JPH0757986A - Aligner - Google Patents

Aligner

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JPH0757986A
JPH0757986A JP5161588A JP16158893A JPH0757986A JP H0757986 A JPH0757986 A JP H0757986A JP 5161588 A JP5161588 A JP 5161588A JP 16158893 A JP16158893 A JP 16158893A JP H0757986 A JPH0757986 A JP H0757986A
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Abstract

PURPOSE:To provide an aligner which can transfer a circuit pattern With good focus performance without sacrifice of throughput even in the case of a large exposure region. CONSTITUTION:The aligner for projecting the image of a first object 8 onto a second object 9 while shifting them comprises first and second projection optical systems 2a, 2b for forming the equimultiple erecting image of the first object onto the second object. The first and second projection optical systems are constituted, at least the image side thereof, of a telecentric system.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、第1の物体と第2の物体とを移動させつつ露光を行なう走査型の投影露光装置に関する。 The present invention relates to a projection exposure apparatus of the scanning type that performs exposure while moving the first and second objects.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年、ワープロ、パソコン、テレビ等の表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようになった。 In recent years, a word processor, a personal computer, as a display device such as a television, came to a liquid crystal display panel is frequently used. 液晶表示パネルは、ガラス基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニングして作られる。 The liquid crystal display panel is made by patterning into a desired shape transparent thin-film electrode on a glass substrate by photolithography technique. このリソグラフィのための装置として、マスク上に形成された原画パターンを投影光学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光するミラープロジェクションタイプのアライナーが使われている。 As an apparatus for the lithographic aligners of mirror projection type exposing the photoresist layer on the glass substrate is used the original pattern formed on a mask via a projection optical system. このようなアライナーとしては、例えば図14(a), Such aligner, for example, FIG. 14 (a), the
(b) に示すものが知られている。 (B) to that shown are known. 図14(a) は、従来のアライナーの構成を示す斜視図であり、図14(b) は、 14 (a) is a perspective view showing the configuration of a conventional aligner, FIG. 14 (b),
アライナーの投影光学系のレンズ断面図である。 It is a lens sectional view of a projection optical system of the aligner.

【0003】図14(a) において、図示なき照明光学系によりマスク71cが円弧状の照野72aにて照明される。 [0003] In FIG. 14 (a), a mask 71c is illuminated by an arc-shaped illumination field 72a by unillustrated illumination optical system. この照野72aの像72bは、図14(b) に示す如く、台形ミラー73の反射面73aにて光路が90°偏向され、凹面鏡74及び凸面鏡75を介して、再び凹面鏡74にて反射される。 Image 72b of the illumination field 72a, as shown in FIG. 14 (b), the light path is deflected 90 ° by the reflective surface 73a of the trapezoidal mirror 73, via the concave mirror 74 and convex mirror 75, is reflected again by the concave mirror 74 that. 凹面鏡74からの光は、台形ミラー73の反射面73bにて光路が90°偏向され、プレート76上にマスク71cの像を形成する。 Light from the concave mirror 74, the light path is deflected 90 ° by the reflecting surface 73b of the trapezoidal mirror 73 to form an image of the mask 71c on the plate 76. そして、 And,
このアライナーにおいては、プレート76とマスク71 In this aligner, the plate 76 and mask 71
cとを走査露光する、即ち図中X方向に沿って移動させつつ露光を行なうことで、マスク71c上の回路パターンをプレート76上に転写していた。 Scanning exposure and c, i.e. by performing exposure while moving along the X direction in the figure, has been transferred to the circuit pattern on the mask 71c on the plate 76.

【0004】最近、液晶表示パネルの大型化が望まれている。 [0004] In recent years, an increase in the size of the liquid crystal display panel is desired. それに伴い、上述の如きアライナーにおいても、 Along with this, also in the above-mentioned aligner,
露光領域の拡大が望まれている。 Enlargement of exposure area is desired.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】上述の如き投影露光装置において、露光領域を拡大させるためには、露光領域を分割して露光していた。 In [0007] the above such projection exposure apparatus, in order to enlarge the exposure area has been exposed by dividing the exposure region. 具体的には、図14(a) に示す如く、プレート76上を領域76a,76b,76 More specifically, as shown in FIG. 14 (a), the upper plate 76 regions 76a, 76 b, 76
c,76dに4分割して、まず、マスク71aと領域7 c, and divided into four 76d, firstly, the mask 71a and the region 7
6aとを走査露光して、領域76a上にマスク71aの回路パターンを転写する。 And 6a and scanning exposure, the circuit pattern of the mask is transferred 71a to the region 76a. 次に、マスク71aをマスク71bに交換すると共に、投影光学系の露光領域と領域76bとが重なるように、プレート76を図中XY平面内でステップ的に移動させる。 Next, the exchange of the mask 71a as a mask 71b, so that the exposed region and the region 76b of the projection optical system overlap, stepwise moving the plate 76 in FIG XY plane. そして、マスク71bとプレート76とを走査露光して、マスク71bの回路パターンを領域76b上に転写する。 Then, scanning exposure with the mask 71b and the plate 76, to transfer the circuit pattern of the mask 71b on the region 76 b. 以下同様に、マスク71c、71dの回路パターンをそれぞれ領域76c、 Hereinafter Similarly, the mask 71c, respectively region 76c of the circuit pattern of the 71d,
76dに転写していた。 It had been transferred to the 76d.

【0006】このように、分割して露光を行なう場合には、多数回の露光を行なうため、スループット(単位時間当たり露光できる基板の量)の低下を招いていた。 [0006] Thus, when the divided and performing exposure, in order to perform exposure of a large number of times, resulting in decrease in throughput (the amount of substrate that can be exposed per unit time). さらに、分割露光の場合には、隣合う露光領域間の継ぎ精度を高める必要がある。 Furthermore, in the case of the divided exposure, it is necessary to increase the splicing accuracy between adjacent exposure regions. このため、投影露光装置においては、投影光学系の倍率誤差を0に近づける必要があると共に、アライメント精度の大幅な向上が要求され、装置のコスト高を招くという問題点がある。 Therefore, in the projection exposure apparatus, the magnification error of the projection optical system with need close to 0, a substantial improvement of the alignment accuracy is required, there is a problem that increases the cost of the apparatus.

【0007】また、大きな露光領域を一括して転写するために、投影光学系の大型化を図ることが考えられる。 Further, in order to collectively transferred a large exposure area, it is conceivable to reduce the size of the projection optical system.
しかしながら、投影光学系の大型化を図るためには、大型な光学素子を非常に高精度に製作する必要があり、製作コストの増大と装置の大型化とを招く問題点がある。 However, in order to increase in size of the projection optical system, it is necessary to manufacture the highly accurate large optical element, there is a problem that leads to a large increase the device fabrication cost.
また、投影光学系の大型化により収差も増大する問題点がある。 Further, there is a problem that the aberration also increases with increase in size of the projection optical system.

【0008】そこで、本発明は、露光領域が大きな場合でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能のもとで回路パターンを転写できる露光装置を提供することを目的とする。 [0008] Therefore, the present invention, even when the exposure area is large, without reducing throughput, and an object thereof is to provide an exposure apparatus capable of transferring a circuit pattern under the good imaging performance.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、以下の構成を有する。 To achieve the above object, according to the Invention The exposure apparatus according to the present invention has the following configuration. 例えば図1に示す如く、第1の物体と第2の物体とを移動させつつ第1の物体の像を第2の物体上へ投影露光する露光装置は、第1の物体の等倍の正立像を第2の物体上に形成する第1及び第2の投影光学系を有する。 For example, as shown in FIG. 1, a first object and an exposure apparatus for projection exposure of the image of the first object while moving the second object to a second on the object, the magnification of the positive first object having a first and second projection optical system for forming a statue on the second object. そして、第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成される。 The first and second projection optical system, at least the image side is constituted by a telecentric.

【0010】ここで、本発明において、正立像とは、上下左右の横倍率が正となる像のことを指す。 [0010] In the present invention, the erected refers to image the lateral magnification of the vertical and horizontal is positive.

【0011】 [0011]

【作用】上述の如き本発明による露光装置においては、 [Action] In the exposure apparatus according to above-described present invention,
複数の投影光学系を組み合わせる構成であるため、個々の投影光学系の露光領域を大きくすることなく、大きな露光領域を得ることができる。 Since a structure combining a plurality of projection optical system, without increasing the exposure area of ​​each of the projection optical system, it is possible to obtain a large exposure area. 従って、投影光学系が小型化されるため、高精度な投影光学系を容易に製造することができる。 Therefore, since the projection optical system is miniaturized, it is possible to easily manufacture a high-precision projection optical system. また、投影光学系を構成する各光学部材が小型であるため、絶対的な収差量の発生が減少する。 Further, since the optical members constituting the projection optical system is small, occurrence of absolute aberration is reduced.
従って、良好な光学性能のもとで走査露光が実現できる。 Thus, the scanning exposure can be realized under good optical performance.

【0012】また、本発明による露光装置では、大きな露光領域を一回の露光で得ることができるため、スループットが高い利点がある。 Further, in the exposure apparatus according to the present invention, it is possible to obtain a large exposure area in a single exposure, throughput is high advantage.

【0013】 [0013]

【実施例】以下、図面を参照して本発明による実施例を説明する。 EXAMPLES Hereinafter, an embodiment according to the present invention, with reference to the accompanying drawings. 図1は、本発明による露光装置の斜視図である。 Figure 1 is a perspective view of an exposure apparatus according to the present invention. なお、図1では、所定の回路パターンが設けられたマスク8と、ガラス基板上にレジストが塗布されたプレート9とが搬送される方向(走査方向)をX軸、マスク8の平面内でX軸と直交する方向をY軸、マスク8の法線方向をZ軸とした座標系をとっている。 In FIG 1, a mask 8 in which a predetermined circuit pattern is provided, X-axis direction (scanning direction) of the plate 9 which resist is coated on the glass substrate is conveyed, in the plane of the mask 8 X Y-axis and a direction perpendicular to the axis, and the normal direction of the mask 8 takes a coordinate system with the Z axis.

【0014】図1において、照明光学系10による露光光は、図中XY平面内のマスク8を均一に照明する。 [0014] In FIG 1, the exposure light by the illumination optical system 10, to uniformly illuminate the mask 8 in FIG XY plane. この照明光学系10としては、例えば図2に示す如き構成のものが好適である。 As the illumination optical system 10, it is preferable that the configuration example as shown in FIG. 図2は、図1に示す照明光学系1 2, the illumination optical system 1 shown in FIG. 1
0の具体的な構成の一例を示す図である。 Is a diagram illustrating an example of a specific configuration of zero. 図2において、楕円鏡102の内部には、例えばg線(435nm) 、あるいはi線(365nm) の露光光を供給する水銀ランプ等の光源が設けられており、この光源からの露光光は、楕円鏡102により集光され、ライトガイド103の入射端に光源像を形成する。 In Figure 2, inside the ellipsoidal mirror 102, and a mercury lamp or the like of the light source is provided for supplying the exposure light, for example, g-line (435 nm), or i-line (365 nm), the exposure light from the light source, It is focused by the elliptical mirror 102, to form a light source image on the incident end of the light guide 103. ライトガイド103は、その射出端103a、103bに均一な光強度分布の2次光源面を形成する。 The light guide 103 forms a secondary light source plane of the uniform light intensity distribution in its exit end 103a, 103b. 尚、ライトガイド103は、ランダムに束ねられた光ファイバーで構成されることが望ましい。 Incidentally, the light guide 103 is preferably constructed with optical fibers bundled at random.

【0015】ライトガイド103から射出した光束は、 [0015] The light beam emitted from the light guide 103,
リレーレンズ104a、104bをそれぞれ介して、フライアイレンズ105bに達する。 Relay lenses 104a, 104b and through each reaches the fly-eye lens 105b. これらのフライアイレンズ105a、105bの射出面側には、複数の2次光源が形成される。 These fly-eye lens 105a, on the exit side of the 105b, a plurality of secondary light source is formed. 複数の2次光源からの光は、2次光源形成位置に前側焦点が位置するように設けられたコンデンサレンズ106a、106bを介して、矩形状の開口部107a、107bを有する視野絞り107を均一に照明する。 The light from a plurality of secondary light sources, a condenser lens 106a provided to the front focal point located in the secondary light source forming position, via 106b, rectangular opening 107a, the field stop 107 has a 107b uniform illuminating to. 視野絞り107を介した露光光は、それぞれレンズ108a、108bを介して、ミラー109 Exposure light through the field stop 107, respectively lenses 108a, via 108b, the mirror 109
a、109bによって光路が90°偏向され、レンズ1 a, the light path is deflected 90 ° by 109b, the lens 1
10a、110bに達する。 10a, it reaches 110b. ここで、レンズ108a、 Here, lens 108a,
110aとレンズ108b、110bとは、視野絞り1 110a and the lens 108b, and 110b, field stop 1
08とマスク8とを共役にするリレー光学系であり、レンズ110a、110bを介した露光光は、視野絞り1 08 and is the mask 8 a relay optical system establishes a conjugate, the lens 110a, the exposure light through the 110b are field stop 1
08の開口部108a、108bの像である照明領域1 08 of the opening 108a, which is an image of 108b illumination region 1
11a、111bを形成する。 11a, to form a 111b.

【0016】尚、視野絞り108の開口部108a,1 [0016] Incidentally, the field stop 108 of the opening 108a, 1
08bの形状は、矩形状に限ることはない。 The shape of 08b is not limited to the rectangular shape. この照明領域の形状としては、投影光学系の視野の形状に可能な限り相似であることが望ましい。 The shape of the illumination area, it is desirable that the similar as possible to the shape of the field of the projection optical system. また、図2においては、 Further, in FIG. 2,
説明を簡単にするために、照明領域111c〜111g For simplicity of explanation, the illumination area 111c~111g
を形成する照明光学系は、その光軸のみを示している。 An illumination optical system for forming a shows only the optical axis.
なお、図2では図示省略されているが、ライトガイド1 Incidentally, are omitted in FIG. 2, the light guide 1
03の射出端は、照明領域の数に対応して設けられており、これらの照明領域111c〜111gには、図示省略したライトガイド103の射出端からの露光光が供給される。 Exit end 03 is provided corresponding to the number of illumination regions, these illumination areas 111C~111g, the exposure light from the exit end of the light guide 103 which is not shown is supplied.

【0017】また、図2に示すように、1つの光源では光量不足になる場合、図3に示すような構成を適用しても良い。 Further, as shown in FIG. 2, may become insufficient light amount in one of the light sources, it may be applied a configuration as shown in FIG. 図3は、照明光学系の変形例の要部を模式的に示す図であって、水銀ランプ等の光源201a〜201 Figure 3 is a main part of a modification of the illumination optical system a diagram schematically showing a light source such as a mercury lamp, 201a~201
cからの露光光は、楕円鏡202a〜202cにより集光され、光源像を形成する。 Exposure light from c is collected by the elliptical mirror 202a to 202c, to form a light source image. そして、この光源像形成位置に入射端が位置するようにライトガイド203が設けられており、ライトガイド203を介した露光光は、複数の射出端203a〜203eに均一な光強度分布の2 Then, and the light guide 203 is provided so that the entrance end to the light source image forming position located, the exposure light through the light guide 203, a uniform light intensity distribution to a plurality of exit ends 203a-e 2
次光源面を形成する。 To form the next light source surface. このライトガイド203も図2のライトガイド103と同じく光ファイバーをランダムに束ねて構成されることが望ましい。 The light guide 203 also is preferably constructed by bundling randomly same optical fiber as the light guide 103 of FIG. 射出端203a〜2 Exit end 203a~2
03eからマスク8に至るまでの光路は、図2に示す照明光学系と同じであるため、ここでは説明を省略する。 Optical path from 03e up to the mask 8 is the same as the illumination optical system shown in FIG. 2, the description thereof is omitted here.

【0018】なお、上述の如き複数の照明領域111a [0018] Incidentally, such as described above a plurality of illumination areas 111a
〜111gを形成する複数の照明光学系の代わりに、走査方向(X方向)と直交する方向(Y方向)に延びた一つの矩形状の領域でマスク8を照明する照明光学系を適用しても良い。 Instead of a plurality of illumination optical system for forming an ~111G, by applying the illumination optical system for illuminating the mask 8 at a rectangular region extending in a direction (Y direction) perpendicular to the scanning direction (X-direction) it may be. このような光学系としては、Y方向に延びた棒状の光源を用いたものが考えられる。 Examples of such an optical system, can be considered using the rod-shaped light source extending in the Y direction. さて、マスク8の下方には、複数の投影光学系2a〜2gが配置されている。 Now, under the mask 8, a plurality of the projection optical system 2a~2g is disposed. 以下、図4を参照して投影光学系2a〜2g Hereinafter, the projection optical system with reference to FIG. 4 2a through 2g
について説明する。 It will be described. なお、投影光学系2a〜2gは、それぞれ同じ構成を有するため、説明を簡単にするために投影光学系2aのみについて述べる。 The projection optical system 2a~2g Since each having a same configuration, only describe the projection optical system 2a for simplicity of explanation.

【0019】図4は、投影光学系2aのレンズ構成図であり、この投影光学系2aは、2組のダイソン型光学系を組み合わせた構成である。 [0019] FIG. 4 is a lens configuration diagram of a projection optical system 2a, the projection optical system 2a is a configuration that combines two sets of Dyson optical system. 図4において、投影光学系2aは、第1部分光学系21〜24と、視野絞り25 4, the projection optical system 2a includes a first partial optical system 21 to 24, field stop 25
と、第2部分光学系26〜29とから構成されており、 When, is composed of a second partial optical system 26-29 Prefecture,
これらの第1及び第2部分光学系は、それぞれダイソン型光学系を変形したものである。 These first and second partial optical system is a modification of the Dyson optical system, respectively.

【0020】第1部分光学系は、マスク8面に対して4 The first partial optical system is 4 with respect to the mask 8 surface
5°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム21 Rectangular prism 21 having a 5 ° the reflected surface disposed at an inclination of
と、マスク8の面内方向に沿った光軸を有し、凸面を直角プリズム21の反対側に向けた平凸レンズ成分22 If, having an optical axis along the plane direction of the mask 8, a plano-convex lens component with the convex surface facing the opposite side of the rectangular prism 21 22
と、全体としてメニスカス形状であって凹面を平凸レンズ成分22側に向けた反射面を有するレンズ成分23 If, lens component 23 having a reflecting surface having a concave surface directed toward an overall meniscus shape in a plano-convex lens component 22 side
と、直角プリズム21の反射面と直交しかつマスク8面に対して45°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム24とを有する。 When, and a right-angle prism 24 with the reflected surface disposed at an inclination of 45 ° to the reflecting surface perpendicular to and mask eight surfaces of the rectangular prism 21.

【0021】そして、マスク8を介した照明光学系からの光は、直角プリズム21によって光路が90°偏向され、直角プリズム21に接合された平凸レンズ成分22 [0021] Then, light from the illumination optical system through the mask 8, the light path is deflected 90 ° by right-angle prism 21, a plano-convex lens component is joined to the right-angle prism 21 22
に入射する。 Incident on. このレンズ成分22には、平凸レンズ成分22とは異なる硝材にて構成されたレンズ成分23が接合されており、直角プリズム21からの光は、レンズ成分22、23の接合面22aにて屈折し、反射膜が蒸着された反射面23aに達する。 The lens component 22, the plano-convex lens component 22 are bonded lens component 23 which is constituted by different glass materials, light from the right-angle prism 21, refracted at the junction surface 22a of the lens component 22 and 23 reaches the reflecting surface 23a of the reflective film is deposited. 反射面23aで反射された光は、接合面22aで屈折され、レンズ成分22に接合された直角プリズム24に達する。 The light reflected by the reflecting surface 23a is refracted by the joint surfaces 22a, reaches the right-angle prism 24 joined to lens component 22. レンズ成分22からの光は、直角プリズム24により光路が90°偏向されて、この直角プリズム24の射出面側に、マスク8の1次像を形成する。 Light from the lens component 22, the optical path is deflected 90 ° by right-angle prism 24, the exit surface side of the right-angle prism 24 to form a primary image of the mask 8. ここで、第1部分光学系21〜24 The first partial optical system 21 to 24
が形成するマスク8の1次像は、X方向(光軸方向)の横倍率が正であり、かつY方向の横倍率が負となる等倍像である。 Primary image of the mask 8 but to be formed, the lateral magnification in the X direction (optical axis direction) is positive, and a magnification image of the lateral magnification in the Y direction is negative.

【0022】1次像からの光は、第2部分光学系26〜 The light from the primary image, a second partial optical system 26 to
29を介して、マスク8の2次像をプレート9上に形成する。 29 through, to form a secondary image of the mask 8 on the plate 9. なお、第2部分光学系の構成は、第1部分光学系と同一であるため説明を省略する。 The configuration of the second partial optical system is omitted because it is identical to the first partial optical system. この第2部分光学系26〜29は、第1部分光学系と同じく、X方向が正かつY方向が負となる横倍率の等倍像を形成する。 The second partial optical system 26 to 29, as in the first partial optical system, to form an equal-magnification image of the lateral magnification is X-direction positive and the Y direction is negative. よって、プレート9上に形成される2次像は、マスク8の等倍の正立像(上下左右方向の横倍率が正となる像)となる。 Thus, secondary image formed on the plate 9 is a magnification of the erect mask 8 (image lateral magnification of the vertical and horizontal directions is positive). ここで、投影光学系2a(第1及び第2部分光学系)は、両側テレセントリック光学系である。 Here, the projection optical system 2a (first and second partial optical system) is a bi-telecentric optical system.

【0023】なお、上述の第1及び第2部分光学系は、 [0023] The first and second partial optical system of the above-
反射面23a,28aが共に同じ向きとなるように構成されている。 Reflecting surfaces 23a, 28a are configured to be the same for both directions. これにより、投影光学系全体の小型化を図ることができる。 Thus, it is possible to reduce the overall size of the projection optical system. 本実施例による第1及び第2部分光学系は、平凸レンズ成分22,27と、反射面23a,2 The first and second partial optical system of this embodiment includes a plano-convex lens component 22 and 27, the reflecting surface 23a, 2
8aとの間の光路中を硝材で埋める構成となっている。 An optical path between the 8a has a structure filled with glass material.
これにより、平凸レンズ成分22,27と反射面23 Thus, plano-convex lens component 22 and 27 and the reflective surface 23
a,28aとの偏心が生じない利点がある。 a, eccentricity and 28a there is an advantage that not occur.

【0024】また、図5に示すように、第1及び第2部分光学系は、平凸レンズ成分22,27と反射面23 Further, as shown in FIG. 5, the first and second partial optical system is a plano-convex lens component 22 and 27 and the reflective surface 23
a,28aとの間を空気とする、いわゆるダイソン型光学系そのものの構成でも良い。 a, and the air between the 28a, may be configured of a so-called Dyson optical system itself. なお、このようなダイソン型光学系に関しては、JOSAvol.49 (1959年発行) Regarding such Dyson optical system, JOSAvol.49 (published 1959)
のP713〜P716に詳述されている。 It is described in detail in P713~P716 of. さて、本実施例においては、第1部分光学系が形成する1次像の位置に、視野絞り25を配置している。 Now, in the present embodiment, the position of the primary image by the first partial optical system is formed, it is arranged field stop 25. 視野絞り25は、例えば図6 Field stop 25, for example, FIG. 6
(a) に示す如き台形状の開口部を有する。 It has a trapezoidal-shaped opening as shown in (a). この視野絞り25により、プレート9上の露光領域が台形状に規定される。 The field stop 25, the exposure area on the plate 9 is defined in a trapezoidal shape. ここで、図6(b) に破線で示すように、本実施例におけるダイソン型光学系において、レンズ成分22、 Here, as indicated by a broken line in FIG. 6 (b), in Dyson optical system in the present embodiment, a lens component 22,
23、27、28の断面(YZ平面)形状が円形であるため、取り得る最大の視野の領域がほぼ半円形状となる。 For 23,27,28 sectional (YZ plane) shape is circular, the area of ​​maximum field of view possible is substantially semicircular. このとき、視野絞り25にて規定される台形状の視野領域8aは、一対の平行辺のうちの短辺が半円状の領域(最大の視野の領域)の円弧側を向くことが好ましい。 In this case, the viewing area 8a of the trapezoidal shape defined by the field stop 25 is preferably a short side of a pair of parallel sides faces the arc side of the semicircular area (area of ​​maximum field of view). これにより、ダイソン型光学系の取り得る最大の視野領域に対して、視野領域の走査方向(X方向)の幅を最大とすることができ、走査速度を向上させることが可能となる。 Thus, the maximum field area of ​​possible Dyson optical system, the width of the scanning direction of the viewing area (X direction) can be maximized, it is possible to increase the scanning speed.

【0025】また、視野絞り25としては、図6(c) に示すように、六角形状の開口部を有する構成であっても良い。 Further, as the field stop 25, as shown in FIG. 6 (c), it may be configured with a hexagonal opening. このとき、図6(d) に示す如く、六角形状の開口部の大きさは、図中破線で示される最大視野領域の範囲内となる。 At this time, as shown in FIG. 6 (d), the size of the hexagonal opening will be in the range of maximum viewing area indicated by the dashed line in FIG. なお、図6(b) 及び図6(d) に破線にて示す最大視野領域は、第1及び第2部分光学系をケラれなく通過する軸外光束のうち、最も外側を通過する光束がマスク8上で通過する点を囲む領域である。 The maximum field area shown by a broken line in FIG. 6 (b) and FIG. 6 (d), of the off-axis light beams passing through not eclipsed the first and second partial optical system, the light flux passing through the outermost is a region surrounding the point to be passed on the mask 8.

【0026】図1に戻って、投影光学系2a〜2gの配置について説明する。 [0026] Returning to FIG. 1, illustrating the arrangement of a projection optical system 2a through 2g. 図1においては、投影光学系2a In Figure 1, the projection optical system 2a
〜2gは、投影光学系内の視野絞りによって規定される視野領域8a〜8gを有している。 ~2g has a viewing area 8a~8g defined by the field stop in the projection optical system. これらの視野領域8 These viewing area 8
a〜8gの像は、プレート9上の露光領域9a〜9g上に等倍の正立像として形成される。 Image of a~8g is formed as an erect image of magnification on the exposure region 9a~9g on the plate 9. ここで、投影光学系2a〜2dは、視野領域8a〜8dが図中Y方向に沿って配列されるように設けられている。 Here, the projection optical system 2a~2d is viewing area 8a~8d are provided so as to be arranged along the Y direction in the figure. また、投影光学系2e〜2gは、図中X方向で視野領域8a〜8dとは異なる位置に、視野領域8e〜8gがY方向に沿って配列されるように設けられている。 The projection optical system 2e~2g is a position different from the field area 8a~8d in X direction in the figure, the viewing area 8e~8g is provided so as to be arranged along the Y direction. このとき、投影光学系2 At this time, the projection optical system 2
a〜2dと、投影光学系2e〜2gとは、それぞれが有する直角プリズム同士が極近傍に位置するように設けられる。 And A~2d, and the projection optical system 2E~2g, rectangular prisms each having are provided so as to be positioned in the vicinity of the pole. なお、X方向において、視野領域8a〜8dと視野領域8e〜8gとの間隔を広げるように投影光学系2 Incidentally, in the X direction, the projection optical system so as to increase the distance between the viewing area 8a~8d and the viewing area 8E~8g 2
a〜2gを配置しても構わないが、このときには、走査露光を行なうための走査量(マスク8とプレート9の移動量)が増し、スループットの低下を招くため好ましくない。 Although it may be arranged A~2g, at this time, increase the scanning amount for performing scanning exposure (the amount of movement of the mask 8 and the plate 9) is not preferable because it causes a decrease in throughput.

【0027】プレート9上には、投影光学系2a〜2d [0027] on the plate 9, the projection optical system 2a~2d
によって、図中Y方向に沿って配列された露光領域9a The exposed areas 9a which are arranged along the Y direction in the figure
〜9dが形成され、投影光学系2e〜2gによって、露光領域9a〜9dとは異なる位置にY方向に沿って配列された露光領域9e〜9gが形成される。 ~9d is formed by the projection optical system 2E~2g, arranged along the Y direction at different positions the exposure region 9e~9g are formed from the exposure area 9a to 9d. これらの露光領域9a〜9gは、視野領域8a〜8dの等倍の正立像である。 These exposed areas 9a~9g is erected equal magnification field areas 8 a to 8 d.

【0028】ここで、マスク8は図示なきマスクステージ上に載置されており、プレート9は、プレートステージ60上に載置されている。 [0028] Here, the mask 8 is placed on a defunct mask stage shown, the plate 9 is placed on the plate stage 60. ここで、マスクステージとプレートステージとは、図中X方向に同期して移動する。 Here, the mask stage and the plate stage is moved in synchronization with the X direction in FIG. これにより、プレート9上には、照明光学系10により照明されたマスク8の像が逐次転写され、所謂走査露光が行なわれる。 Thus, on the plate 9, the image of the mask 8, which is illuminated by the illumination optical system 10 is sequentially transferred, so-called scanning exposure is performed. マスク8の移動により、視野領域8 In accordance with the movement of the mask 8, the viewing area 8
a〜8gによるマスク8の全面の走査が完了すると、プレート9上の全面に渡ってマスク8の像が転写される。 When the scanning of the entire surface of the mask 8 is completed by A~8g, the image of the mask 8 is transferred over the entire surface of the plate 9.

【0029】プレートステージ60上には、Y軸に沿った反射面を有する反射部材61と、X軸に沿った反射面を有する反射部材62とが設けられている。 In [0029] the plate stage 60 on includes a reflecting member 61 having a reflective surface along the Y axis, and the reflecting member 62 is provided with a reflective surface along the X-axis. また、露光装置本体側には、干渉計として、例えばHe−Ne(633 Further, the exposure apparatus main body side, as the interferometer, for example, the He-Ne (633
nm) 等のレーザ光を供給するレーザ光源63、レーザ光源63からのレーザ光をX方向測定用のレーザ光とY方向測定用のレーザ光とに分割するビームスプリッタ6 A laser light source 63 for supplying a laser beam nm) or the like, a beam splitter 6 which splits the laser light from the laser light source 63 into a laser beam of laser light and the Y-direction measurement for X-direction measurement
4、ビームスプリッタ64からのレーザ光を反射部材6 4, the reflected laser beam from the beam splitter 64 member 6
1へ投射するためのプリズム65及びビームスプリッタ64からのレーザ光を反射部材62上の2点へ投射するためのプリズム66、67が設けられている。 Prisms 66, 67 for projecting the laser beam from the prism 65 and the beam splitter 64 for projecting into 1 to 2 points on the reflecting member 62 is provided. これにより、ステージのX方向の位置、Y方向の位置及びXY平面内での回転を検出することができる。 Thus, the position of the X direction of the stage, it is possible to detect the rotation within Y-direction position and the XY plane. なお、図1においては、反射部材61、62にて反射されたレーザ光と参照用レーザ光とを干渉させた後に検出する検出系について図示省略している。 In FIG. 1, it is not shown for the detection system for detecting the After interfere with the reference laser beam and the reflected laser light by the reflecting members 61 and 62.

【0030】次に、図7を参照して本実施例による視野領域の配置について説明する。 Next, with reference to FIG. 7 the arrangement of the viewing area of ​​this embodiment will be described. 図7は、投影光学系2a FIG. 7 is a projection optical system 2a
〜2gによる視野領域8a〜8gと、マスク8との平面的な位置関係を示す図である。 And the viewing area 8a~8g according to 2 g, is a diagram showing a planar positional relationship between the mask 8. 図7において、マスク8 7, the mask 8
上には、回路パターンPAが形成されており、この回路パターンPAの領域を囲むように遮光部LSAが設けられている。 The upper is formed with a circuit pattern PA, the light shielding portion LSA is provided to surround the area of ​​the circuit pattern PA. 図2に示される照明光学系は、図中破線にて囲まれる照明領域111a〜111gを均一に照明する。 An illumination optical system shown in FIG. 2, to uniformly illuminate the illumination area 111a~111g surrounded by a broken line in FIG. この照明領域111a〜111g内には、前述の視野領域8a〜8gが配列されている。 Within this illumination area 111a to 111g, the aforementioned field area 8a~8g are arranged. これらの視野領域8a〜8gは、投影光学系2a〜2g内の視野絞りにより、その形状がほぼ台形状となる。 These field areas 8a~8g, due field stop in the projection optical system 2a through 2g, the shape is substantially trapezoidal. ここで、視野領域8 Here, the viewing area 8
a〜8dの上辺(一対の平行な辺のうちの短辺)と、視野領域8e〜8gの上辺(一対の平行な辺のうちの短辺)とが対向するように配列されている。 And the upper side of A~8d (short sides of a pair of parallel sides), and the upper side of the viewing area 8E~8g (short sides of a pair of parallel sides) are arranged so as to face. ここで、遮光部LSAに沿った視野領域8a及び8dの形状は、遮光部LSA側の斜辺(一対の平行な辺以外の辺)が回路パターンPAの領域の縁と一致するように規定される。 Here, the shape of the viewing area 8a and 8d along the light shielding portion LSA is hypotenuse of the light shielding portion LSA side (a pair of parallel sides other than the sides) is defined to coincide with the edge of the area of ​​the circuit pattern PA . なお、視野領域8a及び8dがマスク8の遮光部LSAと重なるような形状でも良い。 Incidentally, the viewing area 8a and 8d may be shaped so as to overlap the light shielding portion LSA of the mask 8.

【0031】本実施例においては、投影光学系2a〜2 [0031] In this embodiment, the projection optical system 2a~2
gが両側テレセントリック光学系であるため、XY平面内において、投影光学系2a〜2gが占める領域が、それぞれ視野領域8a〜8gの占める領域よりも大きくなる。 Since g is a both-side telecentric optical system, in the XY plane, the area occupied by the projection optical system 2a~2g is larger than the area respectively occupied by the viewing area 8 a to 8 g. 従って、視野領域8a〜8dの配列は、それぞれの領域8a〜8dの間で間隔を持つように構成せざるを得ない。 Thus, the sequence of viewing zones 8 a to 8 d is configured forced to have a distance between the respective regions 8 a to 8 d. この場合、視野領域8a〜8dのみを用いて走査露光を行なうならば、視野領域8a〜8dの間のマスク8上の領域をプレート9上に投影転写することができない。 In this case, if performing scanning exposure using only viewing area 8 a to 8 d, can not be projected and transferred to region on the mask 8 between field areas 8 a to 8 d on the plate 9. そこで、本実施例においては、視野領域8a〜8d Accordingly, in this embodiment, the viewing area 8a~8d
の間の領域について走査露光を行なうために、投影光学系2e〜2gによって視野領域8e〜8gを設けるように構成している。 To perform scanning exposure for the area between, and configured to provide a viewing area 8e~8g by the projection optical system 2E~2g.

【0032】このとき、走査方向(X方向)に沿った視野領域8a〜8g(または露光領域9a〜9g)の幅の総和が、どのY方向の位置においても常に一定となることが望ましい。 [0032] In this case, the sum of the width of the viewing area 8a~8g along the scanning direction (X direction) (or exposed areas 9A-9G) it is desirable to always constant in any Y-direction position. 以下、図8を参照して説明する。 Hereinafter will be described with reference to FIG. 図8 Figure 8
(a),(b) は、プレート9上のY方向に関する露光量の分布を示すものであり、縦軸に露光量E、横軸にプレート9のY方向の位置をとっている。 (A), (b) is indicative of the amount of exposure distribution in the Y direction on the plate 9, the vertical axis exposure E, has taken the position in the Y direction of the plate 9 on the horizontal axis. 図8(a)において、プレート9上には、台形状の露光領域9a〜9gのそれぞれに対応する露光量分布90a〜90gが得られる。 In FIG. 8 (a), on the plate 9, the exposure amount distribution 90a~90g is thus obtained which corresponds to the respective exposure regions 9a~9g trapezoidal. ここで、走査露光するにあたって、露光領域9a〜9gのX方向の幅の和が一定となるように規定されているため、露光領域9a〜9gの重なる領域に関しては常に同じ露光量となる。 Here, when scanning exposure, since the sum of the X-direction width of the exposure area 9A-9G are defined to be constant, is always the same amount of exposure with respect to a region that overlaps the exposed areas 9A-9G. 例えば、露光領域9aに対応する露光量分布90aと、露光領域9eに対応する露光量分布9 For example, the exposure amount distribution 90a corresponding to the exposed regions 9a, exposure distribution corresponding to the exposure area 9e 9
0eとの重なる領域に関しては、露光領域9aのX方向の幅と露光領域9eのX方向の幅との和が一定であるため、この重なる領域の露光量の和は、重ならない領域の露光量と同じ露光量となる。 For the region overlaps with 0e, since the sum of the X direction width of the X-direction width and the exposure region 9e exposure area 9a is constant, the exposure amount of the overlapping sum of exposure regions overlap no regions the same amount of exposure and. 従って、プレート9上には、全面にわたって均一な露光量分布91が得られることになる。 Thus, on the plate 9, so that the uniform exposure amount distribution 91 is obtained over the entire surface. なお、上述の説明では、露光領域が台形状である場合について説明しているが、均一な露光量分布を得るための露光領域の組合せは、台形状に限られない。 In the above description, a case has been described where the exposure area is a trapezoid, the combination of the exposure area to obtain a uniform exposure amount distribution is not limited to the trapezoidal shape.
例えば、図6(c) に示す如き視野絞り25によって、六角形状の露光領域が複数形成される場合、各露光領域の走査方向の幅が常に一定となるように、各露光領域を規定する。 For example, the field stop 25 as shown in FIG. 6 (c), if the hexagonal exposure regions are formed with a plurality of the width in the scanning direction of the exposure area is always to be constant, defining each exposure area. これにより、プレート9上の全面にわたって均一な露光量分布を得ることができる。 Accordingly, it is possible to obtain a uniform exposure amount distribution over the entire surface of the plate 9.

【0033】次に、図9を参照して、本実施例における投影光学系の望ましき配置関係について説明する。 Next, with reference to FIG. 9 will be described Nozomashiki arrangement of the projection optical system in this embodiment. 図9 Figure 9
は、投影光学系の配置を説明するための平面図であり、 Is a plan view for explaining an arrangement of a projection optical system,
投影光学系D 1 ,D 2 ,D 3をマスク8側(物体側)から見た状態を示す。 Shows a state viewed projection optical system D 1, D 2, D 3 from the mask 8 side (the object side). 図9において、投影光学系D 1は、平凸レンズ成分L 1と凹面鏡M 1とから構成され、投影光学系D 2は、平凸レンズ成分L 2と凹面鏡M 2とから構成され、投影光学系D 3は、平凸レンズ成分L 3と凹面鏡M 3とから構成される。 9, the projection optical system D 1 is composed of a plano-convex lens component L 1 and the concave mirror M 1 Tokyo, projection optical system D 2 is composed of a plano-convex lens component L 2 and the concave mirror M 2 Prefecture, projection optical system D 3 is composed of a plano-convex lens component L 3 and the concave mirror M 3 Prefecture. ここで、各投影光学系D 1 ,D 2 , Here, each projection optical system D 1, D 2,
3の構成は、共に同じである。 Configuration of the D 3 are both the same. なお、図9では、説明を簡単にするために、各投影光学系D 1 ,D 2 ,D 3の光路は、物体から凹面鏡(反射鏡)M 1 ,M 2 ,M 3へ向かう光路のみを示し、光路をZ方向に偏向させる直角プリズムは図示省略している。 In FIG. 9, in order to simplify the description, the optical path of the projection optical system D 1, D 2, D 3 is the only optical path extending from the object concave mirror (reflector) to M 1, M 2, M 3 shown, right-angle prism for deflecting an optical path in the Z direction is not shown.

【0034】さて、投影光学系D 1の取り得る最大の視野領域のY方向の幅をφ F1 、投影光学系D 2の取り得る最大の視野領域のY方向の幅をφ F2 、投影光学系D 3の取り得る最大の視野領域のY方向の幅をφ F3とする。 [0034] Now, the projection optical system D 1 of the the possible maximum the Y-direction width of the viewing area phi F1, the width in the Y direction of maximum field area that can be taken of the projection optical system D 2 phi F2, the projection optical system the maximum Y directional width of the viewing area of possible D 3 and phi F3. これらの視野領域のY方向の幅φ F1 〜φ F3は、それぞれ図6(b),(d) に破線で示す最大視野領域の半径方向の長さに対応する。 These Y-direction width phi F1 to [phi] field areas F3 are respectively diagrams 6 (b), corresponding to the radial length of the maximum field area shown by a broken line in (d).

【0035】このとき、Y方向に隣接して配置された投影光学系D 1 ,D 3の光軸間距離をKとすると、 [0035] At this time, when the distance between the optical axes of the Y-direction projection optical system disposed adjacent to the D 1, D 3 and K,

【0036】 [0036]

【数1】 φ F1 /2+φ F2 +φ F3 /2>K …(1) を満足することが望ましい。 [Number 1] φ F1 / 2 + φ F2 + φ F3 / 2> K ... (1) is preferably satisfied. ここで、φ F1 =φ F2 =φ F3 Here, φ F1 = φ F2 = φ F3
=φ F (ただし、φ F :各投影光学系の取り得る最大の視野領域のY方向の幅)とすると、上記(1)式は、以下の如く書換えることができる。 = Phi F (However, phi F: Y-directional width of the largest viewing area that can be taken for each projection optical system) When the above equation (1) can be rewritten as follows.

【0037】 [0037]

【数2】 2φ F >K …(2) すなわち、各投影光学系の取り得る最大の視野領域のY [Number 2] 2φ F> K ... (2) That is, Y of the largest viewing area that can be taken for each projection optical system
方向の幅は、各投影光学系のY方向における光軸間距離の半分以上であることが望ましい。 Width is desirably equal to or more than half of the distance between the optical axes in the Y direction of each projection optical system. ここで、各投影光学系の配置が上記(1)式または(2)式の範囲から外れる場合には、各視野領域がY方向で重ならない恐れがあるため好ましくない。 Here, not preferred because the arrangement of the projection optical system when outside the range of the expression (1) or (2), there is a possibility that the field area do not overlap in the Y direction.

【0038】また、平凸レンズ成分L 1 〜L 3の直径(Y方向の長さ)をφ L1 〜φ L3 、凹面鏡M 1 〜M 3の直径(Y方向の長さ)をφ M1 〜φ M3とし、これらの直径のなかで大きい方の直径(即ち、投影光学系D 1 ,D 2 ,D 3 Further, the plano-convex lens component L 1 ~L 3 diameter (Y direction length) of phi L1 to [phi] L3, the concave mirror M 1 ~M 3 diameter (Y direction length) of phi M1 to [phi] M3 and then, larger diameter among these diameters (i.e., the projection optical system D 1, D 2, D 3
の外径の最大値)をφ D1 〜φ D3とする。 The maximum value of the outer diameter) and φ D1D3. ここで、各投影光学系D 1 ,D 2 ,D 3の構成が共に同じであるため、 Here, since the configuration of each projection optical system D 1, D 2, D 3 are both the same,

【0039】 [0039]

【数3】 φ L1 =φ L2 =φ L3 、 φ M1 =φ M2 =φ M3 、 φ D1 =φ D2 =φ D3 =φ D 、 がそれぞれ成立する。 Equation 3] φ L1 = φ L2 = φ L3 , φ M1 = φ M2 = φ M3, φ D1 = φ D2 = φ D3 = φ D, but established respectively. このとき、各投影光学系の取り得る最大の視野領域のY方向の幅をφ Fとすると、 At this time, when the width of the Y direction of maximum field area that can be taken for each projection optical system and phi F,

【0040】 [0040]

【数4】 φ F >φ D /2 …(4) を満足することが望ましい。 Equation 4] φ F> φ D / 2 ... (4) is preferably satisfied. ここで、各投影光学系D 1 Here, each projection optical system D 1
〜D 3が上記(4)式を満足しない、即ち、各投影光学系の取り得る最大の視野領域のY方向の幅φ Fが各投影光学系の外径の最大値φ Dの半分以上でない場合には、 To D 3 does not satisfy the equation (4), i.e., the width phi F in the Y direction of maximum field area that can be taken for each projection optical system is not more than half of the maximum value phi D of the outer diameter of the projection optical system in case of,
Y方向に隣接して配置された投影光学系D 1 ,D 3が互いに干渉する恐れがあるため好ましくない。 A projection optical system disposed adjacent in the Y direction D 1, D 3 is not preferable because may interfere with each other. 尚、投影光学系の外径の最大値が光路を90°偏向させる直角プリズムにより定まるときには、上記外径の最大値φ Dを直角プリズムのY方向の長さとすれば良い。 Incidentally, when the maximum value of the outer diameter of the projection optical system is determined by the right-angle prism that 90 ° deflects the optical path may be the length of the Y direction of the rectangular prism maximum value phi D of the outer diameter. また、上記(1)式〜(4)式の関係は、ダイソン型光学系に限ることなく、オフナー型光学系にも適用できる。 Further, the (1) Relationship of Formula - (4) is not limited to the Dyson optical system, can be applied to Offner optical system.

【0041】さて、上述の実施例では、投影光学系として2組の光学系を組み合わせているが、その代わりに、 [0041] Now, in the above embodiment, although a combination of two sets of optical systems as the projection optical system, and instead,
図10及び図11に示す光学系を適用しても良い。 It may be applied an optical system shown in FIGS. 10 and 11. 図1 Figure 1
0は、ダイソン型光学系の直角プリズムの代わりに、ダハ面を持つ直角ダハプリズム34を適用したものである。 0, instead of Dyson optical system of the rectangular prism is obtained by applying a right angle roof prism 34 having roof surface. 図10において、直角プリズム31、平凸レンズ成分32及び反射面33aを持つレンズ成分33は、それぞれ図4に示す直角プリズム21、平凸レンズ成分22 10, right-angle prism 31, a lens component 33 having a plano-convex lens component 32 and the reflecting surface 33a is rectangular prism 21 shown in FIG. 4, respectively, a plano-convex lens component 22
及びレンズ成分33と同一の機能を有するため、ここでは説明を省略する。 And because it has the same functions as the lens component 33, and a description thereof will be omitted. 2組の直角プリズムを有するダイソン型光学系では、光軸に沿った方向の横倍率が正となり、かつ光軸直交方向(物体面及び像面に沿った方向) The Dyson optical system having two pairs of right-angle prism, becomes the lateral magnification in the direction along the optical axis is positive, and the direction perpendicular to the optical axis (the direction along the object plane and image plane)
の横倍率が負となる像を形成する。 Lateral magnification to form an image which is a negative. 図10の如き直角ダハプリズム34を有するダイソン型光学系では、ダハ面によって、物体面及び像面内での光軸直交方向(紙面垂直方向)の像向きが逆転するため、光軸に沿った方向(X方向)及び物体面及び像面内での光軸直交方向(Y The Dyson optical system having such a right angle roof prism 34 in FIG. 10, the roof surface, since the image orientation direction perpendicular to the optical axis in the object plane and the image plane (direction perpendicular to the paper) is reversed, a direction along the optical axis (X-direction) and the object plane and the direction perpendicular to the optical axis of the image plane (Y
方向)の横倍率が共に正となる正立像を形成できる。 Can form erect the lateral magnification is are both positive direction).

【0042】図11は、光路を折り返すための反射面を設けたダイソン型光学系の一例のレンズ構成図である。 [0042] Figure 11 shows an example lens diagram of a Dyson optical system having a reflecting surface for folding the optical path.
図11において、マスク8からの光は、光の入射方向(Z軸方向)に対して45°に斜設された半反射面41 11, the light from the mask 8, the semi-reflecting surface is obliquely at 45 ° to the incident direction of light (Z axis direction) 41
aによって、光路が90°偏向されて、平凸レンズ成分42に入射する。 By a, the optical path is deflected 90 °, is incident on the plano-convex lens component 42. なお、図11に示す平凸レンズ成分4 Incidentally, plano-convex lens component 4 shown in FIG. 11
2及び平凸レンズ成分42に接合されるレンズ成分43 Lens component 43 which is bonded to 2 and the plano-convex lens component 42
は、それぞれ図4の平凸レンズ成分22及びレンズ成分23と同一の機能を有する。 Has the same function as the plano-convex lens component 22 and lens component 23 of FIG. 4, respectively.

【0043】そして、平凸レンズ成分42に入射した光は、反射面43aにて反射され、再び平凸レンズ成分4 [0043] Then, the light incident on the plano-convex lens component 42 is reflected by the reflecting surface 43a, plano-convex lens component 4 again
2を介して、平凸レンズ成分42の射出側にマスク8の1次像を形成する。 Through 2, to form a primary image of the mask 8 on the exit side of the plano-convex lens component 42. この1次像形成位置には、反射面4 The primary image forming position, the reflective surface 4
1bが設けられている。 1b is provided. ここで、半反射面41aと反射面41bとは、反射部材41に設けられている。 Here, the semi-reflecting surface 41a and the reflective surface 41b is provided on the reflecting member 41. そして、反射面41b上の1次像からの光は、もとの光路を逆進して、平凸レンズ成分42及びレンズ成分43を介した後、半反射面41aを透過する。 The light from the primary image on the reflecting surface 41b is to reverse the original optical path, after passing through the plano-convex lens component 42 and lens component 43, it passes through the semi-reflecting surface 41a. 半反射面41aの透過方向には、光線の入射方向(透過方向)に対して1 The transmission direction of the semi-reflecting surface 41a, relative to the direction of light (transmission direction) 1
12.5°で斜設された反射面44aと、この反射面4 A reflecting surface 44a which is obliquely disposed with 12.5 °, the reflection surface 4
4aに対して45°で斜設された反射面44bとを有する反射部材44が設けられている。 Reflection member 44 is provided with a reflecting surface 44b which is obliquely disposed at 45 ° to 4a. ここで、反射面44 Here, the reflecting surface 44
a,44bがペンタプリズムの機能を有するため、この反射部材44に入射した光は、反射面44a,44bでの反射により、光路が90°偏向される。 a, since 44b has the function of the pentagonal prism, light incident on the reflecting member 44, reflecting surfaces 44a, the reflection at 44b, the light path is deflected 90 °.

【0044】反射面44a,44bで反射された光は、 The light that has been reflected by the reflecting surface 44a, 44b is,
反射部材44の射出側にマスク8の2次像を形成する。 On the exit side of the reflecting member 44 to form a secondary image of the mask 8.
ここで、この2次像は、等倍の正立像となる。 Wherein the secondary image is a magnification of the upright image. なお、図11においては、マスク8から反射面41bまでの光路長と、反射面41bからプレート9までの光路長とが等しくなるように構成している。 Incidentally, in FIG. 11 is configured so as the optical path length from the mask 8 to the reflecting surface 41b, the optical path length from the reflective surface 41b until the plate 9 are equal. ここで、図11に示す投影光学系においては、反射面41bの形状が視野絞りの形状となる。 Here, in the projection optical system shown in FIG. 11, the shape of the reflecting surface 41b becomes the shape of the field stop. 例えば、YZ平面内で短辺が紙面上側となる台形状の反射面41bである場合には、視野領域及び露光領域は、XY平面で紙面右側に短辺が位置する台形状の領域となる。 For example, if in the YZ plane the short side is trapezoidal reflective surface 41b serving as the upper side, the viewing area and the exposure area is a trapezoidal area which the short sides are located in the right side in the XY plane. なお、図11の投影光学系において、 Incidentally, in the projection optical system of FIG. 11,
平凸レンズ成分42及びレンズ成分43の光軸近傍を通過する光束は、反射面41bに達しないため結像に寄与しない。 The light beam that passes through the vicinity of the optical axis of the plano-convex lens component 42 and lens component 43 does not contribute to imaging because not reach the reflecting surface 41b. しかしながら、半反射面41aから反射面43 However, the reflective surface 43 from the semi-reflecting surface 41a
aへ向かう光路と反射面41bから反射面43aへ向かう光路とが混じることを避けるため、平凸レンズ成分4 To avoid that the light path toward a and the optical path toward the reflecting surface 43a from the reflecting surface 41b is mixed, plano-convex lens component 4
2及びレンズ成分43の光軸上及びその近傍を通過する光束を用いることは少ない。 Seldom used on the optical axis 2 and lens component 43 and the optical beam passing through the neighborhood. 従って、図11のように、 Accordingly, as shown in FIG. 11,
平凸レンズ成分42及びレンズ成分43の光軸近傍を通過する光束が遮光されていても、実用上何ら差し支えはない。 Even if light beams passing through the vicinity of the optical axis of the plano-convex lens component 42 and lens component 43 is shielded, there is no hindrance in practical use at all.

【0045】なお、図10及び図11に示す投影光学系において、物体側と像側とを逆転させる構成であっても良いことはいうまでもない。 [0045] Incidentally, in the projection optical system shown in FIGS. 10 and 11, it is needless to say may be configured to reverse the object side and the image side. 上述の如き図11に示す投影光学系では、ペンタプリズムと同様の機能を持つ2つの反射面44a,44bを適用していたが、その代わりに、図12に示す如く、光路折り返し用の反射面を2枚の反射面で構成しても良い。 The projection optical system shown in such FIG. 11 described above, the two reflective surfaces 44a having the same function as pentaprism, had been applied to 44b, instead, as shown in FIG. 12, the reflecting surface of the optical path folding the may be constituted by two reflecting surface. 図12において、図11の投影光学系と異なる箇所は、Y方向(紙面垂直方向)に沿った稜線を持つダハ面を構成する2つの反射面51 12, different points between the projection optical system of FIG. 11, two reflecting surfaces 51 constituting the roof surface with a ridge along the Y direction (direction perpendicular to the paper surface)
b,51cを光路折り返し用の反射面41bの代わりに設け、プレート9の面に対して45に斜設された反射面54aを2つの反射面44a,44bの代わりに設けた点である。 b, 51c and is provided instead of the reflecting surface 41b of the optical path folding, in that a reflecting surface 54a which is obliquely disposed at 45 with respect to the plane of the plate 9 two reflective surfaces 44a, instead of 44b. なお、図12において、平凸レンズ成分52 In FIG. 12, the plano-convex lens component 52
及び反射面53aを持つレンズ成分53は、それぞれ図11の平凸レンズ成分42及びレンズ成分43と同一の機能を有する。 And a lens component 53 having a reflecting surface 53a has the same function as the plano-convex lens component 42 and lens component 43 of FIG. 11, respectively.

【0046】図12において、マスク8からの光は、半反射面51aにて光路が90°偏向され、平凸レンズ成分52及びレンズ成分53を介して反射面51b,51 [0046] In FIG. 12, the light from the mask 8, the semi-light path by the reflection surface 51a is deflected 90 °, the plano-convex lens component 52 and lens component 53 through the reflection surface 51b, 51
cに達し、マスク8の1次像を形成する。 It reached c, to form a primary image of the mask 8. この1次像は、反射面51b,51cによりその上下が逆転され、 The primary image, the top and bottom is reversed reflection surface 51b, a 51c,
再び平凸レンズ成分52及びレンズ成分53を介して、 Through the plano-convex lens component 52 and lens component 53 again,
半反射面51aを透過する。 Transmitted through the semi-reflecting surface 51a. 半反射面51aを透過した光は、反射面54aにて光路が90°偏向され、反射部材54から射出し、マスク8の2次像を形成する。 The light transmitted through the semi-reflecting surface 51a, the light path is deflected 90 ° by the reflecting surface 54a, and emitted from the reflection member 54 to form a secondary image of the mask 8. ここで、この2次像は、等倍の正立像となる。 Wherein the secondary image is a magnification of the upright image.

【0047】また、上記実施例では、等倍の正立像を得る投影光学系として、平凸レンズ成分と凹面鏡とを持つダイソン型光学系を適用しているが、投影光学系としてはダイソン型光学系に限られることはない。 [0047] In the above embodiment, as a projection optical system to obtain an upright image of the equal magnification was the application of the Dyson optical system having a plano-convex lens component and the concave mirror, Dyson optical system as the projection optical system It is not limited to. 例えば、図13に示すように、凹面鏡、凸面鏡及び凹面鏡が順に配列されたオフナー型光学系を適用することもできる。 For example, as shown in FIG. 13, a concave mirror may be convex mirror and the concave mirror to apply Offner optical system arranged in order. 図13は、第1及び第2部分光学系として図14(b) に示すオフナー型光学系を適用したものであり、説明を簡単にするために、図14(b) に示す部材と同一の機能を有する部材には、同じ符号を付してある。 Figure 13 is an application of the Offner optical system shown in Fig. 14 (b) as the first and second partial optical system, in order to simplify the explanation, the same as the members shown in FIG. 14 (b) the members having the functions, are denoted by the same reference numerals. なお、図13において、第1部分光学系が形成するマスク8の1次像形成位置には、円弧形状の開口部を有する視野絞り25が設けられている。 In FIG. 13, in the primary image forming position of the mask 8 in which the first partial optical system is formed, a field stop 25 having an opening of an arc shape is provided. このような2組のオフナー型光学系によっても、両側(物体側及び像側)がテレセントリックであり、物体の等倍の正立像を形成する投影光学系を得ることができる。 Even with such two sets of Offner optical system, a bilateral (object side and the image side) telecentric, it is possible to obtain a projection optical system for forming an equal magnification erected image of the object.

【0048】以上から、等倍の正立像を得る投影光学系としては、種々の構成を取り得ることが分かる。 [0048] From the above, as the projection optical system to obtain an upright image of the same magnification, it can be seen that can take a variety of configurations. なお、 It should be noted that,
図10に示す如き中間像(1次像)を形成しない投影光学系や、図12に示す如き中間像形成位置に視野絞りを配置できない光学系においては、照明光学系による照明領域の形状を所望の視野領域の形状と相似となるようにすれば良い。 A projection optical system and that such does not form an intermediate image (primary image) shown in FIG. 10, in the optical system can not be placed the field stop in the intermediate image forming position as shown in FIG. 12, the desired shape of the area illuminated by the illumination optical system between the shape of the viewing area should be such that the similarity. 例えば、図2の照明光学系の視野絞り10 For example, the field of view of the illumination optical system of FIG aperture 10
7の開口部107a,107bの形状を台形状とすれば、台形状の照明領域を得ることができる。 7 of the opening 107a, if the shape of 107b trapezoidal, it is possible to obtain an illumination area trapezoidal.

【0049】このように、本実施例による露光装置によれば、複数の投影光学系によって、走査方向と直交する幅が広い露光領域を形成しているため、個々の投影光学系を大型化することなく、露光領域の大画面化に対応できる。 [0049] Thus, according to the exposure apparatus according to this embodiment, a plurality of the projection optical system, since the width perpendicular to the scanning direction forms a wide exposure region, the size of the individual projection optical system without, it can accommodate a large screen of the exposure area. ここで、本実施例では、投影光学系の大型化を招かないため、比例拡大による収差の増大を防止できる利点がある。 In the present embodiment, since does not cause an increase in size of the projection optical system, it can be advantageously prevented from increasing aberrations by proportional enlargement.

【0050】また、本実施例では、画面を継ぐことなく、一回の露光で大画面の露光が実行できるため、スループットの向上が図れる利点や画面の継ぎ目が無くなる利点がある。 Further, in the present embodiment, without splicing the screen, because it can perform exposure of a large screen in a single exposure, there is an advantage that the advantages and screen seams of the throughput can be improved is eliminated.

【0051】 [0051]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、露光領域が大きな場合でも、スループットを低下させずに、回路パターンを転写できる露光装置が提供できる。 According to the present invention as described above, according to the present invention, even when the exposure area is large, without reducing throughput, exposure apparatus capable of transferring the circuit pattern can be provided.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の実施例の一例を示す斜視図である。 1 is a perspective view showing an example of embodiment of the present invention.

【図2】本発明による露光装置に適用される照明光学系の一例を示す斜視図である。 2 is a perspective view showing an example of an illumination optical system applied to an exposure apparatus according to the present invention.

【図3】照明光学系の変形例を模式的に示す図である。 3 is a diagram schematically showing a modified example of the illumination optical system.

【図4】本発明による露光装置に適用される投影光学系のレンズ構成図である。 A lens arrangement of a projection optical system applied to an exposure apparatus according to the present invention; FIG.

【図5】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図である。 5 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図6】視野絞りの形状の説明するための平面図である。 6 is a plan view for explaining the field stop shape.

【図7】投影光学系による視野領域とマスクとの平面的な位置関係を示す図である。 7 is a diagram showing a planar positional relationship between the field region and the mask by the projection optical system.

【図8】プレート上の露光量分布を示す図である。 8 is a diagram showing an exposure amount distribution on the plate.

【図9】複数の投影光学系の配置関係を説明するための平面図である。 9 is a plan view illustrating the arrangement of a plurality of projection optical systems.

【図10】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図である。 10 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図11】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図である。 11 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図12】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図である。 12 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図13】投影光学系としてオフナー型光学系を適用した場合のレンズ構成図である。 13 is a lens configuration diagram of the application of the Offner optical system as the projection optical system.

【図14】従来の露光装置の一例を示す斜視図である。 14 is a perspective view showing an example of a conventional exposure apparatus.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

2a〜2g…投影光学系、 8…マスク、 9…プレート、10…照明光学系、 2a through 2g ... projection optical system, 8 ... mask, 9 ... plate, 10 ... illumination optical system,

Claims (6)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】第1の物体と第2の物体とを移動させつつ前記第1の物体の像を前記第2の物体上へ投影露光する露光装置において、 前記第1の物体の等倍の正立像を前記第2の物体上に形成する第1及び第2の投影光学系を有し、 前記第1及び第2の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成されることを特徴とする露光装置。 1. A first object and an exposure apparatus for projection exposure to a second of said the object while moving the first image of the object the second on the object, the magnification of the first object the erect has first and second projection optical system for forming the second on the object, the first and second projection optical system is characterized in that at least the image side is constituted by a telecentric exposure apparatus.
  2. 【請求項2】前記第1及び第2の投影光学系は、光の入射側に凹面を向けたレンズ面と、同じく光の入射側に凹面を向けた反射面とを有するダイソン型光学系であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 Wherein said first and second projection optical system includes a lens surface having a concave surface facing the incident side of light, at same Dyson optical system having a reflection surface having a concave surface facing the incident side of light the exposure apparatus according to claim 1, wherein the certain.
  3. 【請求項3】前記第1及び第2の投影光学系は、第1部分光学系と第2部分光学系とを有し、前記第2部分光学系は、前記第1部分光学系が形成する物体の1次像からの光によって2次像を形成することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 Wherein the first and second projection optical system has a first partial optical system and the second partial optical system, the second partial optical system, the first partial optical system forms the exposure apparatus according to claim 1, wherein the forming a secondary image by light from the primary image of the object.
  4. 【請求項4】前記第1及び第2部分光学系は、それぞれ光の入射側に凹面を向けた第1及び第2の反射面を有し、該第1及び第2の反射面は、同一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴とする請求項3記載の露光装置。 Wherein said first and second partial optical system has a first and a second reflecting surface having a concave surface facing the incident side of each light, the first and second reflecting surfaces are the same exposure apparatus according to claim 3, characterized in that it is arranged to direct the concave direction.
  5. 【請求項5】前記第1部分光学系による前記1次像が形成される位置には、視野絞りが配置されることを特徴とする請求項3記載の露光装置。 Wherein said the position where the primary image by the first partial optical system is formed, an exposure apparatus according to claim 3, wherein the field stop is disposed.
  6. 【請求項6】前記視野絞りは、略台形状の開口部を有し、該開口部によって定まる露光領域の移動方向における長さの和は、前記移動方向と直交する方向において常に等しくなる如く規定されることを特徴とする請求項5 Wherein said field stop has an opening of substantially trapezoidal, the sum of the lengths in the moving direction of the exposure region defined by the opening is, as always equal in a direction perpendicular to the moving direction defined claim 5, characterized in that it is
    記載の露光装置。 The exposure apparatus according.
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