JPH10287643A - New onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curable composition containing the same, and cured product of the composition - Google Patents
New onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curable composition containing the same, and cured product of the compositionInfo
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- JPH10287643A JPH10287643A JP10680897A JP10680897A JPH10287643A JP H10287643 A JPH10287643 A JP H10287643A JP 10680897 A JP10680897 A JP 10680897A JP 10680897 A JP10680897 A JP 10680897A JP H10287643 A JPH10287643 A JP H10287643A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なオニウム
塩、これを有効成分とする光重合開始剤、これを含有す
るエネルギー線の照射により硬化が可能なエネルギー線
硬化性組成物及びその硬化物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel onium salt, a photopolymerization initiator containing the same as an active ingredient, an energy ray-curable composition containing the same, which can be cured by irradiation with energy rays, and a cured product thereof. About.
【0002】[0002]
【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。光によりエポキ
シ樹脂を硬化する方法として、例えば米国特許第379
4576号には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開
始剤として使用する方法が提案されている。しかしなが
ら芳香族ジアゾニウム塩は、光分解により窒素ガスを放
出し、そのためにエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上にな
ると塗膜が発泡し、厚塗りの用途には適さない。更に、
又、感光性芳香族ジアゾニウム塩とエポキシ樹脂との混
合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進行する
等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物とはなり
えない。2. Description of the Related Art Photopolymerizable compositions have been actively studied in the fields of printing inks, paints, coatings, liquid resist inks, etc. from the demands of energy saving, space saving, and non-polluting properties, and their practical use has been studied. . However, most of these studies were based on radical polymerization reactions of double bonds. Cationic polymerizable substances, such as epoxy resins, are excellent materials in physical properties, but are difficult to photopolymerize. Until now, materials with double bonds introduced by acrylic modification have been mainly used. . As a method of curing an epoxy resin by light, for example, US Pat.
No. 4576 proposes a method using a photosensitive aromatic diazonium salt as a photopolymerization initiator. However, the aromatic diazonium salt releases nitrogen gas by photodecomposition, and when the thickness of the epoxy resin is 15 μm or more, the coating film foams and is not suitable for thick coating. Furthermore,
Further, the mixture of the photosensitive aromatic diazonium salt and the epoxy resin has a problem in storage stability such that curing gradually proceeds even in the absence of light, and cannot be a one-part composition.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記のジアゾニウム塩
系光重合開始剤の欠点を克服すべく、種々検討がなさ
れ、厚塗り性及び保存安定性の改良された技術として芳
香族スルホニウム塩系や芳香族ヨードニウム塩系開始剤
及びそれらを含有する硬化性樹脂組成物が特公昭52−
14278号公報、特公昭52−14277号公報、特
開昭54−53181号公報、特公昭59−19581
号公報等に開示されている。しかしながら、これらの芳
香族オニウム塩を含有する組成物はジアゾニウム塩に比
較し硬化性が乏しいという欠点を有し、又芳香族スルホ
ニウム塩の場合は、硬化物の臭気が問題となっていた。
かかる欠点を克服するべく、特開昭56−55420号
公報等に、特定の基を有する芳香族スルホニウム塩が提
案されている。しかし、上記の欠点は、いくらか解消さ
れるものの十分ではない。又、光重合性組成物の使用さ
れる分野が拡大するにつれて、市場の要求に対応するた
めの新規な光重合開始剤の開発が重要な技術課題になっ
ている。Various studies have been made to overcome the above-mentioned drawbacks of the diazonium salt-based photopolymerization initiator, and aromatic sulfonium salts and aromatics have been proposed as techniques for improving thick coating properties and storage stability. Group iodonium salt initiators and curable resin compositions containing them are disclosed in
JP-A-14278, JP-B-52-14277, JP-A-54-53181, JP-B-59-19581.
No. 6,009,036. However, compositions containing these aromatic onium salts have the disadvantage of being less curable than diazonium salts, and in the case of aromatic sulfonium salts, the odor of the cured product has been a problem.
In order to overcome such a drawback, an aromatic sulfonium salt having a specific group is proposed in JP-A-56-55420 and the like. However, the above disadvantages are somewhat satisfactory but not sufficient. Also, as the field of use of the photopolymerizable composition has expanded, the development of a novel photopolymerization initiator to meet market requirements has become an important technical issue.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意研究の結果、新規なオニウム塩を
得、これを用いることにより、保存安定性、相溶性(特
に各種ビニルエーテルとの相容性)、硬化性に優れ、そ
の硬化物の臭気が少ないエネルギー線硬化性組成物が得
られることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、
本発明は、(1)下記式(1)で示されるオニウム塩Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, obtained a novel onium salt. By using the same, storage stability and compatibility (particularly various vinyl ethers) were obtained. It has been found that an energy ray-curable composition having excellent curability and a low odor of the cured product can be obtained, thereby completing the present invention. That is,
The present invention provides (1) an onium salt represented by the following formula (1):
【0005】[0005]
【化6】 Embedded image
【0006】(式(1)中、Xは式(2)で示される基
を表す。(In the formula (1), X represents a group represented by the formula (2).
【0007】[0007]
【化7】 Embedded image
【0008】但し、式(1)及び式(2)において、A
r1 およびAr2 は、それぞれ1価の芳香族基をそれぞ
れ表す。又Zは式(3)However, in equations (1) and (2), A
r 1 and Ar 2 each represent a monovalent aromatic group. Z is the equation (3)
【0009】[0009]
【化8】 MQp-m (OH)m (3)Embedded image MQ pm (OH) m (3)
【0010】(式(3)中、Mは、リン原子、ヒ素原子
またはアンチモン原子であり、Qはハロゲン原子であ
り、Pは4〜6の整数であり、mは0または1の整数で
ある。)又は式(4)(In the formula (3), M is a phosphorus atom, an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, P is an integer of 4 to 6, and m is an integer of 0 or 1. .) Or equation (4)
【0011】[0011]
【化9】 BYaRb (4)Embedded image BYaRb (4)
【0012】(式(4)中、Bはホウ素原子、a及びb
は0〜4の整数であり、ここではa+bは4であり、Y
はハロゲン原子または水酸基を、Rは少なくとも1個の
電子吸引基もしくは少なくとも2個のハロゲン原子で置
換されたフェニル基を表す。)で表されるアニオンを表
す。) (2)Ar1 およびAr2 がそれぞれ(In the formula (4), B is a boron atom, a and b
Is an integer from 0 to 4, where a + b is 4, Y
Represents a halogen atom or a hydroxyl group, and R represents a phenyl group substituted with at least one electron-withdrawing group or at least two halogen atoms. ) Represents an anion. (2) Ar 1 and Ar 2 are each
【0013】[0013]
【化10】 Embedded image
【0014】(これらの芳香族基は、(C1 〜C20)ア
ルキル基、(C1 〜C10)アルキルオキシカルボニル
基、(C1 〜C10)アルキルカルボニルオキシ基、ベン
ゾイル基、シアノ基、ニトロ基、(C1 〜C20)アルコ
キシ基、ハロゲン原子からなる群から選択される1つ以
上の基を置換基として有していてもよい。)である上記
(1)のオニウム塩、(3)上記(1)又は(2)のオ
ニウム塩を有効成分とする光重合開始剤、(4)カチオ
ン重合性物質と上記(1)又は(2)のオニウム塩を含
有するエネルギー線硬化性組成物、(5)カチオン重合
性物質がエポキシ系化合物、ビニルエーテル系化合物又
は環状エーテル系化合物である上記(4)の組成物、
(6)エポキシ系化合物が脂環式エポキシ樹脂である請
求項5の組成物、(7)ビニルエーテル系化合物がトリ
エチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレン
グリコールジビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4
−ジメチロールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオ
ールジビニルエーテル、ポリエステルポリビニルエーテ
ル又はウレタンポリビニルエーテルである上記(5)の
組成物、(8)上記(4)〜(7)の組成物の硬化物、
(9)上記(4)〜(7)の組成物にエネルギー線を照
射することを特徴とする該組成物の硬化方法、(10)
エネルギー線が紫外線又は電子線である上記(9)の硬
化方法、に関する。(These aromatic groups include (C 1 -C 20 ) alkyl groups, (C 1 -C 10 ) alkyloxycarbonyl groups, (C 1 -C 10 ) alkylcarbonyloxy groups, benzoyl groups, cyano groups , A nitro group, a (C 1 -C 20 ) alkoxy group, or a halogen atom, which may have one or more groups selected as a substituent.) (3) a photopolymerization initiator containing the onium salt of (1) or (2) as an active ingredient; and (4) an energy ray-curable composition containing a cationically polymerizable substance and the onium salt of (1) or (2). The composition according to (4), wherein the cationic polymerizable substance is an epoxy compound, a vinyl ether compound or a cyclic ether compound,
(6) The composition according to claim 5, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy resin, and (7) the vinyl ether compound is triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4.
-The composition of the above (5), which is dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, polyester polyvinyl ether or urethane polyvinyl ether, (8) a cured product of the composition of the above (4) to (7),
(9) A method for curing the composition according to (4) to (7), wherein the composition is irradiated with an energy ray.
The invention relates to the curing method according to the above (9), wherein the energy ray is an ultraviolet ray or an electron beam.
【0015】本発明を詳細に説明する。一般式(1)、
(2)においてAr1、およびAr2 で示される1価の芳
香族基としては、例えばThe present invention will be described in detail. General formula (1),
Examples of the monovalent aromatic group represented by Ar 1 and Ar 2 in (2) include, for example,
【0016】[0016]
【化11】 Embedded image
【0017】等が挙げられる。なお、これらの芳香族基
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オク
チル基、ノニル基等C1 〜C20のアルキル基、(C1 〜
C10)アルキルカルボニルオキシ基、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、(C1
〜C10)アルキルオキカシルボニル基、(C1 〜C20)
アルコキシ基、ベンゾイル基、シアノ基、ニトロ基等の
置換基を1種以上有していてもよい。And the like. Incidentally, these aromatic groups, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group, an alkyl group of nonyl group C 1 ~C 20, (C 1 ~
C 10) alkyl carbonyloxy group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a halogen atom such as iodine atom, (C 1
To C 10 ) alkyloxysilbonyl groups, (C 1 to C 20 )
It may have one or more substituents such as an alkoxy group, a benzoyl group, a cyano group and a nitro group.
【0018】本発明のオニウム塩は、出発原料として式
(5)The onium salt of the present invention is obtained by using a compound represented by the formula (5)
【0019】[0019]
【化12】 Embedded image
【0020】(式(5)中、Ar1 は一般式(1)中の
Ar1 と同じ意味を表す。)で表されるジフェニルスル
フィド系化合物と、式(6)[0020] (Equation (5) in, Ar 1 is the general formula (1) represents the same meaning as Ar 1 in.) And diphenyl sulfide compound represented by the formula (6)
【0021】[0021]
【化13】 Embedded image
【0022】(式(6)中、Ar2 は一般式(2)中の
Ar2 と同じ意味を表す。)で表されるジフェニルスル
ホキシド系化合物とから公知のスルホニウム塩の生成反
応を利用する方法により合成することができる。合成例
を具体的に説明すると、式(5)で表されるジフェニル
スルフィド系化合物と式(6)で表されるジフェニルス
ルホキシド系化合物を、前者の末端スルフィド基1当量
に対し、好ましくは約1モルを用いて、公知の方法、例
えば脱水剤(例えば、五酸化リン、濃硫酸、無水酢酸
等)を用いて、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、
パーフルオロメタンスルホン酸等の溶媒中で、常温〜1
50℃で縮合反応を行い、次いでこれらの反応液を前記
式(3)又は式(4)で表される化合物のアルカリ金属
塩、水溶液に滴下すればよい。別法として、前記式
(5)で表されるジフェニルスルフィド系化合物を適当
な溶媒(例えば、酢酸、無水酢酸、硫酸、メタンスルホ
ン酸等)中スルフィドの部分酸化を行ない反応液中に、
ジフェニルスルフィド系化合物とジフェニルスルホキシ
ド系化合物を約等モルに存在するようにして、次いで縮
合反応を行なう方法も可能である。その際、酸化剤とし
ては、過酸化水素、過マンガン酸カリ、硝酸、メタ過ヨ
ウ素酸ナトリウム、ヨードベンゼンジアセテートなどの
通常の酸化剤が使用される。反応温度は0〜100℃、
好ましくは30〜60℃で行われる。The method of using (in the formula (6), Ar 2 is formula (2) represents. The same meaning as Ar 2 in) the known production reaction of the sulfonium salt from the diphenyl sulfoxide compound represented by Can be synthesized by To explain the synthesis example specifically, the diphenyl sulfide compound represented by the formula (5) and the diphenyl sulphoxide compound represented by the formula (6) are preferably used in an amount of about 1 to 1 equivalent of the former terminal sulfide group. Methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, and the like, using a known method such as a dehydrating agent (eg, phosphorus pentoxide, concentrated sulfuric acid, acetic anhydride, etc.)
Room temperature to 1 in a solvent such as perfluoromethanesulfonic acid.
The condensation reaction may be performed at 50 ° C., and then these reaction solutions may be added dropwise to an alkali metal salt of a compound represented by the above formula (3) or (4), or an aqueous solution. Alternatively, the diphenyl sulfide-based compound represented by the formula (5) is partially oxidized in a suitable solvent (for example, acetic acid, acetic anhydride, sulfuric acid, methanesulfonic acid, etc.) to give a reaction solution,
A method in which the diphenyl sulfide compound and the diphenyl sulphoxide compound are present in about equimolar amounts and then the condensation reaction is carried out is also possible. At this time, as the oxidizing agent, a normal oxidizing agent such as hydrogen peroxide, potassium permanganate, nitric acid, sodium metaperiodate, iodobenzene diacetate, or the like is used. The reaction temperature is 0 to 100 ° C,
Preferably, it is performed at 30 to 60 ° C.
【0023】式(5)で表される化合物の具体例として
は、例えば次の化合物が挙げられる。Specific examples of the compound represented by the formula (5) include the following compounds.
【0024】[0024]
【化14】 Embedded image
【0025】又式(6)で表される化合物の具体例とし
ては、例えば、4−フェニルカルボニルジフェニルスル
ホキシド、4−(p−フルオロフェニルカルボニル)ジ
フェニルスルホキシド、4−(p−クロロフェニルカル
ボニル)ジフェニルスルホキシド、4−(o−メトキシ
フェニルカルボニル)ジフェニルスルホキシド、4−
(p−ter−ブチルフェニルカルボニル)ジフェニル
スルホキシド、4−(m−ニトロフェニルカルボニル)
ジフェニルホキシド、4−(ナフタレン−2−カルボニ
ル)ジフェニルスルホキシド、4−(p−ジフェニルカ
ルボニル)ジフェニルスルホキシド等が挙げられる。Specific examples of the compound represented by the formula (6) include, for example, 4-phenylcarbonyldiphenylsulfoxide, 4- (p-fluorophenylcarbonyl) diphenylsulfoxide, 4- (p-chlorophenylcarbonyl) diphenylsulfoxide , 4- (o-methoxyphenylcarbonyl) diphenylsulfoxide, 4-
(P-ter-butylphenylcarbonyl) diphenylsulfoxide, 4- (m-nitrophenylcarbonyl)
Examples include diphenyloxide, 4- (naphthalene-2-carbonyl) diphenylsulfoxide, 4- (p-diphenylcarbonyl) diphenylsulfoxide and the like.
【0026】前記式(3)および(4)で表される化合
物のアルカリ金属塩の具体例としては、例えば、NaS
bF6 、NaPF6 、NaBF4 、NaSbF5 OH、
KSbF6 、KPF6 、KAsF6 、KSbF5 OH、
LiB(C6 F5 )4 、LiB(C6 F5 )2 F2 、L
iB(C6 F4 CF3 )4 、NaB(C6 F5 )4 、L
iBF3 (C6 F5 )、LiB(C6 H3 F2 )4 等を
挙げることが出来る。Specific examples of the alkali metal salts of the compounds represented by the above formulas (3) and (4) include, for example, NaS
bF 6 , NaPF 6 , NaBF 4 , NaSbF 5 OH,
KSbF 6 , KPF 6 , KAsF 6 , KSbF 5 OH,
LiB (C 6 F 5 ) 4 , LiB (C 6 F 5 ) 2 F 2 , L
iB (C 6 F 4 CF 3 ) 4 , NaB (C 6 F 5 ) 4 , L
iBF 3 (C 6 F 5 ), LiB (C 6 H 3 F 2 ) 4 and the like can be given.
【0027】前記式(5)で表される化合物は芳香族モ
ノカルボン酸化合物とジフェニルスルフィドを反応させ
ることにより得ることができる。その際、反応溶媒とし
てアルキルスルホン酸(例えば、メタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸、パーフルオロメタンシルホン酸等)に
無水リン酸を溶解させたものを用いるのが好ましく、反
応温度は、常温〜130℃が好ましい。反応時間は0.
5〜15時間が好ましい。前記芳香族モノカルボン酸化
合物とジフェニルスルフィドの使用割合は、芳香族モノ
カルボン酸化合物1モルに対して、ジフェニルスルフィ
ドを約1モル比で反応させるのが好ましい。The compound represented by the formula (5) can be obtained by reacting an aromatic monocarboxylic acid compound with diphenyl sulfide. At this time, it is preferable to use a solution in which phosphoric anhydride is dissolved in an alkylsulfonic acid (for example, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, perfluoromethanesulfonic acid, or the like) as a reaction solvent. C is preferred. The reaction time is 0.
5 to 15 hours are preferred. As for the use ratio of the aromatic monocarboxylic acid compound and diphenyl sulfide, it is preferable to react diphenyl sulfide at about 1 mole ratio with respect to 1 mole of the aromatic monocarboxylic acid compound.
【0028】芳香族モノカルボン酸化合物の具体例とし
ては、例えば安息香酸、o−メチル−安息香酸、m−メ
チル−安息香酸、p−メチル−安息香酸、3,5−ジメ
チル−安息香酸、p−エチル−安息香酸、p−ter−
ブチル安息香酸、p−オクチル−安息香酸、o−メチル
カルボニルオキシ−安息香酸、p−メチルオキシカルボ
ニル−安息香酸、o−クロル安息香酸、m−クロル安息
香酸、p−クロル安息香酸、2,4−ジクロロ安息香
酸、o−フルオロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、
2,4−ジフルオロ安息香酸、p−メトキシ安息香酸、
p−ブトキシ安息香酸、o−ベンゾイル安息香酸、p−
フェニル安息香酸、m−フェニル安息香酸、o−フェニ
ル安息香酸、ナフタリン−2−カルボン酸、ナフタリン
−1−カルボン酸、p−シアノ安息香酸、o−シアノ安
息香酸等が挙げられる。Specific examples of the aromatic monocarboxylic acid compound include, for example, benzoic acid, o-methyl-benzoic acid, m-methyl-benzoic acid, p-methyl-benzoic acid, 3,5-dimethyl-benzoic acid, -Ethyl-benzoic acid, p-ter-
Butylbenzoic acid, p-octyl-benzoic acid, o-methylcarbonyloxy-benzoic acid, p-methyloxycarbonyl-benzoic acid, o-chlorobenzoic acid, m-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, 2,4 -Dichlorobenzoic acid, o-fluorobenzoic acid, m-fluorobenzoic acid,
2,4-difluorobenzoic acid, p-methoxybenzoic acid,
p-butoxybenzoic acid, o-benzoylbenzoic acid, p-
Examples include phenylbenzoic acid, m-phenylbenzoic acid, o-phenylbenzoic acid, naphthalene-2-carboxylic acid, naphthalene-1-carboxylic acid, p-cyanobenzoic acid, and o-cyanobenzoic acid.
【0029】一般式(1)で示される化合物の具体例と
しては次表1の化合物を挙げることができるが、これに
限定されるものではない。Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the compounds shown in the following Table 1, but are not limited thereto.
【0030】[0030]
【表1】 [Table 1]
【0031】次に本発明のエネルギー線硬化性組成物に
ついて説明する。本発明の組成物に用いられるカチオン
重合性物質の具体例としては、例えば、エポキシ系化合
物、ビニルエーテル系化合物、更には環状エーテル系化
合物(好ましくはスピロオルソエステル、ビシクロオル
ソエステル、スピロオルソカーボナートのようなスピロ
化合物やオキセタン化合物等)か挙げられる。エポキシ
系化合物としては、公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式
エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更にはエポキシ単
量体、エピサルファイド単量体類が挙げられる。Next, the energy ray-curable composition of the present invention will be described. Specific examples of the cationically polymerizable substance used in the composition of the present invention include, for example, epoxy compounds, vinyl ether compounds, and cyclic ether compounds (preferably spiro ortho esters, bicyclo ortho esters, spiro ortho carbonates). Such as spiro compounds and oxetane compounds). Examples of the epoxy compound include known aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, epoxy monomers, and episulfide monomers.
【0032】ここで、芳香族エポキシ樹脂の具体例を例
示すれば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェ
ノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグ
リシジルエーテルであって、例えばビスフェノールA、
ビスフェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノー
ル化合物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキ
サイド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキ
サイド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロルヒ
ドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル
類、ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール
・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック
型エポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポ
キシ樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジル
エーテル等が挙げられる。Here, a specific example of the aromatic epoxy resin is a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A,
Glycidyl ethers and novolak epoxy resins (for example, produced by reacting bisphenol compounds such as bisphenol F and bisphenol S or alkylene oxide (eg, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adducts of bisphenol compounds with epichlorohydrin) Phenol / novolak epoxy resin, cresol / novolak epoxy resin, brominated phenol / novolak epoxy resin, etc.), and trisphenol methane triglycidyl ether.
【0033】また、脂環式エポキシ樹脂の具体例として
は、2,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−
(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロー3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−
ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)
エーテル、EHPE−3150(ダイセル化学工業
(株)製,脂環式エポキシ樹脂、軟化点71℃)、エポ
キシ化ポリブタンジエン等が挙げられる。Specific examples of the alicyclic epoxy resin include 2,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
Epoxy cyclohexane carboxylate, bis-
(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-
(Spiro 3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-
Dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl)
Ether, EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin, softening point 71 ° C.), epoxidized polybutanediene, and the like.
【0034】更に脂肪族エポキシ樹脂の具体例として
は、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサ
イド付加物のポリグリシジルエーテルがあり、その代表
例としては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエ
ーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエー
テル,グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチ
ロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレ
ングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリ
コールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、
プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アル
コールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド
等)を付加することにより得られるポリエーテルポリオ
ールのポリグリシジルエーテルが挙げられる。更にエポ
キシド単量体類の例としては、脂肪族高級アルコールの
モノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブ
チルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを
付加することにより得られるポリエーテルアルコールの
モノグリシジルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテ
ル系化合物としては、例えば、トリエチレングリコール
ジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニル
エーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールジビニルエ
ーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ポ
リエステルジビニルエーテル及びウレタンポリビニルエ
ーテル(例えば、ALLIED−S/GNAL社製、V
Ectomer2010)等が挙げられる。これらカチ
オン重合性物質は、単独又は2種以上の混合物として使
用される。Further, specific examples of the aliphatic epoxy resin include polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of 1,4-butanediol, Diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, ethylene glycol,
Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides (eg, ethylene oxide, propylene oxide, etc.) to aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol and glycerin are exemplified. Further, examples of the epoxide monomers include monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols, phenol, cresol, butylphenol, and monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding alkylene oxide thereto. Examples of the vinyl ether compound include triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, polyester divinyl ether and Urethane polyvinyl ether (for example, V manufactured by ALLIED-S / GNAL, V
Ectomer 2010). These cationically polymerizable substances are used alone or as a mixture of two or more.
【0035】本発明のエネルギ−線硬化性組成物は、1
00重量部のカチオン重合性物質に対して0.01〜2
0重量部、より好ましくは0.1〜10重量部の前記式
(1)で示されるオニウム塩を有効成分とする光重合開
始剤を必須の成分として含有するが、具体的な使用割合
は、カチオン重合性物質の性質やエネルギー線の種類、
その照射量、所望の硬化時間、温度、湿度、塗膜厚等さ
まざまな要因を考慮することによって決定される。カチ
オン重合性物質への光重合開始剤の溶解を容易にするた
め、あらかじめ光重合開始剤を溶剤類(例えは、プロピ
レンカーボネート、カルビトール、カルビトールアセテ
ート、γブチロラクトン等)に溶解し使用することもで
きる。本発明のエネルギ−線硬化性組成物は、カチオン
重合性物質及び光重合開始剤を混合、溶解あるいは混練
等の方法により、混合することにより調製することがで
きる。The energy ray-curable composition of the present invention comprises:
0.01 to 2 parts per 100 parts by weight of the cationically polymerizable substance
0 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator containing an onium salt represented by the above formula (1) as an active ingredient is contained as an essential component. The nature of the cationically polymerizable substance and the type of energy ray,
It is determined by considering various factors such as the irradiation dose, desired curing time, temperature, humidity, and coating film thickness. To facilitate dissolution of the photopolymerization initiator in the cationically polymerizable substance, the photopolymerization initiator must be dissolved in a solvent (for example, propylene carbonate, carbitol, carbitol acetate, γ-butyrolactone, etc.) before use. Can also. The energy ray-curable composition of the present invention can be prepared by mixing a cationically polymerizable substance and a photopolymerization initiator by a method such as mixing, dissolving or kneading.
【0036】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。エネルギー線としては、光重合開始剤の分解を誘
発するエネルギーを有する限りいかなるものでもよい
が、高、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レ
ーザー光などから得られる2000オングストローム〜
7000オングストロームの波長を有する電磁波エネル
ギー線や電子線、X線、放射線等の電磁波エネルギー線
(高エネルギー線)を使用するのが好ましく、このうち
紫外線がより好ましい。エネルギー線への暴露は、エネ
ルギー線の強度によるが、通常は0.1秒〜10秒程度
で十分である。しかし比較的厚い塗装物についてはそれ
以上の時間かけるのが好ましい。エネルギー線照射後
0.1秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重
合により指触乾燥するが、カチオン重合反応を促進する
ために、場合によって加熱することも好ましい。The curable composition of the present invention can be cured to a touch-dry state or a solvent-insoluble state after 0.1 seconds to several minutes by irradiating energy rays such as ultraviolet rays. The energy ray may be any as long as it has an energy that induces the decomposition of the photopolymerization initiator, but may be a high or low pressure mercury lamp, a xenon lamp, a germicidal lamp, 2000 angstrom obtained from a laser beam or the like.
It is preferable to use an electromagnetic wave energy ray having a wavelength of 7000 angstroms, or an electromagnetic wave energy ray (high energy ray) such as an electron beam, X-ray, or radiation, and ultraviolet rays are more preferable. Exposure to an energy ray depends on the intensity of the energy ray, but usually about 0.1 to 10 seconds is sufficient. However, it is preferred to spend more time for relatively thick coatings. After 0.1 seconds to several minutes after the irradiation with the energy beam, most of the compositions are touch-dried by cation polymerization. However, in some cases, it is also preferable to heat the composition in order to accelerate the cation polymerization reaction.
【0037】本発明の組成物には、さらにカチオン重合
を損わない範囲で希釈のための溶剤や、改質のための非
反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エステル化合物(例
えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アク
リレート等のオリゴマーや、2−ヒドロキシ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等
のモノマー等)を配合することができる。(メタ)アク
リル酸エステル化合物を使用する場合には、光ラジカル
重合開始剤(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、アセトフェノンジメチルケタール、ベン
ゾイルメチルエーテル等)も併用するのが好ましい。ま
た例えば、電気特性を改良する目的などのため有機カル
ボン酸や酸無水物を使用したり、あるいはゴム弾性をも
たせるなどの目的でポリオールその他の可とう性プレポ
リマーを混合することができる。The composition of the present invention may further contain a solvent for dilution, a non-reactive resin for modification, or a (meth) acrylate compound (for example, bisphenol A) as long as the cationic polymerization is not impaired. Oligomers such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester poly (meth) acrylate, which are reaction products of epoxy resins such as epoxy resins such as epoxy resins and novolak epoxy resins, and (meth) acrylic acid; (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and other monomers) Can be blended. When a (meth) acrylate compound is used, it is preferable to use a photoradical polymerization initiator (for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone dimethyl ketal, benzoyl methyl ether, etc.) in combination. Further, for example, an organic carboxylic acid or an acid anhydride can be used for the purpose of improving electric characteristics, or a polyol or other flexible prepolymer can be mixed for the purpose of imparting rubber elasticity.
【0038】本発明の組成物は、主に物品の表面に、例
えば1μm〜200μm、好ましくは3μm〜50μm
の厚さで塗布されるもので、通常透明な液状として使用
されるが、用途によっては不活性な顔料、染料、充填
剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動調整剤、増感
剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いられる。本発明
のエネルギ−線硬化性組成物は金属、木材、ゴム、プラ
スチック、ガラス、セラミック製品等に使用することが
できるが、本発明の組成物の具体的な用途としては、塗
料、コーティング剤、インキ、レジスト、液状レジス
ト、インキ、接着剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラ
ス繊維含浸剤、目止め剤等が挙げられる。The composition of the present invention is applied mainly to the surface of an article, for example, from 1 μm to 200 μm, preferably from 3 μm to 50 μm.
It is usually applied as a transparent liquid, but depending on the application, it may be inert pigments, dyes, fillers, antistatic agents, flame retardants, defoamers, flow regulators, Sensitizers, accelerators, light stabilizers and the like are used as a mixture. The energy ray-curable composition of the present invention can be used for metal, wood, rubber, plastic, glass, ceramic products and the like. Specific uses of the composition of the present invention include paints, coating agents, Examples include inks, resists, liquid resists, inks, adhesives, molding materials, casting materials, putties, glass fiber impregnating agents, fillers, and the like.
【0039】[0039]
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。なお合成例及び実施例中の部は重量部である。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. Parts in Synthesis Examples and Examples are parts by weight.
【0040】(式(5)で表されるジフェニルスルフィ
ド系化合物の合成例) 合成例1 (式(i)の化合物の合成)メタンスルホン酸161.
7部、五酸化リン16.2部を均一に溶解し、これにジ
フェニルスルフィド18.6部及び安息香酸12.2部
を仕込み、80℃で1時間反応を行い、液体クロマトグ
ラフィーにて反応が終了していることを確認し、この反
応混合物を水酸化カリウム水溶液1000部(水800
部に水酸化カリウム200部を溶解させたもの。)に滴
下し、沈殿物をろ別、乾燥し、次いでこれをエタノール
400部に加熱(60℃)溶解し、5℃まで冷却後、析
出物をろ別、乾燥し、白色の固体(4−フェニルカルボ
ニルジフェニルスルフィド)20.3部を得た。生成物
の融点は69〜70℃であった。(Synthesis Example of Diphenyl Sulfide Compound Represented by Formula (5)) Synthesis Example 1 (Synthesis of Compound of Formula (i)) Methanesulfonic acid
7 parts and phosphorus pentoxide (16.2 parts) were uniformly dissolved, and diphenyl sulfide (18.6 parts) and benzoic acid (12.2 parts) were added thereto, and the mixture was reacted at 80 ° C for 1 hour. After confirming that the reaction was completed, 1000 parts of an aqueous potassium hydroxide solution (800 parts of water) was added.
In which 200 parts of potassium hydroxide is dissolved. ), The precipitate was filtered off and dried, and then dissolved in 400 parts of ethanol by heating (60 ° C). After cooling to 5 ° C, the precipitate was filtered off and dried to give a white solid (4- 20.3 parts of phenylcarbonyldiphenylsulfide) were obtained. The melting point of the product was 69-70 ° C.
【0041】合成例2 メタンスルホン酸180.3部、五酸化リン18.3部
を均一に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びp−メチル安息香酸13.6部を仕込み80℃で
1時間反応を行ない液体クロマトグラフィーにて反応が
終了していることを確認し、この反応混合物を合成例1
と同様な処理を行ない白色の固体(4−(p−メチルフ
ェニルカルボニル)ジフェニルスルフィド)20.2部
を得た。生成物の融点は117〜118℃であった。Synthesis Example 2 180.3 parts of methanesulfonic acid and 18.3 parts of phosphorus pentoxide were uniformly dissolved, and 18.6 parts of diphenyl sulfide was added thereto.
And 13.6 parts of p-methylbenzoic acid were charged and reacted at 80 ° C. for 1 hour, and it was confirmed that the reaction was completed by liquid chromatography.
The same treatment as described above was performed to obtain 20.2 parts of a white solid (4- (p-methylphenylcarbonyl) diphenyl sulfide). The melting point of the product was 117-118 ° C.
【0042】合成例3 メタンスルホン酸208.2部、五酸化リン20.8部
を均一に溶解し、これにジフェニルスルフィド18.6
部及びp−クロロ安息香酸15.7部を仕込み80℃で
1時間反応を行い、液体クロマトグラフィーにて反応が
終了していることを確認し、この反応混合物を合成例1
と同様な処理を行い白色の固体(4−(p−クロロフェ
ニルカルボニル)ジフェニルスルフィド)21.6部を
得た。生成物の融点は134〜135℃であった。Synthesis Example 3 208.2 parts of methanesulfonic acid and 20.8 parts of phosphorus pentoxide were uniformly dissolved, and 18.6 parts of diphenyl sulfide was added thereto.
And 15.7 parts of p-chlorobenzoic acid were charged and reacted at 80 ° C. for 1 hour, and it was confirmed that the reaction was completed by liquid chromatography.
The same treatment as described above was performed to obtain 21.6 parts of a white solid (4- (p-chlorophenylcarbonyl) diphenyl sulfide). The melting point of the product was 134-135 ° C.
【0043】実施例1 合成例1で得た化合物(4−フェニルカルボニルジフェ
ニルスルフィド)29部、無水酢酸150部及びタング
ステン酸ソーダ2水和物1部を仕込み、50〜70℃で
攪拌しながら35%過酸化水素5.7部を滴下しさらに
2時間反応させ合成例1で得た化合物の部分酸化を行な
い反応液中に4−フェニルカルボニルジフェニルスルフ
ィドと4−フェニルカルボニルジフェニルスルホキシド
がほぼ等モルが存在するようにし、次いでメタンスルホ
ン酸200部を仕込み、80℃に加熱し、攪拌しながら
3時間反応を行い、次いで、この反応混合物を攪拌しな
がら、5%のNaSbF6の水溶液258.7部に少しずつ滴
下し、析出した白色の固体をろ過、次いでメタノールで
洗浄、乾燥し、白色の固体を35部得た。生成物の融点
は83〜86℃であり、元素分析の結果は計算値にほぼ
一致した。Example 1 29 parts of the compound (4-phenylcarbonyldiphenyl sulfide) obtained in Synthesis Example 1, 150 parts of acetic anhydride and 1 part of sodium tungstate dihydrate were charged, and stirred at 50 to 70 ° C. for 35 parts. 5.7 parts of hydrogen peroxide were added dropwise, and the mixture was further reacted for 2 hours to partially oxidize the compound obtained in Synthesis Example 1. In the reaction solution, 4-phenylcarbonyldiphenylsulfide and 4-phenylcarbonyldiphenylsulfoxide were almost equimolar. And then charged with 200 parts of methanesulfonic acid, heated to 80 ° C. and reacted with stirring for 3 hours, and then, while stirring, the reaction mixture was stirred and stirred with 258.7 parts of a 5% aqueous solution of NaSbF 6 258.7 parts. , And the precipitated white solid was filtered, washed with methanol, and dried to obtain 35 parts of a white solid. The melting point of the product was 83-86 ° C, and the result of elemental analysis almost coincided with the calculated value.
【0044】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 55.89 55.97 水素 3.40 3.34 イオウ 7.82 7.86 アンチモン 14.75 14.93 フッ素 13.86 13.98 これによりこの生成物が構造式Element Actual value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 55.89 55.97 Hydrogen 3.40 3.34 Sulfur 7.82 7.86 Antimony 14.75 14.93 Fluorine 13.86 13. 98 This gives the product with the structural formula
【0045】[0045]
【化15】 Embedded image
【0046】で示されるオニウム塩であることが確認さ
れた。It was confirmed that the onium salt was represented by the following formula:
【0047】実施例2 合成例2で得た化合物(4−(p−メチルフェニルカル
ボニル)ジフェニルスルフィド)30.4部、無水酢酸
150部及びタングステン酸ソーダ2水和物1部を仕込
み、50〜70℃で攪拌しながら35%過酸化水素水
5.7部を滴下しさらに2時間反応させ合成例2で得た
化合物の部分酸化を行ない、次いでメタンスルホン酸2
00部を仕込み、80℃に加熱し、攪拌しながら3時間
反応を行ない、次いで、この反応混合物を攪拌しなが
ら、5%のNaSbF6の水溶液258.7部に少しずつ滴下
し、析出した白色の固体をろ過、次いでメタノールで洗
浄、乾燥し、白色の固体を35.8部得た。生成物の融
点は133〜135℃であり、元素分析の結果は計算値
にほぼ一致した。Example 2 30.4 parts of the compound (4- (p-methylphenylcarbonyl) diphenyl sulfide) obtained in Synthesis Example 2, 150 parts of acetic anhydride and 1 part of sodium tungstate dihydrate were charged, and 50 While stirring at 70 ° C., 5.7 parts of 35% hydrogen peroxide solution was added dropwise, and the mixture was further reacted for 2 hours to partially oxidize the compound obtained in Synthesis Example 2. Then, methanesulfonic acid 2 was added.
Then, the mixture was heated to 80 ° C., and reacted for 3 hours while stirring. Then, while stirring, the reaction mixture was gradually added dropwise to 258.7 parts of a 5% aqueous solution of NaSbF 6 while stirring to precipitate white. The solid was filtered, then washed with methanol and dried to obtain 35.8 parts of a white solid. The melting point of the product was 133 to 135 ° C., and the result of elemental analysis almost coincided with the calculated value.
【0048】 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 56.89 56.95 水素 3.81 3.70 イオウ 7.62 7.60 アンチモン 14.35 14.43 フッ素 13.42 13.51 これによりこの生成物は、構造式Element Actual measured value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 56.89 56.95 Hydrogen 3.81 3.70 Sulfur 7.62 7.60 Antimony 14.35 14.43 Fluorine 13.42 13. 51 This gives the product of structural formula
【0049】[0049]
【化16】 Embedded image
【0050】で示されるオニウム塩であることが確認さ
れた。It was confirmed that the compound was an onium salt represented by the following formula:
【0051】実施例3 合成例3で得た化合物(4−(p−クロロフェニルカル
ボニル)ジフェニルスルフィド)32.5部、無水酢酸
150部及びタングステン酸ソーダ2水和物1部を仕込
み、50〜70℃で攪拌しながら35%過酸化水素水
5.7部を滴下しさらに2時間反応させ合成例3で得た
化合物の部分酸化を行ない、次いでメタンスルホン酸2
00部を仕込み、80℃に加熱し、攪拌しながら3時間
反応を行ない、次いで、この反応混合物を攪拌しなが
ら、5%のNaPF6 の水溶液167.9部に少しずつ滴下
し、析出した白色の固体をろ過、次いでメタノールで洗
浄、乾燥し、白色の固体を34.1部得た。生成物の融
点は152〜155℃であり、元素分析の結果は計算値
にほぼ一致した。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 57.42 57.51 水素 3.09 3.17 イオウ 8.03 8.08 リン 3.88 3.90 フッ素 14.35 14.36 塩素 8.85 8.93 これにより得られた生成物は、構造式Example 3 32.5 parts of the compound (4- (p-chlorophenylcarbonyl) diphenyl sulfide) obtained in Synthesis Example 3, 150 parts of acetic anhydride and 1 part of sodium tungstate dihydrate were charged, and 50-70 While stirring at ℃, 5.7 parts of 35% hydrogen peroxide solution was added dropwise, and the mixture was further reacted for 2 hours to partially oxidize the compound obtained in Synthesis Example 3, and then methanesulfonic acid 2
The mixture was heated to 80 ° C., and reacted for 3 hours while stirring. Then, while stirring, the reaction mixture was added dropwise little by little to 167.9 parts of a 5% aqueous solution of NaPF 6 to precipitate white. The solid was filtered, washed with methanol and dried to obtain 34.1 parts of a white solid. The melting point of the product was 152 to 155 ° C., and the result of elemental analysis almost coincided with the calculated value. Element Actual measured value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 57.42 57.51 Hydrogen 3.09 3.17 Sulfur 8.03 8.08 Phosphorus 3.88 3.90 Fluorine 14.35 14.36 Chlorine 8 .85 8.93 The resulting product has the structural formula
【0052】[0052]
【化17】 Embedded image
【0053】で示されるオニウム塩であることが確認さ
れた。It was confirmed that the compound was an onium salt represented by the following formula:
【0054】実施例4〜9、比較例1〜6 表2に示す配合組成(数値は重量部である。)に従って
各成分を配合、混合、溶解し本発明及び比較用のエネル
キー線硬化性組成物を得た。これらを、アルミテストパ
ネル上に厚さ5μmに塗布し高圧水銀灯(80w/c
m)で8cmの距離から紫外線を照射し、硬化させた。
調製された組成物の透明性、保存安定性、指触乾燥性、
硬化塗膜の光沢、臭気について試験した。これらの結果
を表2に示す。Examples 4 to 9 and Comparative Examples 1 to 6 The respective components were blended, mixed and dissolved in accordance with the blending compositions (the numerical values are parts by weight) shown in Table 2 to obtain the present invention and the comparative energy-curable compositions for comparison. I got something. These were applied on an aluminum test panel to a thickness of 5 μm, and a high-pressure mercury lamp (80 w / c
m), ultraviolet light was irradiated from a distance of 8 cm to cure.
Transparency, storage stability, touch dryness of the prepared composition,
The cured coating film was tested for gloss and odor. Table 2 shows the results.
【0055】(試験方法) 透明性:組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である △・・・・わずかににごりあり ×・・・・白ダクしている ××・・・・すぐに分離する 保存安定性:組成物を40℃で3ケ月間保存し、安定性
を試験した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/c
m2 )を測定した。 光 沢 :指触乾燥するまで紫外線を照射した後、硬
化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない 臭 気 :塗布面に1000mJ/cm2 照射した
後、硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い(Test Method) Transparency: The transparency of the composition was visually determined. ○ ・ ・ ・ Completely transparent △ ・ ・ ・ Slightly dirty × ・ ・ ・ ・ White dull XX ・ ・ ・ ・ Separate immediately Storage stability: The composition was 3% at 40 ° C. Stored for months and tested for stability. ○ ・ ・ ・ No change at all △ ・ ・ ・ ・ Slightly thickened × ・ ・ ・ ・ Gelled Touch dryness: Irradiation dose until touch dry (mJ / c)
m 2 ) was measured. Mitsawa: After irradiating ultraviolet rays until the touch was dried, the surface of the cured coating film was visually judged. ○ ・ ・ ・ Good gloss △ ・ ・ ・ Slightly cloudy × ・ ・ ・ No gloss Odor: After irradiating the coated surface with 1000 mJ / cm 2 , the odor on the surface of the cured coating film was reduced. Observed. ○ ・ ・ ・ No odor △ ・ ・ ・ ・ Slight odor × ・ ・ ・ ・ Odor XX ・ ・ ・ ・ High odor
【0056】[0056]
【表2】 表2(1) 実施例 4 5 6 7 8 9 組成 実施例1で得た光重合開始剤 1.5 1.0 実施例2で得た光重合開始剤 1.5 1.0 実施例3で得た光重合開始剤 1.5 1.0 セロキサイド2021*4 80 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 20 VEctomer2010 *6 25 25 25 VEctomer4020 *7 25 25 25 トリエチレングリコールジ ビニルエーテル 10 10 10 物性 透明性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 23 23 75 12 12 23 光沢 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 臭気 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 表2(2) 比較例 1 2 3 4 5 6 組成 化合物1 *1 1.5 1.0 化合物2 *2 1.5 1.0 化合物3 *3 1.5 1.0 セロキサイド2021 *4 80 80 80 EHPE−3150 *5 20 20 20 VEctomer2010 *6 25 25 25 VEctomer4020 *7 25 25 25 トリエチレングリコールジ ビニルエーテル 10 10 10 物性 透明性 ○ ○ ○ ○ × × 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 140 75 75 34 23 23 光沢 ○ ○ ○ × × × 臭気 △ △ ○ △ △ ○Table 2 (1) Example 4 5 6 7 8 9 Composition Photopolymerization initiator obtained in Example 1 1.5 1.0 Photopolymerization initiator obtained in Example 2 1.5 1.0 Photopolymerization obtained in Example 3 Initiator 1.5 1.0 Celloxide 2021 * 4 80 80 80 EHPE-3150 * 5 20 20 20 VEctomer 2010 * 6 25 25 25 VEctomer 4020 * 7 25 25 25 Triethylene glycol divinyl ether 10 10 10 Physical properties Transparency ○ ○ ○ ○ ○ ○ Storage stability ○ ○ ○ ○ ○ ○ Dry to the touch (mJ / cm 2 ) 23 23 75 12 12 23 Gloss ○ ○ ○ ○ ○ ○ Odor ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Table 2 (2) Comparative Example 1 2 3 4 5 6 Composition Compound 1 * 1 1.5 1.0 Compound 2 * 2 1.5 1.0 Compound 3 * 3 1.5 1.0 Celloxide 2021 * 480 80 80 80 EHPE-3150 * 5 20 20 20 VEctomer2010 * 625 5 25 VEctomer4020 * 7 25 25 25 Triethylene glycol divinyl ether 10 10 10 Properties Transparency ○ ○ ○ ○ × × storage stability ○ ○ ○ ○ ○ ○ dry tack (mJ / cm 2) 140 75 75 34 23 23 Gloss ○ ○ ○ × × × Odor △ △ ○ △ △ ○
【0057】(注)*1 化合物1:トリフェニル
スルホニウムヘキサフルオロホスフェート *2 化合物2:ジフェニル−4−チオフェノンキ
シフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート *3 化合物3:4,4′−ビス〔ビス(p−2−
ヒドロキシエトキシフェニル)スルホニオ〕フェニルス
ルフィドヘキサフルオロホスフェート *4 セロキサイド2021:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂。 *5 EHPE−3150:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *6 VEtomer 2010:芳香族ウレタンビニル
エーテル(ALLIED−SIGNAL社製) *7 VEtomer 4020:下記の構造式を有する
脂肪族エステルビニルエーテル(ALLIED−SIG
NAL社製)(Note) * 1 Compound 1: triphenylsulfonium hexafluorophosphate * 2 Compound 2: diphenyl-4-thiophenone xyphenylsulfonium hexafluorophosphate * 3 Compound 3: 4,4'-bis [bis (p- 2-
[Hydroxyethoxyphenyl) sulfonio] phenylsulfide hexafluorophosphate * 4 Celloxide 2021: an alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. * 5 EHPE-3150: alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. * 6 VEtomer 2010: aromatic urethane vinyl ether (manufactured by ALLIED-SIGNAL) * 7 VEtomer 4020: aliphatic ester vinyl ether having the following structural formula (ALLIED-SIG
NAL)
【0058】[0058]
【化18】 Embedded image
【0059】表2の結果から明らかなように、本発明の
光重合開始剤を含有したエネルギ−線硬化性組成物は、
相容性に優れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が
良好であり、硬化塗膜の臭気も小さい。As is clear from the results in Table 2, the energy ray-curable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention was
It has excellent compatibility, is transparent and has excellent curability, has good gloss of the cured coating film, and has low odor of the cured coating film.
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相溶性に優れ、透明で硬化性に
優れ、得られる硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜の臭
気も小さく、又、金属との密着性の良好な、優れた物性
の硬化物をあたえる。The energy ray-curable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention has excellent compatibility, is transparent and excellent in curability, and has a high gloss of the cured film obtained. It gives a cured product with low odor and excellent physical properties with good adhesion to metal.
Claims (10)
2 は、それぞれ1価の芳香族基をそれぞれ表す。又、Z
は式(3) 【化3】 MQp-m (OH)m (3) (式(3)中、Mは、リン原子、ヒ素原子またはアンチ
モン原子であり、Qはハロゲン原子であり、Pは4〜6
の整数であり、mは0または1の整数である。)又は式
(4) 【化4】 BYaRb (4) (式(4)中、Bはホウ素原子、a及びbは0〜4の整
数であり、ここではa+bは4であり、Yはハロゲン原
子または水酸基を、Rは少なくとも1個の電子吸引基も
しくは少なくとも2個のハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表す。)で表されるアニオンを表す。)
An onium salt represented by the following formula (1): (In the formula (1), X represents a group represented by the formula (2). However, in the formulas (1) and (2), Ar 1 and Ar
2 represents a monovalent aromatic group. Also, Z
Is a formula (3) embedded image MQ pm (OH) m (3) (in the formula (3), M is a phosphorus atom, an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, and P is 6
And m is an integer of 0 or 1. Or a formula (4): BYaRb (4) (In the formula (4), B is a boron atom, a and b are integers from 0 to 4, where a + b is 4 and Y is a halogen atom. Alternatively, R represents a hydroxyl group, and R represents a phenyl group substituted with at least one electron-withdrawing group or at least two halogen atoms.) )
(C1 〜C10)アルキルオキシカルボニル基、(C1 〜
C10)アルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル基、シ
アノ基、ニトロ基、(C1 〜C20)アルコキシ基、ハロ
ゲン原子からなる群から選択される1つ以上の基を置換
基として有してもよい。)である請求項1のオニウム
塩。2. Ar 1 and Ar 2 are each represented by the formula: (These aromatic groups are (C 1 -C 20 ) alkyl groups,
(C 1 ~C 10) alkyloxycarbonyl group, (C 1 ~
C 10) alkyl carbonyloxy group, a benzoyl group, a cyano group, a nitro group, (C 1 -C 20) alkoxy group, one or more groups selected from the group consisting of halogen atoms which may have a substituent . )).
する光重合開始剤。3. A photopolymerization initiator comprising the onium salt of claim 1 or 2 as an active ingredient.
ニウム塩を含有するエネルギー線硬化性組成物、4. An energy ray-curable composition comprising a cationically polymerizable substance and the onium salt according to claim 1 or 2,
ビニルエーテル系化合物又は環状エーテル系化合物であ
る請求項4の組成物。5. The method according to claim 1, wherein the cationically polymerizable substance is an epoxy compound,
The composition according to claim 4, which is a vinyl ether compound or a cyclic ether compound.
ある請求項5の組成物。6. The composition according to claim 5, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy resin.
リコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコール
ジビニルエーテル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロ
ールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニ
ルエーテル、ポリエステルポリビニルエーテル又はウレ
タンポリビニルエーテルである請求項5の組成物。7. The vinyl ether compound is triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, polyester polyvinyl ether or urethane polyvinyl ether. The composition of claim 5.
射することを特徴とする該組成物の硬化方法。9. A method for curing a composition according to claim 4, wherein the composition is irradiated with an energy ray.
求項9の硬化方法。10. The curing method according to claim 9, wherein the energy ray is an ultraviolet ray or an electron beam.
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