JPH0775952A - 研磨工具保持装置 - Google Patents

研磨工具保持装置

Info

Publication number
JPH0775952A
JPH0775952A JP5224156A JP22415693A JPH0775952A JP H0775952 A JPH0775952 A JP H0775952A JP 5224156 A JP5224156 A JP 5224156A JP 22415693 A JP22415693 A JP 22415693A JP H0775952 A JPH0775952 A JP H0775952A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing tool
polisher
polishing
tool holding
convex spherical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5224156A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichiro Saito
慎一郎 斎藤
Toshihide Kikuchi
俊秀 菊池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP5224156A priority Critical patent/JPH0775952A/ja
Publication of JPH0775952A publication Critical patent/JPH0775952A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、レンズ,ミラー等の光学素子ある
いは金型等を研磨する時に、研磨工具を保持するために
使用される研磨工具保持装置に関し、ポリシャの厚みの
調節のみにより、被研磨面を均一な圧力分布で確実に研
磨することを目的とする。 【構成】 ポリシャが固定されるポリシャ支持部材を有
する研磨工具と、前記研磨工具を保持する研磨工具保持
部材と、前記研磨工具のポリシャ支持部材と前記研磨工
具保持部材との間に配置され前記ポリシャ支持部材を回
転自在に案内する案内部材とを備えてなり、前記ポリシ
ャ支持部材を凸球面と端面とからなるほぼ半球状に形成
するとともに、前記端面に前記ポリシャを固定し、前記
ポリシャ支持部材の凸球面の球心を前記ポリシャの研磨
中心点に一致させ、さらに、前記案内部材の前記凸球面
への接触部を同一円周上に位置させて構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ,ミラー等の光
学素子あるいは金型等を研磨する時に、研磨工具を保持
するために使用される研磨工具保持装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、レンズ,ミラー等の光学素子あ
るいは金型等を研磨する時には、研磨工具を保持するた
めに研磨工具保持装置が使用されている。
【0003】従来、この種の研磨工具保持装置として
は、例えば、特開平4−244372号公報に開示され
るものが知られている。図4は、この公報に開示される
研磨工具保持装置を示すもので、この装置は、凸球面1
1aを有する工具保持部11と、凹球面13aを有し加
工力を伝達する工具支持部13と、凸球面11aと凹球
面13aとの間に挟まれた少なくとも3っつの球体15
と、工具保持部11により保持される研磨工具17とを
有している。
【0004】工具保持部11は、工具保持部11に設け
られた磁石11bにより、工具支持部13側に吸引され
ており、また、工具保持部11と工具支持部13とは、
可撓性部材19により連結され、可撓性部材19により
工具保持部11と工具支持部13との間の空間が密閉さ
れている。
【0005】工具保持部11の凸球面11aの中心点、
工具支持部13の凹球面13aの中心点は、工具保持部
11に保持される研磨工具17のポリシャ17aの中心
点Oに一致されている。
【0006】また、研磨工具17は磁石11cにより工
具保持部11に吸引されている。上述した研磨工具保持
装置では、回転軸21が回転されると、板バネ23を介
して工具支持部13が回転され、この工具支持部13に
吸着される工具保持部11の回転により研磨工具17が
回転される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の研磨工具保持装置では、工具支持部13の凹
球面13aあるいは球体15が磨耗すると、工具保持部
11の凸球面11aの曲率中心と、工具支持部13の凹
球面13aの曲率中心と、球体15の径軌跡の球心とに
不一致が生じ、この結果、研磨工具17にモーメントが
発生するため、被研磨面を均一な圧力分布でポリシャ1
7aにより研磨することが困難になるという問題があっ
た。
【0008】本発明は、かかる従来の問題を解決するた
めになされたもので、ポリシャの厚みの調節のみによ
り、被研磨面を均一な圧力分布で確実に研磨することが
できる研磨工具保持装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の研磨工具保持装
置は、ポリシャが固定されるポリシャ支持部材を有する
研磨工具と、前記研磨工具を保持する研磨工具保持部材
と、前記研磨工具のポリシャ支持部材と前記研磨工具保
持部材との間に配置され前記ポリシャ支持部材を回転自
在に案内する案内部材とを備えてなり、前記ポリシャ支
持部材を凸球面と端面とからなるほぼ半球状に形成する
とともに、前記端面に前記ポリシャを固定し、前記ポリ
シャ支持部材の凸球面の球心を前記ポリシャの研磨中心
点に一致させ、さらに、前記案内部材の前記凸球面への
接触部を同一円周上に位置させてなるものである。
【0010】
【作用】本発明の研磨工具保持装置では、案内部材の凸
球面への接触部が同一の円周上にあるため、凸球面の曲
率半径が変化すると、ポリシャの研磨中心点が、前述し
た円の中心を通る法線ベクトル方向に移動する。
【0011】従って、ポリシャの厚みを調整することに
より、研磨中心点を凸球面の球心に容易に一致させるこ
とができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。図1は、本発明の研磨工具保持装置の一実施
例を示すもので、図において符号31は、研磨工具を示
している。
【0013】この研磨工具31は、ポリシャ支持部材3
1aに、緩衝材31bを介して、例えば、砥石からなる
ポリシャ31cを固定して構成されている。符号33
は、研磨工具31を保持する研磨工具保持部材を示して
いる。
【0014】この研磨工具保持部材33は、円筒状をし
ており、内周には、内側に向けて突出する円環状の突出
部33aが形成されている。ポリシャ支持部材31aと
研磨工具保持部材33との間には、ポリシャ支持部材3
1aを回転自在に案内する案内部材35が配置されてい
る。
【0015】この案内部材35は、研磨工具保持部材3
3の内周面に外周を嵌合され、突出部33aに後端面を
当接される球体保持部材35aと、この球体保持部材3
5aに保持される3個以上の複数の球体35bとから構
成されている。
【0016】しかして、この実施例では、研磨工具31
のポリシャ支持部材31aが、凸球面31dと端面31
eとからなるほぼ半球状に形成されている。そして、端
面31eに、緩衝材31bを介してポリシャ31cが固
定されている。
【0017】また、ポリシャ支持部材31aの凸球面3
1dの球心が、ポリシャ31cの研磨中心点Oに一致さ
れている。そして、さらに、複数の球体35bの凸球面
31dへの接触部Cが、同一の円周S上に配置されてい
る。
【0018】ポリシャ支持部材31aの凸球面31dの
中心には、研磨工具31を回転するための回転伝達部材
37が固定されている。回転伝達部材37は、円弧状の
溝部37aおよび係止ピン37bを備えた一対のユニバ
ーサルジョイントからなり、紙面に対して垂直方向およ
び平行方向に揺動自在に構成されている。
【0019】回転伝達部材37には、工具回転軸39の
先端に形成される突出部39aが連結されている。工具
回転軸39の先端には、鍔部39bが形成され、この鍔
部39bがボルト41により研磨工具保持部材33に連
結されている。
【0020】研磨工具保持部材33と研磨工具31との
間に形成される空間は、可撓性部材からなるシール部材
43により密閉されている。図2は、上述した研磨工具
保持装置を組み込んだ研磨装置を示すもので、図におい
て、符号45が研磨工具保持装置を示している。
【0021】この研磨装置では、モータ47が回転駆動
されると、プーリー49の回転により、ベルト51を介
して、プーリー53が回転され、このプーリー53の回
転により、ハウジング55内に軸受け57を介して支持
される主軸59が回転される。
【0022】そして、主軸59の回転が、ボールスプラ
インナット61を介して工具回転軸39に伝達され、工
具回転軸39の回転により、研磨工具保持装置45が回
転される。
【0023】なお、工具回転軸39の後端には、バネ,
エアークッション等からなる弾性部材63が配置されて
いる。図3は、上述した研磨装置により被研磨部材65
の被研磨面65aを研磨している状態を示すもので、工
具回転軸39が、被研磨面65aに対して法線方向を向
いており、ポリシャ31cが弾性部材63により、一定
の圧力で被研磨面65aに押圧されている。
【0024】しかして、上述した研磨工具保持装置で
は、案内部材35を構成する球体35bの凸球面31d
への接触部Cを同一の円周S上に配置したので、凸球面
31dの曲率半径が変化すると、ポリシャ31cの研磨
中心点Oが、前述した円周Sの中心を通る法線ベクトル
方向に移動するため、ポリシャ31cの厚みを調整する
ことにより、研磨中心点Oを凸球面31dの球心に容易
に一致させることが可能になる。
【0025】そして、研磨中心点Oを凸球面31dの球
心に一致させることにより、研磨工具31に不要なモー
メントが作用することがなくなり、被研磨面65aを均
一な圧力分布で確実に研磨することが可能になる。
【0026】また、上述した研磨工具保持装置では、案
内部材35あるいは凸球面31dに多少の加工誤差があ
っても、ポリシャ31cの厚みを調整することにより、
研磨中心点Oを凸球面31dの球心に比較的高い精度で
一致させることができる。
【0027】さらに、上述した研磨工具保持装置では、
回転伝達部材37により凸球面31dと工具回転軸39
とを連結したので、研磨工具31が傾斜した場合にも、
研磨工具31に偶力が発生することがなくなり、また、
工具回転軸39の回転を研磨工具31に安定して伝達す
ることができる。
【0028】すなわち、図4に示した従来の研磨工具保
持装置では、研磨工具17への回転の伝達が、可撓性部
材19の撓みの範囲内で行われているため、研磨工具1
7が傾斜した場合には、研磨工具17が、球体15の転
がり抵抗の他に、可撓性部材19の抵抗も受け、研磨工
具17に偶力が作用し、均一な圧力分布を得ることが困
難になり、また、研磨工具17の回転抵抗が回転中に変
化すると、可撓性部材19の撓み量が変化するため、安
定した回転を得ることが困難であったが、上述した研磨
工具保持装置では、研磨工具31が傾斜した場合にも、
研磨工具31に偶力が発生することがなくなり、工具回
転軸39の回転を研磨工具31に安定して伝達すること
ができる。
【0029】また、上述した研磨工具保持装置では、回
転伝達部材37をポリシャ支持部材31aと工具回転軸
39に連結し、かつ、工具回転軸39と研磨工具保持部
材33とを連結したので、工具回転軸39の回転を研磨
工具31により安定して伝達することができる。
【0030】さらに、上述した研磨工具保持装置では、
研磨装置を、図3に示した矢符X方向に移動した場合に
も、ポリシャ支持部材31aの凸球面31dの球心と、
研磨中心点Oとが一致しているため、研磨工具31にモ
ーメントが発生することがなく、研磨装置のX軸方向へ
の移動中においても均一な圧力分布を得ることができ
る。
【0031】なお、以上述べた実施例では、案内部材3
5を球体保持部材35aと球体35bとにより構成した
例について説明したが、本発明はかかる実施例に限定さ
れるものではなく、例えば、案内部材をすべり軸受け等
により構成しても良い。
【0032】
【発明の効果】以上述べたように本発明の研磨工具保持
装置では、案内部材の凸球面への接触部を同一の円周上
に配置したので、凸球面の曲率半径が変化すると、ポリ
シャの研磨中心点が、前述した円の中心を通る法線ベク
トル方向に移動するため、ポリシャの厚みを調整するこ
とにより、研磨中心点を凸球面の球心に容易に一致させ
ることが可能になり、この結果、ポリシャの厚みの調節
のみにより、被研磨面を均一な圧力分布で確実に研磨す
ることが可能になるという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の研磨工具保持装置の一実施例を示す断
面図である。
【図2】図1の研磨工具保持装置を備えた研磨装置を示
す断面図である。
【図3】図2の研磨装置により被研磨面を研磨している
状態を示す説明図である。
【図4】従来の研磨工具保持装置を示す断面図である。
【符号の説明】
31 研磨工具 31a ポリシャ支持部材 31c ポリシャ 31d 凸球面 31e 端面 33 研磨工具保持部材 35 案内部材 37 回転伝達部材 C 接触部 O 研磨中心点 S 円周

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨用のポリシャが固定されるポリシャ
    支持部材を有する研磨工具と、 前記研磨工具を保持する研磨工具保持部材と、 前記研磨工具のポリシャ支持部材と前記研磨工具保持部
    材との間に配置され前記ポリシャ支持部材を回転自在に
    案内する案内部材と、を備えてなり、 前記ポリシャ支持部材を凸球面と端面とからなるほぼ半
    球状に形成するとともに、前記端面に前記ポリシャを固
    定し、前記ポリシャ支持部材の凸球面の球心を前記ポリ
    シャの研磨中心点に一致させ、さらに、前記案内部材の
    前記凸球面への接触部を同一円周上に位置させてなるこ
    とを特徴とする研磨工具保持装置。
  2. 【請求項2】 前記ポリシャ支持部材の凸球面の中心
    に、前記研磨工具を回転するための回転伝達部材を固定
    してなることを特徴とする請求項1記載の研磨工具保持
    装置。
JP5224156A 1993-09-09 1993-09-09 研磨工具保持装置 Pending JPH0775952A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5224156A JPH0775952A (ja) 1993-09-09 1993-09-09 研磨工具保持装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5224156A JPH0775952A (ja) 1993-09-09 1993-09-09 研磨工具保持装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0775952A true JPH0775952A (ja) 1995-03-20

Family

ID=16809416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5224156A Pending JPH0775952A (ja) 1993-09-09 1993-09-09 研磨工具保持装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0775952A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105234772A (zh) * 2015-10-14 2016-01-13 中国兵器科学研究院宁波分院 真空室光学元件升降定位装置
CN116652791A (zh) * 2022-11-08 2023-08-29 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 一种硅电极表面抛光设备及抛光方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105234772A (zh) * 2015-10-14 2016-01-13 中国兵器科学研究院宁波分院 真空室光学元件升降定位装置
CN116652791A (zh) * 2022-11-08 2023-08-29 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 一种硅电极表面抛光设备及抛光方法
CN116652791B (zh) * 2022-11-08 2024-06-04 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 一种硅电极表面抛光设备及抛光方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4831784A (en) Polishing apparatus for end faces of optical fibers
KR100201791B1 (ko) 공작물에 블록 팁을 형성하는 방법 및 장치
EP0706854B1 (en) Wafer holder for semiconductor wafer polishing machine
JP2009202263A (ja) 保持具
KR940011287B1 (ko) 연마스핀들
US6196903B1 (en) Workpiece carrier and polishing apparatus having workpiece carrier
US6736702B2 (en) End face polishing machine
JP3630958B2 (ja) レンズ保持装置
US6800021B2 (en) End face polishing apparatus
JPH0775952A (ja) 研磨工具保持装置
US20030147599A1 (en) End face polishing method
JPH02256452A (ja) ローラセグメントの保持方法および保持装置
JP2908996B2 (ja) 球面仕上加工方法及び装置
JP2019166607A (ja) 研磨機
US6231433B1 (en) Blank clamping device for a machine for trimming optical lenses
JPH10235542A (ja) 端面研磨方法及び装置
JP3027397B2 (ja) 研磨装置
KR101817497B1 (ko) 렌즈 클램핑 장치
JP2715379B2 (ja) 研摩用ワークホルダー
JP3689150B2 (ja) 光学素子の研削研磨用保持具
JP2599918B2 (ja) 研磨保持装置
JP4136283B2 (ja) 研磨装置
JP2000117609A (ja) 研磨工具
JP3442329B2 (ja) 球面付きシャフトの球面加工装置
JPH02198754A (ja) 非球面レンズ用心取り装置