JPH0761964A - New onium salt, photopolymerization initiator, energy ray curing composition containing the same initiator and its cured material - Google Patents

New onium salt, photopolymerization initiator, energy ray curing composition containing the same initiator and its cured material

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JPH0761964A
JPH0761964A JP6154346A JP15434694A JPH0761964A JP H0761964 A JPH0761964 A JP H0761964A JP 6154346 A JP6154346 A JP 6154346A JP 15434694 A JP15434694 A JP 15434694A JP H0761964 A JPH0761964 A JP H0761964A
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Abstract

PURPOSE:To obtain a new onium salt composed of a specified benzoylaryl compound, excellent in transparency, curing properties and compatibility, low in smells, capable of forming a cured film excellent in gloss and adhesion and useful, e.g. as a photopolymerization initiator for an energy ray curing composition. CONSTITUTION:A new onium salt represented by formula I {Ar is a univalent to tetravalent aromatic group; X is a (substituted) bisphenylsulfonyl; (a) is 1 to 4; (b) is 0 or 1 to 3; (a)+(b) is 1 to 4; (n) is 1 to 4; Z is a halide compound expressed by formula II [M is B, P, As or Sb; Q is a halogen; (m) is 3 to 6; L is 0 or 1; (m)+L is 4 to 6]}. This compound can be synthesized by reacting an aromatic carboxylic acid compound with a diphenyl sulfide compound in a reaction solvent prepared by dissolving phosphoric anhydride in an alkylsulfonic acid. It is useful as a photopolymerization initiator for an energy ray curing composition, excellent in compatibility, transparency and curing properties, low in smells and capable of forming a cured material excellent in gloss and adhesion.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規な、特定な構造を
有するオニウム塩、これを有効成分とする光重合開始
剤、これを含有するエネルギー線の照射により硬化が可
能なエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物に関す
る。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a novel onium salt having a specific structure, a photopolymerization initiator containing the same as an active ingredient, and an energy ray-curable composition containing the same, which can be cured by irradiation with energy rays. The present invention relates to a composition and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。光によりエポキ
シ樹脂を硬化する方法として、例えば米国特許第379
4576号には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開
始剤として使用する方法が提案されている。しかしなが
ら芳香族ジアゾニウム塩は、光分解により窒素ガスを放
出し、そのためにエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上にな
ると塗膜が発泡し、厚塗りの用途には適さない。更に、
又、エポキシ樹脂との混合物は光が存在しない時でも、
徐々に硬化が進行する等、保存安定性に問題があり、一
液性の組成物とはなりえない。
2. Description of the Related Art Photopolymerizable compositions have been extensively studied in the fields of printing inks, paints, coatings, liquid resist inks, etc., in order to save energy, space, and pollution, and their practical application has been studied. . However, most of these studies were based on the radical polymerization reaction of double bonds. Cationic polymerizable substances, such as epoxy resins, are materials with excellent physical properties, but it is difficult to photopolymerize them, and so far, materials with double bonds introduced by acrylic modification have been mainly used. . As a method of curing an epoxy resin by light, for example, US Pat. No. 379.
No. 4576 proposes a method of using a photosensitive aromatic diazonium salt as a photopolymerization initiator. However, the aromatic diazonium salt releases nitrogen gas by photolysis, and when the film thickness of the epoxy resin becomes 15 μm or more, the coating film foams and is not suitable for thick coating applications. Furthermore,
Also, the mixture with epoxy resin, even in the absence of light,
There is a problem in storage stability such that curing gradually progresses, and a one-part composition cannot be obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記のジアゾニウム塩
系光重合開始剤の欠点を克服すべく、種々検討がなさ
れ、厚塗り性及び保存安定性の改良された技術として芳
香族スルホニウム塩系や芳香族ヨードニウム塩系開始剤
及びそれらを含有する硬化性樹脂組成物が特公昭52−
14278号公報、特公昭52−14277号公報、特
開昭54−53181号公報、特公昭59−19581
号公報等に開示されている。しかしながら、これらの芳
香族オニウム塩を含有する組成物はジアゾニウム塩に比
較し硬化性が乏しいという欠点を有し、又芳香族スルホ
ニウム塩の場合は、硬化物の臭気が問題となっていた。
かかる欠点を克服するべく、特開昭56−55420号
公報等に、特定の基を有する芳香族スルホニウム塩が提
案されている。しかし、上記の欠点は、いくらか解消さ
れるものの十分ではない。又、光重合性組成物の使用さ
れる分野が拡大するにつれて、市場の要求に対応するた
めに、新規な光重合開始剤、それを含有する組成物の提
供は重要である。
Various studies have been made to overcome the above-mentioned drawbacks of the diazonium salt-based photopolymerization initiators, and aromatic sulfonium salt-based and aromatic compounds have been developed as techniques for improving thick coating properties and storage stability. Group iodonium salt-based initiators and curable resin compositions containing them are disclosed in JP-B-52-
14278, Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Laid-Open No. 54-53181, Japanese Patent Publication No. 59-19581.
It is disclosed in Japanese Patent Publication No. However, compositions containing these aromatic onium salts have the drawback of poorer curability than diazonium salts, and in the case of aromatic sulfonium salts, the odor of the cured product has been a problem.
In order to overcome this drawback, an aromatic sulfonium salt having a specific group has been proposed in JP-A-56-55420. However, although the above-mentioned drawbacks are alleviated, they are not sufficient. Further, as the fields in which the photopolymerizable composition is used are expanded, it is important to provide a novel photopolymerization initiator and a composition containing it in order to meet the market demand.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、(特に各種ビニルエーテルと本発明の光重合開始剤
との相容性)、硬化性に優れ、その硬化物の臭気が少な
いエネルギー線硬化性組成物を提供することに成功し
た。すなわち、本発明は、(1)下記式(1)で示され
るオニウム塩、
As a result of earnest research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have developed a novel photopolymerization initiator, and a composition using the same has a long storage stability and a good phase stability. The present invention has succeeded in providing an energy ray-curable composition having excellent compatibility (particularly, compatibility between various vinyl ethers and the photopolymerization initiator of the present invention) and curability, and having little odor of the cured product. That is, the present invention provides (1) an onium salt represented by the following formula (1),

【0005】[0005]

【化10】 [Chemical 10]

【0006】(式中Arは1〜4価の芳香族基、Xは置
換基を有していてもよいビスフェニルスルホニオ基、a
は1〜4、bは0または1〜3、a+bは1〜4、nは
1〜4、Zは式(3) MQm −(−OH)L (3) Mはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子またはアンチモン
原子、Qはハロゲン原子、mは3〜6、Lは0又は1、
m+Lは4〜6である)で示されるハロゲン化物をそれ
ぞれ表す。)(2)Arが
(In the formula, Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group, X is a bisphenylsulfonio group which may have a substituent, a
Is 1 to 4, b is 0 or 1 to 3, a + b is 1 to 4, n is 1 to 4, Z is the formula (3) MQ m -(-OH) L (3) M is a boron atom, a phosphorus atom, Arsenic atom or antimony atom, Q is a halogen atom, m is 3 to 6, L is 0 or 1,
m + L is 4 to 6). ) (2) Ar

【0007】[0007]

【化11】 [Chemical 11]

【0008】であり(これらの芳香族基は、(C1 〜C
5 )アルキル基、(C1 〜C5 )アルキルオキシカルボ
ニル基、(C1 〜C5 )アルキルカルボニルオキシ基、
ベンゾイル基、シアノ基、(C1 〜C5 )アルキルチオ
基、ハロゲン原子から選択される1つ以上の置換基を有
していてもよい。)、置換基を有していてもよいビスフ
ェニルスルホニオ基が式(2)
(These aromatic groups are (C 1 -C
5 ) alkyl group, (C 1 -C 5 ) alkyloxycarbonyl group, (C 1 -C 5 ) alkylcarbonyloxy group,
It may have one or more substituents selected from a benzoyl group, a cyano group, a (C 1 -C 5 ) alkylthio group, and a halogen atom. ), An optionally substituted bisphenylsulfonio group has the formula (2)

【0009】[0009]

【化12】 [Chemical 12]

【0010】(ここでR1 〜R10はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C25
アルキル基、炭素数C6 〜C18の置換基で置換されてい
てもよいフェニル基、フェノキシ基、フェニルカルボニ
ル基、アルキルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルオキ
シ基、少なくとも1個の水酸基を有するC1 〜C25の脂
肪族基、または式、 −OCH2 CH(R11)O−(こ
こでR11は水素原子またはアルキル基である。)で表わ
される基を含むC3 〜C25の脂肪族基である。)で示さ
れる基でありaは1〜4、bは0または1〜3、a+b
は1〜4,nは1〜4、Zは式(3) MQm −(−OH)L (3) (ここでMはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子またはア
ンチモン原子、Qはハロゲン原子、mは3〜6、Lは0
又は1、m+Lは4〜6である)で示されるハロゲン化
物を表す。)である上記(1)のオニウム塩、(3)A
rが
(Here, R 1 to R 10 are hydrogen atoms,
Halogen atom, nitro group, alkoxy group, C 1 -C 25 alkyl group, phenyl group optionally substituted with a C 6 -C 18 substituent, phenoxy group, phenylcarbonyl group, alkylthio group, phenylthio group , A benzyloxy group, a C 1 -C 25 aliphatic group having at least one hydroxyl group, or a formula: —OCH 2 CH (R 11 ) O— (wherein R 11 is a hydrogen atom or an alkyl group). in an aliphatic group of C 3 -C 25 containing group represented by. ), A is 1 to 4, b is 0 or 1 to 3, a + b
Is 1-4, n is 1-4, Z is the formula (3) MQ m -(-OH) L (3) (where M is a boron atom, phosphorus atom, arsenic atom or antimony atom, Q is a halogen atom, m is 3 to 6, L is 0
Or 1, m + L is 4 to 6). ) Is the onium salt of (1) above, (3) A
r is

【0011】[0011]

【化13】 [Chemical 13]

【0012】であり、R1 〜R10がそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、C1 〜C5 のアルコキシ基、C1 〜C5
のアルキル基であり、Mはリン原子又はアンチモン原子
である上記(2)のオニウム塩、(4)R1 〜R5 の少
なくとも1つがハロゲン原子、他は水素原子であり、R
6〜R10の少なくとも1つがハロゲン原子、他は水素原
子である上記(3)のオニウム塩、(5)Arが
And R 1 to R 10 are each a hydrogen atom,
Halogen atom, alkoxy group of C 1 ~C 5, C 1 ~C 5
And an M is a phosphorus atom or an antimony atom, (4) at least one of R 1 to R 5 is a halogen atom, and the other is a hydrogen atom.
At least one of 6 to R 10 is a halogen atom and the other is a hydrogen atom, and the onium salt of the above (3), (5) Ar is

【0013】[0013]

【化14】 [Chemical 14]

【0014】であり、R3 及びR8 がハロゲン原子であ
り、R1 、R2 、R4 〜R7 、R9 、R10は水素原子で
あり、aは2、bは0、nは2であり、Mはリン原子ま
たはアンチモン原子でありmは6、Lは0である上記
(2)のオニウム塩、(6)ハロゲン原子がフッ素原子
である上記(5)のオニウム塩、(7)式
R 3 and R 8 are halogen atoms, R 1 , R 2 , R 4 to R 7 , R 9 and R 10 are hydrogen atoms, a is 2, b is 0 and n is n. 2, M is a phosphorus atom or an antimony atom, m is 6, and L is 0; (6) the onium salt of (5), wherein the halogen atom is a fluorine atom; )formula

【0015】[0015]

【化15】 [Chemical 15]

【0016】で表わされるオニウム塩、(8)式An onium salt represented by the formula (8)

【0017】[0017]

【化16】 [Chemical 16]

【0018】で表わされるオニウム塩、(9)上記
(1)〜(8)のオニウム塩を有効成分とする光重合開
始剤、(10)カチオン重合性物質と上記(1)〜
(8)のオニウム塩を含有するエネルギー線硬化性組成
物、(11)カチオン重合性物質がエポキシ系化合物、
ビニルエーテル系化合物又は環状エーテル系化合物であ
る上記(10)の組成物、(12)エポキシ系化合物が
脂環式エポキシ樹脂である上記(11)の組成物、(1
3)ビニルエーテル系化合物がトリエチレングリコール
ジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニル
エーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールジビ
ニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテ
ル、
An onium salt represented by: (9) a photopolymerization initiator containing the onium salt of (1) to (8) as an active ingredient, (10) a cationically polymerizable substance and (1) to (1) above.
An energy ray-curable composition containing the onium salt of (8), (11) an epoxy compound as a cationically polymerizable substance,
The composition of (10) above, which is a vinyl ether compound or a cyclic ether compound, (12) the composition of (11) above, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy resin, (1
3) Vinyl ether compounds include triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether,

【0019】[0019]

【化17】 [Chemical 17]

【0020】又はウレタンポリビニルエーテルである上
記(11)の組成物、(14)オニウム塩が上記(7)
又は(8)のオニウム塩である上記(10)の組成物、
(15)エネルギー線が紫外線である上記(10)の組
成物、(16)カチオン重合性物質100重量部に対
し、オニウム塩を0.01〜20重量部含有する上記
(10)の組成物、(17)脂環式エポキシ樹脂100
重量部に対し、上記(7)又は(8)のオニウム塩を
0.1〜10重量部含有する紫外線硬化性組成物、(1
8)ビニルエーテル系化合物100重量部に対し、上記
(7)又は(8)のオニウム塩を0.1〜10重量部含
有する紫外線硬化性組成物、(19)ビニルエーテル系
化合物がトリエチレングリコールジビニルエーテル、テ
トラエチレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキ
サン−1,4−ジメチロールジビニルエーテル、1,4
−ブタンジオールジビニルエーテル、
Alternatively, the composition of the above (11), which is a urethane polyvinyl ether, or the onium salt (14) is the above (7).
Or the composition of the above (10) which is the onium salt of (8),
(15) The composition according to (10) above, wherein the energy rays are ultraviolet rays, (16) The composition according to (10) above, which contains 0.01 to 20 parts by weight of an onium salt per 100 parts by weight of a cationically polymerizable substance, (17) Alicyclic epoxy resin 100
An ultraviolet curable composition containing 0.1 to 10 parts by weight of the onium salt of (7) or (8) with respect to parts by weight, (1
8) An ultraviolet-curable composition containing 0.1 to 10 parts by weight of the onium salt of (7) or (8) with respect to 100 parts by weight of the vinyl ether compound, and (19) the vinyl ether compound is triethylene glycol divinyl ether. , Tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4
-Butanediol divinyl ether,

【0021】[0021]

【化18】 [Chemical 18]

【0022】又はウレタンポリビニルエーテルである上
記(18)の組成物、(20)上記(10)〜(19)
の組成物の硬化物、(21)上記(10)〜(19)の
組成物にエネルギー線を照射することを特徴とする該組
成物の硬化方法、(22)エネルギー線が紫外線である
上記(21)の硬化方法、に関する。一般式(1)にお
いてArの1〜4価の芳香族基としては、例えば
Alternatively, the composition of the above (18) which is urethane polyvinyl ether, (20) the above (10) to (19)
(21) A method for curing the composition, which comprises irradiating the composition of (10) to (19) with an energy ray, and (22) the energy ray of which is an ultraviolet ray. 21) The curing method of. In the general formula (1), the aromatic group having a valence of 1 to 4 is, for example,

【0023】[0023]

【化19】 [Chemical 19]

【0024】等、があげられるが、m−フェニレン基Examples include, but are not limited to, m-phenylene group

【0025】[0025]

【化20】 [Chemical 20]

【0026】等、結合位置がメタ位(1、3位)の関係
にある2価の基が好ましい。なお、1〜4価の芳香族基
はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のC1
〜C4のアルキル基、(C1 〜C4 )アルキルカルボニ
ルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子、(C1 〜C4 )アルコキシ基、
ベンゾイル基、フェニル基、フェニルチオ基、(C1
4 )アルキルチオ基、シアノ基等の置換基を1種以上
有していてもよい。
A divalent group in which the bonding position is in the meta position (1, 3 position) is preferable. The monovalent to tetravalent aromatic group is C 1 such as methyl group, ethyl group, propyl group and butyl group.
To C 4 alkyl group, (C 1 to C 4 ) alkylcarbonyloxy group, halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, (C 1 to C 4 ) alkoxy group,
Benzoyl group, a phenyl group, a phenylthio group, (C 1 ~
It may have one or more kinds of substituents such as C 4 ) alkylthio group and cyano group.

【0027】Xの、置換基を有していてもよいビスフェ
ニルスルホニオ基としては、例えば上記式(2)で表さ
れる基があげられる。式(2)の置換基R1 〜R10にお
いて、ハロゲン原子としては例えばF、Cl、Br、I
等があげられるが、Fが好ましい。アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基、ペントキシ基等のC1 〜C25のアルコキシ
基、好ましくはC1 〜C5 のアルコキシ基があげられ
る。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等のC1 〜C25
のアルキル基、好ましくはC1 〜C5 のアルキル基があ
げられる。C6 〜C18の置換基で置換されてもよいフェ
ニル基における置換基としては、例えばノニル基で例示
されるC6 〜C18のアルキル基が好ましく、又、その置
換位置はp−位が好ましい。アルキルチオ基としては、
例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、
ブチルチオ基、ペンチルチオ基等のC1 〜C5 のアルキ
ルチオ基があげられる。少なくとも1個の水酸基を有す
るC1 〜C25の脂肪酸基としては、例えば
Examples of the bisphenylsulfonio group of X which may have a substituent include groups represented by the above formula (2). In the substituents R 1 to R 10 of the formula (2), examples of the halogen atom include F, Cl, Br and I.
Etc., but F is preferred. Examples of the alkoxy group include C 1 to C 25 alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group and pentoxy group, and preferably C 1 to C 5 alkoxy groups. Examples of the alkyl group include C 1 to C 25 such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group and pentyl group.
Alkyl groups of, preferably C 1 to C 5 alkyl groups. As the substituent in the phenyl group which may be substituted with a C 6 to C 18 substituent, a C 6 to C 18 alkyl group exemplified by a nonyl group is preferable, and the substitution position is the p-position. preferable. As an alkylthio group,
For example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group,
Examples thereof include C 1 to C 5 alkylthio groups such as a butylthio group and a pentylthio group. Examples of the C 1 to C 25 fatty acid group having at least one hydroxyl group include, for example,

【0028】[0028]

【化21】 [Chemical 21]

【0029】、−O−CH2 CH2 CH2 CH2 −OH
等の下記式 −Y−R−(−OH)h (ここでYはO又はS、Rはメチル基、エチル基等のC
1 〜C5 のアルキル基を有していてもよい、メチレン、
ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン等のC1
25のポリメチレン又はC3 〜C10のシクロアルキレ
ン、hは1〜3を示す。)で表される基があげられる。
式 −OCH2 CH(R11)O−で表される基を含むC
3 〜C25の脂肪族基としては例えば−(−OCH2 CH
2 −)2 −OH、−(−OCH2 CH2 −)3−OH、
−(−OCH2 CH2 −)2 −OCH3 等の下記式
, --O--CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 --OH
And the following formula —Y—R — (— OH) h (where Y is O or S, R is a methyl group, ethyl group, or other C group).
Methylene optionally having 1 to C 5 alkyl group,
C 1-, such as dimethylene, trimethylene, tetramethylene, etc.
C 25 polymethylene or C 3 -C 10 cycloalkylene, h is 1 to 3. And a group represented by).
C containing a group represented by the formula —OCH 2 CH (R 11 ) O—
The aliphatic group of 3 -C 25 for example - (- OCH 2 CH
2 -) 2 -OH, - ( - OCH 2 CH 2 -) 3 -OH,
- (- OCH 2 CH 2 - ) formula, such as 2 -OCH 3

【0030】[0030]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0031】(ここでR12は水素原子又はアルキル基、
iは2〜12、好ましくは2〜5を示し、R11は前記と
同じ)で表される基、
(Wherein R 12 is a hydrogen atom or an alkyl group,
i is 2 to 12, preferably 2 to 5, and R 11 is the same as the above),

【0032】[0032]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0033】(ここでjは1〜10の整数、kは1又は
2、R11は前記と同じ)で表される基があげられる。な
お、R11としては、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基等のC1 〜C5 のアルキル
基があげられる。これらの基のうち、好ましいものとし
てはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
少なくとも1個の水酸基を有するC1 〜C25の脂肪族
基、式−OCH2 HC(R11)O−で表される基を含
むC3 〜C25の脂肪族基があげられる。
(Wherein j is an integer of 1 to 10, k is 1 or 2, and R 11 is the same as the above). Examples of R 11 include C 1 to C 5 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group. Of these groups, preferred are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group,
Examples thereof include a C 1 to C 25 aliphatic group having at least one hydroxyl group, and a C 3 to C 25 aliphatic group containing a group represented by the formula —OCH 2 HC (R 11 ) O—.

【0034】上記式(2)のR1 〜R10の置換基の組み
合わせとしては(a)R1 〜R10のすべてが水素原子、
(b)R1 〜R10のうち9〜6個が水素原子であり、1
〜4個が水素原子以外の基である。(b)のうち、好ま
しくは(c)R1 〜R5 のうち3〜4個が水素原子であ
り、1〜2個が水素原子以外の基、R6 〜R10のうち3
〜5個が水素原子であり、0〜2個が水素原子以外の基
である。(c)をさらに詳細に述べると(d)R1 、R
2 、R3 のうちいずれか1つが、好ましくはR1 又はR
3 が上記水素原子以外の基であり、他は水素原子、
(e)R1 、R2 、R3 のうちいずれか1つ又は2つ及
びR6 、R7 、R8 のうちいずれか1つ又は2つが上記
〜の基であり他は水素原子である。(e)において
より好ましい態様は、R3 、R8 が上記〜の基、好
ましくはハロゲン原子であり、他は水素原子である。
As the combination of the substituents of R 1 to R 10 in the above formula (2), (a) all of R 1 to R 10 are hydrogen atoms,
(B) 9 to 6 of R 1 to R 10 are hydrogen atoms, and 1
~ 4 are groups other than hydrogen atoms. Among (b), preferably (c) 3 to 4 of R 1 to R 5 are hydrogen atoms, 1 to 2 are groups other than hydrogen atom, and 3 of R 6 to R 10 are preferable.
-5 are hydrogen atoms, and 0-2 are groups other than hydrogen atoms. (C) will be described in more detail. (D) R 1 , R
Any one of R 2 and R 3 , preferably R 1 or R
3 is a group other than the above hydrogen atom, the other is a hydrogen atom,
(E) Any one or two of R 1 , R 2 , and R 3 and any one or two of R 6 , R 7 , and R 8 are the above groups, and the others are hydrogen atoms. . In a more preferred embodiment of (e), R 3 and R 8 are groups of the above-mentioned, preferably a halogen atom, and the others are hydrogen atoms.

【0035】上記一般式(1)において、aは好ましく
は1〜2、bは好ましくは0、nは好ましくは1〜2で
ある。上記一般式(1)の式(3)において好ましいM
としてはリン原子、アンチモン原子があげられ、好まし
いハロゲン原子としてフッ素原子があげられる。mは5
〜6、Lは0が好ましい。好ましい具体例としては、例
えばPF6 、SbF6があげられる。上記式(1)で表
される本発明のオニウム塩としては、例えば次のスルホ
ニウム塩化合物があげられる。
In the above general formula (1), a is preferably 1-2, b is preferably 0, and n is preferably 1-2. Preferred M in Formula (3) of General Formula (1) above
Examples thereof include phosphorus atom and antimony atom, and preferable halogen atom includes fluorine atom. m is 5
6 and L are preferably 0. Preferred specific examples include PF 6 and SbF 6 . Examples of the onium salt of the present invention represented by the above formula (1) include the following sulfonium salt compounds.

【0036】[0036]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0037】[0037]

【化25】 [Chemical 25]

【0038】[0038]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0039】[0039]

【化27】 [Chemical 27]

【0040】[0040]

【化28】 [Chemical 28]

【0041】[0041]

【化29】 [Chemical 29]

【0042】本発明のオニウム塩は、(1)出発原料と
して式(5)
The onium salt of the present invention has the formula (5) as a starting material (1).

【0043】[0043]

【化30】 [Chemical 30]

【0044】(式中Ar、cは前記と同じ意味を表
す。)で表されるジフェニルスルフィド系化合物と、式
(4)
A diphenyl sulfide compound represented by the formula (wherein Ar and c have the same meanings as described above);

【0045】[0045]

【化31】 [Chemical 31]

【0046】(式中R1 〜R10は前記と同じ意味を表
す。)で表される置換又は非置換ジフェニルスルホキシ
ド化合物を公知のスルホニウム塩の生成反応を利用する
方法(以下(1)法という)、(2)相当する置換及び
非置換のスルホニウム塩をあらかじめ合成し、その後、
置換基を変換、導入する方法(以下(2)法という)の
いずれかにより合成することができる。先ず(1)法を
具体的に説明すると、式(5)で表されるジフェニルス
ルフィド系化合物と、式(4)で表される置換又は非置
換ジフェニルスルホキシド化合物を、前者の末端スルフ
ィド基1当量に対し、好ましくは0.25〜1.2モ
ル、さらに好ましくは1.0〜1.1モルの範囲で、公
知の方法、例えば脱水剤(例えば、五酸化リン、濃硫
酸、無水酢酸等)中で、常温〜150℃で縮合反応を行
い、次いでこれら反応液を式(3′) B−MQm −(−OH)L (3′) (ここでBはアルカリ金属、M、Q、m、Lは前記と同
じ意味を表す。)で表される化合物の水溶液に滴下すれ
ばよい。式(5)で表される化合物としては、例えば次
の化合物があげられる。
A method in which a substituted or unsubstituted diphenyl sulfoxide compound represented by the formula (wherein R 1 to R 10 have the same meanings as described above) utilizing a known sulfonium salt formation reaction (hereinafter referred to as method (1)) ), (2) pre-synthesizing the corresponding substituted and unsubstituted sulfonium salts, then
It can be synthesized by any of the methods of converting and introducing a substituent (hereinafter referred to as method (2)). First, the method (1) will be described in detail. The diphenyl sulfide compound represented by the formula (5) and the substituted or unsubstituted diphenyl sulfoxide compound represented by the formula (4) are replaced by 1 equivalent of the former terminal sulfide group. On the other hand, it is preferably in the range of 0.25 to 1.2 mol, more preferably 1.0 to 1.1 mol, in a known method, for example, a dehydrating agent (for example, phosphorus pentoxide, concentrated sulfuric acid, acetic anhydride, etc.). In a room temperature to 150 ° C., and then the reaction liquids are represented by the formula (3 ′) B-MQ m -(— OH) L (3 ′) (wherein B is an alkali metal, M, Q, m , L has the same meaning as described above.). Examples of the compound represented by the formula (5) include the following compounds.

【0047】[0047]

【化32】 [Chemical 32]

【0048】式(4)で表される化合物としては、例え
ば、ジフェニルスルホキシド、4,4′−ジフルオロジ
フェニルスルホキシド、2,2′−ジフルオロジフェニ
ルスルホキシド、3,3′−ジフルオロジフェニルスル
ホキシド、4,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシ
ド、4,4′−ジブロムジフェニルスルホキシド、4,
4′−ジクロロジフェニルスルホキシド、2,2′−ジ
クロロジフェニルスルホキシド、2,2′,4,4′−
テトラクロロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジメ
チルジフェニルスルホキシド、4,4′−ジエチルジフ
ェニルスルホキシド、4,4′−ジメトキシジフェニル
スルホキシド、4−メチルチオジフェニルスルホキシ
ド、4−フェニルチオジフェニルスルホキシド、4−フ
ェニルカルボニルジフェニルスルホキシド、4−ベンジ
ルオキシジフェニルスルホキシド、2−ニトロジフェニ
ルスルホキシド、4−フェニルジフェニルスルホキシ
ド、4−(p−ノニルフェニル)ジフェニルスルホキシ
ド、4−フェニルオキシジフェニルスルホキシド等があ
げられる。
Examples of the compound represented by the formula (4) include diphenyl sulfoxide, 4,4'-difluorodiphenyl sulfoxide, 2,2'-difluorodiphenyl sulfoxide, 3,3'-difluorodiphenyl sulfoxide and 4,2. ′ -Difluorodiphenyl sulfoxide, 4,4′-dibromodiphenyl sulfoxide, 4,
4'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2,2'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2,2 ', 4,4'-
Tetrachlorodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dimethyldiphenyl sulfoxide, 4,4'-diethyldiphenyl sulfoxide, 4,4'-dimethoxydiphenyl sulfoxide, 4-methylthiodiphenyl sulfoxide, 4-phenylthiodiphenyl sulfoxide, 4-phenylcarbonyldiphenyl Examples thereof include sulfoxide, 4-benzyloxydiphenyl sulfoxide, 2-nitrodiphenyl sulfoxide, 4-phenyldiphenyl sulfoxide, 4- (p-nonylphenyl) diphenyl sulfoxide and 4-phenyloxydiphenyl sulfoxide.

【0049】上記式(3′)においてAとしては例えば
Na、K等のアルカリ金属があげられる。式(3′)で
表される化合物としては、例えば、NaSbF6 、Na
PF6 、NaAsF6 、NaBF4 、NaSbF5
H、KSbF6 、KPF6 、KAsF6 、KSbF5
H等があげられる。
In the above formula (3 '), examples of A include alkali metals such as Na and K. Examples of the compound represented by the formula (3 ′) include NaSbF 6 and Na.
PF 6 , NaAsF 6 , NaBF 4 , NaSbF 5 O
H, KSbF 6 , KPF 6 , KAsF 6 , KSbF 5 O
H and the like.

【0050】上記式(5)で表される化合物は芳香族カ
ルボン酸化合物とジフェニルスルフィドを反応させるこ
とにより得ることができる。反応溶媒としてアルキルス
ルホン酸(例えば、メタンスルホン酸等)に無水リン酸
を溶解させたものを用いるのが好ましく、反応温度は、
常温〜130℃が好ましい。反応時間は0.5〜15時
間が好ましい。前記芳香族カルボン酸化合物とジフェニ
ルスルフィドの使用割合は、芳香族カルボン酸化合物中
のカルボン酸1当量に対して、ジフェニルスルフィドを
約1モル比で反応させるのが好ましい。
The compound represented by the above formula (5) can be obtained by reacting an aromatic carboxylic acid compound with diphenyl sulfide. As the reaction solvent, it is preferable to use one obtained by dissolving phosphoric anhydride in alkylsulfonic acid (for example, methanesulfonic acid etc.), and the reaction temperature is
Room temperature to 130 ° C is preferable. The reaction time is preferably 0.5 to 15 hours. Regarding the use ratio of the aromatic carboxylic acid compound and diphenyl sulfide, it is preferable to react diphenyl sulfide at a molar ratio of about 1 mol with respect to 1 equivalent of the carboxylic acid in the aromatic carboxylic acid compound.

【0051】芳香族カルボン酸化合物としては、例えば
安息香酸、o−メチル−安息香酸、m−メチル−安息香
酸、p−メチル−安息香酸、3,5−ジメチル−安息香
酸、p−エチル−安息香酸、p−ブチル−安息香酸、o
−メチルカルボニルオキシ安息香酸、p−メチルオキシ
カルボニル安息香酸、o−クロル安息香酸、m−クロル
安息香酸、p−クロル安息香酸、2,4−ジクロル安息
香酸、o−フルオロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、
2,4−ジフルオロ安息香酸、p−メトキシ安息香酸、
o−ベンゾイル安息香酸、p−フェニル安息香酸、ナフ
タリン−2−カルボン酸、p−フェニルチオ安息香酸、
o−シアノ安息香酸、p−シアノ安息香酸、p−メチル
チオ安息香酸、等の芳香族モノカルボン酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、ベンゼン−1,2,4−トリカルボ
ン酸、ナフタリン−1,4,5,8−テトラカルボン
酸、ナフタリン−2,6−ジカルボン酸、ナフタリン−
2,3−ジカルボン酸、
Examples of the aromatic carboxylic acid compound include benzoic acid, o-methyl-benzoic acid, m-methyl-benzoic acid, p-methyl-benzoic acid, 3,5-dimethyl-benzoic acid and p-ethyl-benzoic acid. Acid, p-butyl-benzoic acid, o
-Methylcarbonyloxybenzoic acid, p-methyloxycarbonylbenzoic acid, o-chlorobenzoic acid, m-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, 2,4-dichlorobenzoic acid, o-fluorobenzoic acid, m-fluoro benzoic acid,
2,4-difluorobenzoic acid, p-methoxybenzoic acid,
o-benzoylbenzoic acid, p-phenylbenzoic acid, naphthalene-2-carboxylic acid, p-phenylthiobenzoic acid,
Aromatic monocarboxylic acids such as o-cyanobenzoic acid, p-cyanobenzoic acid and p-methylthiobenzoic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, benzene-1,2,4-tricarboxylic acid, naphthalene-1,4,5 , 8-Tetracarboxylic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, naphthalene-
2,3-dicarboxylic acid,

【0052】[0052]

【化33】 [Chemical 33]

【0053】等の芳香族モノ又はポリカルボン酸類があ
げられる。次に(2)法を具体的に説明する。(2)法
は上記一般式(1)において、式(2)におけるR1
10の少なくとも1つが、アルコキシ基、少なくとも1
個の水酸基を有するC1 〜C25の脂肪族基又は、式 −
O−CH2 (R11)CH−O−で表される基を含むC3
〜C25の脂肪族基である化合物の製造に適している。こ
の方法は(1)法で合成したスルホニウム塩、例えば式
(6)
Aromatic mono- or polycarboxylic acids such as Next, the method (2) will be specifically described. The method (2) is the same as in the general formula (1), where R 1 to
At least one of R 10 is an alkoxy group, at least 1
C 1 -C 25 aliphatic groups having 4 hydroxyl groups, or
C 3 containing a group represented by O—CH 2 (R 11 ) CH—O—
It is suitable for the preparation of compounds which are aliphatic groups -C 25. This method is carried out by using the sulfonium salt synthesized by the method (1), for example, the formula (6)

【0054】[0054]

【化34】 [Chemical 34]

【0055】(式中Aはハロゲン原子、Ar、a、b、
n、Zは前記と同じ意味を表す。)で示される化合物等
のハライド化合物とアルコール類を、公知の方法、例え
ば塩基性化合物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等)の存在下、室温〜150℃で反応させればよ
い。アルコール類としては例えば、メタノール、エタノ
ール、カルビトール、エチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、1,4−ブタンジオール、シク
ロヘキサンジオール、モノヒドロキシエチルチオール等
があげられる。この(2)法により、前記ハライド化合
物のハライド部が、例えば−OCH3、−OC2 5
−(OCH2 CH2 )2−OCH3 、−OCH2 CH2
OH、−(OCH2 CH2)3 −OH、−OCH2 CH
(CH3)−OH、−SCH2 CH 2 OH、−OCH2
CH(OH)−CH2 −OH、
(In the formula, A is a halogen atom, Ar, a, b,
n and Z have the same meanings as described above. ) Compounds etc.
Of halide compounds and alcohols of
Basic compounds (e.g. sodium hydroxide,
Reaction at room temperature to 150 ° C in the presence of
Yes. Examples of alcohols include methanol and ethanol.
, Carbitol, ethylene glycol, polyethylene
Glycol, propylene glycol, glycerin, g
Limethylolpropane, 1,4-butanediol, shik
Rohexanediol, monohydroxyethylthiol, etc.
Can be given. According to the method (2), the halide compound is
The halide part of the product is, for example, -OCH3, -OC2HFive,
-(OCH2CH2)2-OCH3, -OCH2CH2
OH,-(OCH2CH2)3 -OH, -OCH2CH
(CH3) -OH, -SCH2CH 2OH, -OCH2
CH (OH) -CH2-OH,

【0056】[0056]

【化35】 [Chemical 35]

【0057】、−O−CH2 CH2 CH2 CH2 −OH
等の置換基に変換されたオニウム塩を得ることができ
る。又、(2)法によって得られた置換基が水酸基を有
する置換基に変換された化合物をさらにその水酸基にラ
クトン類(例えば、ε−カプロラクトン等)や、酸類
(例えば、酢酸、無水酢酸等)を公知の方法で反応させ
たオニウム塩も本発明に含まれる。
, -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -OH
It is possible to obtain an onium salt converted into a substituent such as. Further, the compound obtained by the method (2) in which the substituent is converted to a substituent having a hydroxyl group further has a lactone group (eg, ε-caprolactone) or an acid group (eg, acetic acid, acetic anhydride, etc.) in the hydroxyl group. The present invention also includes an onium salt obtained by reacting with a known method.

【0058】次に本発明のエネルギー線硬化性組成物に
ついて説明する。この組成物に用いられるカチオン重合
性物質としては、例えばエポキシ系化合物、スチレン、
ビニルエーテル等のカチオン重合性ビニルエーテル系化
合物、更には環状エーテル系化合物(好ましくはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのようなスピロ環状エーテル系化合物)
が挙げられる。エポキシ系化合物としては、従来、公知
の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エ
ポキシ樹脂、更にはエポキシド単量体、エピサルファイ
ド単量体類が挙げられる。
Next, the energy ray-curable composition of the present invention will be described. Examples of the cationically polymerizable substance used in this composition include epoxy compounds, styrene,
Cationically polymerizable vinyl ether compounds such as vinyl ether, and further cyclic ether compounds (preferably spiro cyclic ether compounds such as spiro orthoester, bicyclo orthoester, spiro orthocarbonate)
Is mentioned. Examples of the epoxy compounds include conventionally known aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, and further epoxide monomers and episulfide monomers.

【0059】ここで、芳香族エポキシ樹脂を例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。
Examples of aromatic epoxy resins include polyglycidyl ethers of polyhydric phenols having at least one aromatic nucleus or alkylene oxide adducts thereof, such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S. Glycidyl ethers produced by the reaction of a bisphenol compound such as bisphenol compound or an alkylene oxide (for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adduct with epichlorohydrin,
Examples thereof include novolac type epoxy resins (for example, phenol / novolac type epoxy resin, cresol / novolac type epoxy resin, brominated phenol / novolac type epoxy resin, etc.) and trisphenolmethane triglycidyl ether.

【0060】また、脂環式エポキシ樹脂として、具体的
な例としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル
−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジ
ペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,
5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メ
タ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチ
ル)エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点71℃)等が挙
げられる。
Specific examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate,
Bis- (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,
5-Spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin, softening point 71 ° C.) Etc.

【0061】更に脂肪族エポキシ樹脂の例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表例とし
ては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテ
ル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレン
グリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコ
ールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(例
えばエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等)を
付加することにより得られるポリエーテルポリオールの
ポリグリシジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド
単量体類の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグ
リシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフ
ェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加す
ることにより得られるポリエーテルアルコールのモノグ
リシジルエーテル等が挙げられる。カチオン重合性ビニ
ルエーテル系化合物としては、例えば、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコール
ジビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロ
ールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニ
ルエーテル、
Further, examples of the aliphatic epoxy resin include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and representative examples thereof include diglycidyl ethers of 1,4-butanediol, 1, 6-Hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol, propylene glycol, aliphatic polyvalents such as glycerin Polyglycidyl ether of polyether polyol obtained by adding one or more kinds of alkylene oxides (for example, ethylene oxide, propylene oxide, etc.) to alcohol And the like. Further, examples of the epoxide monomers include monoglycidyl ether of aliphatic higher alcohol, phenol, cresol, butylphenol, and monoglycidyl ether of polyether alcohol obtained by adding alkylene oxide to these. Examples of cationically polymerizable vinyl ether compounds include triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether,

【0062】[0062]

【化36】 [Chemical 36]

【0063】及びウレタンポリビニルエーテル(例え
ば、ALLIED−SIGNAL社製、VECtome
r 2010)等が挙げられる。これらカチオン重合性
物質は、単独又は2種以上の混合物として使用される。
And urethane polyvinyl ether (for example, VECtome manufactured by ALLIED-SIGNAL)
r 2010) and the like. These cationically polymerizable substances are used alone or as a mixture of two or more.

【0064】本発明の硬化性組成物は、100重量部の
カチオン重合性物質に対して0.01〜20重量部、よ
り好ましくは0.1〜10重量部の前記の式(1)で示
されるオニウム塩を有効成分とする光重合開始剤を必須
の成分とするが、具体的な使用割合は、カチオン重合性
物質の性質やエネルギー線の種類、照射量、所望の硬化
時間、温度、湿度、塗膜厚などさまざまな要因を考慮す
ることによって決定される。カチオン重合性物質への光
重合開始剤の溶解を容易にするため、あらかじめ光重合
開始剤を溶剤類(例えば、プロピレンカーボネート、カ
ルビトール、カルビトールアセテート、γブチロラクト
ン等)に溶解し使用することができる。本発明の硬化性
組成物は、カチオン重合性物質及び光重合開始剤を混
合、溶解あるいは混練等の方法により、混合することに
より調製することができる。
The curable composition of the present invention is represented by the above formula (1) in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable substance. A photopolymerization initiator containing an onium salt as an active ingredient is an essential component, but the specific usage ratio is the nature of the cationically polymerizable substance, the type of energy rays, the irradiation dose, the desired curing time, the temperature and the humidity. It is determined by considering various factors such as coating thickness. In order to facilitate the dissolution of the photopolymerization initiator in the cationically polymerizable substance, the photopolymerization initiator may be used by dissolving it in a solvent (eg, propylene carbonate, carbitol, carbitol acetate, γ-butyrolactone) in advance. it can. The curable composition of the present invention can be prepared by mixing the cationically polymerizable substance and the photopolymerization initiator by a method such as mixing, dissolving or kneading.

【0065】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、光重合開始剤の分
解を誘発するエネルギーを有する限りいかなるものでも
よいが、好ましくは高、低圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、殺菌灯、レーザー光などから得られる2000オン
グストローム〜7000オングストロームの波長を有す
る電磁波エネルギー線や電子線、X線、放射線等の電磁
波エネルギー線(高エネルギー線)を使用するが、紫外
線が好ましい。エネルギー線への暴露は、エネルギー線
の強度によるが、通常は0.1秒〜10秒程度で十分で
ある。しかし比較的厚い塗装物についてはそれ以上の時
間をかけるのが好ましい。エネルギー線照射後0.1秒
〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重合により
指触乾燥するが、カチオン重合反応を促進するために、
場合によっては加熱することも好ましい。
The curable composition of the present invention can be cured to a touch-free state or a solvent-insoluble state after 0.1 seconds to a few minutes by irradiating with energy rays such as ultraviolet rays. Any suitable energy ray may be used as long as it has energy that induces decomposition of the photopolymerization initiator, but it is preferably 2000 angstroms to 7,000 obtained from a high or low pressure mercury lamp, a xenon lamp, a germicidal lamp, a laser beam or the like. An electromagnetic wave energy ray having a wavelength of angstrom or an electromagnetic wave energy ray (high energy ray) such as an electron beam, an X-ray or a radiation is used, and an ultraviolet ray is preferable. The exposure to the energy rays depends on the intensity of the energy rays, but usually about 0.1 to 10 seconds is sufficient. However, it is preferable to spend more time on a relatively thick coated object. After 0.1 seconds to several minutes after irradiation with energy rays, most compositions dry by touch due to cationic polymerization, but in order to accelerate the cationic polymerization reaction,
It is also preferable to heat in some cases.

【0066】本発明の組成物には、さらにカチオン重合
を損わない範囲で希釈のための溶剤や、改質のための非
反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エステル化合物(例
えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アク
リレート等のオリゴマーや、2−ヒドロキシ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メシ)アク
リレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等
のモノマー等)を配合することができる。(メタ)アク
リル酸エステル化合物を使用する場合には、光ラジカル
重合開始剤(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、アセトフェノンジメチルケタール、ベン
ゾイルメチルエーテル等)も併用するのが好ましい。ま
た例えば、電気特性を改良する目的などのため有機カル
ボン酸や酸無水物を使用したり、あるいはゴム弾性をも
たせるなどの目的でポリオールその他の可とう性プレポ
リマーを混合することができる。
The composition of the present invention further comprises a solvent for dilution, a non-reactive resin for modification and a (meth) acrylic acid ester compound (for example, bisphenol A) within a range not impairing the cationic polymerization. -Type epoxy resin, novolac-type epoxy resin, and other oligomers such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester poly (meth) acrylate, which are reaction products of (meth) acrylic acid, and 2-hydroxy ( Monomers such as (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (mesi) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc. It can be blended. When the (meth) acrylic acid ester compound is used, it is preferable to also use a photoradical polymerization initiator (for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone dimethyl ketal, benzoyl methyl ether, etc.). Further, for example, an organic carboxylic acid or an acid anhydride may be used for the purpose of improving electric properties, or a polyol or other flexible prepolymer may be mixed for the purpose of imparting rubber elasticity.

【0067】本発明の組成物は、主に物品の表面に、例
えば1μm〜200μm、好ましくは3μm〜50μm
の厚さで塗布されるもので、通常透明な液状として使用
されるが、用途によっては不活性な顔料、染料、充填
剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動調整剤、増感
剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いられる。本発明
の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチック、ガラス、
セラミック製品等に使用することができる。さらに本発
明の具体的な用途としては、塗料、コーティング剤、イ
ンキ、レジスト、液状レジスト、インキ、接着剤、成形
材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤等
が挙げられる。
The composition of the present invention is mainly used on the surface of an article, for example, 1 μm to 200 μm, preferably 3 μm to 50 μm.
It is usually applied as a transparent liquid, but depending on the application, it may be an inert pigment, dye, filler, antistatic agent, flame retardant, antifoaming agent, flow control agent, thickener, Used as a mixture of a sensitizer, an accelerator, a light stabilizer and the like. The composition of the present invention includes metal, wood, rubber, plastic, glass,
It can be used for ceramic products. Further, specific applications of the present invention include paints, coating agents, inks, resists, liquid resists, inks, adhesives, molding materials, casting materials, putties, glass fiber impregnating agents, and sealing agents.

【0068】[0068]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお合成例及び実施例中の部は重量部である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. The parts in the synthesis examples and examples are parts by weight.

【0069】(式(5)で表されるジフェニルスルフィ
ド系化合物の合成例) 合成例1 (式(i)の化合物の合成) メタンスルホン酸161.7部、五酸化リン16.2部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及び安息香酸12.2部を仕込み、80℃で1時間反
応を行い、液体クロマトグラフィーにて反応が終了して
いることを確認し、この反応混合物を水酸化カリウム水
溶液1000部(水800部に水酸化カリウム200部
を溶解させたもの。)に滴下し、沈殿物をろ別、乾燥
し、次いでこれをエタノール400部に加熱(60℃)
溶解し、5℃まで冷却後、析出物をろ別、乾燥し、白色
の固体(i)を20.3部得た。生成物の融点は69〜
70℃であった。
(Synthesis Example of the Diphenyl Sulfide Compound Represented by Formula (5)) Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound of Formula (i)) 161.7 parts of methanesulfonic acid and 16.2 parts of phosphorus pentoxide are completely added. And diphenyl sulfide 18.6
And 12.2 parts of benzoic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 1 hour, and the completion of the reaction was confirmed by liquid chromatography. The reaction mixture was mixed with 1000 parts of an aqueous potassium hydroxide solution (800 parts of water). (200 parts of potassium hydroxide dissolved therein) was added dropwise, the precipitate was filtered off and dried, then this was heated to 400 parts of ethanol (60 ° C).
After dissolution and cooling to 5 ° C., the precipitate was filtered off and dried to obtain 20.3 parts of a white solid (i). The melting point of the product is 69-
It was 70 ° C.

【0070】合成例2 (式(ii)の化合物の合成) メタンスルホン酸180.3部、五酸化リン18.3部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びp−メチル安息香酸13.6部を仕込み80℃で
1時間反応を行ない液体クロマトグラフィーにて反応が
終了していることを確認し、この反応混合物を合成例1
と同様に処理を行ない白色の固体(ii)を20.2部得
た。生成物の融点は117〜118℃であった。
Synthesis Example 2 (Synthesis of Compound of Formula (ii)) 180.3 parts of methanesulfonic acid and 18.3 parts of phosphorus pentoxide were completely dissolved, and diphenyl sulfide 18.6 was dissolved therein.
And 13.6 parts of p-methylbenzoic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 1 hour, and it was confirmed by liquid chromatography that the reaction was completed.
The same treatment as in (2) was performed to obtain 20.2 parts of a white solid (ii). The melting point of the product was 117-118 ° C.

【0071】合成例3 (式(iii )の化合物の合
成) メタンスルホン酸208.2部、五酸化リン20.8部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びp−クロロ安息香酸15.7部を仕込み80℃で
1時間反応を行い液体クロマトグラフィーにて反応が終
了していることを確認し、この反応混合物を合成例1と
同様に処理を行い白色の固体(iii )を21.6部得
た。生成物の融点は134〜135℃であった。
Synthesis Example 3 (Synthesis of Compound of Formula (iii)) 208.2 parts of methanesulfonic acid and 20.8 parts of phosphorus pentoxide were completely dissolved, and diphenyl sulfide 18.6 was dissolved therein.
And 15.7 parts of p-chlorobenzoic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 1 hour, and it was confirmed by liquid chromatography that the reaction was completed. The reaction mixture was treated in the same manner as in Synthesis Example 1. 21.6 parts of white solid (iii) was obtained. The melting point of the product was 134-135 ° C.

【0072】合成例4 (式(iv)の化合物の合成) メタンスルホン酸238.6部、五酸化リン23.9部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びp−メチルオキシカルボニル安息香酸18.0部
を仕込み、80℃で1時間反応を行い液体クロマトグラ
フィーにて反応が終了していることを確認し、この反応
混合物を合成例1と同様に処理を行い白色の固体(iv)
を21.6部得た。生成物の融点は145〜148℃で
あった。
Synthesis Example 4 (Synthesis of Compound of Formula (iv)) 238.6 parts of methanesulfonic acid and 23.9 parts of phosphorus pentoxide were completely dissolved, and diphenyl sulfide 18.6 was dissolved therein.
And 18.0 parts of p-methyloxycarbonylbenzoic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 1 hour, and it was confirmed by liquid chromatography that the reaction was completed. This reaction mixture was treated in the same manner as in Synthesis Example 1. Treated as a white solid (iv)
21.6 parts were obtained. The melting point of the product was 145-148 ° C.

【0073】合成例5 (式(v)の化合物の合成) メタンスルホン酸220.1部、五酸化リン22.0部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド37.2
部及びイソフタル酸16.6部を仕込み、80℃で6時
間反応を行い、液体クロマトグラフィーにて反応が終了
していることを確認し、この反応混合物を合成例1と同
様に処理を行い白色の固体(v)を35.2部得た。生
成物の融点は147〜152℃であった。
Synthesis Example 5 (Synthesis of Compound of Formula (v)) 220.1 parts of methanesulfonic acid and 22.0 parts of phosphorus pentoxide were completely dissolved, and diphenyl sulfide 37.2 was dissolved therein.
And 16.6 parts of isophthalic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 6 hours, and it was confirmed by liquid chromatography that the reaction was completed. The reaction mixture was treated in the same manner as in Synthesis Example 1 and white. 35.2 parts of solid (v) was obtained. The melting point of the product was 147-152 ° C.

【0074】合成例6 (式(vi)の化合物の合成) メタンスルホン酸286.4部、五酸化リン28.6部
を完全に溶解し、これにジフェニルスルフィド、37.
2部、ナフタリン−2,6−ジカルボン酸21.6部を
仕込み、80℃で6時間反応を行い液体クロマトグラフ
ィーにて反応が終了していることを確認し、この反応混
合物を合成例1と同様に処理を行い白色の固体(vi)を
37.0部得た。生成物の融点は195〜200℃であ
った。
Synthesis Example 6 (Synthesis of Compound of Formula (vi)) 286.4 parts of methanesulfonic acid and 28.6 parts of phosphorus pentoxide were completely dissolved, and diphenyl sulfide, 37.
2 parts and 21.6 parts of naphthalene-2,6-dicarboxylic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for 6 hours, and it was confirmed by liquid chromatography that the reaction was completed. The same treatment was performed to obtain 37.0 parts of a white solid (vi). The melting point of the product was 195 to 200 ° C.

【0075】(式(1)で示されるオニウム塩の合成実
施例) 実施例1 (化合物(a)の合成) 合成例1で得た化合物(4−ベンゾイル−ジフェニルス
ルフィド)29.0部、4,4′−ジフルオロジフェニ
ルスルホキシド23.9部、五酸化リン39.8部及び
溶媒としてメタンスルホン酸398部を仕込み、80℃
に加熱し、攪拌しながら3時間反応を行い、次いで、こ
の反応混合物を攪拌しながら、5℃のNaPF6 の水溶
液280.0部(水263.2部にNaPF6 16.8
部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した白色
の固体をろ過、乾燥し、次いでイソプロパノール650
部に加熱(70℃)溶解し、0℃まで冷却し、次いでろ
別、乾燥後、白色の固体(化合物(a))を46.0部
得た。生成物の融点は131〜139℃であり、元素分
析の結果は計算値にほぼ一致した。
(Synthesis Example of Onium Salt Represented by Formula (1)) Example 1 (Synthesis of Compound (a)) 29.0 parts of the compound (4-benzoyl-diphenylsulfide) obtained in Synthesis Example 1 , 4'-Difluorodiphenyl sulfoxide (23.9 parts), phosphorus pentoxide (39.8 parts) and methanesulfonic acid (398 parts) as a solvent were charged at 80 ° C.
The mixture was heated to room temperature and stirred for 3 hours, and then the reaction mixture was stirred while 280.0 parts of an aqueous solution of NaPF 6 at 5 ° C. (263.2 parts of water to 16.8 parts of NaPF 6).
Part that is melted. ) Little by little, the precipitated white solid was filtered and dried, and then isopropanol 650 was added.
After heating (70 ° C.), the mixture was cooled to 0 ° C., filtered, and dried to obtain 46.0 parts of a white solid (compound (a)). The melting point of the product was 131 to 139 ° C., and the result of elemental analysis almost agreed with the calculated value.

【0076】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 56.72 56.71 水素 3.24 3.22 イオウ 9.79 9.77 リン 4.75 4.72 フッ素 23.17 23.15 Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 56.72 56.71 Hydrogen 3.24 3.22 Sulfur 9.79 9.77 Phosphorus 4.75 4.72 Fluorine 23.17 23. 15

【0077】実施例2 (化合物(b)の合成) 合成例2で得た化合物(4−(p−メチルベンゾイル)
−ジフェニルスルフィド)30.4部、ジフェニルスル
ホキシド20.2部、濃硫酸179.8部を仕込み、室
温で24時間反応を行ない、次いでこの反応混合物を攪
拌しながら、5℃のNaSbF6 の水溶液431.1部
(水405.3部にNaSbF6 を25.8部を溶解し
たもの。)に少しずつ滴下し、析出した白色の固体をろ
過、乾燥し、次いでイソプロパノール650部に加熱
(70℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ別、乾燥後、白
色の固体(化合物(b))を50.8部得た。生成物の
融点は110〜118℃であり、元素分析の結果は、計
算値にほぼ一致した。
Example 2 (Synthesis of Compound (b)) Compound (4- (p-methylbenzoyl) obtained in Synthesis Example 2
-Diphenyl sulfide) (30.4 parts), diphenyl sulfoxide (20.2 parts) and concentrated sulfuric acid (179.8 parts) were charged and the reaction was carried out at room temperature for 24 hours. Then, while stirring the reaction mixture, an aqueous solution of NaSbF 6 431 at 5 ° C was added. 0.1 part (25.8 parts of NaSbF 6 dissolved in 405.3 parts of water) was added dropwise little by little, the white solid deposited was filtered and dried, and then heated to 650 parts of isopropanol (70 ° C.). After dissolution, cooling to 0 ° C., filtration and drying, 50.8 parts of a white solid (compound (b)) was obtained. The melting point of the product was 110 to 118 ° C., and the result of elemental analysis almost agreed with the calculated value.

【0078】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.98 52.99 水素 3.48 3.47 イオウ 8.85 8.84 アンチモン 16.80 16.78 フッ素 15.73 15.71 Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 52.98 52.99 Hydrogen 3.48 3.47 Sulfur 8.85 8.84 Antimony 16.80 16.78 Fluorine 15.73 15. 71

【0079】実施例3 (化合物(c)の合成) 合成例3で得た化合物(4−(p−クロロベンゾイル)
−ジフェニルスルフィド)32.5部、4,4′−ジブ
ロム・ジフェニルスルホキシド36部、濃硫酸240.
6部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの
反応混合物を攪拌しながら、5℃のNaSbF6 の水溶
液431.1部(水405.3部にNaSbF6 を2
5.8部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出し
た白色の固体をろ過、乾燥し、次いでイソプロパノール
650部に加熱(70℃)溶解し、0℃まで冷却しろ別
し、乾燥後、白色の固体(化合物(c))を63.3部
得た。生成物の融点は125〜129℃であり、元素分
析の結果は、計算値にほぼ一致した。
Example 3 (Synthesis of Compound (c)) Compound (4- (p-chlorobenzoyl) obtained in Synthesis Example 3
-Diphenyl sulfide) 32.5 parts, 4,4'-dibromodiphenyl sulfoxide 36 parts, concentrated sulfuric acid 240.
6 parts were charged and the reaction was carried out at room temperature for 24 hours. Then, while stirring the reaction mixture, 431.1 parts of an aqueous solution of NaSbF 6 at 5 ° C. (25.3 parts of NaSbF 6 in 405.3 parts of water) was stirred.
What melted 5.8 parts. ), And the precipitated white solid is filtered and dried, then dissolved in 650 parts of isopropanol by heating (70 ° C.), cooled to 0 ° C., filtered and separated, and dried to give a white solid (compound (c)). ) Was obtained. The melting point of the product was 125 to 129 ° C., and the result of elemental analysis almost agreed with the calculated value.

【0080】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 41.22 41.21 水素 2.24 2.23 イオウ 7.10 7.10 塩素 3.93 3.92 臭素 17.72 17.69 アンチモン 13.49 13.47 フッ素 12.65 12.62Element Measured value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 41.22 41.21 Hydrogen 2.24 2.23 Sulfur 7.10 7.10 Chlorine 3.93 3.92 Bromine 17.72 17. 69 Antimony 13.49 13.47 Fluorine 12.65 12.62

【0081】実施例4 (化合物(d)の合成) 合成例4で得た化合物34.8部、ジフェニルスルホキ
シド20.2部、濃硫酸173.1部を仕込み、室温で
24時間反応を行い、次いでこの反応混合物を攪拌しな
がら、0℃のNaSbF6 の水溶液431.1部(水4
05.3部にNaSbF6 を26.8部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、析出した白色の固体をろ過、
乾燥し、次いでイソプロパノール650部に加熱(70
℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ別、乾燥後、白色のワ
ックス状の生成物(化合物(d))を53.9部得た。
元素分析の結果は、計算値にほぼ一致した。
Example 4 (Synthesis of Compound (d)) 34.8 parts of the compound obtained in Synthesis Example 4, 20.2 parts of diphenyl sulfoxide, and 173.1 parts of concentrated sulfuric acid were charged, and the reaction was carried out at room temperature for 24 hours. Then, while stirring the reaction mixture, 431.1 parts of an aqueous solution of NaSbF 6 at 0 ° C. (water 4
A solution obtained by dissolving 26.8 parts of NaSbF 6 in 05.3 parts. ) Little by little, and the precipitated white solid is filtered,
Dry and then heat to 650 parts isopropanol (70
(° C), melted, cooled to 0 ° C, filtered and dried to obtain 53.9 parts of a white wax-like product (compound (d)).
The elemental analysis results were in good agreement with the calculated values.

【0082】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 51.54 51.52 水素 3.30 3.28 イオウ 8.35 8.33 アンチモン 15.83 15.82 フッ素 14.84 14.82 Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 51.54 51.52 Hydrogen 3.30 3.28 Sulfur 8.35 8.33 Antimony 15.83 15.82 Fluorine 14.84 14. 82

【0083】実施例5 (化合物(e)の合成) 合成例5で得た化合物50.3部、ジフェニルスルホキ
シド40.4部、濃硫酸208.1部を仕込み、室温で
24時間反応を行い、次いでこの反応混合物を攪拌しな
がら、室温のNaSbF6 水溶液862.3部(水81
0.6部にNaSbF6 を51.7部を溶解したも
の。)に少しずつ滴下し、析出した白色の固体をろ過、
乾燥し、次いでイソプロパノール650部に加熱(70
℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ別、乾燥後、白色の固
体(化合物(e))を94.1部得た。生成物の融点は
152〜162℃であり、元素分析の結果は、計算値に
ほぼ一致した。
Example 5 (Synthesis of Compound (e)) 50.3 parts of the compound obtained in Synthesis Example 5, 40.4 parts of diphenyl sulfoxide and 208.1 parts of concentrated sulfuric acid were charged and the reaction was carried out at room temperature for 24 hours. Then, while stirring the reaction mixture, 862.3 parts of an aqueous NaSbF 6 solution at room temperature (water 81
51.7 parts of NaSbF 6 dissolved in 0.6 parts. ) Little by little, and the precipitated white solid is filtered,
Dry and then heat to 650 parts isopropanol (70
(° C), dissolved, cooled to 0 ° C, filtered and dried to obtain 94.1 parts of a white solid (compound (e)). The melting point of the product was 152 to 162 ° C., and the result of elemental analysis was in good agreement with the calculated value.

【0084】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 50.05 50.03 水素 3.02 3.00 イオウ 9.57 9.54 アンチモン 18.11 18.10 フッ素 16.99 16.96 Element Measured value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 50.05 50.03 Hydrogen 3.02 3.00 Sulfur 9.57 9.54 Antimony 18.11 18.10 Fluorine 16.99 16. 96

【0085】実施例6 (化合物(f)の合成) 合成例6で得た化合物55.3部、4,4′−ジメチル
ジフェニルスルホキシド46.1部、濃硫酸233.4
部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの反
応混合物を攪拌しながら、室温のNaSbF6 の水溶液
862.3部(水810.6部にNaSbF6 を51.
7部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した白
色の固体をろ過、乾燥し、次いでイソプロパノール65
0部で加熱(70℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ別、
乾燥後、白色の固体(化合物(f))を96.5部得
た。生成物の融点は201〜205℃であり、元素分析
の結果は、計算値にほぼ一致した。
Example 6 (Synthesis of Compound (f)) 55.3 parts of the compound obtained in Synthesis Example 6, 46.1 parts of 4,4'-dimethyldiphenyl sulfoxide, concentrated sulfuric acid 233.4.
The reaction mixture was stirred at room temperature for 24 hours, and then 862.3 parts of an aqueous solution of NaSbF 6 at room temperature (510.6 parts of NaSbF 6 was added to 810.6 parts of water) while stirring the reaction mixture.
What melted 7 parts. ) Little by little, the precipitated white solid is filtered and dried, and then isopropanol 65 is added.
Dissolve by heating (70 ° C) with 0 part, cool to 0 ° C, filter,
After drying, 96.5 parts of a white solid (compound (f)) was obtained. The melting point of the product was 201 to 205 ° C., and the result of elemental analysis almost agreed with the calculated value.

【0086】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.23 52.20 水素 3.55 3.53 イオウ 8.98 8.97 アンチモン 17.09 17.06 フッ素 15.99 15.98Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 52.23 52.20 Hydrogen 3.55 3.53 Sulfur 8.98 8.97 Antimony 17.09 17.06 Fluorine 15.99 15. 98

【0087】実施例7 (化合物(g)の合成) 合成例5で得た化合物50.3部、4,4′−ジフルオ
ロジフェニルスルホキシド47.6部、濃硫酸225.
4部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの
反応混合物を攪拌しながら、室温のNaSbF6 水溶液
862.3部水810.6部にNaSbF6 を51.7
部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した白色
の固体をろ過し、乾燥し、次いでイソプロパノール65
0部に加熱し(70℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ過
し、乾燥し、白色の固体(化合物(g))を94.1部
得た。生成物の融点は163〜172℃であり、元素分
析の結果は計算値とほぼ一致した。
Example 7 (Synthesis of Compound (g)) 50.3 parts of the compound obtained in Synthesis Example 5, 47.6 parts of 4,4′-difluorodiphenyl sulfoxide, concentrated sulfuric acid 225.
4 parts were charged, the reaction was carried out at room temperature for 24 hours, and then the reaction mixture was stirred, while the NaSbF 6 aqueous solution at room temperature was 862.3 parts. Water 810.6 parts was NaSbF 6 51.7.
Part that is melted. ), The white solid that has precipitated is filtered off, dried and then isopropanol 65 is added.
It was heated to 0 part (70 ° C.) and dissolved, cooled to 0 ° C., filtered, and dried to obtain 94.1 parts of a white solid (compound (g)). The melting point of the product was 163 to 172 ° C., and the result of elemental analysis was in good agreement with the calculated value.

【0088】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 47.51 47.48 水素 2.58 2.56 イオウ 9.07 9.05 アンチモン 17.20 17.18 フッ素 21.49 21.46 Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 47.51 47.48 Hydrogen 2.58 2.56 Sulfur 9.07 9.05 Antimony 17.20 17.18 Fluorine 21.49 21. 46

【0089】実施例8 (化合物(h)の合成) 実施例1で得た化合物32.8部、水酸化ナトリウム
4.0部、1,4−ブタンジオール100部を仕込み、
室温で24時間反応し、その後、水中に注ぎ込み、油状
物を分液し、乾燥して淡黄色液状の生成物(化合物
(h))を41.8部得た。元素分析の結果は計算値に
ほぼ一致した。
Example 8 (Synthesis of compound (h)) 32.8 parts of the compound obtained in Example 1, 4.0 parts of sodium hydroxide and 100 parts of 1,4-butanediol were charged,
After reacting for 24 hours at room temperature, the mixture was poured into water, the oily substance was separated, and dried to obtain 41.8 parts of a pale yellow liquid product (compound (h)). The results of elemental analysis agreed with the calculated values.

【0090】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 52.80 52.78 水素 4.45 4.43 イオウ 7.23 7.22 アンチモン 13.70 13.71 フッ素 12.85 12.84Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 52.80 52.78 Hydrogen 4.45 4.43 Sulfur 7.23 7.22 Antimony 13.70 13.71 Fluorine 12.85 12. 84

【0091】実施例9 (化合物(j)の合成) 実施例7で得た化合物70.8部、水酸化ナトリウム
4.0部、エチレングリコール200部を仕込み、室温
で24時間反応し、その後、水中に注ぎ込み析出した白
色の固体をろ過し、乾燥し常温で固体の生成物を得た。
次いで上記の生成物78.2部、ε−カプロラクトン4
8.5部、塩化第一スズ0.04部を仕込み、120℃
で15時間反応し、ε−カプロラクトンが反応混合物
中、1%以下であることを確認し反応を終了し、液状の
生成物(化合物(j))を126.7部得た。元素分析
の結果は計算値にほぼ一致した。
Example 9 (Synthesis of Compound (j)) 70.8 parts of the compound obtained in Example 7, 4.0 parts of sodium hydroxide and 200 parts of ethylene glycol were charged and reacted at room temperature for 24 hours, and then, The white solid deposited by pouring into water was filtered and dried to obtain a solid product at room temperature.
Then 78.2 parts of the above product, ε-caprolactone 4
Charge 8.5 parts, stannous chloride 0.04 parts, 120 ℃
After reacting for 15 hours, it was confirmed that ε-caprolactone was 1% or less in the reaction mixture, and the reaction was terminated to obtain 126.7 parts of a liquid product (compound (j)). The results of elemental analysis agreed with the calculated values.

【0092】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 53.86 53.84 水素 5.48 5.49 イオウ 5.15 5.13 アンチモン 9.76 9.75 フッ素 9.13 9.13Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 53.86 53.84 Hydrogen 5.48 5.49 Sulfur 5.15 5.13 Antimony 9.76 9.75 Fluorine 9.13 9. Thirteen

【0093】実施例10 (化合物(k)の合成) 合成例5で得た化合物50.3部、4,4′−ジフルオ
ロジフェニルスルホキシド47.6部、濃硫酸225.
4部を仕込み、室温で24時間反応を行い、次いでこの
反応混合物を攪拌しながら、室温のNaPF6 水溶液5
59.8部(水526.6部にNaPF6 を33.6部
を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した白色の
固体をろ過し、乾燥し、次いでイソプロパノール650
部に加熱し(70℃)溶解し、0℃まで冷却し、ろ過
し、乾燥し、白色の固体(化合物(k))を104.9
部得た。生成物の融点は154〜163℃であり、元素
分析の結果は計算値とほぼ一致した。
Example 10 (Synthesis of Compound (k)) 50.3 parts of the compound obtained in Synthesis Example 5, 47.6 parts of 4,4'-difluorodiphenyl sulfoxide, concentrated sulfuric acid 225.
4 parts were charged, the reaction was carried out at room temperature for 24 hours, and then the reaction mixture was stirred at room temperature with an aqueous NaPF 6 solution 5
59.8 parts (33.6 parts of NaPF 6 dissolved in 526.6 parts of water) were added dropwise little by little, and the precipitated white solid was filtered, dried and then isopropanol 650.
Parts to dissolve (70 ° C.), cool to 0 ° C., filter and dry to a white solid (compound (k)) 104.9.
I got a copy. The melting point of the product was 154-163 ° C, and the results of elemental analysis were in good agreement with the calculated values.

【0094】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 54.48 54.46 水素 2.97 2.94 イオウ 10.35 10.38 リン 5.01 5.02 フッ素 24.59 24.61Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 54.48 54.46 Hydrogen 2.97 2.94 Sulfur 10.35 10.38 Phosphorus 5.01 5.02 Fluorine 24.59 24. 61

【0095】(組成物の実施例) 実施例11〜30、比較例1〜6 表1及び2に示す配合組成(数値は重量部である。)に
従ってエネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解し
た。これを、アルミテストパネル上に5μに塗布し高圧
水銀灯(80W/cm)で8cmの距離から紫外線を照
射し、硬化させた。調製された組成物の透明性、保存安
定性、指触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気について試験
した。それらの結果を表1及び2に示す。(試験方法)
(Examples of Compositions) Examples 11 to 30 and Comparative Examples 1 to 6 Energy ray curable compositions were compounded and mixed in accordance with the compounding compositions (numerical values are parts by weight) shown in Tables 1 and 2. Dissolved. This was applied to an aluminum test panel in a thickness of 5 μm and was irradiated with ultraviolet rays from a distance of 8 cm with a high pressure mercury lamp (80 W / cm) to be cured. The prepared composition was tested for transparency, storage stability, dryness to the touch, gloss of cured coating, and odor. The results are shown in Tables 1 and 2. (Test method)

【0096】透明性:組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である △・・・・わずかににごりあり ×・・・・白ダクしている ××・・・・すぐに分離する 保存安定性:組成物を40℃で3ケ月間保存し、安定性
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/c
2 )を測定した。 光沢:指触乾燥するまで紫外線を照射した後、硬化塗膜
の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない 臭気:塗布面に1000mJ/cm2 照射した後、硬化
塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
Transparency: The transparency of the composition was visually evaluated. ○ ・ ・ ・ ・ Completely transparent △ ・ ・ ・ ・ Slightly turbid × ・ ・ ・ ・ White dull XX ・ ・ ・ ・ Immediately separates Storage stability: Composition at 3 ° C at 3 ° C It was stored for 6 months and stability was investigated. ○ ・ ・ ・ ・ No change △ ・ ・ ・ ・ Slightly thickened × ・ ・ ・ ・ Gelled to touch: Dryness to touch (mJ / c)
m 2 ) was measured. Gloss: The surface of the cured coating film was visually evaluated after being irradiated with ultraviolet rays until it was dry to the touch. ○ ・ ・ ・ ・ Gloss is good △ ・ ・ ・ ・ Slightly cloudy × ・ ・ ・ ・ No gloss Odor: After irradiating 1000 mJ / cm 2 on the coated surface, observe the odor on the surface of the cured coating film did. ○ ・ ・ ・ ・ No odor △ ・ ・ ・ ・ Slight odor × ・ ・ ・ ・ Smelling XX ・ ・ ・ ・ Strong odor

【0097】[0097]

【表1】 [Table 1]

【0098】[0098]

【表2】 [Table 2]

【0099】表1及び2の結果から明らかなように、本
発明の光重合開始剤を含有した組成物は、相容性に優
れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好であ
り、硬化塗膜の臭気も小さい。
As is clear from the results of Tables 1 and 2, the composition containing the photopolymerization initiator of the present invention has excellent compatibility, is transparent and has excellent curability, and the cured coating film has good gloss. There is little odor in the cured coating film.

【0100】[0100]

【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相容性に優れ、透明で硬化性に
優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜の臭気も小さ
く、又、金属との密着性の良好な、優れた物性の硬化物
をあたえる。
The energy ray-curable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention has excellent compatibility, is transparent and has excellent curability, has a good gloss of the cured coating film, and has an odor of the cured coating film. It also provides a cured product with excellent physical properties that is small and has good adhesion to metal.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 5/00 PNW Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display area C09D 5/00 PNW

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(1)で示されるオニウム塩 【化1】 (式中Arは1〜4価の芳香族基、Xは置換基を有して
いてもよいビスフェニルスルホニオ基、aは1〜4、b
は0または1〜3、a+bは1〜4、nは1〜4、Zは
式(3) MQm −(−OH)L (3) Mはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子またはアンチモン
原子、Qはハロゲン原子、mは3〜6、Lは0又は1、
m+Lは4〜6である)で示されるハロゲン化物をそれ
ぞれ表す。)
1. An onium salt represented by the following formula (1): (In the formula, Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group, X is a bisphenylsulfonio group which may have a substituent, a is 1 to 4, b
Is 0 or 1 to 3, a + b is 1 to 4, n is 1 to 4, Z is the formula (3) MQ m -(-OH) L (3) M is a boron atom, a phosphorus atom, an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, m is 3 to 6, L is 0 or 1,
m + L is 4 to 6). )
【請求項2】Arが 【化2】 であり(これらの芳香族基は、(C1 〜C5 )アルキル
基、(C1 〜C5 )アルキルオキシカルボニル基、(C
1 〜C5 )アルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル
基、シアノ基、(C1 〜C5 )アルキルチオ基、ハロゲ
ン原子から選択される1つ以上の置換基を有していても
よい。)、置換基を有していてもよいビスフェニルスル
ホニオ基が式(2) 【化3】 (ここでR1 〜R10はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシ基、アルキル基、炭素数C6
〜C18の置換基で置換されてもよいフェニル基、フェノ
キシ基、フェニルカルボニル基、アルキルチオ基、フェ
ニルチオ基、ベンジルオキシ基、少なくとも一個の水酸
基を有するC1 〜C25の脂肪族基、または式−OCH2
CH(R11)O−(ここでR11は水素原子またはアルキ
ル基である。)で表わされるを基を含むC3 〜C25の脂
肪族基である。)で示される基であり、aは1〜4、b
は0または1〜3、a+bは1〜4,nは1〜4、Zは
式(3) MQm −(−OH)L (3) (ここでMはホウ素原子、リン原子、ヒ素原子またはア
ンチモン原子、Qはハロゲン原子、mは3〜6、Lは0
又は1、m+Lは4〜6である)で示されるハロゲン化
物を表す。)である請求項1のオニウム塩
2. Ar is represented by: (These aromatic groups are (C 1 -C 5 ) alkyl groups, (C 1 -C 5 ) alkyloxycarbonyl groups, (C
1 -C 5) alkylcarbonyloxy group, benzoyl group, a cyano group may have one or more substituents selected (C 1 -C 5) alkylthio group, a halogen atom. ), A bisphenylsulfonio group which may have a substituent is represented by the formula (2): (Here, R 1 to R 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, an alkyl group, a carbon number C 6
To C 18 substituents which may be substituted with phenyl group, phenoxy group, phenylcarbonyl group, alkylthio group, phenylthio group, benzyloxy group, C 1 to C 25 aliphatic group having at least one hydroxyl group, or formula -OCH 2
CH (R 11 ) O— (wherein R 11 is a hydrogen atom or an alkyl group) is a C 3 -C 25 aliphatic group. ), A is 1-4, b
Is 0 or 1 to 3, a + b is 1 to 4, n is 1 to 4, Z is a formula (3) MQ m -(-OH) L (3) (where M is a boron atom, a phosphorus atom, an arsenic atom or Antimony atom, Q is a halogen atom, m is 3 to 6, L is 0
Or 1, m + L is 4 to 6). ) Is the onium salt of claim 1.
【請求項3】Arが 【化4】 であり、R1 〜R10がそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子、C1 〜C5 のアルコキシ基、C1 〜C5 のアルキル
基であり、Mはリン原子又はアンチモン原子である請求
項2のオニウム塩
3. Ar is represented by: Wherein R 1 to R 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a C 1 to C 5 alkoxy group, a C 1 to C 5 alkyl group, and M is a phosphorus atom or an antimony atom. salt
【請求項4】R1 〜R5 の少なくとも1つがハロゲン原
子、他は水素原子であり、R6 〜R10の少なくとも1つ
がハロゲン原子、他は水素原子である請求項3のオニウ
ム塩
4. An onium salt according to claim 3, wherein at least one of R 1 to R 5 is a halogen atom and the other is a hydrogen atom, and at least one of R 6 to R 10 is a halogen atom and the other is a hydrogen atom.
【請求項5】Arが 【化5】 であり、R3 及びR8 がハロゲン原子であり、R1 、R
2 、R4 〜R7 、R9 、R10は水素原子であり、aは
2、bは0、nは2であり、Mはリン原子またはアンチ
モン原子であり、mは6、Lは0である請求項2のオニ
ウム塩
5. Ar is represented by: And R 3 and R 8 are halogen atoms, and R 1 and R
2 , R 4 to R 7 , R 9 , R 10 are hydrogen atoms, a is 2, b is 0, n is 2, M is a phosphorus atom or an antimony atom, m is 6, and L is 0. The onium salt of claim 2 which is
【請求項6】ハロゲン原子がフッ素原子である請求項5
のオニウム塩
6. The halogen atom is a fluorine atom.
Onium salt
【請求項7】式 【化6】 で表わされるオニウム塩7. The formula: Onium salt represented by 【請求項8】式 【化7】 で表わされるオニウム塩8. The formula: Onium salt represented by 【請求項9】請求項1〜8のオニウム塩を有効成分とす
る光重合開始剤
9. A photopolymerization initiator containing the onium salt according to claim 1 as an active ingredient.
【請求項10】カチオン重合性物質と請求項1〜8のオ
ニウム塩を含有するエネルギー線硬化性組成物
10. An energy ray-curable composition containing a cationically polymerizable substance and the onium salt of claims 1-8.
【請求項11】カチオン重合性物質がエポキシ系化合
物、ビニルエーテル系化合物又は環状エーテル系化合物
である請求項10の組成物
11. The composition according to claim 10, wherein the cationically polymerizable substance is an epoxy compound, a vinyl ether compound or a cyclic ether compound.
【請求項12】エポキシ系化合物が脂環式エポキシ樹脂
である請求項11の組成物
12. The composition according to claim 11, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy resin.
【請求項13】ビニルエーテル系化合物がトリエチレン
グリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコー
ルジビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチ
ロールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビ
ニルエーテル、 【化8】 又はウレタンポリビニルエーテルである請求項11の組
成物
13. The vinyl ether compound is triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, or Alternatively, it is urethane polyvinyl ether.
【請求項14】オニウム塩が請求項7又は8のオニウム
塩である請求項10の組成物
14. The composition according to claim 10, wherein the onium salt is the onium salt according to claim 7 or 8.
【請求項15】エネルギー線が紫外線である請求項10
の組成物
15. The energy ray is an ultraviolet ray.
Composition of
【請求項16】カチオン重合性物質100重量部に対
し、オニウム塩を0.01〜20重量部含有する請求項
10の組成物
16. The composition according to claim 10, which contains 0.01 to 20 parts by weight of an onium salt based on 100 parts by weight of a cationically polymerizable substance.
【請求項17】脂環式エポキシ樹脂100重量部に対
し、請求項7又は8のオニウム塩を0.1〜10重量部
含有する紫外線硬化性組成物
17. An ultraviolet curable composition containing 0.1 to 10 parts by weight of the onium salt of claim 7 or 8 with respect to 100 parts by weight of an alicyclic epoxy resin.
【請求項18】ビニルエーテル系化合物100重量部に
対し、請求項7又は8のオニウム塩を0.1〜10重量
部含有する紫外線硬化性組成物
18. An ultraviolet-curable composition containing 0.1 to 10 parts by weight of the onium salt of claim 7 or 8 with respect to 100 parts by weight of a vinyl ether compound.
【請求項19】ビニルエーテル系化合物がトリエチレン
グリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコー
ルジビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチ
ロールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビ
ニルエーテル、 【化9】 又はウレタンポリビニルエーテルである請求項19の組
成物
19. The vinyl ether compound is triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, or Or the composition of claim 19, which is urethane polyvinyl ether.
【請求項20】請求項10〜19の組成物の硬化物20. A cured product of the composition of claims 10-19. 【請求項21】請求項10〜19の組成物にエネルギー
線を照射することを特徴とする該組成物の硬化方法
21. A method of curing the composition according to claim 10, which comprises irradiating the composition with energy rays.
【請求項22】エネルギー線が紫外線である請求項21
の硬化方法
22. The energy rays are ultraviolet rays.
Curing method
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09278935A (en) * 1996-04-09 1997-10-28 Asahi Denka Kogyo Kk Resin composition for optical solid model forming and method therefor
WO1999028295A1 (en) * 1997-12-04 1999-06-10 Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha Novel aromatic sulfonium compounds, photoacid generators comprising the same, photopolymerizable compositions containing the same, stereolithographic resin compositions, and stereolithographic process
JP2005105225A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Active-ray curable ink-jet ink composition
JP2005139275A (en) * 2003-11-06 2005-06-02 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Active ray-curable inkjet ink composition, method for forming image using the same and inkjet recorder
JP2007178858A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Fujifilm Corp Photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
US7329480B2 (en) 2002-08-30 2008-02-12 Toyo Gosei Co., Ltd. Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation method
JP2008189599A (en) * 2007-02-05 2008-08-21 Toyo Gosei Kogyo Kk Sulfonium salt
JP2008189598A (en) * 2007-02-05 2008-08-21 Toyo Gosei Kogyo Kk Sulfonium salt
WO2009110162A1 (en) 2008-03-03 2009-09-11 ダイセル化学工業株式会社 Process for production of nanostructures
WO2011040531A1 (en) 2009-10-01 2011-04-07 日立化成工業株式会社 Material for organic electronics, organic electronic element, organic electroluminescent element, display element using organic electroluminescent element, illuminating device, and display device
WO2011132702A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 Organic electronic material, polymerization initiator and thermal polymerization initiator, ink composition, organic thin film and production method for same, organic electronic element, organic electroluminescent element, lighting device, display element, and display device
JPWO2011052327A1 (en) * 2009-10-26 2013-03-21 株式会社Adeka Aromatic sulfonium salt compounds
JP2013164471A (en) * 2012-02-09 2013-08-22 Jsr Corp Curable resin composition, cured film for display device, formation method of cured film for display device, and display device
WO2014136900A1 (en) 2013-03-08 2014-09-12 日立化成株式会社 Ionic-compound-containing treatment solution, organic electronic element, and method for manufacturing organic electronic element

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09278935A (en) * 1996-04-09 1997-10-28 Asahi Denka Kogyo Kk Resin composition for optical solid model forming and method therefor
WO1999028295A1 (en) * 1997-12-04 1999-06-10 Asahi Denka Kogyo Kabushiki Kaisha Novel aromatic sulfonium compounds, photoacid generators comprising the same, photopolymerizable compositions containing the same, stereolithographic resin compositions, and stereolithographic process
US6368769B1 (en) 1997-12-04 2002-04-09 Asahi Denki Kogyo Kabushiki Kaisha Aromatic sulfonium compounds, photoacid generators comprising the same, photopolymerizable compositions containing the same, stereolithographic resin compositions, and stereolithographic process
US7329480B2 (en) 2002-08-30 2008-02-12 Toyo Gosei Co., Ltd. Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation method
JP2005105225A (en) * 2003-10-02 2005-04-21 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Active-ray curable ink-jet ink composition
JP2005139275A (en) * 2003-11-06 2005-06-02 Konica Minolta Medical & Graphic Inc Active ray-curable inkjet ink composition, method for forming image using the same and inkjet recorder
JP4595311B2 (en) * 2003-11-06 2010-12-08 コニカミノルタエムジー株式会社 Actinic ray curable inkjet ink composition, image forming method using the same, and inkjet recording apparatus
JP2007178858A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Fujifilm Corp Photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
JP2008189598A (en) * 2007-02-05 2008-08-21 Toyo Gosei Kogyo Kk Sulfonium salt
JP2008189599A (en) * 2007-02-05 2008-08-21 Toyo Gosei Kogyo Kk Sulfonium salt
WO2009110162A1 (en) 2008-03-03 2009-09-11 ダイセル化学工業株式会社 Process for production of nanostructures
WO2011040531A1 (en) 2009-10-01 2011-04-07 日立化成工業株式会社 Material for organic electronics, organic electronic element, organic electroluminescent element, display element using organic electroluminescent element, illuminating device, and display device
JPWO2011052327A1 (en) * 2009-10-26 2013-03-21 株式会社Adeka Aromatic sulfonium salt compounds
JP5635526B2 (en) * 2009-10-26 2014-12-03 株式会社Adeka Aromatic sulfonium salt compounds
WO2011132702A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 Organic electronic material, polymerization initiator and thermal polymerization initiator, ink composition, organic thin film and production method for same, organic electronic element, organic electroluminescent element, lighting device, display element, and display device
JP2013164471A (en) * 2012-02-09 2013-08-22 Jsr Corp Curable resin composition, cured film for display device, formation method of cured film for display device, and display device
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