JPH0766475A

JPH0766475A - 炭酸ガスレーザ装置及びその運転方法

Info

Publication number: JPH0766475A
Application number: JP21650093A
Authority: JP
Inventors: Masami Toshikuni; 正美歳国; Tadashi Sasaki; 忠志佐々木; Setsuo Shibata; 節夫柴田; Tsutomu Toida; 努戸井田
Original assignee: JGC Corp
Current assignee: JGC Corp
Priority date: 1993-08-31
Filing date: 1993-08-31
Publication date: 1995-03-10

Abstract

(57)【要約】【目的】炭酸ガスレーザを長期間安定して高出力で発
振させる。【構成】炭酸ガスレーザ発生機のレーザガス循環系１
０内に、多孔質担体に貴金属や酸化マンガン等のＣＯ酸
化活性のある触媒を担持された触媒体３を設置し、系内
を減圧するか、系内に不活性ガスまたはＣＯ₂，Ｎ₂，Ｈ
e等のレーザガスを流して触媒体３を加熱し、多孔質に
吸着した水分、および系内器壁に付着している水分を追
い出した後、所定のレーザガスを張り込むことにより、
触媒体３の水分をレーザガス循環系内に持込むことを防
止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、炭酸ガスレーザ装置及
びその運転方法に関し、より詳細には、炭酸ガスレーザ
装置のガス循環系内を循環するレーザガスが、レーザ発
振時に組成変化するので、その組成変化したガス成分
を、触媒を用いて元のレーザガス組成に戻すため、炭酸
ガスレーザ装置において、前記触媒に吸着した水分、又
は循環路内壁面等に予め含まれていた水分を除去する、
すなわちガス再生器を有する炭酸ガスレーザガス装置及
びその運転方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＣＯ₂（炭酸ガス）分子の振動や回転エ
ネルギー準位を利用した炭酸ガスレーザは遠赤外域で発
振し、高効率で高出力のレーザを連続又は高パルスで発
振する。用途は、原子力関係、例えば、ウラン同位体分
離に利用することが研究され、また、現状では、各種の
物質を局所的に加熱して切断，溶接，焼入，又は表面処
理等の加工をし、或いは医療用のレーザメス，測量，位
置決め等の多方面に実用化されている。

【０００３】ＣＯ₂，Ｎ₂（窒素）およびＨe（ヘリウ
ム）ガスからなる混合ガスをレーザガスとして高速で再
循環するレーザガス循環系中で、直流高電圧が印加され
た陽極と陰極との間にグロー放電したとき、ＣＯ₂の分
子は基底状態から高位エネルギー状態にポンプされる。
十分なポンピングが行われ、しかも循環系内の損失が十
分に低ければ、主として上位順位（001）と下位順位（1
00）との間に分布反転が生じ、波長１０.６μmの遠赤外
線のレーザ発振が開始される。ＣＯ₂レーザは、このよ
うなレーザ発振に基づくものである。

【０００４】レーザガスに含まれるＨeは、ＣＯ₂の下位
順位（100）から基底順位への遷移を助けてレーザの効
率を増加させるのに役立つ。Ｎ₂は、励起され共鳴衝突
により、ＣＯ₂分子にエネルギーを与え、ＣＯ₂の上位順
位（001）へ遷移するエネルギーを与えるもので、Ｈeと
同様にレーザの効率を増加させる作用がある。レーザガ
スは、Ｈe，Ｎ₂ガスをＣＯ₂ガス中に所定割合混合した
混合ガスである。

【０００５】炭酸ガスレーザ装置として実用化されてい
るものは、ＣＷ（Continuous Wave）型レーザとＴＥＡ
（Transversely Excited Atomosheric）型レーザとがあ
る。ＣＷ型レーザは、ＴＥＡ型レーザに比べて出力が小
さい所で使用され、レーザガスのガス分解が少なく、長
寿命であると言われているが、１週間以上、レーザガス
の交換無しに連続運転できる状況ではない。これらの炭
酸ガスレーザでは、レーザ発生運転中に炭酸ガスが分解
してＣＯ，Ｏ₂およびＮＯx（窒素酸化物）が生成し、そ
の中でもＯ₂はレーザ発生効率を低下させたり、アーク
放電により電極を破損することがあるので、レーザガス
を長時間に亘ってリサイクルして使用することには制限
があった。

【０００６】また、上記レーザガス中にはレーザガス封
入時またはレーザガスを冷却する冷却器等の管壁を通っ
て水蒸気（Ｈ₂Ｏ）が含まれることがあり、完全に除去
することは困難である。しかし、Ｈ₂Ｏは、ＣＯ₂の上位
順位（001）を直接に基底状態に緩和させ、１０.６μm
帯の反転分布密度を下げるマイナス効果もあり、特に、
Ｈeを含むレーザガス中にＨ₂Ｏが含まれると、レーザ発
振効率を低下させるので、レーザガス中へのＨ₂Ｏの混
入濃度を極力小さくするようにしている。レーザ発振の
効率を下げずに安定に運転するためには、レーザガス中
に含まれるＨ₂Ｏを除去すること、およびＣＯ₂が分離し
て生成されるＣＯとＯ₂又はＮＯxを元のレーザガス組成
に戻すことが必要であり、従来多くの提案がなされてい
る。これらの中で、下記従来例〜について述べる。

【０００７】従来例：特開昭６０−６０７９３号公報
による「ガスレーザ装置」には、レーザガス循環ライン
にモレキュラーシーブの如き乾燥剤を備えて系内に存在
する水分を除去し、レーザガス中の到達露点を−３０℃
〜−７０℃に保って動作させるレーザ発生装置が開示さ
れる。

【０００８】従来例：特開昭６０−３１６９号公報に
よる「ガスレーザ発振器」には、レーザガス循環ライン
中に配設された乾燥剤を簡単に交換できる構造の箱体を
有するガスレーザ発振器が開示されている。また、本出
願人は、レーザガス再生方法に関し、下記従来例，
を提案している。

【０００９】従来例：特開平３−８４９８０号公報に
よる「炭酸ガスレーザ用のガスを再生する方法および装
置」において、レーザガスを予熱した後、生成されたＣ
ＯとＯ₂を触媒上で接触反応させ、元のＣＯ₂に戻すガス
再生方法が開示されている。

【００１０】従来例：特開平４−２８６１７１号公報
による「炭酸ガスレーザ用のガスを再生する方法および
装置」において、ＣＯ，Ｏ₂を再結合させて元のＣＯ₂に
戻し、ＮＯxを還元してＮ₂に戻すために、レーザガス循
環系に触媒を設置させたもので、必要に応じて反応温度
を調整するガス加熱装置を備えている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】（１）上記従来例,
は、レーザガス中の水分（Ｈ₂Ｏ）がレーザ発生効率
を低下させることを述べ、Ｈ₂Ｏの混入源として、ガス
を冷却する熱交換器より壁を透過するものと、器壁に吸
着しているＨ₂Ｏがあるとしている。理由は不明である
が、継続的にＨ₂Ｏがレーザガス循環系内に浸入するた
めに、乾燥剤の寿命が短かく、短時間で交換が必要にな
る。従来例は、乾燥剤の交換を容易にする提案であ
る。また、Ｈ₂Ｏを取りすぎると、電極の損傷が大きく
なり、電流密度を上げることができない。このため、露
点を−７０℃以下にしないよう、乾燥剤に適当な水分を
添加することが述べられている。（２）従来例,は、レーザガス中のＣＯ₂が分解して
レーザガス循環系内に蓄積されるＣＯ，Ｏ₂，ＮＯxを減
少させ、レーザ発生効率の低下を抑えるものであるが、
水分の除去については述べていない。（３）従来例ととにより、レーザガス中のＨ₂Ｏを
所定露点範囲内に制限して、従来例とを組合せてＣＯ
₂分解を抑えることを試みたが、レーザガスの寿命は２
〜３日であり、不満足なものであった。（４）従来例,およびを組合せて、レーザガス中
の水分を取り除き、且つＣＯ，Ｏ₂，ＮＯxを再結合して
元のレーザガスＣＯ₂とＮ₂に戻すことにより、レーザ発
生効率の低下を抑えることが可能となる。しかし、この
ためには、どのようにすればよいか、又はどのような問
題があるかは、従来例,,では提示されていない。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、（１）炭酸ガスレーザ装置の循環系内に
収容されたＣＯ₂,Ｎ₂,Ｈｅ等の組成からなるレーザガス
を前記循環系内で循環させる送風手段と、前記循環系内
に配設され、前記炭酸ガスレーザ装置の放電運転により
前記レーザガスが一部分解反応して生成されたＣＯ，Ｏ
₂およびＮＯxを前記レーザガスの組成に戻す触媒体とか
らなるレーザガス再生型の炭酸ガスレーザ装置におい
て、前記触媒体又はレーザガスを加熱するレーザガス再
生器を有すること、更には、（２）前記（１）におい
て、前記レーザガス再生器は、電気抵抗線と、該電気抵
抗線を被覆し、該電気抵抗線と前記触媒体又はレーザガ
スとを絶縁する耐熱絶縁体と、該耐熱絶縁体の外周を被
覆する金属，ガラス又はセラミックスとから構成したこ
と、更には、（３）前記（１）において、前記レーザガ
ス再生器は、加熱体と、該加熱体上面に塗布された多孔
質体と、該多孔質体に担持された触媒とからなること、
更には、（４）前記（１）において、前記触媒体を、ア
ルミナ基板上に貴金属薄膜を形成した貴金属／アルミナ
又はシリカ・アルミナ基板上に貴金属薄膜を形成した貴
金属／シリカ・アルミナ、又は、ポプカライト等の金属
酸化物としたこと、或いは、（５）炭酸ガスレーザ装置
のレーザガス循環系内に触媒体を新規に装填して運転を
開始する時に、前記循環系内を真空にし、あるいは不活
性ガス、またはレーザガスを供給して前記触媒体及び／
又は前記不活性ガスまたはレーザガスを加熱すること、
或いは、（６）炭酸ガスレーザ装置の運転中は、レーザ
発生にともない温度上昇したレーザガスを触媒体に通
し、温度上昇したレーザガスを熱源として再生反応を行
い、触媒体加熱ヒータを使用しないこと、或いは、
（７）触媒活性が低下したと判断されたとき、レーザガ
ス循環量を少なくして、触媒体加熱用ヒータに電気を流
し、触媒体を１５０℃以上、好ましくは２００℃以上に
加熱して、触媒体に吸着蓄積し通常運転時には反応しな
い物質を反応させること、更には、（８）前記（１）に
おいて、触媒体が水分を吸着する可能性のある操作をし
た場合、継続使用する時でも、前記レーザガス循環系内
を真空にする真空吸引あるいは不活性ガスまたはレーザ
ガスを供給して、触媒体および前記不活性ガスまたはレ
ーザガスを加熱し、触媒体およびレーザ発生装置器壁内
面に吸着して水分を除去する触媒体及びガス加熱を行う
ことを特徴とするものである。

【００１３】

【作用】炭酸ガスレーザ装置のレーザガス循環系内に、
多孔質担体に貴金属，酸化マンガン等のＣＯ酸化活性の
ある触媒を担持させた触媒体を設置し、レーザガス循環
系内を減圧するか、不活性ガスまたはレーザ用ガス（Ｃ
Ｏ₂，Ｎ₂，Ｈe，ＣＯ）を流して、触媒体を加熱し、多
孔質である触媒担持体に吸着した水分、及びレーザガス
循環系内器壁に付着している水分を追い出した後、所定
のレーザガスを張り込むことにより、触媒によるレーザ
ガス循環系内への水分持込みを防止する。また、触媒体
自身を発熱体にすることにより、触媒からの水分除去を
容易にする。

【００１４】

【実施例】図１は、本発明による炭酸ガスレーザガス再
生器を有する炭酸ガスレーザ装置の一例を説明するため
の構成図であり、図中、１は電極・放電部、２はガス予
熱器、３は触媒体、４はガス冷却器、５はガス循環ブロ
ア、６は触媒体加熱用ヒータ、７,８はガス補給または
抜出口、９は乾燥器、１０はレーザガス循環系である。

【００１５】図１に示すように、レーザガス循環系１０
内には、陽極と陰極とからなる炭酸ガスレーザを発振す
る電極・放電部１内にＣＯ₂，Ｈ₂およびＨe，更にはＣ
Ｏ₂の分解を抑制する効果を与えるＣＯからなるレーザ
ガスが高速度で再循環している。電極放電部１を通過し
た上記レーザガスは、ガス予熱器２で２００℃以上に加
熱され、触媒体３を通過後、ガス冷却器４で冷却され
る。冷却されたレーザガスは、ガス循環ブロア５により
上述のレーザガス循環系１０内を循環する。

【００１６】また、触媒体３には、触媒体加熱用ヒータ
６が配設され、レーザガス循環系１０には、ガス補給ま
たは抜出口７ａ,８ａを有するガス補給または抜出管
７，８を介して乾燥器９がバイパスして取り付けられて
いる。

【００１７】レーザガス循環系１０内のレーザガスに多
量の、例えば５０ppm以上のＮＯxが発生すると温度が２
００℃以下の反応では触媒体３の活性が数時間で低下す
る。このため、ＮＯx等を多量に含む劣化ガスは、ガス
予熱器２を用いて２００℃以上に加熱してから触媒体３
に送られ、反応させる。なお、ガス予熱器２がある場合
は、レーザガスの流れによって触媒体３の温度は２００
℃以上に上がるので、触媒体３に含まれる水分を除去で
きる。この場合は、触媒体加熱用ヒータ６を省くことが
できる。

【００１８】レーザガス中にＮＯxが無いか、少量しか
発生していない場合は、触媒体３を設けないか、設けて
も通常運転中には使用せず、レーザ発生運転にともない
昇温される温度（２００℃以下）で再生反応を行う。触
媒体３の活性が低下したり、新規に触媒を装着したり、
運転後装置を開放して触媒体３が空気中の水分を吸着し
た可能性のある場合等、触媒体３の温度を上げて触媒体
３に吸着した水分を除去しなければならない。この必要
が生じたとき、ガスを流しながらガス予熱器３または触
媒体加熱用ヒータ６によって触媒体３を加熱して、活性
劣化原因物質を脱離／反応させ、また、水分を追い出
し、また、レーザガス循環系１０外に排出する。また、
レーザガス循環系１０内を真空に引きながら、触媒体加
熱用ヒータ６によって触媒体３を加熱して、触媒に吸着
した劣化原因物質または／及び水分を追い出すことがで
きる。

【００１９】また、前処理時にレーザガスを循環しなが
ら、レーザガス循環系１０内の水分を除去する場合は、
レーザガスをレーザガス循環系１０にバイパスする乾燥
器９を通過させる。

【００２０】触媒体３又はレーザガスを加熱するガス予
熱器２は、電気抵抗線を加熱体とするものである。この
ため、電気抵抗線は、触媒体３とレーザガスとに高温状
態で接触するので、絶縁抵抗が低下し、漏電の危険があ
る。このため、電気抵抗線はポリイミド樹脂やセラミッ
クス等の耐熱絶縁体で被覆され、更に熱伝導率を低下さ
せないため、電気抵抗線を耐熱絶縁体で被覆した外部を
金属またはガラスやセラミックスで被覆される。

【００２１】また、図１において、ガス予熱器２と触媒
体３とは分離して図示したが、これを一体に形成するこ
とも可能である。例えば、Ａl₂Ｏ₃（アルミナ）やＡlＮ
（窒化アルミニウム）の基板上にＰt−Ｐd(白金−パラ
ジウム)ペーストをパターン印刷して焼き付けて抵抗体
を形成し加熱体とし、この加熱体上に、セラミックス等
の多孔物質をコーティングし、更に、多孔質セラミック
ス上にＰt，Ｐd，Ｒh（ロジウム）等触媒充填層を担持
させることにより、ガス予熱器２と触媒体３とを一体に
することができる。

【００２２】なお、触媒体３としては、Ａl₂Ｏ₃の基板
上に上記Ｐt，Ｐd，Ｒh等の貴金属を担持させたもの、
又はＳiＯ₂（シリカ）とＡl₂Ｏ₃の基板上に前記貴金属
を担持させたもの、或いはポプカライト等の金属酸化物
が用いられる。次に、本発明による炭酸ガスレーザ装置
を運転した実施例を、従来例と比較するため、参考例に
基づいて説明する。

【００２３】図２は、炭酸ガスレーザ発生率の変化状況
を示す図であり、横軸に運転時間（min）、縦軸にレー
ザ出力相対比が示されている。

【００２４】参考例−１図２−曲線Ａは、ＣＷ型炭酸ガスレーザ装置のレーザガ
ス循環系内の圧力を１０^-6torrまで減圧にしてから、レ
ーザガスＣＯ₂，Ｎ₂，Ｈeの混合ガスを６０torrの圧力
で封入し、レーザ発振したときの特性曲線で、図−１Ａ
に示すように運転時間の経過に従って、出力低下が大き
いことが判る。

【００２５】参考例−２図２−曲線Ｂは、参考例−１のレーザガス循環系内に乾
燥剤としてモレキュラシーブ１００gを設置したときの
特性曲線で、運転時間の経過と出力の変化は、水分除去
効果があることは明らかであり、参考例−１の曲線Ａに
較べると出力の低下が少なくなっているが、継続的な出
力低下が認められる。

【００２６】参考例−３図２−曲線Ｃは、参考例−１のレーザガス循環系内に触
媒１Ｌ（リッタ）を装填し、触媒体を加熱せず、参考例
−１と同様にレーザ発振を行ったところ、運転開始直後
出力低下は大きいが、その後、安定した出力が得られ
た。レーザ発振を停止し、ガス循環を継続して３０分後
に再びレーザ発振を再開すると、図−２Ｃの経時変化に
示すように、出力は初期値に復帰した。

【００２７】実施例−１図２−曲線Ｄは、本発明に係る実施例による特性曲線
で、上記参考例−３において、レーザガス循環系内のガ
スを減圧にして残留ガスを排出するとき、触媒体を１５
０℃に加熱したときの曲特性を示すものである。その他
の運転操作は、参考例−３と同試験をしたものである。
運転開始直後の出力低下は小さく、その後、出力低下は
殆ど見られず、高効率を維持できることが判った。レー
ザ発振停止後、再び運転を開始した時の傾向も同じであ
った。

【００２８】参考例−４図２−Ｅの特性曲線は、レーザガス循環ラインの冷却器
後流に、乾燥剤（モレキュラシーブ）１００gを装填
し、参考例−３と同様の試験結果を示したもので、この
結果、上記実施例−１とほぼ同じ傾向が得られた。

【００２９】実施例−２実施例２は、実施例−１と同様に処置した後、レーザ出
力を倍に上げて試験をしたときのレーザ出力相対比の運
転時間経過を図３に基づいて説明する。

【００３０】図３は、本発明による実施例２を説明する
ための触媒体加熱の効果を示す図であり、横軸に運転時
間、縦軸にレーザ出力相対比を示す。

【００３１】（１）曲線Ａは、試験開始直後の特性を示
すもので、時間経過とともに出力が低下した。この低下
した時のガス組成を分析したところ、約１０ppmほどの
ＮＯx生成がみられた。この出力は時間経過とともに僅
かずつではあるが低下する傾向がみられた。これは、チ
ャンバー内のＮＯx濃度が増加する傾向と反比例するこ
とが判った。即ち、反応温度が低いため、ＮＯxが触媒
活性点に吸着し、活性を劣化させたものと考えられる。（２）曲線Ｂは、曲線Ａに示したレーザ発振を停止し、
レーザガス循環を３０分継続した後、レーザ発振を再開
したときの特性を示すもので、レーザ出力は多少回復し
たが、直ちに運転停止前の出力まで低下した。

【００３２】（３）曲線Ｃは、曲線Ｂによるレーザ発振
を停止してから触媒加熱器で触媒層を２００℃に加熱し
て、３０分間レーザガスを循環した後、加熱を止め、ガ
ス循環を継続して触媒体を冷却し、レーザガス循環系内
の温度を室温まで下げた後、レーザ発振を再開したとき
の特性を示す曲線で、初期のレーザ出力の位置に戻り、
その後、初期の曲線Ａと同じ出力低下傾向を示した。（４）曲線Ｄは、触媒体の温度を２００℃にした状態で
レーザ発振したときの特性を示すもので、図２の特性曲
線Ｄと同じ傾向を示した。以上に説明した参考例１〜４
および実施例１,２とから、下記の推定がなされる。

【００３３】（１）レーザガス循環系内に挿入される乾
燥剤のみの水分除去対策では、出力低下を抑えきれずに
継続的な出力低下があり、触媒再生では、継続的な劣化
が抑えられることから、低出力運転を行ってもＣＯ₂の
分解が起きることが推定される。しかし、ＮＯxの生成
量が少ないために、短時間では触媒体の触媒活性の低下
が見られない。（２）レーザ発振出力を大きくすると、触媒体を再生し
ても出力低下が継続的に起きるが、触媒体温度を上げる
と活性が元に戻ることから、単にＣＯ，Ｏ₂が発生して
いるだけでなく、ＮＯxの如き反応阻害物質が低温で吸
着するためと考えている。

【００３４】（３）触媒体再生運転時の初期におけるレ
ーザ出力低下は、レーザ発振により温度が上昇し、水分
が系内器壁，触媒体等から気相に蒸発するためと考えて
いる。一旦レーザ発振を中断し、レーザガス循環系内の
温度が低下すると、再び水分が器壁，触媒体等に吸着
し、運転再開時には初期の出力に戻るものと考えてい
る。（４）触媒体を加熱・減圧して水分を追い出した場合
と、加熱しないで減圧だけで水分を除去した場合のレー
ザ発振出力の相異は、単に水分蒸発量の違いによるもの
と考えられる。（５）以上の結果から、初期の水分除去を行えば、継続
的に水分の増加が無いために、安定した性能が得られる
ことが判明した。

【００３５】

【効果】以上の説明から明らかなように、ＣＷ型炭酸ガ
スレーザにおいて、触媒体によるガス再生実験を行った
結果、（１）触媒体だけでレーザガスの再生を行っても、レー
ザガス循環系内水分が多いと、レーザ発生効率が低い。（２）乾燥剤をレーザガス循環系内に挿入して水分を除
去し、露点を調整したというだけでは、ＣＯ₂の分解に
よってＣＯ，Ｏ₂が発生してレーザ発生効率が低下す
る。（３）レーザガス中にＣＯを添加して、乾燥剤を設置し
ても、無触媒では生成したＯ₂とＣＯとの反応が促進さ
れないため、レーザ発生効率が低下することが判明し
た。以上の結果に対して、本発明によると、触媒の担体が多
孔質で、乾燥剤の働きをすることに着目し、触媒体を予
め乾燥処理・活性化処理をして、レーザ発生器のレーザ
ガス循環系内に設置したところ、露点が低くなっても電
極の損傷が少なく、レーザ発生効率の低下が殆んどなく
なり、長期間安定した高出力のレーザ発振が可能となっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による炭酸ガスレーザガス再生器を有
する炭酸ガスレーザ装置の一例を説明するための構成図
である。

【図２】炭酸ガスレーザ発生率の変化状況を示す図で
ある。

【図３】本発明による実施例２を説明するための触媒
体加熱の効果を示す図である。

【符号の説明】

１…電極・放電部、２…ガス予熱器、３…触媒体、４…
ガス冷却器、５…ガス循環ブロア、６…触媒加熱用ヒー
タ、７,８…ガス補給または抜出口、９…乾燥器、１０
…レーザガス循環系。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者戸井田努茨城県東茨城郡大洗町成田町2205 日揮株式会社大洗原子力技術開発センター内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】炭酸ガスレーザ装置の循環系内に収容さ
れたＣＯ₂,Ｎ₂,Ｈｅ等の組成からなるレーザガスを前記
循環系内で循環させる送風手段と、前記循環系内に配設
され、前記炭酸ガスレーザ装置の放電運転により前記レ
ーザガスが一部分解反応して生成されたＣＯ，Ｏ₂およ
びＮＯxを前記レーザガスの組成に戻す触媒体とからな
るレーザガス再生型の炭酸ガスレーザ装置において、前
記触媒体又はレーザガスを加熱するレーザガス再生器を
有することを特徴とする炭酸ガスレーザ装置。
【請求項２】前記レーザガス再生器は、電気抵抗線
と、該電気抵抗線を被覆し、該電気抵抗線と前記触媒体
又はレーザガスとを絶縁する耐熱絶縁体と、該耐熱絶縁
体の外周を被覆する金属，ガラス又はセラミックスとか
ら構成したことを特徴とする請求項１記載の炭酸ガスレ
ーザ装置。
【請求項３】前記レーザガス再生器は、加熱体と、該
加熱体上面に塗布された多孔質体と、該多孔質体に担持
された触媒とからなることを特徴とする請求項１記載の
炭酸ガスレーザ装置。
【請求項４】前記触媒体を、アルミナ基板上に貴金属
薄膜を形成した貴金属／アルミナ又はシリカ・アルミナ
基板上に貴金属薄膜を形成した貴金属／シリカ・アルミ
ナ、又は、ポプカライト等の金属酸化物としたことを特
徴とする請求項１記載の炭酸ガスレーザ装置。
【請求項５】炭酸ガスレーザ装置のレーザガス循環系
内に触媒体を新規に装填して運転を開始する時に、前記
循環系内を真空にし、あるいは不活性ガス、またはレー
ザガスを供給して前記触媒体及び／又は前記不活性ガス
またはレーザガスを加熱することを特徴とする炭酸ガス
レーザ装置の運転方法。
【請求項６】炭酸ガスレーザ装置の運転中は、レーザ
発生にともない温度上昇したレーザガスを触媒体に通
し、温度上昇したレーザガスを熱源として再生反応を行
い、触媒体加熱ヒータを使用しないことを特徴とする請
求項５記載の炭酸ガスレーザ装置の運転方法。
【請求項７】触媒活性が低下したと判断されたとき、
レーザガス循環量を少なくして、触媒体加熱用ヒータに
電気を流し、触媒体を１５０℃以上、好ましくは２００
℃以上に加熱して、触媒体に吸着蓄積し通常運転時には
反応しない物質を反応させることを特徴とする炭酸ガス
レーザ装置の運転方法。
【請求項８】触媒体が水分を吸着する可能性のある操
作をした場合、継続使用する時でも、前記レーザガス循
環系内を真空にする真空吸引あるいは不活性ガスまたは
レーザガスを供給して、触媒体および前記不活性ガスま
たはレーザガスを加熱し、触媒体およびレーザ発生装置
器壁内面に吸着して水分を除去する触媒体及びガス加熱
を行うことを特徴とする請求項１記載の炭酸ガスレーザ
装置の運転方法。