JPH0770778B2 - 半導体装置とその製造方法 - Google Patents
半導体装置とその製造方法Info
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- JPH0770778B2 JPH0770778B2 JP59213048A JP21304884A JPH0770778B2 JP H0770778 B2 JPH0770778 B2 JP H0770778B2 JP 59213048 A JP59213048 A JP 59213048A JP 21304884 A JP21304884 A JP 21304884A JP H0770778 B2 JPH0770778 B2 JP H0770778B2
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
- H01L2224/83193—Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置とその製造方法に関し、特に半導体
チップを基板上にマウントするにあたって予め行なう位
置合せを厳密に行わなくても加熱処理によりボンディン
グする過程で自然に正確な位置合せが行われるようにす
ることのできる新規な半導体装置とその製造方法を提供
しようとするものである。
チップを基板上にマウントするにあたって予め行なう位
置合せを厳密に行わなくても加熱処理によりボンディン
グする過程で自然に正確な位置合せが行われるようにす
ることのできる新規な半導体装置とその製造方法を提供
しようとするものである。
従来技術 半導体レーザとしてレーザ出力をモニターするための受
光素子を備えたものであり、このような半導体レーザに
よれば受光素子によるレーザ出力の検出結果に基づいて
半導体レーザの駆動電流をコントロールすることにより
そのレーザ出力を温度変化等に影響されることなく一定
になるように制御することが可能になる。そして、この
ようなモニター用受光素子付き半導体レーザとして半導
体基板の表面部にPIN型のフォトダイオードを形成し、
その一端部表面に半導体レーザチップをボンディング
し、半導体レーザチップの活性領域から後側へ出力され
るレーザ光の一部をフォトダイオードにおいて検知する
ようにしたものがある。
光素子を備えたものであり、このような半導体レーザに
よれば受光素子によるレーザ出力の検出結果に基づいて
半導体レーザの駆動電流をコントロールすることにより
そのレーザ出力を温度変化等に影響されることなく一定
になるように制御することが可能になる。そして、この
ようなモニター用受光素子付き半導体レーザとして半導
体基板の表面部にPIN型のフォトダイオードを形成し、
その一端部表面に半導体レーザチップをボンディング
し、半導体レーザチップの活性領域から後側へ出力され
るレーザ光の一部をフォトダイオードにおいて検知する
ようにしたものがある。
考案が解決しようとする問題点 このような半導体レーザにおいては半導体レーザチップ
を正確に位置決めしてボンディングすることが不可欠で
ある。特に、半導体レーザチップのレーザ光出射端面と
半導体ペレットの端面との位置関係にずれが生じると光
学的特性に変化が生じる等の問題が起きる。この点特に
Ｙ方向におけるずれについて第５図（Ａ）、（Ｂ）に従
って具体的に説明すると次のとおりである。先ず、同図
（Ａ）に示すように半導体基板ａの端面ｂよりも半導体
レーザチップｃのレーザ光出射端面ｄの方が内側にずれ
ている場合にはそのレーザ光出射端面ｄから出射された
レーザ光の一部（即ち、斜め下向きに出射された光）が
半導体ペレットａの表面にて反射される。その結果、垂
直方向における光度分布がいびつになる。即ち、半導体
ペレットａの端面ｂと半導体レーザチップｃのレーザ光
出射端面ｄとが均一で半導体ペレットａの表面（具体的
にはペレットａの端面ｂと半導体レーザチップｃの端面
ｄとの間の部分）でレーザ光が反射されるという現象が
生じない場合には垂直方向における光度分布曲線はきれ
いな線対称性を有する共振曲線（共振回路の周波数・電
流特性曲線）のようになるが、上述したような反射があ
ると共振曲線をいびつにした形状になり、半導体レーザ
チップｃのレーザ光出射部の延長線を中心に上下対称な
形状ではなくなる。具体的には、その延長線よりも上側
がより高い光度になり、下側がより低い光度になるよう
ないびつさが生じる。このいびつさは半導体ペレットａ
の端面ｂと半導体レーザチップｃのレーザ光出射端面ｄ
とのずれが大きい程激しくなる。
を正確に位置決めしてボンディングすることが不可欠で
ある。特に、半導体レーザチップのレーザ光出射端面と
半導体ペレットの端面との位置関係にずれが生じると光
学的特性に変化が生じる等の問題が起きる。この点特に
Ｙ方向におけるずれについて第５図（Ａ）、（Ｂ）に従
って具体的に説明すると次のとおりである。先ず、同図
（Ａ）に示すように半導体基板ａの端面ｂよりも半導体
レーザチップｃのレーザ光出射端面ｄの方が内側にずれ
ている場合にはそのレーザ光出射端面ｄから出射された
レーザ光の一部（即ち、斜め下向きに出射された光）が
半導体ペレットａの表面にて反射される。その結果、垂
直方向における光度分布がいびつになる。即ち、半導体
ペレットａの端面ｂと半導体レーザチップｃのレーザ光
出射端面ｄとが均一で半導体ペレットａの表面（具体的
にはペレットａの端面ｂと半導体レーザチップｃの端面
ｄとの間の部分）でレーザ光が反射されるという現象が
生じない場合には垂直方向における光度分布曲線はきれ
いな線対称性を有する共振曲線（共振回路の周波数・電
流特性曲線）のようになるが、上述したような反射があ
ると共振曲線をいびつにした形状になり、半導体レーザ
チップｃのレーザ光出射部の延長線を中心に上下対称な
形状ではなくなる。具体的には、その延長線よりも上側
がより高い光度になり、下側がより低い光度になるよう
ないびつさが生じる。このいびつさは半導体ペレットａ
の端面ｂと半導体レーザチップｃのレーザ光出射端面ｄ
とのずれが大きい程激しくなる。
又、逆に、第５図（Ｂ）に示すように半導体レーザチッ
プｃが半導体ペレットａから食み出た場合には半導体レ
ーザチップｃの半導体ペレットａに対するボンディング
の状態が良好でなくなる可能性があり、又、放熱性も悪
くなる。
プｃが半導体ペレットａから食み出た場合には半導体レ
ーザチップｃの半導体ペレットａに対するボンディング
の状態が良好でなくなる可能性があり、又、放熱性も悪
くなる。
従って、半導体レーザチップのレーザ光出射端面と半導
体ペレットの端面とが正確に所謂面一になるようにする
必要がある。又、Ｘ方向（レーザ光の出射方向と直角な
方向）、θ方向（回転方向）における位置決めも重要で
ある。特にθ方向における位置ずれはレーザ光の出射方
向の狂いに繋がる。従って、ボンディング位置の位置決
め精度の高いことが要求されるが従来においてボンディ
ング位置決め精度を高くすることは難しかった。
体ペレットの端面とが正確に所謂面一になるようにする
必要がある。又、Ｘ方向（レーザ光の出射方向と直角な
方向）、θ方向（回転方向）における位置決めも重要で
ある。特にθ方向における位置ずれはレーザ光の出射方
向の狂いに繋がる。従って、ボンディング位置の位置決
め精度の高いことが要求されるが従来においてボンディ
ング位置決め精度を高くすることは難しかった。
しかして、本発明は基板半導体レーザチップ等の半導体
チップを簡単且つ正確に位置決めしてボンディングする
ことができるようにしようとするものである。
チップを簡単且つ正確に位置決めしてボンディングする
ことができるようにしようとするものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明半導体装置は、半導体
チップを基板にマウントしてなる半導体装置において、
上記半導体チップのマウント面と上記基板上のマウント
面とに同一形状で互いに整合し且つ上記半導体チップの
側周縁の全長よりも周縁の全長の長い良熱伝導性材層を
有し、その良熱伝導性材層のうちの少なくとも一方の層
が接着材から成ることを特徴とするものである。
チップを基板にマウントしてなる半導体装置において、
上記半導体チップのマウント面と上記基板上のマウント
面とに同一形状で互いに整合し且つ上記半導体チップの
側周縁の全長よりも周縁の全長の長い良熱伝導性材層を
有し、その良熱伝導性材層のうちの少なくとも一方の層
が接着材から成ることを特徴とするものである。
又、上記問題点を解決するため本発明半導体装置の製造
方法は、半導体チップを基板にマウントする半導体装置
の製造方法において、上記半導体チップのマウント面と
上記基板上のマウント面のうち少なくとも一方に接着材
からなり上記半導体チップの側周縁の全長によりも周縁
の全長が長い良熱伝導性材層を形成し、他方のマウント
面に上記良熱伝導性材層と形状が同一で整合し得る良熱
伝導性材層を形成し、上記基板のマウント面上にその良
熱伝導性材層と半導体チップの良熱伝導性材層とが略整
合するように半導体チップを位置させ、その状態で加熱
して上記良熱伝導性材層の少なくとも一方の層を溶解さ
せることによって上記各良熱伝導性材層どうしが互いに
接続されるようにして半導体チップの上記基板に対する
位置合せを行なうことを特徴とするものである。
方法は、半導体チップを基板にマウントする半導体装置
の製造方法において、上記半導体チップのマウント面と
上記基板上のマウント面のうち少なくとも一方に接着材
からなり上記半導体チップの側周縁の全長によりも周縁
の全長が長い良熱伝導性材層を形成し、他方のマウント
面に上記良熱伝導性材層と形状が同一で整合し得る良熱
伝導性材層を形成し、上記基板のマウント面上にその良
熱伝導性材層と半導体チップの良熱伝導性材層とが略整
合するように半導体チップを位置させ、その状態で加熱
して上記良熱伝導性材層の少なくとも一方の層を溶解さ
せることによって上記各良熱伝導性材層どうしが互いに
接続されるようにして半導体チップの上記基板に対する
位置合せを行なうことを特徴とするものである。
作用 しかして、本発明によれば、半導体チップを基板上にマ
ウントするにあたって予め行う位置合せを厳格に行わな
くても半導体チップ及び基板に形成された良熱伝導性材
層の少なくとも一方が加熱により溶解して２つの良熱伝
導性材層どうしが互いに接続される過程でその溶解した
層を構成する良熱伝導性材の表面張力によって基板の良
熱伝導性材層と半導体チップの良熱伝導性材層とが互い
に整合されるので半導体チップが基板に対して自動的に
正確に位置合せされる。
ウントするにあたって予め行う位置合せを厳格に行わな
くても半導体チップ及び基板に形成された良熱伝導性材
層の少なくとも一方が加熱により溶解して２つの良熱伝
導性材層どうしが互いに接続される過程でその溶解した
層を構成する良熱伝導性材の表面張力によって基板の良
熱伝導性材層と半導体チップの良熱伝導性材層とが互い
に整合されるので半導体チップが基板に対して自動的に
正確に位置合せされる。
実施例 以下に、本発明を添附図面に示した実施例に従って詳細
に説明する。
に説明する。
第１図乃至第３図は本発明を半導体レーザに適用した実
施例を説明するためのものであり、第１図は半導体レー
ザの全体を示す斜視図、第２図は半導体レーザのレーザ
ダイオードチップマウント部を拡大して示す断面図、第
３図（Ａ）はチップボンディング前におけるレーザダイ
オードチップの底面図、同図（Ｂ）は同じく半導体基板
の平面図、同図（Ｃ）は同じく半導体基板及びレーザダ
イオードチップの断面図である。
施例を説明するためのものであり、第１図は半導体レー
ザの全体を示す斜視図、第２図は半導体レーザのレーザ
ダイオードチップマウント部を拡大して示す断面図、第
３図（Ａ）はチップボンディング前におけるレーザダイ
オードチップの底面図、同図（Ｂ）は同じく半導体基板
の平面図、同図（Ｃ）は同じく半導体基板及びレーザダ
イオードチップの断面図である。
図面において、１はN+型半導体基板で、その表面部には
モニター用フォトダイオード２が形成され、更にその一
端部表面上にレーザダイオードチップマウント領域３が
設けられている。４は上記フォトダイオード２を構成す
るN-型半導体領域で、半導体基板１の表面部に不純物を
選択的に拡散することにより形成されている。５はフォ
トダイオード２を構成するP+型半導体領域で、半導体領
域４に表面部に不純物を選択的に拡散することにより形
成されている。この半導体領域５、上記半導体領域４及
び基板１によってモニター光検出用のフォトダイオード
２が構成される。
モニター用フォトダイオード２が形成され、更にその一
端部表面上にレーザダイオードチップマウント領域３が
設けられている。４は上記フォトダイオード２を構成す
るN-型半導体領域で、半導体基板１の表面部に不純物を
選択的に拡散することにより形成されている。５はフォ
トダイオード２を構成するP+型半導体領域で、半導体領
域４に表面部に不純物を選択的に拡散することにより形
成されている。この半導体領域５、上記半導体領域４及
び基板１によってモニター光検出用のフォトダイオード
２が構成される。
半導体基板１のレーザダイオードチップマウント領域３
上には半田の漏れ性の良い金属例えば金・ニッケル（Au
/Ni）あるいは銅（Cu）等からなる金属層６が形成さ
れ、更に該金属層６上に錫（Sn）からなる半田層７が形
成されている。該半田層７及び金属層６が第３図（Ｂ）
に示すような若干複雑な平面形状を有している。
上には半田の漏れ性の良い金属例えば金・ニッケル（Au
/Ni）あるいは銅（Cu）等からなる金属層６が形成さ
れ、更に該金属層６上に錫（Sn）からなる半田層７が形
成されている。該半田層７及び金属層６が第３図（Ｂ）
に示すような若干複雑な平面形状を有している。
８はレーザダイオードチップで、裏面、即ち、活性層９
と近い方の主表面には例えば金・ニッケル（Au/Ni）、
あるいは銅（Cu）等からなる金属層10が形成され、更に
該金属層10上に錫（Su）からなる半田層11が形成されて
おり、該半田層11及び金属層10は第３図（Ａ）に示すよ
うな形状を有している。この形状は第３図（Ｂ）に示し
た金属層６及び半田層７の形状と互いに重なり合う同一
の形状を有している。そして、レーザダイオードチップ
８は半導体基板１のレーザダイオードチップマウント領
域３上に対して半田層11が半田層７と互いに溶融により
一体化された状態でチップボンディングされており、そ
して、そのようにチップボンディングされることによっ
てレーザダイオードチップ８が半導体基板１に対して位
置決めされる。
と近い方の主表面には例えば金・ニッケル（Au/Ni）、
あるいは銅（Cu）等からなる金属層10が形成され、更に
該金属層10上に錫（Su）からなる半田層11が形成されて
おり、該半田層11及び金属層10は第３図（Ａ）に示すよ
うな形状を有している。この形状は第３図（Ｂ）に示し
た金属層６及び半田層７の形状と互いに重なり合う同一
の形状を有している。そして、レーザダイオードチップ
８は半導体基板１のレーザダイオードチップマウント領
域３上に対して半田層11が半田層７と互いに溶融により
一体化された状態でチップボンディングされており、そ
して、そのようにチップボンディングされることによっ
てレーザダイオードチップ８が半導体基板１に対して位
置決めされる。
この第１図乃至第３図に示すような半導体レーザは、レ
ーザダイオードチップ８を半導体基板１にチップボンデ
ィングするための位置合わせ［第３図（Ｃ）参照］をさ
ほど厳密に行わなくても、換言すれば多少の位置ずれが
あったとしても加熱して半田層11、７を溶融したとき溶
融した半田の表面張力によって半田層11と半田層７とが
互いに整合するようにレーザダイオードチップ８の位置
が自動的に修正される。従って、チップボンディングに
あたって予め行うレーザダイオードチップ８の位置合わ
せを厳密に行わなくてもレーザダイオードチップ８が正
確に位置合わせされた状態でチップボンディングされる
ようにすることができる。
ーザダイオードチップ８を半導体基板１にチップボンデ
ィングするための位置合わせ［第３図（Ｃ）参照］をさ
ほど厳密に行わなくても、換言すれば多少の位置ずれが
あったとしても加熱して半田層11、７を溶融したとき溶
融した半田の表面張力によって半田層11と半田層７とが
互いに整合するようにレーザダイオードチップ８の位置
が自動的に修正される。従って、チップボンディングに
あたって予め行うレーザダイオードチップ８の位置合わ
せを厳密に行わなくてもレーザダイオードチップ８が正
確に位置合わせされた状態でチップボンディングされる
ようにすることができる。
上記した半田層11及び７はフォトエッチングにより第３
図（Ａ）及び（Ｂ）に示すような形状にパターニングし
た金属層10及び６の表面に半田ディップすることにより
形成される。しかし、レーザダイオードチップ８の裏面
及び半導体基板１の表面に金属層10及び６を形成するこ
となく直接に半田蒸着することにより半田層11、７を第
３図（Ａ）、（Ｂ）に示すような形状にしても良い。こ
のようにすれば、パターニングした金属層10及び６の表
面に半田ディップすることにより半田層11、７を形成す
る場合に比較して整合後のパターンずれが起りやすくな
るという可能性を有しているが、金属層６、10を形成す
る必要がないので製造コストの低減を図るうえで好まし
い。又、互いに接続される層を両方とも半田層にするの
ではなく、一方の半田層にし、他方を半田の濡れの良い
金属層にするようにしても良い。具体的には、半導体基
板１のレーザダイオーッドマウント領域３には金属層
（例えばAu/Ni）６及び半田層（例えばSn）７を形成し
一方、レーザダイオードチップ８には金属層（例えばAu
/Ni）10のみを形成し、該金属層10表面には特に半田層
を形成しないような態様でも本発明を実施することがで
きる。又、金属層６、10は半田等がなじむ性質を有する
ものでなければ材料は上記例のものに限定されない。例
えば金（Au）に代えて銀（Ag）をベースにした金属層を
構成するようにしても良い。又、本実施例においては接
着材として半田を用いているが、加熱して溶融する性質
を有していれば半田でなければならないことはない。但
し、放熱性が良好なうえ導電性を有していることが好ま
しい。
図（Ａ）及び（Ｂ）に示すような形状にパターニングし
た金属層10及び６の表面に半田ディップすることにより
形成される。しかし、レーザダイオードチップ８の裏面
及び半導体基板１の表面に金属層10及び６を形成するこ
となく直接に半田蒸着することにより半田層11、７を第
３図（Ａ）、（Ｂ）に示すような形状にしても良い。こ
のようにすれば、パターニングした金属層10及び６の表
面に半田ディップすることにより半田層11、７を形成す
る場合に比較して整合後のパターンずれが起りやすくな
るという可能性を有しているが、金属層６、10を形成す
る必要がないので製造コストの低減を図るうえで好まし
い。又、互いに接続される層を両方とも半田層にするの
ではなく、一方の半田層にし、他方を半田の濡れの良い
金属層にするようにしても良い。具体的には、半導体基
板１のレーザダイオーッドマウント領域３には金属層
（例えばAu/Ni）６及び半田層（例えばSn）７を形成し
一方、レーザダイオードチップ８には金属層（例えばAu
/Ni）10のみを形成し、該金属層10表面には特に半田層
を形成しないような態様でも本発明を実施することがで
きる。又、金属層６、10は半田等がなじむ性質を有する
ものでなければ材料は上記例のものに限定されない。例
えば金（Au）に代えて銀（Ag）をベースにした金属層を
構成するようにしても良い。又、本実施例においては接
着材として半田を用いているが、加熱して溶融する性質
を有していれば半田でなければならないことはない。但
し、放熱性が良好なうえ導電性を有していることが好ま
しい。
尚、金属層10、半田層11及び金属層６、半田層７の形状
は互いに同じで整合することのできる形状であれば第３
図（Ａ）、（Ｂ）に示すような形状でなければならない
ということはなく、例えば第４図（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）に示すように各種の形状が考えられる。しかし、
接合面積が狭くなると放熱効果が弱くなるので、接合面
積が徒らに狭くなるような形状にすることは避けること
が望ましい。
は互いに同じで整合することのできる形状であれば第３
図（Ａ）、（Ｂ）に示すような形状でなければならない
ということはなく、例えば第４図（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）に示すように各種の形状が考えられる。しかし、
接合面積が狭くなると放熱効果が弱くなるので、接合面
積が徒らに狭くなるような形状にすることは避けること
が望ましい。
発明の効果 以上に述べたように、本発明によれば、半導体チップを
基板上にマウントするにあたって予め行う位置合せを厳
格に行わなくても半導体チップ及び基板に形成された良
熱導電性材層の少なくとも一方（接着材からなる層）が
加熱されて溶解する過程でその層を構成する良熱伝導性
材の表面張力によって基板の良熱伝導性材層と半導体チ
ップの良熱伝導性材層とが互いに整合するので半導体チ
ップが基板に対して自動的に正確に位置合せされる。従
って、チップボンディングに先立って行う位置合わせを
厳格に行う必要がなくなる。そして、本発明を例えば半
導体レーザに適用した場合にはチップボンディングに先
立って行う位置合せを厳格に行わなくてもレーザダイオ
ードチップのＸ、Ｙ、θ方向における位置ずれのない半
導体レーザを得ることができ、第５図に示したような問
題を確実に防止することができる。
基板上にマウントするにあたって予め行う位置合せを厳
格に行わなくても半導体チップ及び基板に形成された良
熱導電性材層の少なくとも一方（接着材からなる層）が
加熱されて溶解する過程でその層を構成する良熱伝導性
材の表面張力によって基板の良熱伝導性材層と半導体チ
ップの良熱伝導性材層とが互いに整合するので半導体チ
ップが基板に対して自動的に正確に位置合せされる。従
って、チップボンディングに先立って行う位置合わせを
厳格に行う必要がなくなる。そして、本発明を例えば半
導体レーザに適用した場合にはチップボンディングに先
立って行う位置合せを厳格に行わなくてもレーザダイオ
ードチップのＸ、Ｙ、θ方向における位置ずれのない半
導体レーザを得ることができ、第５図に示したような問
題を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】 第１図、第２図及び第３図（Ａ）乃至（Ｃ）は本発明の
実施の一例を説明するためのもので、第１図は半導体レ
ーザの斜視図、第２図は半導体レーザの断面図、第３図
（Ａ）はチップボンディング前における半導体チップの
底面図、同図（Ｂ）は同じく半導体基板の平面図、同図
（Ｃ）は同じく半導体基板及び半導体チップの断面図、
第４図（Ａ）乃至（Ｃ）は良熱伝導性材の各別の平面形
状例を示す半導体チップの底面図、第５図（Ａ）、
（Ｂ）は従来技術の問題点を示す半導体レーザの断面図
である。 符号の説明 １……基板 ７……良熱伝導性材層、 ８……半導体チップ、 11……良熱伝導性材層
実施の一例を説明するためのもので、第１図は半導体レ
ーザの斜視図、第２図は半導体レーザの断面図、第３図
（Ａ）はチップボンディング前における半導体チップの
底面図、同図（Ｂ）は同じく半導体基板の平面図、同図
（Ｃ）は同じく半導体基板及び半導体チップの断面図、
第４図（Ａ）乃至（Ｃ）は良熱伝導性材の各別の平面形
状例を示す半導体チップの底面図、第５図（Ａ）、
（Ｂ）は従来技術の問題点を示す半導体レーザの断面図
である。 符号の説明 １……基板 ７……良熱伝導性材層、 ８……半導体チップ、 11……良熱伝導性材層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−167038（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−17591（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−111394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−93395（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−173880（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】半導体チップを基板にマウントしてなる半
導体装置において、 上記半導体チップのマウント面と上記基板上のマウント
面とに同一形状で互いに整合し且つ上記半導体チップの
側周縁の全長よりも周縁の全長の長い良熱伝導性材層を
有し、 その良熱伝導性材層のうちの少なくとも一方の層が接着
剤から成る ことを特徴とする半導体装置 - 【請求項２】半導体チップを基板にマウントする半導体
装置の製造方法において、 上記半導体チップのマウント面と上記基板上のマウント
面のうち少なくとも一方に接着材からなり上記半導体チ
ップの側周縁の全長よりも周縁の全長が長い良熱伝導性
材層を形成し、 他方のマウント面に上記良熱伝導性材層と形状が同一で
整合し得る良熱伝導性材層を形成し、 上記基板のマウント面上にその良熱伝導性材層と半導体
チップの良熱伝導性材層とが略整合するように半導体チ
ップを位置させ、 その状態で加熱して上記良熱伝導性材層の少なくとも一
方の層を溶解させることによって上記各良熱伝導性材層
どうしが互いに接続されるようにして半導体チップの上
記基板に対する位置合せを行なう ことを特徴とする半導体装置の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59213048A JPH0770778B2 (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 半導体装置とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59213048A JPH0770778B2 (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 半導体装置とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190488A JPS6190488A (ja) | 1986-05-08 |
| JPH0770778B2 true JPH0770778B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=16632657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59213048A Expired - Fee Related JPH0770778B2 (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 半導体装置とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770778B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3367299B2 (ja) * | 1994-11-11 | 2003-01-14 | セイコーエプソン株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
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| JP5867026B2 (ja) * | 2011-11-29 | 2016-02-24 | 日亜化学工業株式会社 | レーザ装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59167038A (ja) * | 1983-03-14 | 1984-09-20 | Hitachi Ltd | 光半導体素子用サブマウントの構造 |
-
1984
- 1984-10-09 JP JP59213048A patent/JPH0770778B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6190488A (ja) | 1986-05-08 |
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