【００２１】高分子形成性オリゴマーとしては、例えば
エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）
アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート等、各種アクリレート
オリゴマーを用いることができる。

【００２２】この三次元網目構造を有する透明性固体物
質は、堅固な物に限らず、目的に応じ得る限り柔軟性、
弾性を有するものであっても良い。

【００２３】光重合開始剤としては、例えば、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４ −ジエチ
ルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピル
チオキサントン（ワードプレキンソツプ社製「カンタキ
ュアーＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。

【００２４】光重合開始剤の使用割合は、重合性組成物
の０．１〜１０．０％の範囲が好ましい。

【００２５】重合用エネルギーとしては、３２０nm以下
を遮断し、かつ３７０nm以下に光強度が存在する紫外線
を照射する。紫外線照射による重合性組成物の液晶材料
中での重合において、光照射強度及び照射量も一定の強
さ以上を必要とするが、それは、重合性組成物の反応性
及び光重合開始剤の種類、濃度によって左右され、適切
な光強度の選択により三次元網目状の形成及びその網目
の大きさを均一化を図ることができる。

【００２６】更に好ましくは、光照射方法として時間
的、平面的に均一に照射することは基板間に介在する重
合性組成物を瞬間的に強い光をあて重合を進行させ、網
目の大きさを均一化を図る上で効果的である。即ち、適
切な光強度でパルス状に照射することにより、均一な三
次元網目状の重合体を液晶層中に実現できる。

【００２７】照射する紫外線を波長３２０nm以下を遮断
し、かつ３７０nm以下を透過する手段としては、紫外線
カットフィルターを用いる方法がある。

【００２８】用いる紫外線カットフィルターは、ガラス
の如き堅固な材料であってもよく、プラスチックの如き
柔軟性を有する材料であってもよい。

【００２９】又、液体状のものを容器に封入した物や透
明性の板に塗布したものでもよく、微粒子状の物を分散
させたものでもよい。

【００３０】紫外線をカットするフィルターとしては、
例えば、「ＵＶ−３４」、「ＵＶ−３６」（ホヤ社
製）、「ソーダ石灰ガラス」、「ソーダカリ鉛ガラ
ス」、「タングステンガラス」、「硬質１級ガラス」、
「硬質２級ガラス」の如きガラス；「ポリカーボネート
板」等のフィルムなどが挙げられる。

【００３１】透明性固体物質から形成された三次元網目
構造の網目の平均間隔は、０．２〜５μｍの範囲が好ま
しい。又、透明性固体物質を有する層の層厚は、使用目
的に応じ、光散乱による不透明性と電気的或は熱的に達
成した透明性との間の十分なコントラストを得るため
に、１〜３０μｍの範囲が好ましい。

【００３２】

【実施例】以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に
具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。また、以下の実施例に
おいて「％」は「重量％」を表わし、評価特性の各々は
以下の記号及び内容を意味する。

【００３３】また、紫外線の強度は、ウシオ電機社製ユ
ニメーター「ＵＩＴ−１０１」と受光素子「ＵＶＤ−３
６５ＰＤ］を用いて測定した値である。

【００３４】 Ｔ₀ ： 白濁度；印加電圧０の時の光透過率（％） Ｔ₁₀₀ ： 透明度；印加電圧を増加させていき光透過率
がほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） Ｖ₁₀ ： しきい値；Ｔ₀を０％、Ｔ₁₀₀を１００％とし
たとき光透過率が１０％となる印加電圧（Ｖrms） Ｖ₉₀ ：飽和電圧；同上光透過率が９０％となる印加電
圧（Ｖrms） ＣＲ ：コントラスト＝Ｔ₁₀₀／Ｔ₀

【００３５】（実施例１）「ＰＮ００１」（ロデック社
製液晶材料）８０．０％、ラウリルアクリレート３．９
２％、 「カヤラッド（KAYARAD）−ＨＸ−６２０」（日
本化薬社製カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エ
ステルネオペンチルグリコールジアクリレート）１５．
６８％及び「ダロキュア１１７３」（メルク社製光重合
開始剤；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン）０．４％から成る調光層形成材料
を、１１．０μのガラスファイバー製スペーサーが塗布
された２枚のＩＴＯ電極を有するガラス基板間に挟み込
んだ。

【００３６】「ＵＶ−３４」（ホヤ社製のフィルター）
を紫外線照射機の光源と２枚のＩＴＯ電極を有するガラ
ス基板の間に設置した。次に、基板全体を３６℃に保ち
ながら、４５ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射し、液
晶表示素子を得た。得られた液晶表示素子の調光層を電
子顕微鏡で観察した結果、三次元網目状の透明性固体物
質が確認できた。

【００３７】この液晶表示素子の印加電圧と光透過率の
関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝３．０％、Ｔ₁₀₀ ＝８３．７％、ＣＲ＝２７．
９、Ｖ₁₀＝４．７Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝９．４Ｖ_rms であった。

【００３８】なお、使用した液晶「ＰＮ００１」の諸物
性は以下の通りであった。 転移温度 ６８．５℃（Ｎ−Ｉ） ＜−２５ ℃（Ｃ−Ｎ） 屈折率 ｎ_e＝１．７８７ ｎ_o＝１．５８３ Δｎ＝０．２５４ しきい値電圧（Ｖth） １．１５Ｖ ２０℃の粘度 ５９ｃ．ｐ． 誘電率異方性 Δε＝２６．９

【００３９】（実施例２）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、「ＵＶ−３
６」（ＨＯＹＡ社製のフィルター）を使用した以外は、
実施例１と同様にして光散乱型液晶表示素子を得た。得
られた液晶表示素子の調光層を電子顕微鏡で観察した結
果、三次元網目状の透明性固体物質が確認できた。

【００４０】この液晶表示素子の印加電圧と光透過率の
関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝２．６％、Ｔ₁₀₀ ＝８４．５％、ＣＲ＝３２．
５、Ｖ₁₀＝４．５Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝８．６Ｖ_rms であった。

【００４１】（実施例３）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、厚さ３mmの
ポリカーボネート板を使用した以外は、実施例１と同様
にして光散乱型液晶表示素子を得た。得られた液晶表示
素子の調光層を電子顕微鏡で観察した結果、三次元網目
状の透明性固体物質が確認できた。

【００４２】この液晶表示素子の印加電圧と光透過率の
関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝２．６％、Ｔ₁₀₀ ＝８４．７％、ＣＲ＝３３．
２、Ｖ₁₀＝４．１Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝９．５Ｖ_rms であった。

【００４３】（実施例４）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、厚さ６mmの
ソーダ石灰ガラス板を使用した以外は、実施例１と同様
にして光散乱型液晶表示素子を得た。得られた液晶表示
素子の調光層を電子顕微鏡で観察した結果、三次元網目
状の透明性固体物質が確認できた。

【００４４】この光散乱型液晶表示素子の印加電圧と光
透過率の関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝２．７％、Ｔ₁₀₀ ＝８５．６％、ＣＲ＝３１．
７、Ｖ₁₀＝６．１Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝９．４Ｖ_rms であった。

【００４５】（比較例１）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）を使用しなかった以外
は、実施例１と同様にして光散乱型液晶表示素子を得
た。得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微鏡で観察
した結果、三次元網目状の透明性固体物質が確認でき
た。

【００４６】この光散乱型液晶表示素子の印加電圧と光
透過率の関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝８．１％、Ｔ₁₀₀ ＝８１．９％、ＣＲ＝１０．
１、Ｖ₁₀＝２．６Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝８．０Ｖ_rms であった。

【００４７】（比較例２）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、「ＵＶ−３
０」（ＨＯＹＡ社製のフィルター）を使用した以外は、
実施例１と同様にして光散乱型液晶表示素子を得た。得
られた液晶表示素子の調光層を電子顕微鏡で観察した結
果、三次元網目状の透明性固体物質が確認できた。

【００４８】この光散乱型液晶表示素子の印加電圧と光
透過率の関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝７．２％、Ｔ₁₀₀ ＝８４．６％、ＣＲ＝１１．
８、Ｖ₁₀＝４．１Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝９．２Ｖ_rms であった。

【００４９】（比較例３）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、「ＵＶ−３
２」（ＨＯＹＡ社製のフィルター）を使用した以外は、
実施例１と同様にして光散乱型液晶表示素子を得た。得
られた液晶表示素子の調光層を電子顕微鏡で観察した結
果、三次元網目状の透明性固体物質が確認できた。

【００５０】この光散乱型液晶表示素子の印加電圧と光
透過率の関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝６．０％、Ｔ₁₀₀ ＝８６．７％、ＣＲ＝１４．
５、Ｖ₁₀＝４．５Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝９．５Ｖ_rms であった。

【００５１】（比較例４）実施例１において、「ＵＶ−
３４」（ホヤ社製のフィルター）に代えて、「ＳＣ−３
９」（富士写真フィルム社製のフィルター）を使用した
以外は、実施例１と同様にして光散乱型液晶表示素子を
得た。得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微鏡で観
察した結果、三次元網目状の透明性固体物質が確認でき
た。

【００５２】この光散乱型液晶表示素子の印加電圧と光
透過率の関係を測定すると、 Ｔ₀ ＝１５．１％、Ｔ₁₀₀ ＝７０．８％、ＣＲ＝５．
２、Ｖ₁₀＝１．９Ｖ_rms、Ｖ₉₀＝１３．８Ｖ_rms であった。

【００５３】これらの結果から、本発明の光散乱型液晶
表示素子は、比較例に比べ、はるかに白濁度が良く、コ
ントラストの高い光散乱型液晶表示素子であることが明
らかである。

【００５４】

【発明の効果】本発明の製造方法によって得られる光散
乱型液晶表示素子は、大面積で薄膜型のものであり、白
濁度が良好であるため、コントラストが高い液晶表示素
子である。これらの特徴により、反射型型表示方式、透
過型表示方式どちらにも適した液晶表示素子を提供する
ことができるため、光散乱型液晶表示素子としての用途
が大きく拡大する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１、実施例２、比較例２及び比較例３で
用いたフィルターの透過分光波長特性を示す図表であ
る。

【図２】実施例３、実施例４及び比較例４で用いたフィ
ルターの透過分光波長特性を示す図表である。

【符号の説明】

１ 比較例２で使用したＨＯＹＡ社製のフィルター「Ｕ
Ｖ−３０」 ２ 比較例３で使用したＨＯＹＡ社製のフィルター「Ｕ
Ｖ−３２」 ３ 実施例１で使用したＨＯＹＡ社製のフィルター「Ｕ
Ｖ−３４」 ４ 実施例２で使用したＨＯＹＡ社製のフィルター「Ｕ
Ｖ−３６」 ５ 実施例４で使用した厚さ６mmのソーダ石灰ガラス板 ６ 実施例３で使用した厚さ３mmのポリカーボネート板 ７ 比較例４で使用した富士写真フィルム社製のフィル
ター「ＳＣ−３９」

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板間に、液晶材料、重合性化合物及び光重合開
   始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、前記調光層
   形成材料に紫外線を照射して前記重合性化合物を重合さ
   せることにより、重合性化合物から成る透明性固体物質
   及び液晶材料を含有する調光層を有する光散乱型液晶表
   示素子の製造方法において、 波長３２０nm以下の紫外線を遮断し、かつ、波長３７０
   nm以下に光強度が存在する紫外線を照射することを特徴
   とする光散乱型液晶表示素子の製造方法。
2. 【請求項２】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板間に、液晶材料、重合性化合物及び光重合開
   始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、前記調光層
   形成材料に紫外線を照射して前記重合性化合物を重合さ
   せることにより、重合性化合物から成る透明性固体物質
   及び液晶材料を含有する調光層を有する光散乱型液晶表
   示素子の製造方法において、 吸収限界波長が３２０nmから長波長域のみに存在し、か
   つ、３７０nm以下で光が透過するフィルターを透過した
   紫外線を照射することを特徴とする光散乱型液晶表示素
   子の製造方法。
3. 【請求項３】 調光層が、液晶材料の連続層中に高分子
   の３次元ネットワークを有することを特徴とする請求項
   １又は２記載の光散乱型液晶表示素子の製造方法。
4. 【請求項４】 分光装置により波長を分離した紫外線を
   照射することを特徴とする請求項１記載の光散乱型液晶
   表示素子の製造方法。