JPH0770739A - 蒸着用るつぼの温度制御装置 - Google Patents

蒸着用るつぼの温度制御装置

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JPH0770739A
JPH0770739A JP22164393A JP22164393A JPH0770739A JP H0770739 A JPH0770739 A JP H0770739A JP 22164393 A JP22164393 A JP 22164393A JP 22164393 A JP22164393 A JP 22164393A JP H0770739 A JPH0770739 A JP H0770739A
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JP
Japan
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film
crucible
vapor deposition
vapor
molten
Prior art date
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Pending
Application number
JP22164393A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyoshi Nakaishi
信義 中石
Susumu Kamikawa
進 神川
Toshio Taguchi
俊夫 田口
Naoyuki Nagai
直之 長井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication of JPH0770739A publication Critical patent/JPH0770739A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 膜厚の均一な蒸着膜を形成する。 【構成】 誘導加熱コイル22に交番電流を流すことに
より、長尺るつぼ21内の溶融アルミ13を誘導加熱し
てアルミ蒸気を発生させる。回転する冷却キャン16に
巻回して走行する帯状フィルム10の表面に、アルミ蒸
気14が蒸着し、所要膜厚の蒸着膜15を形成する。帯
状フィルム10の幅方向における蒸着膜の膜厚ばらつき
が許容値を越えそうになると、膜厚が増大した部分にお
いて、制御用コイル1に通電をしてこの部分の交番磁界
を弱め、当該部分への加熱入力を減らしてアルミ蒸気を
減らす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルミ真空蒸着装置等
の、誘導加熱るつぼを蒸発源とする蒸着装置に適用する
蒸着用るつぼの温度制御装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来の装置の第1例である、アル
ミ真空蒸着装置の要部を破断した正面図、図5は従来の
装置の第2例である、アルミ真空蒸着装置の要部を破断
した正面図である。
【0003】図4に示すように、図示しない真空容器内
で回転するロール状の冷却キャン16に巻回して走行す
る帯状フィルム10の下方で、誘導加熱コイル12によ
って蒸発源である複数の短尺るつぼ11をそれぞれ誘導
加熱し、この各々の短尺るつぼ11内の溶融アルミ13
からアルミ蒸気14を蒸発させ、帯状フィルム10に蒸
着膜15を蒸着する。そして、各々の短尺るつぼ11の
誘導加熱コイル12からの入熱を制御することにより、
帯状フィルム10の幅方向における蒸着膜15の膜厚分
布を制御する。
【0004】ところがこの短尺るつぼ11を使用した場
合、各々の短尺るつぼ11から蒸発したアルミ蒸気14
が帯状フィルム10に付着するとき、図4に示すよう
に、蒸着膜15には原理的に幅方向の厚薄が発生する。
【0005】この欠点を解消するために、アルミ蒸気1
4の蒸発源として、図5に示す、長尺るつぼ21が用い
られている。この装置では、長尺るつぼ21を取り巻く
誘導加熱コイル22によって長尺るつぼ21を誘導加熱
し、断熱板23によって誘導加熱コイル22を長尺るつ
ぼ21から断熱して溶融アルミ13からアルミ蒸気14
を蒸発させ、帯状フィルム10に蒸着膜15をその幅方
向にほぼ均一に蒸着する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前述した長尺るつぼ2
1を用いた蒸着装置では、蒸着開始からある時間内にお
いては蒸着膜15が帯状フィルム10の幅方向にほぼ均
一に蒸着される。ところが、長時間蒸着を続けると、長
尺るつぼ21の輻射熱の、断熱板23の断熱効果の変化
等により、長尺るつぼ21の長さ方向(フィルム幅方
向)の温度分布にばらつきが発生し、アルミ蒸気14の
蒸発量も変化するので蒸着膜15の膜厚のばらつきが大
きくなることがある。従って、蒸着開始から長時間が経
過し、膜厚のばらつきが大きくなると、長尺るつぼ2
1、断熱板22等を交換する必要があるので、ラインの
ダウンタイムが増加し、生産性を低下させていた。
【0007】本発明は、このような課題を解決するため
に提案されたもので、蒸着中に蒸着用るつぼの温度分布
を部分的に制御し、被蒸着物の膜厚分布を改善する温度
制御装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の、本発明による蒸着用るつぼの温度制御装置の構成
は、蒸着用るつぼと、この蒸着用るつぼを加熱する誘導
加熱コイルを具備した蒸着装置において、複数の制御用
コイルを備え、しかも各制御用コイルから出力される各
交番磁界が、蒸着用るつぼの異なる部分を通ると共に前
記誘導加熱コイルから出力された交番磁界と作用する状
態にして、前記制御用コイルを配列したことを特徴とす
る。
【0009】
【作用】蒸着用るつぼを誘導加熱コイルからの交番磁界
によって誘導加熱し、蒸着用るつぼから蒸着蒸気を蒸発
させて被蒸着物に蒸着し、この被蒸着物の表面に蒸着膜
を形成する。蒸着時間が経過して前記蒸着用るつぼの温
度分布が不均一になり、被蒸着物の蒸着膜の膜厚のばら
つきが許容値を超えそうになると、各々の制御用コイル
に誘起される電流をそれぞれ制御することによって誘導
加熱コイルからの入熱量を部分的に調節し、蒸着用るつ
ぼの温度を部分的に制御して蒸着用るつぼの温度分布を
ほぼ均一にし、被蒸膜の膜厚のばらつきを許容値内に維
持する。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例である、アルミ真空
蒸着装置の要部を破断した正面図、図2は図1のII-II
断面図、図3は図2のIII-III 断面図である。図1、図
2及び図3において、21は長尺るつぼであり、図示し
ない真空容器内で回転するロール状の冷却キャン16の
下方に固設され、るつぼ21の外周には、内部から水冷
する角管状の誘導加熱コイル22が、断熱板23を介し
て固設されている。そして、その下方(るつぼ21の底
面)には、内部から水冷する管状の複数の制御用コイル
1がるつぼ21の長さ方向(冷却キャン16の幅方向)
つまりフィルム10の幅方向に列設されている。この制
御用コイル1には消弧機能付の電磁スイッチ3が導体2
によって連結されている。又、コイル1の長さはコイル
22の磁界4が充分及ぶ長さとされている。
【0011】各々の制御用コイル1のスイッチ3をそれ
ぞれ開にして交番磁界4による電流を誘起させないで、
誘導加熱コイル22に交番電流を印加通電すると、この
交番電流で発生する交番磁界4によって長尺るつぼ21
に誘導電流が流れ、この誘導電流によって長尺るつぼ2
1を誘導加熱する。この誘導加熱によって長尺るつぼ2
1内の溶融アルミ13からアルミ蒸気14を蒸発させ、
真空容器外の図示しない膜厚検出器によって蒸着膜15
の膜厚を検出しながら、回転する冷却キャン16に巻回
して走行する帯状フィルム10の表面に蒸着し、所要の
膜厚の蒸着膜15を形成する。
【0012】蒸着時間が長時間経過して帯状フィルム1
0の幅方向における蒸着膜15の膜厚のばらつきが許容
値を超えそうになると、この膜厚が増大した部分(長尺
るつぼ21の温度が上昇した部分)の制御用コイル1の
スイッチ3を閉にし、誘導加熱コイル22からの交番磁
界4によってこの制御用コイル1に電流を誘起する。こ
の電流は交番磁界4を弱めるように作用するので、この
制御用コイル1の近傍では交番磁界4が弱められ、長尺
るつぼ21への加熱入力が減少してその温度が低下す
る。従って、この制御用コイル1の近傍のアルミ蒸気1
4の蒸発量が減少し、蒸着膜15の膜厚が減少する。こ
のようにして、図示しない膜厚検出器によって図示しな
い真空容器から出る帯状フィルム10の蒸着膜15の膜
厚を検出しながら各々の制御用コイル1のスイッチ3を
開閉してその電流の誘起をそれぞれ制御することによ
り、長尺るつぼ21の温度を部分的に制御してその温度
分布を長さ方向においてほぼ均一にし、被蒸膜15の膜
厚のばらつきを許容値内に維持する。
【0013】なお、本発明は前述した実施例に限定され
るものでなく、スイッチ3の代わりに可変抵抗器等の電
流制御装置を用いてもよく、制御用コイル1をるつぼ2
1の側面(誘導加熱コイル22の外側)に配設してもよ
い。また、連続真空蒸着装置だけでなく、あらゆる誘導
加熱式蒸着装置に適用することができる。
【0014】
【発明の効果】本発明では、蒸着用るつぼ及び誘導加熱
コイルの周辺に、複数の制御用コイルを配設したことに
より、蒸着時間が経過して被蒸着物の蒸着膜の膜厚ばら
つきが許容値を超えそうになっても、各々の制御用コイ
ルに流れる電流をそれぞれ制御して蒸着用るつぼの温度
を部分的に制御することにより、被蒸膜の膜厚ばらつき
を許容値内に維持することができる。従って、蒸着装置
を長時間連続して運転することが可能になり、ラインの
ダウンタイムを減少させてその生産性を向上することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例であるアルミ真空蒸着装置の
要部を破断して示す正面図。
【図2】図1のII-II 断面図。
【図3】図2のIII-III 矢視図。
【図4】従来装置のアルミ真空蒸着装置の要部を破断し
て示す正面図。
【図5】従来装置の他のアルミ真空蒸着装置の要部を破
断して示す正面図。
【符号の説明】
1 制御用コイル 3 スイッチ 4 交番磁界 10 帯状フィルム 13 溶融アルミ 14 アルミ蒸気 15 蒸着膜 21 長尺るつぼ 22 誘導加熱コイル 23 断熱板
フロントページの続き (72)発明者 長井 直之 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 蒸着用るつぼと、この蒸着用るつぼを加
    熱する誘導加熱コイルを具備した蒸着装置において、 複数の制御用コイルを備え、しかも各制御用コイルから
    出力される各交番磁界が、蒸着用るつぼの異なる部分を
    通ると共に前記誘導加熱コイルから出力された交番磁界
    と作用する状態にして、前記制御用コイルを配列したこ
    とを特徴とする蒸着用るつぼの温度制御装置。
JP22164393A 1993-09-07 1993-09-07 蒸着用るつぼの温度制御装置 Pending JPH0770739A (ja)

Priority Applications (1)

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JP22164393A JPH0770739A (ja) 1993-09-07 1993-09-07 蒸着用るつぼの温度制御装置

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1560467A1 (en) * 2002-07-19 2005-08-03 Lg Electronics Inc. Source for thermal physical vapor deposition of organic electroluminescent layers
JP2011052301A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Hitachi Zosen Corp 真空蒸着用蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置
CN102808167A (zh) * 2011-06-02 2012-12-05 丽佳达普株式会社 坩埚装置、坩埚装置控制方法、膜厚测量装置及包含它的薄膜沉积设备
CN109518152A (zh) * 2018-12-19 2019-03-26 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 金属源剩余量检测装置及检测方法、蒸镀设备
CN109576650A (zh) * 2018-12-24 2019-04-05 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 蒸镀设备

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CN102808167A (zh) * 2011-06-02 2012-12-05 丽佳达普株式会社 坩埚装置、坩埚装置控制方法、膜厚测量装置及包含它的薄膜沉积设备
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010109