JPH0763983A - カメラ用測距装置 - Google Patents
カメラ用測距装置Info
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- JPH0763983A JPH0763983A JP21156893A JP21156893A JPH0763983A JP H0763983 A JPH0763983 A JP H0763983A JP 21156893 A JP21156893 A JP 21156893A JP 21156893 A JP21156893 A JP 21156893A JP H0763983 A JPH0763983 A JP H0763983A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 アクティブ式の２眼の測距装置において、各
レンズの焦点位置に投光素子を配置し、その外側の近傍
に１次元半導体受光素子を配置する。それぞれの受光素
子は互いに他のレンズを通じて投光された投射光を受光
し、その入射位置に応じた電流をそれぞれの受光回路に
出力する。演算回路はそれぞれの受光回路の出力から距
離情報を得る。 【効果】 不均一照射時の対策を２眼方式で実現したた
め、３眼方式のように基線長を長くする必要がなく、も
ってカメラの小型化に寄与する。
レンズの焦点位置に投光素子を配置し、その外側の近傍
に１次元半導体受光素子を配置する。それぞれの受光素
子は互いに他のレンズを通じて投光された投射光を受光
し、その入射位置に応じた電流をそれぞれの受光回路に
出力する。演算回路はそれぞれの受光回路の出力から距
離情報を得る。 【効果】 不均一照射時の対策を２眼方式で実現したた
め、３眼方式のように基線長を長くする必要がなく、も
ってカメラの小型化に寄与する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、被写体に照射光を投
光して距離信号を得る、いわゆるアクティブ型のカメラ
用測距装置に関するものである。
光して距離信号を得る、いわゆるアクティブ型のカメラ
用測距装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】三角測量法を用いた測距装置において、
被写体上の反射強度のムラや、被写体の縁に投光ビーム
の一部が当たっているときに生じる受光スポットの重心
位置のずれ（以下これを不均一照射という）による距離
検出誤差を補正する方法として、たとえば特開昭６３−
２３５９０９号公報や特開平５−５２５５７号公報に開
示されているように、投光素子を１つ、受光素子を２つ
使ったいわゆる３眼方式が知られている。
被写体上の反射強度のムラや、被写体の縁に投光ビーム
の一部が当たっているときに生じる受光スポットの重心
位置のずれ（以下これを不均一照射という）による距離
検出誤差を補正する方法として、たとえば特開昭６３−
２３５９０９号公報や特開平５−５２５５７号公報に開
示されているように、投光素子を１つ、受光素子を２つ
使ったいわゆる３眼方式が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】３眼方式のアクティブ
式測距装置では２つの受光素子が１つの投光素子の両脇
に配置されるため、通常の２眼方式の測距装置の２倍の
幅を必要とし、小型を旨とするコンパクトカメラに搭載
するにはスペース的に非常に不利になってしまう。本発
明のカメラ用測距装置では、２眼方式と同様な大きさで
３眼方式と同様な効果をあげることを目的とする。
式測距装置では２つの受光素子が１つの投光素子の両脇
に配置されるため、通常の２眼方式の測距装置の２倍の
幅を必要とし、小型を旨とするコンパクトカメラに搭載
するにはスペース的に非常に不利になってしまう。本発
明のカメラ用測距装置では、２眼方式と同様な大きさで
３眼方式と同様な効果をあげることを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明のカメラ用測距装置では、被写体に対し照
射光を投光する第１の投光手段と、前記投光素子から一
定の基線長を隔てて配置され前記第１の投光手段の照射
光が被写体で反射した光を受光する第１の受光手段と、
前記第１の受光手段の近傍に配置され被写体に対し照射
光を投光する第２の投光手段と、前記第１の投光手段の
近傍に配置され前記第２の投光手段の照射光が被写体で
反射した光を受光する第２の受光手段と、前記第１およ
び第２の受光手段の出力信号に基づいて被写体までの距
離信号を生成する距離信号生成手段とを有している。
めに、本発明のカメラ用測距装置では、被写体に対し照
射光を投光する第１の投光手段と、前記投光素子から一
定の基線長を隔てて配置され前記第１の投光手段の照射
光が被写体で反射した光を受光する第１の受光手段と、
前記第１の受光手段の近傍に配置され被写体に対し照射
光を投光する第２の投光手段と、前記第１の投光手段の
近傍に配置され前記第２の投光手段の照射光が被写体で
反射した光を受光する第２の受光手段と、前記第１およ
び第２の受光手段の出力信号に基づいて被写体までの距
離信号を生成する距離信号生成手段とを有している。
【０００５】また、前記距離信号生成手段は前記第１の
受光手段および前記第２の受光手段の出力信号を平均し
て距離信号を得る。
受光手段および前記第２の受光手段の出力信号を平均し
て距離信号を得る。
【０００６】
【作用】アクティブ式の２眼の測距装置において、各レ
ンズの焦点位置に投光素子を配置し、その外側の近傍に
１次元半導体受光素子を配置する。それぞれの受光素子
は互いに他のレンズを通じて投光された投射光を受光
し、その入射位置に応じた電流をそれぞれの受光回路に
出力する。演算回路はそれぞれの受光回路の出力から距
離情報を得る。
ンズの焦点位置に投光素子を配置し、その外側の近傍に
１次元半導体受光素子を配置する。それぞれの受光素子
は互いに他のレンズを通じて投光された投射光を受光
し、その入射位置に応じた電流をそれぞれの受光回路に
出力する。演算回路はそれぞれの受光回路の出力から距
離情報を得る。
【０００７】
【実施例】本発明の一実施例を図１から図４に基づいて
説明する。測距動作に先だって演算回路（以下ＣＰＵと
いう）１は投光回路２および受光回路１０、２０の電源
をオンし、続いて投光回路２にデジタルパルス列からな
る投光信号を出力する。投光回路２はこの投光信号に従
って、２つの近赤外発光素子（以下ＩＲＥＤという）１
１、２１とを所定の条件（たとえば周期２ミリ秒、発光
デューティー５％）で交互に駆動する。ＩＲＥＤ１１と
１次元半導体受光素子（以下ＰＳＤという）１３、ＩＲ
ＥＤ２１とＰＳＤ２３はそれぞれ図３のように２つの発
光部が同一のプラスチックパッケージ１４にモールドさ
れているのがもっとも望ましいが、ＩＲＥＤ１１とＰＳ
Ｄ１３とを近接して配置してもよい。
説明する。測距動作に先だって演算回路（以下ＣＰＵと
いう）１は投光回路２および受光回路１０、２０の電源
をオンし、続いて投光回路２にデジタルパルス列からな
る投光信号を出力する。投光回路２はこの投光信号に従
って、２つの近赤外発光素子（以下ＩＲＥＤという）１
１、２１とを所定の条件（たとえば周期２ミリ秒、発光
デューティー５％）で交互に駆動する。ＩＲＥＤ１１と
１次元半導体受光素子（以下ＰＳＤという）１３、ＩＲ
ＥＤ２１とＰＳＤ２３はそれぞれ図３のように２つの発
光部が同一のプラスチックパッケージ１４にモールドさ
れているのがもっとも望ましいが、ＩＲＥＤ１１とＰＳ
Ｄ１３とを近接して配置してもよい。
【０００８】ＩＲＥＤ２１から投光された赤外光はレン
ズ２２で集められ、被写体３に投光される。被写体３に
よって反射された光はレンズ１２で再び集められＰＳＤ
１３上でビーム像１３ａとして結像する。ＰＳＤ１３は
入射光の結像位置に対応した信号光電流ＩＮ１およびＩ
Ｆ１を出力する。信号光電流ＩＮ１は定常光電流抜き取
り回路１５ａで定常光電流成分を抜き取られ、対数圧縮
回路１６ａで対数圧縮され、電流増幅回路１７ａで増幅
された後、演算器１８に入力される。信号光電流ＩＦ１
も定常光電流抜き取り回路１５ｂ、電流増幅回路１７
ｂ、対数圧縮回路１６ｂにおいて同様な処理を施され演
算器１８に入力される。演算器１８は信号光電流ＩＮ１
とＩＦ１とから式（１）に示される電圧Ｖ１を平均化回
路４に出力する。ここでＶｃは所定の電圧である。
ズ２２で集められ、被写体３に投光される。被写体３に
よって反射された光はレンズ１２で再び集められＰＳＤ
１３上でビーム像１３ａとして結像する。ＰＳＤ１３は
入射光の結像位置に対応した信号光電流ＩＮ１およびＩ
Ｆ１を出力する。信号光電流ＩＮ１は定常光電流抜き取
り回路１５ａで定常光電流成分を抜き取られ、対数圧縮
回路１６ａで対数圧縮され、電流増幅回路１７ａで増幅
された後、演算器１８に入力される。信号光電流ＩＦ１
も定常光電流抜き取り回路１５ｂ、電流増幅回路１７
ｂ、対数圧縮回路１６ｂにおいて同様な処理を施され演
算器１８に入力される。演算器１８は信号光電流ＩＮ１
とＩＦ１とから式（１）に示される電圧Ｖ１を平均化回
路４に出力する。ここでＶｃは所定の電圧である。
【０００９】 Ｖ１＝Ｖｃ・ＩＦ１／（ＩＮ１＋ＩＦ１） （１） 電圧Ｖ１は、図５に示したように、ＰＳＤの基線長方向
の長さをＬ、隣接ＰＳＤ方向の一端からビーム像の中心
までの距離をＸ１、端子ＴＣ１から供給される電流を電
流Ｉ１とすると、次の式（２）で表される。ここでｃは
電気抵抗の次元をもつ比例定数である。
の長さをＬ、隣接ＰＳＤ方向の一端からビーム像の中心
までの距離をＸ１、端子ＴＣ１から供給される電流を電
流Ｉ１とすると、次の式（２）で表される。ここでｃは
電気抵抗の次元をもつ比例定数である。
【００１０】 Ｖ１＝ｃ・（Ｘ１／Ｌ）・Ｉ１ （２） 以上はＩＲＥＤ２１から赤外光を投光した場合である
が、ＩＲＥＤ１１から投光した場合もまったく同様で、
ＰＳＤ２３でビーム像２３ａのように結像し、信号光電
流ＩＮ２およびＩＦ２として出力され、信号光電流ＩＮ
２は定常光電流抜き取り回路２５ａで定常光電流成分を
抜き取られ、対数圧縮回路２６ａで対数圧縮され、電流
増幅回路２７ａで増幅された後、演算器２８に入力され
る。信号光電流ＩＦ２も定常光電流抜き取り回路２５
ｂ、電流増幅回路２７ｂ、対数圧縮回路２６ｂにおいて
同様な処理を施され演算器２８に入力される。演算器２
８は信号光電流ＩＮ２とＩＦ２とから式（３）に示され
るとなる電圧Ｖ２を平均化回路４に出力する。
が、ＩＲＥＤ１１から投光した場合もまったく同様で、
ＰＳＤ２３でビーム像２３ａのように結像し、信号光電
流ＩＮ２およびＩＦ２として出力され、信号光電流ＩＮ
２は定常光電流抜き取り回路２５ａで定常光電流成分を
抜き取られ、対数圧縮回路２６ａで対数圧縮され、電流
増幅回路２７ａで増幅された後、演算器２８に入力され
る。信号光電流ＩＦ２も定常光電流抜き取り回路２５
ｂ、電流増幅回路２７ｂ、対数圧縮回路２６ｂにおいて
同様な処理を施され演算器２８に入力される。演算器２
８は信号光電流ＩＮ２とＩＦ２とから式（３）に示され
るとなる電圧Ｖ２を平均化回路４に出力する。
【００１１】 Ｖ２＝Ｖｃ・ＩＦ２／（ＩＮ２＋ＩＦ２） （３） 電圧Ｖ２もまた電圧Ｖ１と同様に、隣接ＰＳＤ方向の一
端からビーム像の中心までの距離をＸ２、端子ＴＣ２か
ら供給される電流を電流Ｉ２として、次の式（４）のよ
うに表される。
端からビーム像の中心までの距離をＸ２、端子ＴＣ２か
ら供給される電流を電流Ｉ２として、次の式（４）のよ
うに表される。
【００１２】 Ｖ２＝ｃ・（Ｘ２／Ｌ）・Ｉ２ （４） 平均化回路４は電圧Ｖ１とＶ２とを式（５）のように平
均する回路である。
均する回路である。
【００１３】 Ｖ０＝（Ｖ１＋Ｖ２）／２ （５） 投光回路２はＩＲＥＤ１１とＩＲＥＤ２１とを交互に駆
動し、その度にＣＰＵ１はＡ／Ｄコンバータ（以下ＡＤ
Ｃという）５で平均化回路４の出力電圧Ｖ０を検出す
る。この電圧Ｖ０によって一義的に定まるメモリ１ａの
距離テーブルから、被写体までの距離Ｄを求めることが
できる。もし不均一照射が生じていなければ電圧Ｖ１と
Ｖ２はほぼ同じ電圧であり、これらの平均電圧Ｖ０もま
た電圧Ｖ１およびＶ２にほぼ等しいと考えてよい。
動し、その度にＣＰＵ１はＡ／Ｄコンバータ（以下ＡＤ
Ｃという）５で平均化回路４の出力電圧Ｖ０を検出す
る。この電圧Ｖ０によって一義的に定まるメモリ１ａの
距離テーブルから、被写体までの距離Ｄを求めることが
できる。もし不均一照射が生じていなければ電圧Ｖ１と
Ｖ２はほぼ同じ電圧であり、これらの平均電圧Ｖ０もま
た電圧Ｖ１およびＶ２にほぼ等しいと考えてよい。
【００１４】ここで不均一照射の生じていた場合につい
て、図６および図７に従って説明する。図４および図５
と同一物には同一の符号を付してある。図６ではＩＲＥ
Ｄからの投射光が被写体となっている人物の一部分にし
か照射されず、従って被写体からの反射光も円弧の一部
のみの状態である。以下この状態を「ビーム欠け」とい
う。ビーム欠けを生じるとＰＳＤ上の像も円弧の一部と
なり、光重心が移動して誤測距の原因となる。図７は図
６のＰＳＤ１３とＰＳＤ２３の部分を拡大したもので、
ＰＳＤ１３では値Δｘ１だけ遠距離側に、ＰＳＤ２３で
は値Δｘ２だけ近距離側にビームがずれていることがわ
かる。つまり、式（６）と式（７）とが成り立つ。
て、図６および図７に従って説明する。図４および図５
と同一物には同一の符号を付してある。図６ではＩＲＥ
Ｄからの投射光が被写体となっている人物の一部分にし
か照射されず、従って被写体からの反射光も円弧の一部
のみの状態である。以下この状態を「ビーム欠け」とい
う。ビーム欠けを生じるとＰＳＤ上の像も円弧の一部と
なり、光重心が移動して誤測距の原因となる。図７は図
６のＰＳＤ１３とＰＳＤ２３の部分を拡大したもので、
ＰＳＤ１３では値Δｘ１だけ遠距離側に、ＰＳＤ２３で
は値Δｘ２だけ近距離側にビームがずれていることがわ
かる。つまり、式（６）と式（７）とが成り立つ。
【００１５】 Ｖ１＝ｃ・（Ｘ−ΔＸ１）／Ｌ・Ｉ１ （６） Ｖ２＝ｃ・（Ｘ＋ΔＸ２）／Ｌ・Ｉ２ （７） これらを平均した電圧Ｖ０は、式（８）のようになる。
【００１６】 Ｖ０＝ｃ・（（Ｘ−ΔＸ１）・Ｉ１＋（Ｘ＋ΔＸ２）・Ｉ２）／Ｌ （８） ここで、基線長Ｂに対して被写体が十分に大きい場合、
被写体へのビームの照射量はおよそ等しく、ＰＳＤ１３
とＰＳＤ２３上にはほぼ同じ強度、ほぼ同じ形状の像が
描かれることになる。したがって値Δｘ１と値Δｘ２と
はほぼ等しく、また光強度がほぼ同じという点から電流
Ｉ１と電流Ｉ２もほぼ等しい。以上から式（８）の値Δ
ｘ１と値Δｘ２の項が相殺されるため、式（８）は式
（５）とほぼ等しく、ビーム欠けの影響は消えることが
わかる。
被写体へのビームの照射量はおよそ等しく、ＰＳＤ１３
とＰＳＤ２３上にはほぼ同じ強度、ほぼ同じ形状の像が
描かれることになる。したがって値Δｘ１と値Δｘ２と
はほぼ等しく、また光強度がほぼ同じという点から電流
Ｉ１と電流Ｉ２もほぼ等しい。以上から式（８）の値Δ
ｘ１と値Δｘ２の項が相殺されるため、式（８）は式
（５）とほぼ等しく、ビーム欠けの影響は消えることが
わかる。
【００１７】以上に示すように、本発明のカメラ用測距
装置は１つの投光素子と１つの受光素子からなる一対の
光学系を２つ持った、２組の投受光素子の系から構成さ
れており、一方の光学系の投光素子がオンする時は他方
の光学系の受光素子はオフするように駆動される。２つ
の投光素子を所定回数にわたって交互に駆動し、平均化
回路４に式（５）の演算を行わせることでビーム欠けの
影響を取り除き、正しく被写体までの距離Ｄを求めるこ
とができる。この距離Ｄに従ってＣＰＵ１はモータ６を
駆動し撮影レンズ鏡筒７を適正な位置まで移動させる。
装置は１つの投光素子と１つの受光素子からなる一対の
光学系を２つ持った、２組の投受光素子の系から構成さ
れており、一方の光学系の投光素子がオンする時は他方
の光学系の受光素子はオフするように駆動される。２つ
の投光素子を所定回数にわたって交互に駆動し、平均化
回路４に式（５）の演算を行わせることでビーム欠けの
影響を取り除き、正しく被写体までの距離Ｄを求めるこ
とができる。この距離Ｄに従ってＣＰＵ１はモータ６を
駆動し撮影レンズ鏡筒７を適正な位置まで移動させる。
【００１８】この例ではビーム欠けの場合についてのみ
示したが、一般的な不均一照射の場合でも同様にその影
響を少なくできることは自明である。
示したが、一般的な不均一照射の場合でも同様にその影
響を少なくできることは自明である。
【００１９】また、本実施例では不均一照射の発生を撮
影者が知ることはできないが、ブザーやランプなどの報
知手段を付加して不均一照射の発生を撮影者に対し報知
するようにしてもよい。
影者が知ることはできないが、ブザーやランプなどの報
知手段を付加して不均一照射の発生を撮影者に対し報知
するようにしてもよい。
【００２０】さらに本実施例では常に不均一照射の補正
を行うようになっているが、不均一照射の影響がわずか
な場合に、補正演算の誤差によってかえって測距結果の
誤差を増やしてしまうのを避けるために、不均一照射の
影響が所定値以下の場合に測距結果の補正を禁止するよ
うにしてもよい。
を行うようになっているが、不均一照射の影響がわずか
な場合に、補正演算の誤差によってかえって測距結果の
誤差を増やしてしまうのを避けるために、不均一照射の
影響が所定値以下の場合に測距結果の補正を禁止するよ
うにしてもよい。
【００２１】
【発明の効果】不均一照射時の対策を２眼方式で実現し
たため、３眼方式のように基線長を長くする必要がな
く、もってカメラの小型化に寄与する。
たため、３眼方式のように基線長を長くする必要がな
く、もってカメラの小型化に寄与する。
【図１】本発明の実施例を示すブロック図である。
【図２】従来例を示すブロック図である。
【図３】本発明の実施例に使用される投光素子と受光素
子の配置の一例である。
子の配置の一例である。
【図４】本発明の実施例においてビーム欠けが生じてい
ない場合の説明図である。
ない場合の説明図である。
【図５】図４において受光素子の部分の拡大図である。
【図６】本発明の実施例においてビーム欠けが生じた場
合の説明図である。
合の説明図である。
【図７】図６において受光素子の部分の拡大図である。
１１ ＩＲＥＤ（第１の投光手段） １３ ＰＳＤ（第１の受光手段） ２１ ＩＲＥＤ（第２の投光手段） ２３ ＰＳＤ（第２の受光手段） １ ＣＰＵ（距離信号生成手段）
Claims (2)
- 【請求項１】 被写体に対し照射光を投光する第１の投
光素子と、前記投光素子から一定の基線長を隔てて配置
され前記第１の投光素子の照射光が被写体で反射した光
を受光する第１の受光素子と、前記第１の受光素子の近
傍に配置され被写体に対し照射光を投光する第２の投光
素子と、前記第１の投光素子の近傍に配置され前記第２
の投光素子の照射光が被写体で反射した光を受光する第
２の受光素子と、前記第１および第２の受光素子の出力
信号に基づいて被写体までの距離信号を生成する距離信
号生成手段とを有することを特徴とするカメラ用測距装
置。 - 【請求項２】 前記距離信号生成手段は前記第１の受光
回路および前記第２の受光回路の出力信号を平均して距
離信号を得ることを特徴とするカメラ用測距装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21156893A JP3284325B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | カメラ用測距装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21156893A JP3284325B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | カメラ用測距装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0763983A true JPH0763983A (ja) | 1995-03-10 |
| JP3284325B2 JP3284325B2 (ja) | 2002-05-20 |
Family
ID=16607942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21156893A Expired - Fee Related JP3284325B2 (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | カメラ用測距装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3284325B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09104044A (ja) * | 1996-08-05 | 1997-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面に凹部を有する成形品の射出成形方法 |
-
1993
- 1993-08-26 JP JP21156893A patent/JP3284325B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09104044A (ja) * | 1996-08-05 | 1997-04-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面に凹部を有する成形品の射出成形方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3284325B2 (ja) | 2002-05-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |