JPH06345726A - Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization - Google Patents

Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization

Info

Publication number
JPH06345726A
JPH06345726A JP16856793A JP16856793A JPH06345726A JP H06345726 A JPH06345726 A JP H06345726A JP 16856793 A JP16856793 A JP 16856793A JP 16856793 A JP16856793 A JP 16856793A JP H06345726 A JPH06345726 A JP H06345726A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
hexafluoroantimonate
alkyl
sulfonium salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16856793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Eiji Takahashi
栄治 高橋
Hiroo Muramoto
博雄 村本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to JP16856793A priority Critical patent/JPH06345726A/en
Publication of JPH06345726A publication Critical patent/JPH06345726A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a novel sulfonium salt compound which is useful as an initiator for polymerization, having polymerizing and hardening action on cationic polymerizable compounds in a short period of time. CONSTITUTION:The sulfonium salt compound of formula I or II Where R1 is H, alkyl, halogen, COOH, or alkoxycarbonyl; R2 is alkyl; R3 is (substituted) phenyl or (substituted) naphthyl; X is SbF6, AsF6, PF6, or BF4; R4 is H, alkyl, halogen, OH, alkoxy, COOH, or alkanoyl; R5 is alkyl; and R6 is alkenyl, alpha- alkylbenzyl, fluorenyl, or the like, for example, benzylphenylmethyl-sulfonium hexafluoroantimonate. The compound of the formula I or II can be obtained, for example, by reacting an aromatic sulfide compound with a sulfonic acid alkyl ester, and then by reacting with sodium hexafluoroantimonate and the like compound.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規スルホニウム塩化
合物およびそれを含有するカチオン重合開始剤に関する
ものである。該重合開始剤を含有するカチオン重合性組
成物は、加熱により短時間で硬化することができ、得ら
れた硬化物は、優れた物性を有しているため成型樹脂、
注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好適に
用いられる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel sulfonium salt compound and a cationic polymerization initiator containing the same. The cationically polymerizable composition containing the polymerization initiator can be cured in a short time by heating, and the obtained cured product has excellent physical properties and is therefore a molding resin,
It is preferably used as a material for casting resins, paints, adhesives, inks and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、エポキシ樹脂の硬化剤として、二
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物、カ
ルボン酸無水物やメルカプト化合物がある。一方、エポ
キシ樹脂を一液系として硬化するのには、フッ化ホウ素
−モノエチルアミンがある。また、熱潜在性カチオン重
合開始剤及びその組成物が記載されているものとして、
特開昭58−37003号、特開昭63−223002
号、特開昭56−152833号、特開平2−1783
19号、特開平3−17119号などが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as curing agents for epoxy resins, active amine-containing compounds, carboxylic acid anhydrides and mercapto compounds, which are widely used in two-part systems, are available. On the other hand, there is boron fluoride-monoethylamine for curing the epoxy resin as a one-component system. Further, as a thermal latent cationic polymerization initiator and its composition are described,
JP-A-58-37003, JP-A-63-223002
JP-A-56-152833, JP-A-2-1783
No. 19, JP-A-3-17119 and the like are known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】活性なアミン含有化合
物やカルボン酸無水物により、エポキシ樹脂を硬化する
所謂二液系では、完全に各成分を混合する必要があり、
硬化時間も数時間要する。また、反応が室温でも逐次的
に起こるので、ポットライフが数時間から数日と短く、
取り扱い上問題がある。一方、エポキシ樹脂を一液系と
して硬化することができるフッ化ホウ素−モノエチルア
ミン系では、取り扱い上が便利ではあるが、硬化温度が
160℃以上と高く、しかも完全硬化するのに1〜8時
間要するという問題がある。また、特開昭58−370
03号に記載されているスルホニウム塩系の熱潜在性カ
チオン重合開始剤および、特開平2−178319号に
記載されているピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重
合開始剤では、一液系とすることができ、硬化時間も短
いという特徴を有しているが、スルホニウム塩系では臭
気の問題があり、ピリジニウム塩系では、硬化温度が高
いという問題点がある。また、これらの開始剤、特にピ
リジニウム塩系では、光感知能力が殆ど無いため、光硬
化用開始剤として使用することはできない。
In a so-called two-component system in which an epoxy resin is cured by an active amine-containing compound or carboxylic acid anhydride, it is necessary to completely mix the respective components,
It takes several hours to cure. Also, since the reactions occur sequentially even at room temperature, the pot life is short, from hours to days,
There is a problem in handling. On the other hand, a boron fluoride-monoethylamine system capable of curing an epoxy resin as a one-component system is convenient in handling, but the curing temperature is as high as 160 ° C. or higher, and it takes 1 to 8 hours to completely cure. There is a problem of cost. Also, JP-A-58-370
The sulfonium salt-based thermal latent cationic polymerization initiator described in JP-A No. 03 and the pyridinium salt-based thermal latent cationic polymerization initiator described in JP-A-2-178319 must be a one-component system. However, the sulfonium salt system has a problem of odor, and the pyridinium salt system has a problem that the curing temperature is high. Further, these initiators, particularly pyridinium salt-based ones, have almost no photosensing ability and therefore cannot be used as photocuring initiators.

【0004】本発明は、前に述べた事情からみてなされ
たもので、カチオン重合性化合物を加熱により、短時間
に硬化させることができ、また増感剤併用時に高い光硬
化性を有する低臭気または無臭気の新規なカチオン重合
開始剤を提供するとともに、優れた物性を有する硬化物
を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is possible to cure a cationically polymerizable compound in a short time by heating, and a low odor having high photocurability when used together with a sensitizer. Another object is to provide a novel cationic polymerization initiator which is odorless and a cured product having excellent physical properties.

【0005】[0005]

【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため、鋭意検討したところ、特定のスルホニ
ウム塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温
かつ短時間にてカチオン重合性化合物を硬化することが
でき、更にその硬化物特性に優れた性能を与える新規重
合開始剤を見出して本発明を完成するに至った。即ち、
本発明は、下記一般式化3又は化4で表されるスルホニ
ウム塩化合物、および該化合物をの少なくとも一種を含
有するカチオン重合開始剤である。
[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have conducted extensive studies to achieve the above-mentioned object. As a result, by using a polymerization initiator composed of a specific sulfonium salt compound, cationic polymerization can be performed at low temperature and in a short time. The present invention has been completed by finding a novel polymerization initiator capable of curing a polymerizable compound and imparting excellent properties to the cured product. That is,
The present invention is a sulfonium salt compound represented by the following general formula 3 or 4, and a cationic polymerization initiator containing at least one of the compounds.

【0006】[0006]

【化3】 [Chemical 3]

【0007】〔式中、R1 は、水素原子、アルキル基、
ハロゲン原子、カルボキシル基又はアルコキシカルボニ
ル基を表し、R2 はアルキル基を表し、R3 は、置換さ
れていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいナ
フチル基を表し、Xは、SbF6 ,AsF6 ,PF6
はBF4 を表す〕
[Wherein R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group,
Represents a halogen atom, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group, R 2 represents an alkyl group, R 3 represents an optionally substituted phenyl group or an optionally substituted naphthyl group, X represents SbF 6 , Represents AsF 6 , PF 6 or BF 4 ]

【0008】[0008]

【化4】 [Chemical 4]

【0009】〔式中、R4 は、水素原子、アルキル基、
ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基
又はアルカノイル基を表し、R5 はアルキル基を表し、
6 は、アルケニル基、α−アルキルベンジル基、α,
α−ジアルキルベンジル基、α−フェニルベンジル基又
はフルオレニル基を表し、XはSbF6 ,AsF6 ,P
6 又はBF4 を表す〕以下、本発明を詳細に説明す
る。
[In the formula, R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group,
Represents a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group or an alkanoyl group, R 5 represents an alkyl group,
R 6 is an alkenyl group, α-alkylbenzyl group, α,
represents an α-dialkylbenzyl group, an α-phenylbenzyl group or a fluorenyl group, and X represents SbF 6 , AsF 6 , P
Representing F 6 or BF 4 ] Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】本発明のスルホニウム塩化合物は、上記の
一般式化3又は化4で表されるが、一般式化3におい
て、R1 は、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、t−ブチル等のアルキル基、F、
Cl、Br、I等のハロゲン原子、カルボキシ基、メト
キシカルボキシル基、エトキシカルボニル基等のアルコ
キシカルボニル基又は置換されていても良いフェノキシ
カルボニル基の群より選ばれた基であり、R2 は、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブ
チル等のアルキル基の群より選ばれた基であり、R
3 は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル等のアルキル基、F、Cl、Br、I等
のハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキ
シ基、ニトロ基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基、置換されていて
もよいフェノキシカルボニル基等の置換基で置換されて
いてもよいフェニル基又はナフチル基の群より選ばれた
基である。また、Xは、SbF6,AsF6 ,PF6
はBF4 であり、この内、SbF6 が好んで用いられ
る。
The sulfonium salt compound of the present invention is represented by the above formula 3 or formula 4, wherein R 1 is a hydrogen atom, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t. -Alkyl group such as butyl, F,
A halogen atom such as Cl, Br or I, a carboxy group, a methoxycarboxyl group, an alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group which may be substituted, and R 2 is methyl. R is a group selected from the group of alkyl groups such as ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, and R
3 is an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and t-butyl, a halogen atom such as F, Cl, Br and I, an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, a nitro group and a methoxycarbonyl group, It is a group selected from the group consisting of an alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group and a phenyl group or a naphthyl group which may be substituted with a substituent such as an optionally substituted phenoxycarbonyl group. Further, X is SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or BF 4 , of which SbF 6 is preferably used.

【0011】また、一般式化4において、R4 は、水素
原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル等のアルキル基、F、Cl、Br、I等
のハロゲン原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のア
ルカノイル基の群より選ばれた基であり、R5 は、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブ
チル等のアルキル基の群より選ばれた基であり、R
6 は、シンナミル基、β−メタリル基等のアルケニル
基、α−メチルベンジル基やα−メチルベンジル基等の
α−アルキルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基
やα,α−ジエチチルベンジル基等のα,α−ジアルキ
ルベンジル基、α−フェニルベンジル基、フルオレニル
基の群より選ばれた基である。また、Xは、SbF6
AsF6 ,PF6 又はBF4 であり、この内、SbF6
が好んで用いられる。
In the general formula 4, R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and t-butyl, a halogen atom such as F, Cl, Br and I, a hydroxyl group, Alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, carboxy group, methoxycarbonyl group,
R 5 is a group selected from the group of alkanoyl groups such as ethoxycarbonyl group and phenoxycarbonyl group, and R 5 is a group selected from the group of alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl and t-butyl. Yes, R
6 is an alkenyl group such as a cinnamyl group or a β-methallyl group, an α-alkylbenzyl group such as an α-methylbenzyl group or an α-methylbenzyl group, an α, α-dimethylbenzyl group or an α, α-diethylbenzyl group. And a group selected from the group consisting of α, α-dialkylbenzyl groups, α-phenylbenzyl groups and fluorenyl groups. X is SbF 6 ,
AsF 6 , PF 6 or BF 4 , of which SbF 6
Is preferred.

【0012】該スルホニウム塩化合物は、例えば、次の
方法で得ることができる。フェニルベンジルスルフィ
ド、4−ヒドロキシフェニルシンナミルスルフィド、α
−フェニルベンジルフェニルスルフィド、1−ナフチル
メチルフェニルスルフィド等の芳香族スルフィド化合物
とジメチル硫酸又はp−トルエンスルホン酸メチル等の
スルホン酸アルキルエステルとを等モルづつ、必要に応
じてメタノール、ジオキサン、アセトニトリル等の溶媒
存在下にて室温〜80℃で数時間〜30日間反応させ、
次いで、得られた化合物を水もしくは水−メタノール系
等の水−有機溶媒系に溶解せしめ、六フッ化アンチモン
酸ナトリウムなどを加え激しく攪拌し、析出した液状ま
たは固形物の生成物を分離後、乾燥して得られる。
The sulfonium salt compound can be obtained, for example, by the following method. Phenylbenzyl sulfide, 4-hydroxyphenylcinnamyl sulfide, α
-Equimolar amounts of an aromatic sulfide compound such as phenylbenzyl phenyl sulfide and 1-naphthylmethyl phenyl sulfide, and sulfonic acid alkyl ester such as dimethyl sulfate or methyl p-toluene sulfonate, if necessary, methanol, dioxane, acetonitrile, etc. In the presence of the solvent at room temperature to 80 ° C for several hours to 30 days,
Next, the obtained compound is dissolved in water or water-organic solvent system such as water-methanol system, and vigorously stirred by adding sodium hexafluoroantimonate, etc., and after separating the precipitated liquid or solid product, Obtained by drying.

【0013】本発明の代表的なスルホニウム塩化合物と
して、次の化5〜化7に示されるものが例示される。但
し、式中のXは、SbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF
4 である。
As typical sulfonium salt compounds of the present invention, compounds represented by the following chemical formulas 5 to 7 are exemplified. However, X in the formula is SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or BF.
Is 4 .

【0014】[0014]

【化5】 [Chemical 5]

【0015】[0015]

【化6】 [Chemical 6]

【0016】[0016]

【化7】 [Chemical 7]

【0017】本発明において、重合開始剤である前記ス
ルホニウム塩化合物は、カチオン重合性化合物と配合し
てカチオン重合組成物として用いられる。カチオン重合
性化合物としては、次のような化合物が挙げられる。 (a)エポキシ基を有する化合物として、1,1,3−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、4−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールA型エポシキ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールA型エポシキ樹脂、o−,m−,p−ク
レゾールノボラック型エポシキ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポシキ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポキシ化合物
In the present invention, the sulfonium salt compound as a polymerization initiator is mixed with a cationically polymerizable compound and used as a cationically polymerized composition. Examples of the cationically polymerizable compound include the following compounds. (A) As a compound having an epoxy group, 1,1,3-
Tetradecadiene dioxide, limonene dioxide, 4-vinylcyclohexene dioxide, (3,4
-Epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, di (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, phenylglycidyl ether, bisphenol A type epoxy resin, halogenated bisphenol A type epoxy resin, o-, m-, Epoxy compounds such as p-cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol

【0018】(b)ビニル化合物として、スチレン、α
−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類;n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;
アリルビニルエーテル、1−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類;エチニル
ビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類;フェニルビニ
ルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類;ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類;1,4−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、N−m−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチレング
リコール)ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類;ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類;N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
(B) Styrene and α as vinyl compounds
-Styrenes such as methylstyrene and p-chloromethylstyrene; alkyl vinyl ethers such as n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether and hydroxybutyl vinyl ether;
Alkenyl vinyl ethers such as allyl vinyl ether and 1-octahydronaphthyl vinyl ether; alkynyl vinyl ethers such as ethynyl vinyl ether and 1-methyl-2-propenyl vinyl ether; aryl vinyl ethers such as phenyl vinyl ether and p-methoxyphenyl vinyl ether; butanediol divinyl ether , Alkyldivinyl ethers such as triethylene glycol vinyl ether and cyclohexanediol divinyl ether; aralkyl dialkyl ethers such as 1,4-benzenedimethanol divinyl ether, N-m-chlorophenyldiethanolamine divinyl ether and m-phenylenebis (ethylene glycol) divinyl ether. Vinyl ethers; hydroquinone divinyl ether, resorcinol divinyl ether Aryl divinyl ethers such as ether; N- vinylcarbazole, N- vinylpyrrolidone and cationic polymerizable nitrogen-containing compounds such

【0019】(c)ビシクロオルソエステル化合物とし
て、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキ
サビシクロ〔2,2,2〕オクタン,1−エチル−4−
ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2,2,2〕オクタン等
As the (c) bicycloorthoester compound, 1-phenyl-4-ethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane, 1-ethyl-4-
Hydroxymethyl-2,6,7-trioxabicyclo [2,2,2] octane etc.

【0020】(d)スピロオルソカーボネート化合物と
して、1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,1
1−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等や1,
4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,2−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,
1,4,6−トリオキサスピロ〔4,5〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。
(D) As the spiro-orthocarbonate compound, 1,5,7,11-tetraoxaspiro [5,5]
5] Undecane, 3,9-dibenzyl-1,5,7,1
1-tetraoxaspiro [5,5] undecane, etc.
4,6-trioxaspiro [4,4] nonane, 2-methyl-1,4,6-trioxaspiro [4,4] nonane,
Examples thereof include spiro orthoester compounds such as 1,4,6-trioxaspiro [4,5] decane.

【0021】これらは、単独若しくは2種以上を併用し
て用いても差し支えない。(a)〜(d)の内で、殊に
(a)のエポキシ基を有する化合物が好んで使用され
る。
These may be used alone or in combination of two or more. Of the compounds (a) to (d), the compound having an epoxy group (a) is preferably used.

【0022】本発明において、前記スルホニウム塩化合
物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重
合性化合物100部に対し、スルホニウム塩化合物0.
01〜20部、好ましくは0.1〜10部の割合で配合
する。このスルホニウム塩化合物が量が少いと、カチオ
ン重合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物
の特性が低下する。
In the present invention, the compounding ratio of the sulfonium salt compound and the cationically polymerizable compound is such that the sulfonium salt compound is 0.
It is blended at a ratio of 01 to 20 parts, preferably 0.1 to 10 parts. When the amount of this sulfonium salt compound is small, the curability of the cationically polymerizable compound is lowered, and when it is excessive, the properties of the cured product are lowered.

【0023】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、加熱により容易に硬化できる。
熱硬化する場合は、30〜200℃、好ましくは、50
〜180℃の範囲で使用される。
The cationic polymerization composition containing the sulfonium salt compound of the present invention can be easily cured by heating.
When thermosetting, it is 30 to 200 ° C., preferably 50.
Used in the range of ~ 180 ° C.

【0024】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、
X線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易
に短時間で硬化することができる。電離性放射線による
硬化の場合は、通常0.5〜60Mradの線量の範囲
が使用でき、1〜50Mradの範囲が好ましい。な
お、電離性放射線および熱を併用して硬化させることも
可能である。
The cationic polymerization composition containing the sulfonium salt compound of the present invention contains α rays, β rays, γ rays, neutron rays,
It can be easily cured in a short time by ionizing radiation such as X-rays and accelerated electron beams. In the case of curing by ionizing radiation, a dose range of 0.5-60 Mrad can usually be used, with a range of 1-50 Mrad being preferred. It is also possible to cure by using ionizing radiation and heat in combination.

【0025】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物に、p−メトキシフェノールやフェ
ノチアジン等の増感剤を併用すると、光硬化を著しく加
速することができる。
When a cationic polymerization composition containing the sulfonium salt compound of the present invention is used in combination with a sensitizer such as p-methoxyphenol or phenothiazine, photocuring can be significantly accelerated.

【0026】本発明のスルホニウム塩化合物は、一般に
単独で使用されるが、他のカチオン重合開始剤と併用し
て用いることもできる。更に、前記(a)のエポキシ基
を有する化合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤
として通常用いられている、フェノール系硬化剤、酸無
水物類硬化剤等の硬化剤を性能が損なわない範囲内で併
用して用いてもよい。
The sulfonium salt compound of the present invention is generally used alone, but can also be used in combination with other cationic polymerization initiators. Further, when the compound having an epoxy group of the above (a) is used, the performance of a curing agent such as a phenolic curing agent or an acid anhydride curing agent that is usually used as a curing agent for an epoxy resin is not impaired. You may use together in the inside.

【0027】前記のカチオン重合性化合物に本発明の開
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
When the initiator of the present invention is used in combination with the above-mentioned cationically polymerizable compound, a reactive diluent, a curing accelerator, a solvent, a pigment, a dye, a coupling agent, if necessary,
It is used by adding an inorganic filler, carbon fiber glass fiber, surfactant and the like.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により、更に
具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に
何等限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.

【0029】(実施例1)ベンジルフェニルメチルスル
ホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンジルフェニルスルフィド8.01gとジメチル硫酸
5.05gを混合し、50℃で25時間反応させた。得
られた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥
し、前駆体のベンジルフェニルメチルスルホニウムスル
フェートを得た。 収率::99% ベンジルフェニルメチルスルホニウムスルフェート3.
26gを蒸留水5gとメチルエチルケトン(以下、ME
Kと言う)2gの混合溶液に溶解させ、六フッ化アンチ
モン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌した。この
溶液に蒸留水45gを加え、よく攪拌して冷却し、二層
分離した上澄み液を除去後、40℃で減圧乾燥させた。
収率:87%
Example 1 Synthesis of Benzylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 8.01 g of benzylphenyl sulfide and 5.05 g of dimethylsulfate were mixed and reacted at 50 ° C. for 25 hours. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor benzylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield :: 99% benzyl phenyl methyl sulfonium sulfate 3.
26 g of distilled water and 5 g of methyl ethyl ketone (hereinafter, ME
It is dissolved in a mixed solution of 2 g (referred to as K), 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate is added, and well stirred. Distilled water (45 g) was added to this solution, and the mixture was well stirred and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C.
Yield: 87%

【0030】得られたベンジルフェニルメチルスルホニ
ウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収スペクトル
データは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3032,1584,149
7,1480,1450,1428,1340,100
1,750,701,657
The IR absorption spectrum data of the obtained benzylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3032, 1584, 149
7, 1480, 1450, 1428, 1340, 100
1,750,701,657

【0031】(実施例2)4−クロロフェニルベンジル
メチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 4−クロロフェニルベンジルスルフィド7.04gとジ
メチル硫酸3.78gをメタノール4gに溶解させ、5
0℃で2日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−クロロフェ
ニルベンジルメチルスルホニウムスルフェートを得た。
収率:40% 4−クロロフェニルベンジルメチルスルホニウムスルフ
ェート3.61gを蒸留水20gに溶解させ、六フッ化
アンチモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌して
冷却した。析出した化合物を濾別後、40℃で減圧乾燥
させた。 収率:60%
Example 2 Synthesis of 4-chlorophenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 7.04 g of 4-chlorophenylbenzyl sulfide and 3.78 g of dimethylsulfate were dissolved in 4 g of methanol to give 5
The reaction was carried out at 0 ° C for 2 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-chlorophenylbenzylmethylsulfonium sulfate.
Yield: 40% 3.61 g of 4-chlorophenylbenzylmethylsulfonium sulfate was dissolved in 20 g of distilled water, 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate was added, and the mixture was well stirred and cooled. The precipitated compound was filtered off and dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 60%

【0032】得られた4−クロロフェニルベンジルメチ
ルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収
スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3036,1578,148
2,1425,1398,1098,1000,82
6,750,702,661
The IR absorption spectrum data of the obtained 4-chlorophenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3036, 1578, 148
2,1425,1398,1098,1000,82
6,750,702,661

【0033】(実施例3)4−メチルフェニルベンジル
メチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 4−メチルフェニルベンジルスルフィド6.43gとジ
メチル硫酸3.78gをメタノール4gに溶解させ、5
0℃で4日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−メチルフェ
ニルベンジルメチルスルホニウムスルフェートを得た。
収率:99% 4−メチルフェニルベンジルメチルスルホニウムスルフ
ェート3.40gを蒸留水20gに溶解させ、六フッ化
アンチモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌して
冷却した。析出した化合物を分離後、40℃で減圧乾燥
させた。 収率:83%
(Example 3) Synthesis of 4-methylphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 6.43 g of 4-methylphenylbenzyl sulfide and 3.78 g of dimethylsulfate were dissolved in 4 g of methanol to give 5
The reaction was carried out at 0 ° C for 4 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-methylphenylbenzylmethylsulfonium sulfate.
Yield: 99% 4-methylphenylbenzylmethylsulfonium sulfate (3.40 g) was dissolved in distilled water (20 g), potassium hexafluoroantimonate (3.30 g) was added, and the mixture was well stirred and cooled. After separating the precipitated compound, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 83%

【0034】得られた4−メチルフェニルベンジルメチ
ルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収
スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3034,1594,149
6,1457,1424,810,771,702,6
60
The IR absorption spectrum data of the obtained 4-methylphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3034, 1594, 149
6,1457,1424,810,771,702,6
60

【0035】(実施例4)ビニルベンジル−4−メチル
フェニルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネー
トの合成 ビニルベンジル−4−メチルフェニルスルフィド7.2
1gとジメチル硫酸3.78gをメタノール4gに溶解
させ、50℃で3日間反応させた。得られた化合物をエ
ーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体のビニル
ベンジル−4−メチルフェニルメチルスルホニウムスル
フェートを得た。 収率:99% ビニルベンジル−4−メチルフェニルメチルスルホニウ
ムスルフェート3.66gを蒸留水5gとMEK2gの
混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
3.30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45
gを加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み液
を除去後、40℃で減圧乾燥させた。収率:77% 得られたビニルベンジル−4−メチルフェニルメチルス
ルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収スペ
クトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3029,2932,159
8,1494,1447,1425,1090,99
9,920,809,709,661
Example 4 Synthesis of vinylbenzyl-4-methylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate Vinylbenzyl-4-methylphenyl sulfide 7.2
1 g and 3.78 g of dimethylsulfate were dissolved in 4 g of methanol and reacted at 50 ° C. for 3 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor vinylbenzyl-4-methylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 99% Vinylbenzyl-4-methylphenylmethylsulfonium sulfate (3.66 g) was dissolved in a mixed solvent of distilled water (5 g) and MEK (2 g), potassium hexafluoroantimonate (3.30 g) was added, and the mixture was stirred well. Distilled water 45 in this solution
g was added, the mixture was stirred well and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 77% IR absorption spectrum data of the obtained vinylbenzyl-4-methylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate was as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3029, 2932, 159
8, 1494, 1447, 1425, 1090, 99
9,920,809,709,661

【0036】(実施例5)ベンズヒドリルフェニルメチ
ルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 ベンズヒドリルフェニルスルフィド8.29gとジメチ
ル硫酸3.78gをアセトニトリル2gに溶解させ、5
0℃で5日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体のベンズヒドリル
フェニルメチルスルホニウムスルフェートを得た。 収
率:73% ベンズヒドリルフェニルメチルスルホニウムスルフェー
ト4.03gを蒸留水5gとMEK3gの混合溶媒に溶
解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.30gを加
え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45gを加え、よく
攪拌して冷却した。析出した化合物を分離後、40℃で
減圧乾燥させた。 収率:69%
Example 5 Synthesis of benzhydrylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 8.29 g of benzhydrylphenyl sulfide and 3.78 g of dimethylsulfate were dissolved in 2 g of acetonitrile and 5
The reaction was carried out at 0 ° C for 5 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor benzhydrylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 73% 4.03 g of benzhydrylphenylmethylsulfonium sulfate was dissolved in a mixed solvent of 5 g of distilled water and 3 g of MEK, 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate was added, and well stirred. 45 g of distilled water was added to this solution, and the mixture was stirred well and cooled. After separating the precipitated compound, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 69%

【0037】得られたベンズヒドリルフェニルメチルス
ルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収スペ
クトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3031,1662,151
9,1496,1450,1427,998,750,
704,661
The IR absorption spectrum data of the obtained benzhydrylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3031, 1662, 151
9, 1496, 1450, 1427, 998, 750,
704,661

【0038】(実施例6)シンナミルフェニルメチルス
ルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 シンナミルフェニルスルフィド8.29gとジメチル硫
酸3.78gをアセトニトリル2gに溶解させ、50℃
で5日間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、40℃で減圧乾燥し、前駆体のシンナミルフェニル
メチルスルホニウムスルフェートを得た。 収率:99
% シンナミルフェニルメチルスルホニウムスルフェート
3.52gを蒸留水5gとMEK2gの混合溶媒に溶解
させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.30gを加
え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45gを加え、よく
攪拌して冷却した。析出した化合物を分離後、40℃で
減圧乾燥させた。 収率:78% 得られたシンナミルフェニルメチルスルホニウムヘキサ
フロロアンチモネートのIR吸収スペクトルデータは以
下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3030,1598,149
5,1450,1432,1000,973,750,
702,658
(Example 6) Synthesis of cinnamylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 8.29 g of cinnamylphenyl sulfide and 3.78 g of dimethylsulfate were dissolved in 2 g of acetonitrile, and the mixture was heated to 50 ° C.
And reacted for 5 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor cinnamylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 99
% Cinnamylphenylmethylsulfonium sulfate (3.52 g) was dissolved in a mixed solvent of distilled water (5 g) and MEK (2 g), potassium hexafluoroantimonate (3.30 g) was added, and the mixture was stirred well. 45 g of distilled water was added to this solution, and the mixture was stirred well and cooled. After separating the precipitated compound, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 78% IR absorption spectrum data of the obtained cinnamylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate was as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3030, 1598, 149
5,1450,1432,1000,973,750,
702,658

【0039】(実施例7)β−メタリルフェニルメチル
スルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 β−メタリルフェニルスルフィド8.29gとジメチル
硫酸3.78gを混合し、50℃で5日間反応させた。
得られた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥
し、前駆体のβ−メタリルフェニルメチルスルホニウム
スルフェートを得た。 収率:77% β−メタリルフェニルメチルスルホニウムスルフェート
3.52gを蒸留水5gとMEK2gの混合溶媒に溶解
させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.30gを加
え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45gを加え、よく
攪拌して冷却した。析出した化合物を分離後、40℃で
減圧乾燥させた。 収率:71%
(Example 7) Synthesis of β-methallylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 8.29 g of β-methallylphenyl sulfide and 3.78 g of dimethylsulfate were mixed and reacted at 50 ° C. for 5 days.
The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor β-methallylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 77% 3.52 g of β-methallylphenylmethylsulfonium sulfate was dissolved in a mixed solvent of 5 g of distilled water and 2 g of MEK, 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate was added, and the mixture was stirred well. 45 g of distilled water was added to this solution, and the mixture was stirred well and cooled. After separating the precipitated compound, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 71%

【0040】得られたβ−メタリルフェニルメチルスル
ホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収スペク
トルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3039,1636,147
3,1451,1432,1001,751,658
The IR absorption spectrum data of the obtained β-methallylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3039, 1636, 147
3,1451,1432,1001,751,658

【0041】(実施例8)1−ナフチルメチルフェニル
メチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 1−ナフチルメチルフェニルスルフィド7.51gとジ
メチル硫酸3.78gをアセトニトリル2gに溶解さ
せ、50℃で5日間反応させた。得られた化合物をエー
テルで洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の1−ナフ
チルメチルフェニルメチルスルホニウムスルフェートを
得た。 収率:81% 1−ナフチルメチルフェニルメチルスルホニウムスルフ
ェート3.76gを蒸留水5gとMEK2gの混合溶媒
に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.30g
を加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45gを加え、
よく攪拌して冷却した。析出した化合物を分離後、40
℃で減圧乾燥させた。収率:77%
(Example 8) Synthesis of 1-naphthylmethylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 7.51 g of 1-naphthylmethylphenyl sulfide and 3.78 g of dimethyl sulfate were dissolved in 2 g of acetonitrile and reacted at 50 ° C for 5 days. It was The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C to obtain a precursor of 1-naphthylmethylphenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 81% 1-naphthylmethylphenylmethylsulfonium sulfate 3.76 g was dissolved in a mixed solvent of 5 g of distilled water and 2 g of MEK to obtain 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate.
Was added and stirred well. 45g of distilled water was added to this solution,
Stir well and cool. After separating the precipitated compound, 40
It was dried under reduced pressure at ℃. Yield: 77%

【0042】得られた1−ナフチルメチルフェニルメチ
ルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR吸収
スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3037,1596,144
9,1427,998,798,752,660
The IR absorption spectrum data of the obtained 1-naphthylmethylphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate is as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3037, 1596, 144
9,1427,998,798,752,660

【0043】(実施例9)4−ヒドロキシフェニルシン
ナミルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
の合成 4−メチルチオフェノール7.01gとシンナミルブロ
マイド9.85gを混合し、室温で1時間反応させた。
得られた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥
し、前駆体の4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチル
スルホニウムブロマイドを得た。 収率:54% 4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルホニウム
ブロマイド3.37gを蒸留水10gとMEK7gの混
合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.
30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水40gを
加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み液を除
去後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:96%
Example 9 Synthesis of 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 7.01 g of 4-methylthiophenol and 9.85 g of cinnamyl bromide were mixed and reacted at room temperature for 1 hour.
The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium bromide. Yield: 54% 4-Hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium bromide 3.37 g was dissolved in a mixed solvent of 10 g of distilled water and 7 g of MEK, and potassium hexafluoroantimonate 3.
30 g was added and stirred well. Distilled water (40 g) was added to this solution, and the mixture was stirred well and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 96%

【0044】得られた4−ヒドロキシフェニルシンナミ
ルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートのI
R吸収スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3490,1600,158
5,1500,1288,1249,1087,97
9,836,757,702,664
I of the obtained 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium hexafluoroantimonate
The R absorption spectrum data were as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3490, 1600, 158
5,1500,1288,1249,1087,97
9,836,757,702,664

【0045】(実施例10)4−ヒドロキシフェニルク
ロチルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
の合成 4−メチルチオフェノール7.01gとクロチルブロマ
イド6.78gをメタノール3gに溶解させ、50℃で
21日間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−ヒドロキシフェ
ニルクロチルメチルスルホニウムブロマイドを得た。
収率:49% 4−ヒドロキシフェニルクロチルメチルスルホニウムブ
ロマイド2.75gを蒸留水5gとMEK5gの混合溶
媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム3.30
gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45gを加
え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み液を除去
後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:85%
Example 10 Synthesis of 4-hydroxyphenylcrotylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 7.01 g of 4-methylthiophenol and 6.78 g of crotyl bromide were dissolved in 3 g of methanol and reacted at 50 ° C. for 21 days. It was The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenylcrotylmethylsulfonium bromide.
Yield: 49% 4-hydroxyphenyl crotylmethyl sulfonium bromide 2.75 g is dissolved in a mixed solvent of distilled water 5 g and MEK 5 g, and potassium hexafluoroantimonate 3.30 is obtained.
g was added and stirred well. Distilled water (45 g) was added to this solution, and the mixture was well stirred and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 85%

【0046】得られた4−ヒドロキシフェニルクロチル
メチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネートのIR
吸収スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3516,1603,158
8,1503,1441, 1286,1220, 109
1,997,842, 662
IR of 4-hydroxyphenyl crotylmethyl sulfonium hexafluoroantimonate obtained
The absorption spectrum data was as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3516, 1603, 158
8, 1503, 1441, 1286, 1220, 109
1,997,842,662

【0047】(実施例11)4−ヒドロキシフェニル−
β−メタリルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 4−メチルチオフェノール7.01gとβ−メタリルク
ロライド4.53gをメタノール2gに溶解させ、50
℃で22日間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−ヒドロキシ
フェニル−β−メタリルメチルスルホニウムクロライド
を得た。 収率:37% 4−ヒドロキシフェニル−β−メタリルメチルスルホニ
ウムクロライド2.31gを蒸留水5gとMEK2gの
混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
3.30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45
gを加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み液
を除去後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:65%
(Example 11) 4-hydroxyphenyl-
Synthesis of β-methallylmethylsulfonium hexafluoroantimonate Dissolve 7.01 g of 4-methylthiophenol and 4.53 g of β-methallyl chloride in 2 g of methanol,
The reaction was carried out at 22 ° C for 22 days. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenyl-β-methallylmethylsulfonium chloride. Yield: 37% 4-hydroxyphenyl-β-methallylmethylsulfonium chloride 2.31 g was dissolved in a mixed solvent of distilled water 5 g and MEK 2 g, potassium hexafluoroantimonate 3.30 g was added, and the mixture was stirred well. Distilled water 45 in this solution
g was added, the mixture was stirred well and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 65%

【0048】得られた4−ヒドロキシフェニル−β−メ
タリルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
のIR吸収スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3516,1603,158
9,1502,1441,1422,1286,121
9,997,842,662
The IR absorption spectrum data of the obtained 4-hydroxyphenyl-β-methallylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3516, 1603, 158
9,1502,1441,1422,1286,121
9,997,842,662

【0049】(実施例12)4−ヒドロキシフェニル−
α−フェネチルエチルスルホニウムヘキサフロロアンチ
モネートの合成 α−フェネチル−4−ヒドロキシフェニルスルフィド
6.91gと沃化エチル6.24gを混合し、室温で6
ヶ月間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄
し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−ヒドロキシフェ
ニル−α−フェネチルエチルスルホニウムアイオダイド
を得た。 収率:69% 4−ヒドロキシフェニル−α−フェネチルエチルスルホ
ニウムアイオダイド3.36gを蒸留水5gとMEK2
gの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウ
ム3.30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水4
5gを加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み
液を除去後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:76%
(Example 12) 4-hydroxyphenyl-
Synthesis of α-phenethylethylsulfonium hexafluoroantimonate Mix 6.91 g of α-phenethyl-4-hydroxyphenyl sulfide and 6.24 g of ethyl iodide and mix at room temperature for 6 hours.
Reacted for a month. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenyl-α-phenethylethylsulfonium iodide. Yield: 69% 4-hydroxyphenyl-α-phenethylethylsulfonium iodide (3.36 g) was added to distilled water (5 g) and MEK2.
g of a mixed solvent, potassium hexafluoroantimonate (3.30 g) was added, and the mixture was stirred well. Distilled water 4 in this solution
5 g was added, and the mixture was well stirred and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 76%

【0050】得られた4−ヒドロキシフェニル−α−フ
ェネチルエチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネー
トのIR吸収スペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 IR(KBr,cm-1):3496,1599,158
4,1494,1451,1264,1208,83
2,702,664
The IR absorption spectrum data of the obtained 4-hydroxyphenyl-α-phenethylethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3496, 1599, 158
4,1494, 1451, 1264, 1208, 83
2,702,664

【0051】(実施例13)4−ヒドロキシフェニルベ
ンズヒドリルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモ
ネートの合成 4−ヒドロキシフェニルベンズヒドリルスルフィド8.
77gとジメチル硫酸5.05gを混合し、50℃で3
日間反応させた。得られた化合物をエーテルで洗浄し、
40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−ヒドロキシフェニル
ベンズヒドリルメチルスルホニウムスルフェートを得
た。 収率:92% 4−ヒドロキシフェニルベンズヒドリルメチルスルホニ
ウムスルフェート4.19gを蒸留水5gとMEK2g
の混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸カリウム
3.30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸留水45
gを加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した上澄み液
を除去後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:75%
(Example 13) Synthesis of 4-hydroxyphenylbenzhydrylmethylsulfonium hexafluoroantimonate 4-hydroxyphenylbenzhydryl sulfide 8.
77g and 5.05g of dimethyl sulphate are mixed and mixed at 50 ° C
Reacted for days. The obtained compound is washed with ether,
It was dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenylbenzhydrylmethylsulfonium sulfate. Yield: 92% 4-hydroxyphenylbenzhydrylmethylsulfonium sulfate 4.19 g, distilled water 5 g and MEK 2 g
Was dissolved in the mixed solvent of, and 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate was added, and well stirred. Distilled water 45 in this solution
g was added, the mixture was stirred well and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. Yield: 75%

【0052】得られた4−ヒドロキシフェニルベンズヒ
ドリルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
のIR吸収スペクトルデータは以下のとおりであった。 IR(KBr,cm-1):3470,1599,158
6,1495,1451,1421,1293,104
6,748,704,661
The IR absorption spectrum data of the obtained 4-hydroxyphenylbenzhydrylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3470, 1599, 158
6,1495,1451,1421,1293,104
6,748,704,661

【0053】(実施例14)4−ヒドロキシフェニル−
9’−フルオレニルメチルスルホニウムヘキサフロロア
ンチモネートの合成 4−ヒドロキシフェニル−9’−フルオレニルスルフィ
ド8.71gとジメチル硫酸5.05gを混合し、50
℃で24時間反応させた。得られた化合物をエーテルで
洗浄し、40℃で減圧乾燥し、前駆体の4−ヒドロキシ
フェニル−9’−フルオレニルメチルスルホニウムスル
フェートを得た。 収率:76% 4−ヒドロキシフェニル−9’−フルオレニルメチルス
ルホニウムスルフェート4.17gを蒸留水10gとM
EK5gの混合溶媒に溶解させ、六フッ化アンチモン酸
カリウム3.30gを加え、よく攪拌た。この溶液に蒸
留水40gを加え、よく攪拌して冷却し、二層分離した
上澄み液を除去後、40℃で減圧乾燥させた。 収率:
73%
(Example 14) 4-hydroxyphenyl-
Synthesis of 9'-fluorenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate A mixture of 8.71 g of 4-hydroxyphenyl-9'-fluorenyl sulfide and 5.05 g of dimethylsulfate was added to 50
The reaction was performed at 24 ° C. for 24 hours. The obtained compound was washed with ether and dried under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a precursor 4-hydroxyphenyl-9′-fluorenylmethylsulfonium sulfate. Yield: 76% 4.17 g of 4-hydroxyphenyl-9'-fluorenylmethylsulfonium sulphate, 10 g of distilled water and M
It was dissolved in a mixed solvent of 5 g of EK, 3.30 g of potassium hexafluoroantimonate was added, and well stirred. Distilled water (40 g) was added to this solution, and the mixture was stirred well and cooled, and after removing the supernatant liquid separated into two layers, it was dried under reduced pressure at 40 ° C. yield:
73%

【0054】得られた4−ヒドロキシフェニル−9’−
フルオレニルメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモ
ネートのIR吸収スペクトルデータは以下のとおりであ
った。 IR(KBr,cm-1):3515,1603,158
9,1503,1441,1421,1286,99
7,842,747,662
The resulting 4-hydroxyphenyl-9'-
The IR absorption spectrum data of fluorenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate are as follows. IR (KBr, cm -1 ): 3515, 1603, 158
9,1503,1441,1421,1286,99
7,842,747,662

【0055】(実施例15〜46) <硬化性能テスト>実施例1〜14で合成した化合物を
プロピレンカーボネートに溶解させ、ERL−4221
(UCC社製脂環型エポキシ)およびUVR−6410
(UCC社製グリシジル型エポキシ)に純分として2.
5部になるように各エポキシ樹脂に添加し、配合物を調
整した。この配合物についてDSCおよびUV−DSC
測定を行い、DSC測定では、発熱ピークのトップ温
度、UV−DSC測定では、光照射から発熱のトップピ
ークまでの時間を求めた。なお、DSC測定条件および
UV−DSC測定条件は下記の通りであり、その測定結
果を表1〜3に示した。
(Examples 15 to 46) <Curing Performance Test> The compounds synthesized in Examples 1 to 14 were dissolved in propylene carbonate to prepare ERL-4221.
(UCC alicyclic epoxy) and UVR-6410
(Glycidyl type epoxy manufactured by UCC) as a pure component.
A compounding agent was prepared by adding 5 parts to each epoxy resin. DSC and UV-DSC for this formulation
The measurement was performed to determine the top temperature of the exothermic peak in the DSC measurement and the time from the light irradiation to the top peak of the exotherm in the UV-DSC measurement. The DSC measurement conditions and the UV-DSC measurement conditions are as follows, and the measurement results are shown in Tables 1 to 3.

【0056】DSC測定条件 DSC測定機器 : DSC220C(セイコー電子工
業社製) 雰 囲 気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 昇温温度 : 10℃/分 サンプル量 : 0.3 〜0.8mg
DSC measurement conditions DSC measuring instrument: DSC220C (manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) Atmosphere: Nitrogen gas stream 30 ml / min Temperature rising temperature: 10 ° C./min Sample amount: 0.3-0.8 mg

【0057】UV−DSC測定条件 DSC測定機器 : DSC220C(セイコー電子工
業社製) UV照射器 : 超高圧水銀灯 雰 囲 気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 測定温度 : 50℃ サンプル量 : 0.1〜0.3mg 膜 厚 : 2〜10μm 照 度 : 10mW/cm2 (365nm)
UV-DSC measurement conditions DSC measurement equipment: DSC220C (manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) UV irradiator: Ultra high pressure mercury lamp atmosphere: Nitrogen gas flow 30 ml / min Measurement temperature: 50 ° C. Sample amount: 0.1 0.3 mg Film thickness: 2-10 μm Illumination: 10 mW / cm 2 (365 nm)

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】[0059]

【表2】 [Table 2]

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】(比較例1〜6)本発明の対比用試料1と
して、ベンジル−4−シアノピリジニウムヘキサフロロ
アンチモネートを開始剤に用い、また、対比用試料2と
して、ベンジルジメチルスルホニウムヘキサフロロアン
チモネートを開始剤に用い、実施例と同様に各々ERL
−4221(UCC社製脂環型エポキシ)、およびUV
R−6410(UCC社製グリシジル型エポキシ)に純
分として2.5部を各々添加して配合物を調整し、DS
CおよびUV−DSC測定を行い、発熱ピークのトップ
温度、UV−DSC測定では、光照射から発熱のトップ
ピークまでの時間を求めた。これらの結果を纏めて前記
の表1〜3に示した。
(Comparative Examples 1 to 6) Benzyl-4-cyanopyridinium hexafluoroantimonate was used as an initiator as a comparison sample 1 of the present invention, and benzyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate was used as a comparison sample 2. Was used as the initiator, and the
-4221 (UCC alicyclic epoxy), and UV
2.5 parts each as a pure component was added to R-6410 (UCC glycidyl type epoxy) to prepare a blend, and DS
C and UV-DSC measurements were performed, and the top temperature of the exothermic peak, and in the UV-DSC measurement, the time from the light irradiation to the exothermic top peak was determined. The results are summarized in Tables 1 to 3 above.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明の重合開始剤は、連鎖重合型のた
め、加熱により、カチオン重合性化合物を短時間で重
合、硬化させる働きを持つ。また、増感剤との併用で光
重合開始能力が飛躍的に向上し、カチオン重合性化合物
を光により重合、硬化することができる。更に、本発明
の重合開始剤は、芳香族スルホニウム塩化合物なので、
重合開始剤自身は低臭気または無臭気であり、重合開始
剤の分解物も低臭気または無臭気となる。
Since the polymerization initiator of the present invention is a chain polymerization type, it has a function of polymerizing and curing the cationically polymerizable compound in a short time by heating. Further, the combined use with a sensitizer dramatically improves the photopolymerization initiation ability, and the cationically polymerizable compound can be polymerized and cured by light. Furthermore, since the polymerization initiator of the present invention is an aromatic sulfonium salt compound,
The polymerization initiator itself has low odor or no odor, and the decomposition product of the polymerization initiator also has low odor or no odor.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式化1又は化2で表されるスルホニウ
ム塩化合物。 【化1】 〔式中、R1 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子、カルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を表
し、R2 はアルキル基を表し、R3 は置換されていても
よいフェニル基又は置換されていてもよいナフチル基を
表し、Xは、SbF6,AsF6 ,PF6 又はBF4
表す〕 【化2】 〔式中、R4 は、水素原子、アルキル基、ハロゲン原
子、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基又はアルカ
ノイル基を表し、R5 はアルキル基を表し、R6 は、ア
ルケニル基、α−アルキルベンジル基、α,α−ジアル
キルベンジル基、α−フェニルベンジル基又はフルオレ
ニル基を表し、XはSbF6 ,AsF6 ,PF6 又はB
4 を表す〕
1. A sulfonium salt compound represented by the general formula 1 or 2. [Chemical 1] [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group, R 2 represents an alkyl group, and R 3 represents an optionally substituted phenyl group or a substituted phenyl group. Represents a naphthyl group, X represents SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or BF 4. ] [In the formula, R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a carboxyl group or an alkanoyl group, R 5 represents an alkyl group, and R 6 represents an alkenyl group, an α-alkylbenzyl group. , Α, α-dialkylbenzyl group, α-phenylbenzyl group or fluorenyl group, and X is SbF 6 , AsF 6 , PF 6 or B.
Represents F 4 ]
【請求項2】請求項1の少なくとも一種を含有すること
を特徴とするカチオン重合開始剤。
2. A cationic polymerization initiator comprising at least one of claim 1.
JP16856793A 1993-06-15 1993-06-15 Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization Pending JPH06345726A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16856793A JPH06345726A (en) 1993-06-15 1993-06-15 Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16856793A JPH06345726A (en) 1993-06-15 1993-06-15 Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06345726A true JPH06345726A (en) 1994-12-20

Family

ID=15870439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16856793A Pending JPH06345726A (en) 1993-06-15 1993-06-15 Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06345726A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11255739A (en) * 1998-03-11 1999-09-21 Sanshin Chem Ind Co Ltd Production of sulfonium compound
JP2001253869A (en) * 2000-03-09 2001-09-18 Hitachi Chem Co Ltd Bissulfonium borate compound and method for producing the same
JP2007091702A (en) * 2005-08-31 2007-04-12 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound and polymerization composition
US7611817B2 (en) * 2002-09-25 2009-11-03 Adeka Corporation Aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape
US7709548B2 (en) 2003-06-25 2010-05-04 San-Apro Limited Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product
WO2011062052A1 (en) * 2009-11-18 2011-05-26 日本ゼオン株式会社 Fluorene compound, stabilizer containing the fluorene compound, and composition
WO2011132702A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 Organic electronic material, polymerization initiator and thermal polymerization initiator, ink composition, organic thin film and production method for same, organic electronic element, organic electroluminescent element, lighting device, display element, and display device
JP2012201611A (en) * 2011-03-24 2012-10-22 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound
KR20140051085A (en) 2012-10-22 2014-04-30 히타치가세이가부시끼가이샤 Anisotropic conductive adhesive composition
WO2014136900A1 (en) 2013-03-08 2014-09-12 日立化成株式会社 Ionic-compound-containing treatment solution, organic electronic element, and method for manufacturing organic electronic element
WO2015046277A1 (en) * 2013-09-25 2015-04-02 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Onium salt, and composition containing same
JP2015108060A (en) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Film-like connecting material, connected structure production method and connected structure
CN105541686A (en) * 2016-02-24 2016-05-04 武汉工程大学 Method for synthesizing (4-hydroxyphenyl) methyl benzyl sulfonium hexafluoroantimonate

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11255739A (en) * 1998-03-11 1999-09-21 Sanshin Chem Ind Co Ltd Production of sulfonium compound
JP2001253869A (en) * 2000-03-09 2001-09-18 Hitachi Chem Co Ltd Bissulfonium borate compound and method for producing the same
US7611817B2 (en) * 2002-09-25 2009-11-03 Adeka Corporation Aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape
US7709548B2 (en) 2003-06-25 2010-05-04 San-Apro Limited Method for manufacturing monosulfonium salt, cationic polymerization initiator, curable composition, and cured product
JP2007091702A (en) * 2005-08-31 2007-04-12 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound and polymerization composition
JP5776554B2 (en) * 2009-11-18 2015-09-09 日本ゼオン株式会社 Fluorene compound, synthetic polymer stabilizer containing the fluorene compound, and composition containing the fluorene compound
WO2011062052A1 (en) * 2009-11-18 2011-05-26 日本ゼオン株式会社 Fluorene compound, stabilizer containing the fluorene compound, and composition
WO2011132702A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 日立化成工業株式会社 Organic electronic material, polymerization initiator and thermal polymerization initiator, ink composition, organic thin film and production method for same, organic electronic element, organic electroluminescent element, lighting device, display element, and display device
JP2012201611A (en) * 2011-03-24 2012-10-22 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound
KR20140051085A (en) 2012-10-22 2014-04-30 히타치가세이가부시끼가이샤 Anisotropic conductive adhesive composition
WO2014136900A1 (en) 2013-03-08 2014-09-12 日立化成株式会社 Ionic-compound-containing treatment solution, organic electronic element, and method for manufacturing organic electronic element
WO2015046277A1 (en) * 2013-09-25 2015-04-02 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Onium salt, and composition containing same
CN105579436A (en) * 2013-09-25 2016-05-11 旭化成电子材料株式会社 Onium salt, and composition containing same
TWI572585B (en) * 2013-09-25 2017-03-01 Asahi Kasei E-Materials Corp An onium salt and a composition including the same
US10189781B2 (en) 2013-09-25 2019-01-29 Asahi Kasei E-Materials Corporation Onium salt and composition comprising the same
JP2015108060A (en) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Film-like connecting material, connected structure production method and connected structure
CN105541686A (en) * 2016-02-24 2016-05-04 武汉工程大学 Method for synthesizing (4-hydroxyphenyl) methyl benzyl sulfonium hexafluoroantimonate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3942202B2 (en) Photopolymerization initiator, energy beam curable composition containing the same, and cured product thereof
JPH06345726A (en) Novel sulfonium salt compound and its use as initiator for polymerization
JPH10287643A (en) New onium salt, photopolymerization initiator, energy ray-curable composition containing the same, and cured product of the composition
JP3716416B2 (en) Novel sulfonium salt compounds and polymerization initiators
JPH05230189A (en) Curable composition containing sulfonium compound and sensitizer
JPH10212286A (en) Photoinitiator, energy ray-hardenable composition containing the same and hardened material thereof
JPH107680A (en) Photopolymerization initiator, energy ray-curable composition containing the same and its cured product
JP3285053B2 (en) New pyrazinium salt compounds and polymerization initiators
JP3269110B2 (en) Curable composition
JPH10245378A (en) New sulfonium salt and photopolymerization initiator and energy ray curing composition comprising the same
JP3512437B2 (en) New sulfonium salt compounds and polymerization initiators
JPH0725922A (en) Energy ray-curing composition and its cured material
JP3211311B2 (en) New sulfonium salt compound and polymerization initiator
JPH08157510A (en) Photopolymerization initiator, actinic-radiation-curing composition containing the same, and cured product thereof
JP3565516B2 (en) New onium salt compound and polymerization initiator
JP3269106B2 (en) Curable composition containing pyridinium salt compound
JP3326775B2 (en) Polymerization initiator composition
JP3353323B2 (en) Curable composition containing benzothiazolium salt compound
JP3402520B2 (en) Energy ray-curable composition and cured product thereof
JPH09278813A (en) Photopolymerization initiator, energy radiation-curable composition containing the same and cured product thereof
JP3211310B2 (en) New sulfonium salt compound and polymerization initiator
JP2827567B2 (en) New sulfonium salt and polymerization initiator
JPH04327574A (en) Novel pyridinium salt compound and polymerization initiator
JPH10204083A (en) New sulfonium salt, photopolymerization initiator, energy ray curable composition and its cured material
JPH09143212A (en) Photopolymerization initiator, energy ray curable composition containing the initiator and its cured product

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040809

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041008

A02 Decision of refusal

Effective date: 20051011

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02