JPH0753555A - テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬 - Google Patents
テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬Info
- Publication number
- JPH0753555A JPH0753555A JP12128894A JP12128894A JPH0753555A JP H0753555 A JPH0753555 A JP H0753555A JP 12128894 A JP12128894 A JP 12128894A JP 12128894 A JP12128894 A JP 12128894A JP H0753555 A JPH0753555 A JP H0753555A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenyl
- methyl
- reference example
- compound
- oxazolylmethoxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】すぐれた血糖低下作用および血中脂質低下作用
を有する新規テトラゾール誘導体を提供する。 【構成】一般式 【化１】 〔式中、n は 1 から 3 の整数を、Ａは置換基を有して
いてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。
を有する新規テトラゾール誘導体を提供する。 【構成】一般式 【化１】 〔式中、n は 1 から 3 の整数を、Ａは置換基を有して
いてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は血糖および血中脂質低下
作用を有する新規テトラゾール誘導体およびそれを含ん
でなる糖尿病治療剤および高脂血症治療剤に関するもの
であり、医薬の分野において用いられるものである。
作用を有する新規テトラゾール誘導体およびそれを含ん
でなる糖尿病治療剤および高脂血症治療剤に関するもの
であり、医薬の分野において用いられるものである。
【０００２】
【従来の技術】糖尿病の治療剤としては、従来から種々
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシド−シスを引き起こすため現在ほとんど用いら
れておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な血
糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き起
こし、使用上の注意が必要である。また５位に置換基を
有するテトラゾール誘導体も知られており、たとえば、
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー(Journ
al of Medicinal Chemistry)，３５巻，９４４頁（１９
９２年）には、一連の５−置換テトラゾール誘導体が血
糖低下作用を有することが記載されている。しかし、こ
れらの化合物は活性の点で十分とは言えない。
のビグアナイド系化合物およびスルホニルウレア系化合
物が用いられてきた。しかし、ビグアナイド系化合物は
乳酸アシド−シスを引き起こすため現在ほとんど用いら
れておらず、またスルホニルウレア系化合物は強力な血
糖低下作用を有するが、しばしば重篤な低血糖を引き起
こし、使用上の注意が必要である。また５位に置換基を
有するテトラゾール誘導体も知られており、たとえば、
ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー(Journ
al of Medicinal Chemistry)，３５巻，９４４頁（１９
９２年）には、一連の５−置換テトラゾール誘導体が血
糖低下作用を有することが記載されている。しかし、こ
れらの化合物は活性の点で十分とは言えない。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、さらに強
い血糖及び血中脂質低下作用を有する５−置換テトラゾ
ール誘導体について種々検討を加えた結果、５位置換基
中に置換基を有していてもよい複素環残基を有するアル
コキシ基で置換されたフェニル基またはピリジル基を導
入することにより活性が著しく増強されることを見いだ
し、本発明を完成した。すなわち、本発明は (1) 一般式 (I)
い血糖及び血中脂質低下作用を有する５−置換テトラゾ
ール誘導体について種々検討を加えた結果、５位置換基
中に置換基を有していてもよい複素環残基を有するアル
コキシ基で置換されたフェニル基またはピリジル基を導
入することにより活性が著しく増強されることを見いだ
し、本発明を完成した。すなわち、本発明は (1) 一般式 (I)
【化９】 〔式中、n は 1 から 3 の整数を、A は置換基を有して
いてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 (2) 一般式 (I)で表されるテトラゾール誘導体またはそ
の薬理学的に許容しうる塩を有効成分として含有してな
る糖尿病または高脂血症治療剤。 (3) 一般式 (II)
いてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 (2) 一般式 (I)で表されるテトラゾール誘導体またはそ
の薬理学的に許容しうる塩を有効成分として含有してな
る糖尿病または高脂血症治療剤。 (3) 一般式 (II)
【化１０】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕で表される化
合物と金属アジド化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式 (I)で表されるテトラゾール誘導体の製造法に
関する。
合物と金属アジド化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式 (I)で表されるテトラゾール誘導体の製造法に
関する。
【０００４】前記一般式（I）で表わされる化合物にお
いてベンゼン環またはピリジン環に置換する−Ｙ−はＡ
−(ＣＨ2)n−Ｏ−の置換位置とパラ位に置換しているも
のが好ましい。前記一般式 (I) および (II) 中、A で
表される複素環残基としては、1) ５員環であり、2) 環
を構成する原子として少なくとも１個の窒素原子を有す
る複素環残基（含窒素複素環残基）であり、かつ3) 環
は不飽和結合を有する芳香環であのものが好ましく、4)
環構成原子として２個以上の窒素原子を有していても
よく、また窒素の他酸素原子、イオウ原子などの異項原
子を有していてもよく、5) 環上の任意の位置に置換基
を有していても良い。該 A で示される複素環残基の具
体例としては、例えばピロリル（２−ピロリル）、ピラ
ゾリル（３−ピラゾリル）、イミダゾリル（２−イミダ
ゾリル，４−イミダゾリル），トリアゾリル（１，２，
３−トリアゾール−４−イル，１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル），テトラゾリル，オキサゾリル（２−オ
キサゾリル，４−オキサゾリル），チアゾリル（２−チ
アゾリル，４−チアゾリル）などが挙げられる。これら
の複素環残基は、環の任意の位置に１個以上の置換基を
有していてもよく、該置換基としては炭化水素残基、複
素環基またはアミノ基があげられ、これらはさらに置換
基を有していてもよい。
いてベンゼン環またはピリジン環に置換する−Ｙ−はＡ
−(ＣＨ2)n−Ｏ−の置換位置とパラ位に置換しているも
のが好ましい。前記一般式 (I) および (II) 中、A で
表される複素環残基としては、1) ５員環であり、2) 環
を構成する原子として少なくとも１個の窒素原子を有す
る複素環残基（含窒素複素環残基）であり、かつ3) 環
は不飽和結合を有する芳香環であのものが好ましく、4)
環構成原子として２個以上の窒素原子を有していても
よく、また窒素の他酸素原子、イオウ原子などの異項原
子を有していてもよく、5) 環上の任意の位置に置換基
を有していても良い。該 A で示される複素環残基の具
体例としては、例えばピロリル（２−ピロリル）、ピラ
ゾリル（３−ピラゾリル）、イミダゾリル（２−イミダ
ゾリル，４−イミダゾリル），トリアゾリル（１，２，
３−トリアゾール−４−イル，１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル），テトラゾリル，オキサゾリル（２−オ
キサゾリル，４−オキサゾリル），チアゾリル（２−チ
アゾリル，４−チアゾリル）などが挙げられる。これら
の複素環残基は、環の任意の位置に１個以上の置換基を
有していてもよく、該置換基としては炭化水素残基、複
素環基またはアミノ基があげられ、これらはさらに置換
基を有していてもよい。
【０００５】該炭化水素残基としては、脂肪族炭化水素
残基、脂環族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残
基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基が挙
げられる。該脂肪族炭化水素残基としては、たとえばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、t.-ペンチル、ヘキシル、イソヘ
キシル、ヘプチル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂
肪族炭化水素残基、好ましくは炭素数１〜４のもの、お
よびたとえばエテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、
1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、2-メチル-1-プ
ロペニル、1-ペンテニル、2ーペンテニル、3-ペンテニ
ル、4-ペンテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニ
ル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサジエニル、5-ヘキセニ
ル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、エチニル、1-プロピ
ニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチ
ニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-
ペンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘキシニル、2,4-ヘキサ
ジイニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル
など炭素数２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基、好まし
くは炭素数２〜４のものがあげられる。該脂環族炭化水
素残基としては、たとえばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
など炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素残基、好ましく
は炭素数５または６のもの、および 1-シクロペンテニ
ル、2-シクロペンテニル、3-シクロペンテニル、1-シク
ロヘキセニル、2-シクロヘキセニル、3-シクロヘキセニ
ル、1-シクロヘプテニル、2-シクロヘプテニル、3-シク
ロヘプテニル、2,4-シクロヘプタジエニルなど炭素数５
〜７の不飽和脂環族炭化水素残基、好ましくは炭素数５
または６のものがあげられる。脂環族−脂肪族炭化水素
残基としては上記脂環族炭化水素残基と脂肪族炭化水素
残基とが結合したもののうち、炭素数４〜９のもの、た
とえばシクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、
シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、2-シクロ
ペンテニルメチル、3-シクロペンテニルメチル、シクロ
ヘキシルメチル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロ
ヘキセニルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキ
シルプロピル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチル
エチルなどがあげられる。上記芳香脂肪族炭化水素残基
としては、たとえばベンジル、フェネチル、1-フェニル
エチル、3-フェニルプロピル、2-フェニルプロピル、1-
フェニルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル、α-ナフチルメチル、α-ナフチルエチル、β-ナフ
チルメチル、β-ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３
のナフチルアルキルがあげられる。芳香族炭化水素残基
としては、たとえばフェニル、ナフチル（α-ナフチ
ル，β-ナフチル）などが挙げられる。
残基、脂環族炭化水素残基、脂環族−脂肪族炭化水素残
基、芳香脂肪族炭化水素残基、芳香族炭化水素残基が挙
げられる。該脂肪族炭化水素残基としては、たとえばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、sec.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、t.-ペンチル、ヘキシル、イソヘ
キシル、ヘプチル、オクチルなど炭素数１〜８の飽和脂
肪族炭化水素残基、好ましくは炭素数１〜４のもの、お
よびたとえばエテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、
1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、2-メチル-1-プ
ロペニル、1-ペンテニル、2ーペンテニル、3-ペンテニ
ル、4-ペンテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニ
ル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサジエニル、5-ヘキセニ
ル、1-ヘプテニル、1-オクテニル、エチニル、1-プロピ
ニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチ
ニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-
ペンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘキシニル、2,4-ヘキサ
ジイニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニル
など炭素数２〜８の不飽和脂肪族炭化水素残基、好まし
くは炭素数２〜４のものがあげられる。該脂環族炭化水
素残基としては、たとえばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル
など炭素数３〜７の飽和脂環族炭化水素残基、好ましく
は炭素数５または６のもの、および 1-シクロペンテニ
ル、2-シクロペンテニル、3-シクロペンテニル、1-シク
ロヘキセニル、2-シクロヘキセニル、3-シクロヘキセニ
ル、1-シクロヘプテニル、2-シクロヘプテニル、3-シク
ロヘプテニル、2,4-シクロヘプタジエニルなど炭素数５
〜７の不飽和脂環族炭化水素残基、好ましくは炭素数５
または６のものがあげられる。脂環族−脂肪族炭化水素
残基としては上記脂環族炭化水素残基と脂肪族炭化水素
残基とが結合したもののうち、炭素数４〜９のもの、た
とえばシクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、
シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、2-シクロ
ペンテニルメチル、3-シクロペンテニルメチル、シクロ
ヘキシルメチル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロ
ヘキセニルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキ
シルプロピル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチル
エチルなどがあげられる。上記芳香脂肪族炭化水素残基
としては、たとえばベンジル、フェネチル、1-フェニル
エチル、3-フェニルプロピル、2-フェニルプロピル、1-
フェニルプロピルなど炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル、α-ナフチルメチル、α-ナフチルエチル、β-ナフ
チルメチル、β-ナフチルエチルなど炭素数１１〜１３
のナフチルアルキルがあげられる。芳香族炭化水素残基
としては、たとえばフェニル、ナフチル（α-ナフチ
ル，β-ナフチル）などが挙げられる。
【０００６】該複素環基は環を構成する原子として炭素
以外に N, O, S から選ばれた１〜３個を含む５または
６員環であって炭素を介して結合する基であり、その具
体例としてはたとえばチエニル（２−チエニル、３−チ
エニル）、フリル（２−フリル、３−フリル）、ピリジ
ル（２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、チ
アゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チア
ゾリル）、オキサゾリル（２−オキサゾリル、４−オキ
サゾリル、５−オキサゾリル）、イミダゾリル（２−イ
ミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル）、
ピリミジニル（２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、
５−ピリミジニル、６−ピリミジニル）、ピラジニル、
ピリダジニル（３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、
５−ピリダジニル、６−ピリダジニルなどの不飽和のも
の、ピペリジニル（２−ピペリジニル、３−ピペリジニ
ル、４−ピペリジニル）、ピロリジニル（２−ピロリジ
ニル、３−ピロリジニル）、モルホリニル（２−モルホ
リニル、３−モルホリニル）、テトラヒドロフリル（２
−テトラヒドロフリル、３−テトラヒドロフリル）など
の飽和のものがあげられる。該アミノ基は置換されてい
てもよく、置換されたアミノ基としては、Ｎ−モノ置換
アミノ基およびＮ，Ｎ−ジ置換アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−モノ置換アミノ基」とは、置換基１個を有するア
ミノ基を意味し、該置換基の例としては、例えば低級ア
ルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，ブチル，i
−ブチル，t−ブチルなど炭素数１〜４のもの）、シク
ロアルキル基（例、シクロペンチル，シクロヘキシルな
ど炭素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェニル，
ナフチルなど）、芳香族複素環基（例、ピリジル，チエ
ニル，フリル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳
香族複素環基（例、ピペリジニル，ピロリジニル，モル
ホリニルなど）、アラルキル基（例、ベンジル，フェネ
チルなど）、アシル基（例、アセチル，プロピオニルな
ど）、カルバモイル基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基
（例、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチルカルバモイ
ル，Ｎ−プロピルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換
カルバモイル基（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル，
Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルカルバモイルなど）、低級アルコキシカルボニル基
（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロ
ポキシカルボニルなど炭素数２〜５のもの）、ヒドロキ
シル基、低級アルコキシ基（例、メトキシ，エトキシ，
プロポキシ，ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、アラ
ルキルオキシ基（例、ベンジルオキシ，フェネチルオキ
シ，ナフチルメチルオキシなど）などが挙げられる。
「Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノ基」とは、置換基２個を有する
アミノ基を意味し、該置換基の一方の例としては、上記
「Ｎ−モノ置換アミノ基」における置換基と同様のもの
が挙げられ、他方の例としては、例えば低級アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基など
が挙げられる。また２個の置換基が窒素原子と一緒にな
って環状アミノ基を形成する場合もあり、この様な環状
アミノ基の例としては、例えば１−アゼチジニル、ピロ
リジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノおよび４
位に低級アルキル基（例、メチル，エチル，プロピルな
ど炭素数１〜４のもの）、アラルキル基（例、ベンジ
ル，フェネチル，ナフチルメチルなど）、アリール基
（例、フェニル，４−メチルフェニル，ナフチルなど）
などを有するピペラジノなどが挙げられる。
以外に N, O, S から選ばれた１〜３個を含む５または
６員環であって炭素を介して結合する基であり、その具
体例としてはたとえばチエニル（２−チエニル、３−チ
エニル）、フリル（２−フリル、３−フリル）、ピリジ
ル（２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、チ
アゾリル（２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チア
ゾリル）、オキサゾリル（２−オキサゾリル、４−オキ
サゾリル、５−オキサゾリル）、イミダゾリル（２−イ
ミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル）、
ピリミジニル（２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、
５−ピリミジニル、６−ピリミジニル）、ピラジニル、
ピリダジニル（３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、
５−ピリダジニル、６−ピリダジニルなどの不飽和のも
の、ピペリジニル（２−ピペリジニル、３−ピペリジニ
ル、４−ピペリジニル）、ピロリジニル（２−ピロリジ
ニル、３−ピロリジニル）、モルホリニル（２−モルホ
リニル、３−モルホリニル）、テトラヒドロフリル（２
−テトラヒドロフリル、３−テトラヒドロフリル）など
の飽和のものがあげられる。該アミノ基は置換されてい
てもよく、置換されたアミノ基としては、Ｎ−モノ置換
アミノ基およびＮ，Ｎ−ジ置換アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−モノ置換アミノ基」とは、置換基１個を有するア
ミノ基を意味し、該置換基の例としては、例えば低級ア
ルキル基（例、メチル，エチル，プロピル，ブチル，i
−ブチル，t−ブチルなど炭素数１〜４のもの）、シク
ロアルキル基（例、シクロペンチル，シクロヘキシルな
ど炭素数３〜７のもの）、アリール基（例、フェニル，
ナフチルなど）、芳香族複素環基（例、ピリジル，チエ
ニル，フリル，オキサゾリル，チアゾリルなど）、非芳
香族複素環基（例、ピペリジニル，ピロリジニル，モル
ホリニルなど）、アラルキル基（例、ベンジル，フェネ
チルなど）、アシル基（例、アセチル，プロピオニルな
ど）、カルバモイル基、Ｎ−モノ置換カルバモイル基
（例、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチルカルバモイ
ル，Ｎ−プロピルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジ置換
カルバモイル基（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル，
Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルカルバモイルなど）、低級アルコキシカルボニル基
（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロ
ポキシカルボニルなど炭素数２〜５のもの）、ヒドロキ
シル基、低級アルコキシ基（例、メトキシ，エトキシ，
プロポキシ，ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、アラ
ルキルオキシ基（例、ベンジルオキシ，フェネチルオキ
シ，ナフチルメチルオキシなど）などが挙げられる。
「Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノ基」とは、置換基２個を有する
アミノ基を意味し、該置換基の一方の例としては、上記
「Ｎ−モノ置換アミノ基」における置換基と同様のもの
が挙げられ、他方の例としては、例えば低級アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基など
が挙げられる。また２個の置換基が窒素原子と一緒にな
って環状アミノ基を形成する場合もあり、この様な環状
アミノ基の例としては、例えば１−アゼチジニル、ピロ
リジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノおよび４
位に低級アルキル基（例、メチル，エチル，プロピルな
ど炭素数１〜４のもの）、アラルキル基（例、ベンジ
ル，フェネチル，ナフチルメチルなど）、アリール基
（例、フェニル，４−メチルフェニル，ナフチルなど）
などを有するピペラジノなどが挙げられる。
【０００７】上記Ａで表わされる複素環残基上の置換基
としての炭化水素残基、複素環基は、その任意の位置に
置換基を有していてもよい。該炭化水素残基が脂環族基
を含む場合または該複素環基が飽和のものである場合、
その環上（Ｎ原子を含む）には炭素数１〜３の低級アル
キル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル）を１〜３個有していてもよい。また該炭化水素残基
が芳香族炭化水素残基を含む場合または複素環基が不飽
和のものである場合、その環上には同一または異なって
１〜４個の置換基を有していてもよく、該置換基として
してはたとえばハロゲン（フッ素、塩素、ヨウ素）、ヒ
ドロキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、低級
アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、低
級アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチルなど炭素数１〜４のもの）、低級アルコ
キシカルボニル（例、メトキシカルボニル、エチキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニルなど炭素数２〜４のも
の）、低級アルキルチオ（例、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオなど炭素数１〜３
のもの）、低級アルキルアミノ基（メチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジメチルアミノなど炭素数１〜４のもの）な
どが挙げられる。
としての炭化水素残基、複素環基は、その任意の位置に
置換基を有していてもよい。該炭化水素残基が脂環族基
を含む場合または該複素環基が飽和のものである場合、
その環上（Ｎ原子を含む）には炭素数１〜３の低級アル
キル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル）を１〜３個有していてもよい。また該炭化水素残基
が芳香族炭化水素残基を含む場合または複素環基が不飽
和のものである場合、その環上には同一または異なって
１〜４個の置換基を有していてもよく、該置換基として
してはたとえばハロゲン（フッ素、塩素、ヨウ素）、ヒ
ドロキシ、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、低級
アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシなど炭素数１〜４のもの）、低
級アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチルなど炭素数１〜４のもの）、低級アルコ
キシカルボニル（例、メトキシカルボニル、エチキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニルなど炭素数２〜４のも
の）、低級アルキルチオ（例、メチルチオ、エチルチ
オ、プロピルチオ、イソプロピルチオなど炭素数１〜３
のもの）、低級アルキルアミノ基（メチルアミノ、エチ
ルアミノ、ジメチルアミノなど炭素数１〜４のもの）な
どが挙げられる。
【０００８】Ａで示される複素環残基がその置換基とし
て２個以上の炭化水素残基を有し、かつこれらの炭化水
素残基が互いに複素環上の隣接する位置に置換している
とき、これらは互いに結合して縮合環を形成していても
よい。この場合、該２個の炭化水素残基が互いに連結し
て炭素数３〜５の飽和または不飽和の２価の鎖状炭化水
素残基を形成していることを意味する。該鎖状炭化水素
残基の具体例としては、例えば -CH2CH2CH2-, -CH2CH2C
H2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH=CHCH2-, -CH=CH-CH=C
H-, -CH=CH-CH=CH-CH2-, -CH=CH-CH2CH2CH2- などが挙
げられる。Ａで示される複素環残基の中でも一般式
て２個以上の炭化水素残基を有し、かつこれらの炭化水
素残基が互いに複素環上の隣接する位置に置換している
とき、これらは互いに結合して縮合環を形成していても
よい。この場合、該２個の炭化水素残基が互いに連結し
て炭素数３〜５の飽和または不飽和の２価の鎖状炭化水
素残基を形成していることを意味する。該鎖状炭化水素
残基の具体例としては、例えば -CH2CH2CH2-, -CH2CH2C
H2CH2-, -CH2CH2CH2CH2CH2-, -CH=CHCH2-, -CH=CH-CH=C
H-, -CH=CH-CH=CH-CH2-, -CH=CH-CH2CH2CH2- などが挙
げられる。Ａで示される複素環残基の中でも一般式
【化１１】 ｛式中、Ｂ1はイオウ原子、酸素原子またはＮＲ〔ただ
しＲは水素原子、低級アルキル基（たとえばメチル，エ
チルなどの炭素数１〜３のもの）またはアラルキル基
（ベンジル基、フェネチルなど）を示す。〕で示される
基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ−Ｒ2（Ｒ2は水素または
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
す。）を示す。Ｒ1は水素原子またはそれぞれ置換され
ていてもよい炭化水素残基もしくは複素環残基を示す
が、Ｒ1とＲ2が隣接する炭素原子にそれぞれ結合してい
るとき、Ｒ1とＲ2は互いに結合して縮合環を形成してい
てもよい。｝で表されるものが好ましい。R1 で示され
る炭化水素残基、複素環残基およびこれらの基の置換基
はＡで示される複素環残基の置換基として上述した炭化
水素残基、複素環基およびそれらの基の置換基と同様で
ある。R2で示される低級アルキル基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、sec.-ブチル、t-ブチル、ペンチルなど炭素
数１〜５のものが挙げられるが、炭素数１〜３のものが
好ましい。このアルキル基は任意の位置に水酸基を有し
ていてもよいが、とりわけα位が好ましい。Ｂ2がＣ−
Ｒ2でかつＲ2が水素原子であるときＲ1はＢ2で示される
炭素原子に置換していてもよい。この複素環残基は環上
の可能な原子を介して結合するが、窒素原子に隣接する
炭素原子を介して結合する基であるのが望ましい。たと
えばＢ1がＮＲでＢ2がＣ−Ｒ2である場合はＢ2を介して
結合する基も好ましい例である。
しＲは水素原子、低級アルキル基（たとえばメチル，エ
チルなどの炭素数１〜３のもの）またはアラルキル基
（ベンジル基、フェネチルなど）を示す。〕で示される
基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ−Ｒ2（Ｒ2は水素または
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
す。）を示す。Ｒ1は水素原子またはそれぞれ置換され
ていてもよい炭化水素残基もしくは複素環残基を示す
が、Ｒ1とＲ2が隣接する炭素原子にそれぞれ結合してい
るとき、Ｒ1とＲ2は互いに結合して縮合環を形成してい
てもよい。｝で表されるものが好ましい。R1 で示され
る炭化水素残基、複素環残基およびこれらの基の置換基
はＡで示される複素環残基の置換基として上述した炭化
水素残基、複素環基およびそれらの基の置換基と同様で
ある。R2で示される低級アルキル基としては、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、sec.-ブチル、t-ブチル、ペンチルなど炭素
数１〜５のものが挙げられるが、炭素数１〜３のものが
好ましい。このアルキル基は任意の位置に水酸基を有し
ていてもよいが、とりわけα位が好ましい。Ｂ2がＣ−
Ｒ2でかつＲ2が水素原子であるときＲ1はＢ2で示される
炭素原子に置換していてもよい。この複素環残基は環上
の可能な原子を介して結合するが、窒素原子に隣接する
炭素原子を介して結合する基であるのが望ましい。たと
えばＢ1がＮＲでＢ2がＣ−Ｒ2である場合はＢ2を介して
結合する基も好ましい例である。
【０００９】上記式で示される複素環基の中でも特に一
般式
般式
【化１２】 〔式中、R1 およびR2 は前記と同意義であり、R3 と R4
が結合して縮合環を形成していてもよい。Ｂは、酸素
原子またはイオウ原子を示す。〕で示されるチアゾリル
またはオキサゾリルが好ましい。R3, R4 で表される炭
化水素残基，複素環残基およびそれらの置換基は芳香性
５員複素環残基の置換基として上述した炭化水素残基，
複素環残基およびそれらの置換基と同様である。この R
3, R4 は縮合環を形成していてもよく、この場合も芳
香性５員複素環残基がその置換基として２個の炭化水素
残基を互いに隣り合った位置に有するときに形成する縮
合環として述べたものと同様である。Ｘをその構成原子
とする環は、ＸがＣＨのときベンゼン環を、またＸがＮ
のときピリジン環を示す。ＸはＣＨが好ましい。ｎは１
から３の整数を示すが、好ましくは１または２である。
Ｙで示される二価の炭化水素残基は、直鎖状または分枝
状のいずれでもよく、また飽和または不飽和のいずれで
もよい。通常炭素数１〜５のアルキレン，アルケニレン
があげられる。その例としては、たとえば、メチレン，
１，１−エチレン，１，２−エチレン，１，１−プロピ
レン，１，３−プロピレン，１−メチル−１，２−エチ
レン，１，４−ブチレンなどのアルキレン、例えば -CH
=CH-CH=CH- などのアルケニレンがあげられる。なかで
も１，３−プロピレンおよび１，４−ブチレンが好まし
い。
が結合して縮合環を形成していてもよい。Ｂは、酸素
原子またはイオウ原子を示す。〕で示されるチアゾリル
またはオキサゾリルが好ましい。R3, R4 で表される炭
化水素残基，複素環残基およびそれらの置換基は芳香性
５員複素環残基の置換基として上述した炭化水素残基，
複素環残基およびそれらの置換基と同様である。この R
3, R4 は縮合環を形成していてもよく、この場合も芳
香性５員複素環残基がその置換基として２個の炭化水素
残基を互いに隣り合った位置に有するときに形成する縮
合環として述べたものと同様である。Ｘをその構成原子
とする環は、ＸがＣＨのときベンゼン環を、またＸがＮ
のときピリジン環を示す。ＸはＣＨが好ましい。ｎは１
から３の整数を示すが、好ましくは１または２である。
Ｙで示される二価の炭化水素残基は、直鎖状または分枝
状のいずれでもよく、また飽和または不飽和のいずれで
もよい。通常炭素数１〜５のアルキレン，アルケニレン
があげられる。その例としては、たとえば、メチレン，
１，１−エチレン，１，２−エチレン，１，１−プロピ
レン，１，３−プロピレン，１−メチル−１，２−エチ
レン，１，４−ブチレンなどのアルキレン、例えば -CH
=CH-CH=CH- などのアルケニレンがあげられる。なかで
も１，３−プロピレンおよび１，４−ブチレンが好まし
い。
【００１０】本発明の化合物 (I) はそのテトラゾール
環に酸性窒素を、またピリジン環を有する場合は塩基性
窒素を有するため、塩基性塩、酸性塩が存在する。その
塩としては薬学的に許容される塩が好ましく、例えば無
機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸
との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げら
れる。無機塩基との塩の好適な例としては、例えばナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウ
ム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；なら
びにアルミニウム塩、アンモニウム塩などが挙げられ
る。有機塩基との塩の好適な例としては、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジ
ルエチレンジアミンなどとの塩が挙げられる。無機酸と
の塩の好適な例としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝
酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との
塩の好適な例としては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、フマール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、
クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が
挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例として
は、例えばアルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩
が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、
例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げ
られる。本発明の化合物 (I) またはその薬理学的に許
容しうる塩は血糖低下作用を有し、毒性が低く、例え
ば、実施例１の化合物を１５mg／kg，４日間マウスに経
口投与した場合、体重および肝臓重量には、コントロー
ルに対し何等変化は認められなかった。また実施例１４
で製造した化合物を、１００ｍｇ／ｋｇの割合で経口投
与または５０ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与しても死亡
例は認められなかった。本発明の化合物は人を含む哺乳
動物に対して糖尿病治療剤，高脂血症治療剤として用い
ることができる。(I) は、薬学的に許容される担体と配
合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤などの固形製
剤；またはシロップ剤、注射剤などの液状製剤として経
口または非経口的に投与することができる。
環に酸性窒素を、またピリジン環を有する場合は塩基性
窒素を有するため、塩基性塩、酸性塩が存在する。その
塩としては薬学的に許容される塩が好ましく、例えば無
機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸
との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げら
れる。無機塩基との塩の好適な例としては、例えばナト
リウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウ
ム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；なら
びにアルミニウム塩、アンモニウム塩などが挙げられ
る。有機塩基との塩の好適な例としては、例えばトリメ
チルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジ
ルエチレンジアミンなどとの塩が挙げられる。無機酸と
の塩の好適な例としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝
酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機酸との
塩の好適な例としては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、フマール酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、
クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が
挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例として
は、例えばアルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩
が挙げられ、酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、
例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げ
られる。本発明の化合物 (I) またはその薬理学的に許
容しうる塩は血糖低下作用を有し、毒性が低く、例え
ば、実施例１の化合物を１５mg／kg，４日間マウスに経
口投与した場合、体重および肝臓重量には、コントロー
ルに対し何等変化は認められなかった。また実施例１４
で製造した化合物を、１００ｍｇ／ｋｇの割合で経口投
与または５０ｍｇ／ｋｇの割合で腹腔内投与しても死亡
例は認められなかった。本発明の化合物は人を含む哺乳
動物に対して糖尿病治療剤，高脂血症治療剤として用い
ることができる。(I) は、薬学的に許容される担体と配
合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤などの固形製
剤；またはシロップ剤、注射剤などの液状製剤として経
口または非経口的に投与することができる。
【００１１】薬学的に許容される担体としては、製剤素
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また
必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤など
の製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例
としては、例えば乳糖、白糖、Ｄ-マンニトール、デン
プン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが挙げられ
る。滑沢剤の好適な例としては、例えばステアリン酸マ
グネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイ
ドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例として
は、例えば結晶セルロース、白糖、Ｄ-マンニトール、
デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン
などが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、例えば
デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリ
ウム、カルボキシメチルスターチナトリウムなどが挙げ
られる。溶剤の好適な例としては、例えば注射用水、ア
ルコール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ
油、トウモロコシ油などが挙げられる。溶解補助剤の好
適な例としては、例えばポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、Ｄ-マンニトール、安息香酸ベンジ
ル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロー
ル、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適な例とし
ては、例えばステアリルトリエタノールアミン、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシ
チン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モ
ノステアリン酸グリセリン、などの界面活性剤；例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分
子などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、例
えば塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールな
どが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、例えばリ
ン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液など
が挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、例えばベ
ンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例
としては、例えばパラオキシ安息香酸エステル類、クロ
ロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコ
ール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗
酸化剤の好適な例としては、例えば亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。投与方法は通常例えば錠剤、
カプセル剤（ソフトカプセル、マイクロカプセルを含
む）、散剤、顆粒剤などとして経口的に用いられるが、
場合によっては注射剤、坐剤、ペレットなどとして非経
口的に投与できる。投与量は成人に経口投与する場合１
日 0.05 〜 10 mg/kg であり、この量を１日１回〜３回
投与するのが望ましい。
材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いら
れ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊
剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等
張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また
必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤など
の製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例
としては、例えば乳糖、白糖、Ｄ-マンニトール、デン
プン、結晶セルロース、軽質無水ケイ酸などが挙げられ
る。滑沢剤の好適な例としては、例えばステアリン酸マ
グネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイ
ドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例として
は、例えば結晶セルロース、白糖、Ｄ-マンニトール、
デキストリン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン
などが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、例えば
デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリ
ウム、カルボキシメチルスターチナトリウムなどが挙げ
られる。溶剤の好適な例としては、例えば注射用水、ア
ルコール、プロピレングリコール、マクロゴール、ゴマ
油、トウモロコシ油などが挙げられる。溶解補助剤の好
適な例としては、例えばポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、Ｄ-マンニトール、安息香酸ベンジ
ル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロー
ル、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸
ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適な例とし
ては、例えばステアリルトリエタノールアミン、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシ
チン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モ
ノステアリン酸グリセリン、などの界面活性剤；例えば
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、
ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分
子などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、例
えば塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ-マンニトールな
どが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、例えばリ
ン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液など
が挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、例えばベ
ンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例
としては、例えばパラオキシ安息香酸エステル類、クロ
ロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコ
ール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗
酸化剤の好適な例としては、例えば亜硫酸塩、アスコル
ビン酸などが挙げられる。投与方法は通常例えば錠剤、
カプセル剤（ソフトカプセル、マイクロカプセルを含
む）、散剤、顆粒剤などとして経口的に用いられるが、
場合によっては注射剤、坐剤、ペレットなどとして非経
口的に投与できる。投与量は成人に経口投与する場合１
日 0.05 〜 10 mg/kg であり、この量を１日１回〜３回
投与するのが望ましい。
【００１２】以下に本発明の化合物 (I) の製造法を説
明する。 （Ａ法）ニトリル誘導体 (II) とアジド化合物との反応
により、テトラゾール誘導体 (I) を製造する。(II) か
ら (I) への反応は、例えば、ジャーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサエティ(Journal of American C
hemical Society)、８０巻、３９０８頁（１９５８年）
記載の方法に従い、N,N-ジメチルホルムアミド中、塩化
アンモニウムおよびナトリウムアジドとの反応で行われ
る。塩化アンモニウムおよびナトリウムアジドの使用量
は、化合物 (II) １モルにつき１〜７モル、好ましくは
１〜５モルであり、５０℃〜１８０℃で１〜５０時間で
行われる。また、(II) から (I) への反応は、ジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー(Journal of Or
ganic Chemistry)、５６巻、２３９５頁（１９９１年）
記載の方法に従い、化合物 (II) をアジ化トリメチル錫
またはアジ化トリブチル錫との反応後、酸で処理するこ
とによっても行われる。このようにして得られるテトラ
ゾール誘導体およびその塩は公知の分離精製手段たとえ
ば濃縮、減圧濃縮、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。
明する。 （Ａ法）ニトリル誘導体 (II) とアジド化合物との反応
により、テトラゾール誘導体 (I) を製造する。(II) か
ら (I) への反応は、例えば、ジャーナル オブ アメ
リカン ケミカル ソサエティ(Journal of American C
hemical Society)、８０巻、３９０８頁（１９５８年）
記載の方法に従い、N,N-ジメチルホルムアミド中、塩化
アンモニウムおよびナトリウムアジドとの反応で行われ
る。塩化アンモニウムおよびナトリウムアジドの使用量
は、化合物 (II) １モルにつき１〜７モル、好ましくは
１〜５モルであり、５０℃〜１８０℃で１〜５０時間で
行われる。また、(II) から (I) への反応は、ジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー(Journal of Or
ganic Chemistry)、５６巻、２３９５頁（１９９１年）
記載の方法に従い、化合物 (II) をアジ化トリメチル錫
またはアジ化トリブチル錫との反応後、酸で処理するこ
とによっても行われる。このようにして得られるテトラ
ゾール誘導体およびその塩は公知の分離精製手段たとえ
ば濃縮、減圧濃縮、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラ
フィーなどにより単離精製することができる。
【００１３】（Ｂ法）
【化１３】 〔式中、Ｙ1は不飽和結合を含む二価の炭化水素残基
を、Ｙ2は飽和の二価炭化水素残基を示し、その他の記
号は、前記と同意義を有する。〕Ｙ1で表される二価の
不飽和結合を含む炭化水素残基としては、Ｙで表される
二価の炭化水素残基のうち不飽和結合を含むものを、Ｙ
2で表される二価の飽和の炭化水素残基としては、Ｙで
表される二価の炭化水素残基のうち飽和のものが挙げら
れる。本法では、Ａ法に従って製造された化合物のうち
(I-1) を還元反応に付すことにより (I-2) を製造す
る。本還元反応は、自体公知の方法で行うことができる
が、金属触媒を用いる接触還元により有利に行われる。
本接触還元は、常法に従い溶媒中、触媒の存在下、１〜
１５０気圧の水素雰囲気中で行われる。該溶媒として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム、ジ
クロロメタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸またはこれ
らの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、ニッケル化
合物などの金属、パラジウム、白金、ロジウムなどの遷
移金属触媒等を用いることにより有利に行われる。反応
温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃、反応
時間は０．５〜５０時間である。このようにして得られ
るテトラゾール誘導体およびその塩は公知の分離精製手
段たとえば濃縮、減圧濃縮、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができる。
本発明の方法において原料物質として用いられるニトリ
ル誘導体 (II) は、例えばつぎのようにして製造するこ
とができる。
を、Ｙ2は飽和の二価炭化水素残基を示し、その他の記
号は、前記と同意義を有する。〕Ｙ1で表される二価の
不飽和結合を含む炭化水素残基としては、Ｙで表される
二価の炭化水素残基のうち不飽和結合を含むものを、Ｙ
2で表される二価の飽和の炭化水素残基としては、Ｙで
表される二価の炭化水素残基のうち飽和のものが挙げら
れる。本法では、Ａ法に従って製造された化合物のうち
(I-1) を還元反応に付すことにより (I-2) を製造す
る。本還元反応は、自体公知の方法で行うことができる
が、金属触媒を用いる接触還元により有利に行われる。
本接触還元は、常法に従い溶媒中、触媒の存在下、１〜
１５０気圧の水素雰囲気中で行われる。該溶媒として
は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル類、クロロホルム、ジ
クロロメタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸またはこれ
らの混合溶媒が挙げられる。触媒としては、ニッケル化
合物などの金属、パラジウム、白金、ロジウムなどの遷
移金属触媒等を用いることにより有利に行われる。反応
温度は、０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃、反応
時間は０．５〜５０時間である。このようにして得られ
るテトラゾール誘導体およびその塩は公知の分離精製手
段たとえば濃縮、減圧濃縮、晶出、再結晶、転溶、クロ
マトグラフィーなどにより単離精製することができる。
本発明の方法において原料物質として用いられるニトリ
ル誘導体 (II) は、例えばつぎのようにして製造するこ
とができる。
【００１４】（Ｃ法）
【化１４】 〔式 (IV) 中、Ｚはハロゲン原子を、式 (VIII-1) 中、
Ｑは脱離基を示し、他の記号は前記と同意義である。〕
Ｚで表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。Ｑで表される脱離基として
は、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子の他、メタ
ンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、p-ト
ルエンスルホニルオキシ等が挙げられる。
Ｑは脱離基を示し、他の記号は前記と同意義である。〕
Ｚで表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素が挙げられる。Ｑで表される脱離基として
は、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子の他、メタ
ンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、p-ト
ルエンスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００１５】化合物 (III) と化合物 (IV) を縮合して
化合物 (V) を得、ついでアルデヒド誘導体 (VI-1) と
する製造工程は、例えば、ケミカル アンド ファーマ
シューチカル ビューレチン〔Chemical and Pharmaceu
tical Bulletin〕、３９巻、１４４０頁（１９９１
年）、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー
〔Journal of Medicinal Chemistry〕、３５巻、２６１
７頁（１９９２年）に記載の方法に従って行われる。つ
いで化合物 (VI-1) を還元反応に付すことにより、アル
コール体 (VII-1)を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元、接触水素添加等が用いられる。
すなわち、この反応は化合物 (VI-1) を還元剤で処理す
ることにより行われる。還元剤としては、水素化ホウ素
アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム等）、水素化リチウムアルミニウムなどの
金属水素錯化合物、水素化ナトリウムなどの金属水素化
物、有機スズ化合物（水素トリフェニルスズ等）、ニッ
ケル化合物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パラ
ジウム、白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素とを
用いる接触還元剤およびジボランなどが挙げられる。こ
の反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で行われ
る。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-
テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、2-メトキシエタノールなどのアルコ
ール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類、あ
るいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１５０℃，
とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間は、約１
〜２４時間程度である。
化合物 (V) を得、ついでアルデヒド誘導体 (VI-1) と
する製造工程は、例えば、ケミカル アンド ファーマ
シューチカル ビューレチン〔Chemical and Pharmaceu
tical Bulletin〕、３９巻、１４４０頁（１９９１
年）、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリー
〔Journal of Medicinal Chemistry〕、３５巻、２６１
７頁（１９９２年）に記載の方法に従って行われる。つ
いで化合物 (VI-1) を還元反応に付すことにより、アル
コール体 (VII-1)を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元、接触水素添加等が用いられる。
すなわち、この反応は化合物 (VI-1) を還元剤で処理す
ることにより行われる。還元剤としては、水素化ホウ素
アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホ
ウ素リチウム等）、水素化リチウムアルミニウムなどの
金属水素錯化合物、水素化ナトリウムなどの金属水素化
物、有機スズ化合物（水素トリフェニルスズ等）、ニッ
ケル化合物、亜鉛化合物などの金属および金属塩、パラ
ジウム、白金、ロジウムなどの遷移金属触媒と水素とを
用いる接触還元剤およびジボランなどが挙げられる。こ
の反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で行われ
る。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-
テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール、
イソプロパノール、2-メトキシエタノールなどのアルコ
ール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミド類、あ
るいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類により適宜
選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１５０℃，
とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間は、約１
〜２４時間程度である。
【００１６】ついで化合物 (VII-1) をハロゲン化剤あ
るいはスルホニル化剤と反応させて(VIII-1) を製造す
る。かかるハロゲン化剤としては、塩酸、塩化チオニ
ル、三臭化リンなどが好んで用いられ、この場合Ｑが塩
素または臭素で示される (VIII-1) が生成する。本反応
は適宜の不活性溶媒（例、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、ジクロロメタンなど）中あるいは過
剰のハロゲン化剤を溶媒として−１０〜８０℃で行われ
る。ハロゲン化剤の使用量は、(VII-1) に対して１〜２
０モルである。スルホニル化剤としてはメタンスルホニ
ルクロリド、p-トシルクロリド、ベンゼンスルホニルク
ロリドなどが好んで用いられ、Ｑがそれぞれメタンスル
ホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、ベンゼン
スルホニルオキシで示される (VIII-1) が生成する。本
反応は適宜の不活性溶媒（例、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、エチルエーテル、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、ジクロロメタンなど）中、塩基
（例、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなど）の存在下に−１０〜３０℃で行われ
る。スルホニル化剤および塩基の使用量は、(VII-1) １
モルに対してそれぞれ１〜２モルである。以上のように
して生成したＱが塩素、臭素あるいはスルホニルオキシ
である化合物 (VIII-1) １モルにヨウ化ナトリウムある
いはヨウ化カリウムを１〜１．５モル反応させればＱが
ヨウ素である (VIII-1) を製造することもできる。この
場合反応はアセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノールなどの溶媒中２０〜８０℃で行うことが
できる。次いで (VIII-1) をシアン化カリウムまたはシ
アン化ナトリウムと反応させることにより (II-1) を製
造する。反応は通常溶媒（例、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2-ジクロロエタン、メタノール、エタノール、酢酸エ
チル、アセトン、2-ブタノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドなど）中、０℃〜１００
℃で行われ、シアン化カリウムまたはシアン化ナトリウ
ムの使用量は、(VIII-1) １モルに対して１〜８モルで
ある。
るいはスルホニル化剤と反応させて(VIII-1) を製造す
る。かかるハロゲン化剤としては、塩酸、塩化チオニ
ル、三臭化リンなどが好んで用いられ、この場合Ｑが塩
素または臭素で示される (VIII-1) が生成する。本反応
は適宜の不活性溶媒（例、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロホルム、ジクロロメタンなど）中あるいは過
剰のハロゲン化剤を溶媒として−１０〜８０℃で行われ
る。ハロゲン化剤の使用量は、(VII-1) に対して１〜２
０モルである。スルホニル化剤としてはメタンスルホニ
ルクロリド、p-トシルクロリド、ベンゼンスルホニルク
ロリドなどが好んで用いられ、Ｑがそれぞれメタンスル
ホニルオキシ、p-トルエンスルホニルオキシ、ベンゼン
スルホニルオキシで示される (VIII-1) が生成する。本
反応は適宜の不活性溶媒（例、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、エチルエーテル、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、ジクロロメタンなど）中、塩基
（例、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなど）の存在下に−１０〜３０℃で行われ
る。スルホニル化剤および塩基の使用量は、(VII-1) １
モルに対してそれぞれ１〜２モルである。以上のように
して生成したＱが塩素、臭素あるいはスルホニルオキシ
である化合物 (VIII-1) １モルにヨウ化ナトリウムある
いはヨウ化カリウムを１〜１．５モル反応させればＱが
ヨウ素である (VIII-1) を製造することもできる。この
場合反応はアセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノールなどの溶媒中２０〜８０℃で行うことが
できる。次いで (VIII-1) をシアン化カリウムまたはシ
アン化ナトリウムと反応させることにより (II-1) を製
造する。反応は通常溶媒（例、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、クロロホルム、ジクロロメタン、
1,2-ジクロロエタン、メタノール、エタノール、酢酸エ
チル、アセトン、2-ブタノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシドなど）中、０℃〜１００
℃で行われ、シアン化カリウムまたはシアン化ナトリウ
ムの使用量は、(VIII-1) １モルに対して１〜８モルで
ある。
【００１７】このようにして得られるニトリル誘導体
(II-1) は公知の分離精製手段たとえば濃縮、減圧濃
縮、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどによ
り単離精製することができる。 （Ｄ法）
(II-1) は公知の分離精製手段たとえば濃縮、減圧濃
縮、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどによ
り単離精製することができる。 （Ｄ法）
【化１５】 〔式中、Ｊは水素または低級アルキル基をR5は低級アル
キル基を、ｑは０または１を表し、他の記号は前記と同
意義を有する。〕ＪまたはR5で表される低級アルキル基
としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられる。
キル基を、ｑは０または１を表し、他の記号は前記と同
意義を有する。〕ＪまたはR5で表される低級アルキル基
としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられる。
【００１８】本法では、アルデヒド誘導体 (VI-2) をシ
アノメチルホスホン酸エステル誘導体 (IX) と反応させ
て不飽和ニトリル誘導体 (II-2) を製造する。(VI-2)
と (IX) の反応は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒
中で行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、
メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコー
ル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン及び
これらの混合溶媒があげられる。該塩基としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど
の金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げられ、これ
ら塩基の使用量は化合物 (VI-2) に対し１〜５モル程度
が好ましい。化合物 (IX) の使用量は、化合物 (VI-2)
に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。
本反応は通常−５０゜Ｃ〜１５０゜Ｃ、好ましくは約−
１０゜Ｃ〜１００゜Ｃで行われる。反応時間は、０．５
〜３０時間である。このようにして製造された化合物
(II-2) は還元反応に付すことにより、化合物 (II-3)
を製造する。本還元反応は、Ｂ法と同様にして行われ
る。このようにして得られるニトリル誘導体は公知の分
離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再
結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製す
ることができる。
アノメチルホスホン酸エステル誘導体 (IX) と反応させ
て不飽和ニトリル誘導体 (II-2) を製造する。(VI-2)
と (IX) の反応は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒
中で行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、
メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコー
ル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン及び
これらの混合溶媒があげられる。該塩基としては水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
等のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど
の金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げられ、これ
ら塩基の使用量は化合物 (VI-2) に対し１〜５モル程度
が好ましい。化合物 (IX) の使用量は、化合物 (VI-2)
に対し１〜５モル、好ましくは１〜３モル程度である。
本反応は通常−５０゜Ｃ〜１５０゜Ｃ、好ましくは約−
１０゜Ｃ〜１００゜Ｃで行われる。反応時間は、０．５
〜３０時間である。このようにして製造された化合物
(II-2) は還元反応に付すことにより、化合物 (II-3)
を製造する。本還元反応は、Ｂ法と同様にして行われ
る。このようにして得られるニトリル誘導体は公知の分
離精製手段例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再
結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製す
ることができる。
【００１９】（Ｅ法）
【化１６】 〔式中、R6 および R7 は同一または異なって低級アル
キル基を、ｑは０または１を表し、他の記号は前記と同
意義を有する。〕R6 および R7 で表される低級アルキ
ル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられ
る。
キル基を、ｑは０または１を表し、他の記号は前記と同
意義を有する。〕R6 および R7 で表される低級アルキ
ル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルなど炭素数１〜４のものが挙げられ
る。
【００２０】本法では、まずアルデヒドまたはケトン誘
導体 (VI-3) をホスホノ酢酸誘導体またはγ−ホスホノ
クロトン酸誘導体 (X) と反応させて不飽和エステル誘
導体(XI) を製造する。(VI-3) と (X) の反応は、Ｄ法
の化合物 (VI-2) と (IX) との反応と同様にして行われ
る。ついで化合物 (XI) を還元反応に付し、アルコール
誘導体 (VII-2) を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、この
反応は化合物 (XI) を還元剤で処理することにより行わ
れる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化リチウムアルミニウムなどの金属水素錯化
合物およびジボランなどが挙げられるが、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムを用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、などのエーテル類、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノールな
どのアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのア
ミド類、あるいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類
により適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜
１５０℃，とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時
間は、約１〜２４時間程度である。ついで化合物 (VII-
2) を還元反応に付すことにより、化合物 (VII-3) を製
造する。本還元反応は、Ｂ法と同様にして行われる。化
合物 (VII-3) は、Ｃ法の化合物 (VII-1) から (VIII-
1)へ、さらに (II-1) に導く方法と同様に処理して、ニ
トリル誘導体 (II-4) を製造する。このようにして得ら
れるニトリル誘導体は公知の分離精製手段例えば濃縮、
減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグ
ラフィーなどにより単離精製することができる。Ｄ法及
びＥ法に用いられるピリジンアルデヒド誘導体(VI-4)
は、例えばＦ法に従って製造することができる。
導体 (VI-3) をホスホノ酢酸誘導体またはγ−ホスホノ
クロトン酸誘導体 (X) と反応させて不飽和エステル誘
導体(XI) を製造する。(VI-3) と (X) の反応は、Ｄ法
の化合物 (VI-2) と (IX) との反応と同様にして行われ
る。ついで化合物 (XI) を還元反応に付し、アルコール
誘導体 (VII-2) を製造する。本還元反応は、自体公知
の方法で行うことができる。例えば、金属水素化物によ
る還元、金属水素錯化合物による還元、ジボランおよび
置換ボランによる還元等が用いられる。すなわち、この
反応は化合物 (XI) を還元剤で処理することにより行わ
れる。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属
（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム
等）、水素化リチウムアルミニウムなどの金属水素錯化
合物およびジボランなどが挙げられるが、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムを用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、などのエーテル類、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノールな
どのアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのア
ミド類、あるいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類
により適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜
１５０℃，とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時
間は、約１〜２４時間程度である。ついで化合物 (VII-
2) を還元反応に付すことにより、化合物 (VII-3) を製
造する。本還元反応は、Ｂ法と同様にして行われる。化
合物 (VII-3) は、Ｃ法の化合物 (VII-1) から (VIII-
1)へ、さらに (II-1) に導く方法と同様に処理して、ニ
トリル誘導体 (II-4) を製造する。このようにして得ら
れるニトリル誘導体は公知の分離精製手段例えば濃縮、
減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグ
ラフィーなどにより単離精製することができる。Ｄ法及
びＥ法に用いられるピリジンアルデヒド誘導体(VI-4)
は、例えばＦ法に従って製造することができる。
【００２１】（Ｆ法）
【化１７】 〔式 (XV) 中、Z' は塩素、臭素またはヨウ素を示し、
他の記号は前記と同意義を有する。〕
他の記号は前記と同意義を有する。〕
【００２２】本法では、まず 2-クロロ-5-ニトロピリジ
ン(XII)をアルコール誘導体 (III)と反応させて化合物
(XIII) を製造する。(XII) と (III) の反応は、常法に
従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒とし
ては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テ
トラクロロエタン及びこれらの混合溶媒があげられる。
該塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなど
のアルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの金属水素化物、カリウムｔ−
ブトキシド等が挙げられ、これら塩基の使用量は化合物
(III) に対し１〜５モル程度が好ましい。本反応は通
常−５０℃〜１５０℃、好ましくは約−１０℃〜１００
℃で行われる。反応時間は、０．５〜３０時間である。
ついで化合物 (XIII) を還元反応に付し、アミン誘導体
(XIV-1) を製造する。本還元反応は、自体公知の方法
で行うことができるが、金属触媒を用いる接触還元によ
り有利に行われる。本接触還元は、常法に従い溶媒中、
触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲気中で行われ
る。該溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、２−メトキシエタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
クロロホルム、ジクロロメタン、１，１，２，２−テト
ラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸またはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒と
しては、ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白
金、ロジウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより
有利に行われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましく
は１０〜８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。
ついで化合物(XIV-1) を自体公知のサンドマイヤー反応
に付し、ハロゲン誘導体 (XV) を製造する。本反応で
は、まず化合物 (XIV-1) を溶媒中塩酸、臭化水素酸ま
たはヨウ化水素酸の存在下、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)
水溶液を滴下することによりジアゾ化し、ついでハロゲ
ン化ナトリウムまたはハロゲン化カリウム水溶液と反応
させ、化合物 (XV) を製造する。該溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセト
ン、2-ブタノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反
応温度は、−８０℃〜１００℃、好ましくは−５０〜６
０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化合
物 (XV) をブチルリチウム、sec.-ブチルリチウム、ter
t.-ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウ
ム等で処理して、リチオ化合物とした後、またはフェニ
ルマグネシウムブロミドで処理した後、N,N-ジメチルホ
ルムアミド(DMF) と反応させて化合物 (VI-4) を製造す
る。
ン(XII)をアルコール誘導体 (III)と反応させて化合物
(XIII) を製造する。(XII) と (III) の反応は、常法に
従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。該溶媒とし
ては例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、ジクロロ
メタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テ
トラクロロエタン及びこれらの混合溶媒があげられる。
該塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなど
のアルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン類、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの金属水素化物、カリウムｔ−
ブトキシド等が挙げられ、これら塩基の使用量は化合物
(III) に対し１〜５モル程度が好ましい。本反応は通
常−５０℃〜１５０℃、好ましくは約−１０℃〜１００
℃で行われる。反応時間は、０．５〜３０時間である。
ついで化合物 (XIII) を還元反応に付し、アミン誘導体
(XIV-1) を製造する。本還元反応は、自体公知の方法
で行うことができるが、金属触媒を用いる接触還元によ
り有利に行われる。本接触還元は、常法に従い溶媒中、
触媒の存在下、１〜１５０気圧の水素雰囲気中で行われ
る。該溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、２−メトキシエタノール等
のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、
クロロホルム、ジクロロメタン、１，１，２，２−テト
ラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸またはこれらの混合溶媒が挙げられる。触媒と
しては、ニッケル化合物、などの金属、パラジウム、白
金、ロジウムなどの遷移金属触媒等を用いることにより
有利に行われる。反応温度は、０〜１００℃、好ましく
は１０〜８０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。
ついで化合物(XIV-1) を自体公知のサンドマイヤー反応
に付し、ハロゲン誘導体 (XV) を製造する。本反応で
は、まず化合物 (XIV-1) を溶媒中塩酸、臭化水素酸ま
たはヨウ化水素酸の存在下、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)
水溶液を滴下することによりジアゾ化し、ついでハロゲ
ン化ナトリウムまたはハロゲン化カリウム水溶液と反応
させ、化合物 (XV) を製造する。該溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセト
ン、2-ブタノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類あるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反
応温度は、−８０℃〜１００℃、好ましくは−５０〜６
０℃、反応時間は０．５〜５０時間である。ついで化合
物 (XV) をブチルリチウム、sec.-ブチルリチウム、ter
t.-ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウ
ム等で処理して、リチオ化合物とした後、またはフェニ
ルマグネシウムブロミドで処理した後、N,N-ジメチルホ
ルムアミド(DMF) と反応させて化合物 (VI-4) を製造す
る。
【００２３】（Ｇ法）
【化１８】 〔式 (XVI-1) および(II-5) 中Ｇは、シアノ基(CN) ま
たは COOR7 を示し、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕。
たは COOR7 を示し、他の記号は前記と同意義を有す
る。〕。
【００２４】化合物 (XIV-2) から化合物 (XVI-1) への
反応は、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリ
ー(Journal of Medicinal Chemistry)、35 巻、2617 頁
（1992 年)記載の方法に従って行われる。すなわち、化
合物(XIV-2)をハロゲン化水素酸 (HZ') の存在下にジア
ゾ化し、さらにアクリル酸エステル(CH2=CHCOOR7)また
はアクリロニトリル(CH2=CHCN)とを銅触媒（例、酸化第
一銅、酸化第二銅、塩化第一銅、塩化第二銅、臭化第一
銅，臭化第二銅など）の存在下に反応させるいわゆる
メ−ルワイン アリレイション(Meerwein arylation)反
応により行われる。ついで化合物 (XVI-1) を脱ハロゲ
ン化水素反応に付し化合物 (II-5) を製造する。本脱ハ
ロゲン化水素反応は、適宜の溶媒中、塩基の存在下に行
われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノ
ール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類、
酢酸エチル、アセトニトリル、ピリジン、N,N-ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、
ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラ
クロロエタン、アセトン、2-ブタノン及びこれらの混合
溶媒があげられる。該塩基としては、たとえばアルカリ
金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金
属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
ど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ金属重炭酸塩
（重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど）、アルカリ
金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等）などの無機塩基、トリアルキルアミン（たとえばト
リメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリン、
N-メチルピロリジン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザ
ビシクロ〔4,3,0〕ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
〔2,2,2〕ノン-5-エン、1,8-ジアザビシクロ〔5,4,0〕-
7-ウンデセンなどの有機塩基が挙げられる。これら塩基
の使用量は化合物 (XVI-1) に対し１〜５モル程度が好
ましい。本反応は通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは
約−１０℃〜１２０℃で行われる。
反応は、ジャーナル オブ メディシナル ケミストリ
ー(Journal of Medicinal Chemistry)、35 巻、2617 頁
（1992 年)記載の方法に従って行われる。すなわち、化
合物(XIV-2)をハロゲン化水素酸 (HZ') の存在下にジア
ゾ化し、さらにアクリル酸エステル(CH2=CHCOOR7)また
はアクリロニトリル(CH2=CHCN)とを銅触媒（例、酸化第
一銅、酸化第二銅、塩化第一銅、塩化第二銅、臭化第一
銅，臭化第二銅など）の存在下に反応させるいわゆる
メ−ルワイン アリレイション(Meerwein arylation)反
応により行われる。ついで化合物 (XVI-1) を脱ハロゲ
ン化水素反応に付し化合物 (II-5) を製造する。本脱ハ
ロゲン化水素反応は、適宜の溶媒中、塩基の存在下に行
われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノ
ール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類、
酢酸エチル、アセトニトリル、ピリジン、N,N-ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、
ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラ
クロロエタン、アセトン、2-ブタノン及びこれらの混合
溶媒があげられる。該塩基としては、たとえばアルカリ
金属水酸化物（たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（たとえば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウムなど）、アルカリ金
属炭酸塩（たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
ど）、アルカリ土類金属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウムなど）、アルカリ金属重炭酸塩
（重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど）、アルカリ
金属酢酸塩（たとえば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等）などの無機塩基、トリアルキルアミン（たとえばト
リメチルアミン、トリエチルアミンなど）、ピコリン、
N-メチルピロリジン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザ
ビシクロ〔4,3,0〕ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ
〔2,2,2〕ノン-5-エン、1,8-ジアザビシクロ〔5,4,0〕-
7-ウンデセンなどの有機塩基が挙げられる。これら塩基
の使用量は化合物 (XVI-1) に対し１〜５モル程度が好
ましい。本反応は通常−２０℃〜１５０℃、好ましくは
約−１０℃〜１２０℃で行われる。
【００２５】（Ｈ法）
【化１９】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕本法では、
α-ハロゲノプロピオニトリル誘導体 (XVI-2) を還元反
応に付すことによりプロピオニトリル誘導体 (II-6) を
製造する。本法は、例えばＢ法と同様にして接触還元す
るか、あるいは亜鉛または鉄と酢酸を用いて常法により
還元することにより容易に行われる。
α-ハロゲノプロピオニトリル誘導体 (XVI-2) を還元反
応に付すことによりプロピオニトリル誘導体 (II-6) を
製造する。本法は、例えばＢ法と同様にして接触還元す
るか、あるいは亜鉛または鉄と酢酸を用いて常法により
還元することにより容易に行われる。
【００２６】（Ｉ法）
【化２０】 〔式中、各記号は前記と同意義を有する。〕
【００２７】本法では、まず化合物 (VI-2) とシアノ酢
酸エステル誘導体を縮合して化合物 (XVII) を製造す
る。本縮合反応は、塩基の存在下溶媒中で行われる。該
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、2-メトキシエタノール等のアル
コール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ピリジ
ン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、酢酸が挙げられる。該塩基としては、ナトリウムア
ルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド等）、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化
ナトリウム、酢酸ナトリウムやピペリジン、ピペラジ
ン、ピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン等の２級アミン類が用いられる。塩基の
使用量は、化合物 (VI-2) に対して０．０１〜５モル当
量、好ましくは０．０５〜２モル等量である。本反応は
０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で０．５〜３
０時間かけて行われる。ついで化合物 (XVII) を還元反
応に付し、化合物 (XVIII) を製造する。本還元反応
は、それ自体公知の方法で行うことができる。例えば、
金属水素化物による還元、金属水素錯化合物による還
元、接触水素添加等が用いられる。すなわち、この反応
は化合物 (XVII) を還元剤で処理することにより行われ
る。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属（例、
水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等）、
水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素錯化合物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物、有機スズ化合物
（水素トリフェニルスズ等）、ニッケル化合物、亜鉛化
合物などの金属および金属塩、パラジウム、白金、ロジ
ウムなどの遷移金属触媒と水素とを用いる接触還元剤お
よびジボランなどが挙げられるが、なかでも水素化ホウ
素アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素リチウム等）を用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノールなど
のアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミ
ド類、あるいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類に
より適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１
５０℃，とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間
は、約１〜２４時間程度である。ついで化合物 (XVIII)
を加水分解反応に付した後、脱炭酸反応に付し化合物
(II-3) を製造する。本加水分解反応は、それ自体公知
の方法に従い含水溶媒中酸または塩基の存在下に行わ
れ、得られるカルボン酸誘導体 (XIX) は単離後または
単離することなく、脱炭酸反応に付し化合物 (II-3) を
製造する。本脱炭酸反応は、溶媒中加熱することにより
行われる。該該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン、などの芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタ
ン、1,1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノール
などのアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどの
アミド類、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン、ピリ
ジンあるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温度
は５０℃〜２５０℃，とくに７０℃〜１６０℃が好適で
あり、反応時間は、約１〜２４時間程度である。
酸エステル誘導体を縮合して化合物 (XVII) を製造す
る。本縮合反応は、塩基の存在下溶媒中で行われる。該
溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、2-メトキシエタノール等のアル
コール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ピリジ
ン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、酢酸が挙げられる。該塩基としては、ナトリウムア
ルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド等）、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水素化
ナトリウム、酢酸ナトリウムやピペリジン、ピペラジ
ン、ピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン等の２級アミン類が用いられる。塩基の
使用量は、化合物 (VI-2) に対して０．０１〜５モル当
量、好ましくは０．０５〜２モル等量である。本反応は
０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃で０．５〜３
０時間かけて行われる。ついで化合物 (XVII) を還元反
応に付し、化合物 (XVIII) を製造する。本還元反応
は、それ自体公知の方法で行うことができる。例えば、
金属水素化物による還元、金属水素錯化合物による還
元、接触水素添加等が用いられる。すなわち、この反応
は化合物 (XVII) を還元剤で処理することにより行われ
る。還元剤としては、水素化ホウ素アルカリ金属（例、
水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム等）、
水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素錯化合物、
水素化ナトリウムなどの金属水素化物、有機スズ化合物
（水素トリフェニルスズ等）、ニッケル化合物、亜鉛化
合物などの金属および金属塩、パラジウム、白金、ロジ
ウムなどの遷移金属触媒と水素とを用いる接触還元剤お
よびジボランなどが挙げられるが、なかでも水素化ホウ
素アルカリ金属（例、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
ホウ素リチウム等）を用いることにより有利に行われ
る。この反応は、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で
行われる。該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、1,
1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンなどのエーテル類、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノールなど
のアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどのアミ
ド類、あるいはこれらの混合溶媒などが還元剤の種類に
より適宜選択して用いられる。反応温度は−２０℃〜１
５０℃，とくに０℃〜１００℃が好適であり、反応時間
は、約１〜２４時間程度である。ついで化合物 (XVIII)
を加水分解反応に付した後、脱炭酸反応に付し化合物
(II-3) を製造する。本加水分解反応は、それ自体公知
の方法に従い含水溶媒中酸または塩基の存在下に行わ
れ、得られるカルボン酸誘導体 (XIX) は単離後または
単離することなく、脱炭酸反応に付し化合物 (II-3) を
製造する。本脱炭酸反応は、溶媒中加熱することにより
行われる。該該溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン、などの芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタ
ン、1,1,2,2-テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、イソプロパノール、2-メトキシエタノール
などのアルコール類、N,N-ジメチルホルムアミドなどの
アミド類、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン、ピリ
ジンあるいはこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温度
は５０℃〜２５０℃，とくに７０℃〜１６０℃が好適で
あり、反応時間は、約１〜２４時間程度である。
【００２８】ニトリル誘導体は、また、Ｊ法、Ｋ法によ
っても製造することが出来る。 （Ｊ法）
っても製造することが出来る。 （Ｊ法）
【化２１】 〔式中の各記号は前記と同意義である。〕本法では、化
合物（XX）と化合物（XXI）との反応によりニトリル誘
導体（II−５）を製造する。（XX）と（XXI）の反応
は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。
該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノール、
エタノール、プロパノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、
１，１，２，２−テトラクロロエタン及びこれらの２種
以上の混合溶媒があげられる。該塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリ
ジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等
のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの
金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメト
キシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げられ、これら
塩基の使用量は化合物（III）に対し１〜５モル程度が
好ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．
５〜３０時間である。
合物（XX）と化合物（XXI）との反応によりニトリル誘
導体（II−５）を製造する。（XX）と（XXI）の反応
は、常法に従い塩基の存在下適宜の溶媒中で行われる。
該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、メタノール、
エタノール、プロパノールなどのアルコール類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロ
ロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、
１，１，２，２−テトラクロロエタン及びこれらの２種
以上の混合溶媒があげられる。該塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属塩、ピリ
ジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等
のアミン類、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの
金属水素化物、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメト
キシド、カリウムｔ−ブトキシド等が挙げられ、これら
塩基の使用量は化合物（III）に対し１〜５モル程度が
好ましい。本反応は通常−５０℃〜１５０℃、好ましく
は約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、０．
５〜３０時間である。
【００２９】（Ｋ法）
【化２２】 〔式中の各記号は前記と同意義である。〕本法では、ま
ず化合物（XX）と化合物（XXII）との反応によりエステ
ル誘導体（XXIII）を製造する。本反応は、Ｊ法におけ
る化合物（XX）と化合物（XXI）との反応と同様にして
行われる。ついで化合物（XXIII）を、Ｅ法における化
合物（XI）から化合物（VII−２）への反応と同様に処
理してアルコール誘導体（VII−４）を製造する。化合
物（VII−４）は、Ｅ法における化合物（VII−３）から
化合物（VIII−２）への反応と同様にして化合物（VIII
−３）に導かれる。化合物（VIII−３）を、Ｅ法におけ
る化合物（VIII−２）から化合物（II−４）への反応と
同様に処理してニトリル誘導体（II−６）を製造する。
ず化合物（XX）と化合物（XXII）との反応によりエステ
ル誘導体（XXIII）を製造する。本反応は、Ｊ法におけ
る化合物（XX）と化合物（XXI）との反応と同様にして
行われる。ついで化合物（XXIII）を、Ｅ法における化
合物（XI）から化合物（VII−２）への反応と同様に処
理してアルコール誘導体（VII−４）を製造する。化合
物（VII−４）は、Ｅ法における化合物（VII−３）から
化合物（VIII−２）への反応と同様にして化合物（VIII
−３）に導かれる。化合物（VIII−３）を、Ｅ法におけ
る化合物（VIII−２）から化合物（II−４）への反応と
同様に処理してニトリル誘導体（II−６）を製造する。
【００３０】
【発明の効果】本発明にかかる化合物 (I) は血糖およ
び血中脂質低下作用を有する。この点を裏づける実験デ
−タを記載する。 実験例 マウスにおける血糖および脂質低下作用 被検化合物を粉末飼料（ＣＥ−２，日本クレア）に０．
０１％または０．００５％の割合で混合し、KKAy-マウ
ス(９〜１４週令）に自由に４日間与えた。この間、水
は自由に与えた。血液を眼窩静脈そうから採取し、血漿
中のグルコ−ス値とトリグリセライド値を酵素法によ
り、それぞれイアトロケム-GLU(A) およびイアトロ-MA7
01 TG キット（ヤトロン社）を用いて定量することによ
りそれぞれ測定した。それぞれの値は、薬物非投与群に
対する低下率（％）で表し、〔表１〕に示した。
び血中脂質低下作用を有する。この点を裏づける実験デ
−タを記載する。 実験例 マウスにおける血糖および脂質低下作用 被検化合物を粉末飼料（ＣＥ−２，日本クレア）に０．
０１％または０．００５％の割合で混合し、KKAy-マウ
ス(９〜１４週令）に自由に４日間与えた。この間、水
は自由に与えた。血液を眼窩静脈そうから採取し、血漿
中のグルコ−ス値とトリグリセライド値を酵素法によ
り、それぞれイアトロケム-GLU(A) およびイアトロ-MA7
01 TG キット（ヤトロン社）を用いて定量することによ
りそれぞれ測定した。それぞれの値は、薬物非投与群に
対する低下率（％）で表し、〔表１〕に示した。
【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 化合物 用量1) 血糖低下作用 脂質低下作用 （実施例番号） （％） （％） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ １ ０．０１ ４５ ２８ ２ ０．０１ ２１ ９ ３ ０．０１ １５ ２６ ５ ０．０１ ２６ １０ ７ ０．０１ ３６ ３７ ８ ０．０１ ３８ ３２ ９ ０．０１ ３１ ３３ １４ ０．００５ ５３ ７４ １６ ０．００５ ４３ ４８ ２２ ０．００５ ４６ ８５ ２３ ０．００５ ２６ ２３ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━1) 飼料中化合物濃度（重量％） このように本発明に係るテトラゾール誘導体 (I) は優
れた血糖および血中脂質低下作用を有し、糖尿病治療
剤、高脂血症治療剤、高血圧治療薬など医薬品として有
用である。
れた血糖および血中脂質低下作用を有し、糖尿病治療
剤、高脂血症治療剤、高血圧治療薬など医薬品として有
用である。
【００３１】参考例１ ２−クロロ−５−ニトロピリジン（２５ｇ）、２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エタノー
ル（３２．１ｇ）のＴＨＦ（２５０ml）溶液に、氷冷下
油性水素化ナトリウム（６０％，６．９２ｇ）を少量づ
つ加えかきまぜた。反応混合物は、室温でさらに１５時
間かきまぜた後、水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留
去した。残留する結晶をろ取、エタノールから再結晶し
て２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（２５．４
ｇ，４９％）を得た。黄褐色結晶。融点 １１０．５〜
１１１．５℃。 参考例２ ２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（１３．４
ｇ）、パラジウム炭素（５％，１．５ｇ）および酢酸エ
チル（２００ml）−メタノール（１５０ml）の混合物を
室温、１気圧で接触還元を行った。触媒をろ別し、ろ液
を減圧下に濃縮、残留結晶をろ取し５−アミノ−２−
〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）エトキシ〕ピリジン（１１．４ｇ，９３％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。褐色結晶。
融点 １０７〜１０８℃。
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エタノー
ル（３２．１ｇ）のＴＨＦ（２５０ml）溶液に、氷冷下
油性水素化ナトリウム（６０％，６．９２ｇ）を少量づ
つ加えかきまぜた。反応混合物は、室温でさらに１５時
間かきまぜた後、水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留
去した。残留する結晶をろ取、エタノールから再結晶し
て２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（２５．４
ｇ，４９％）を得た。黄褐色結晶。融点 １１０．５〜
１１１．５℃。 参考例２ ２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕−５−ニトロピリジン（１３．４
ｇ）、パラジウム炭素（５％，１．５ｇ）および酢酸エ
チル（２００ml）−メタノール（１５０ml）の混合物を
室温、１気圧で接触還元を行った。触媒をろ別し、ろ液
を減圧下に濃縮、残留結晶をろ取し５−アミノ−２−
〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ル）エトキシ〕ピリジン（１１．４ｇ，９３％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。褐色結晶。
融点 １０７〜１０８℃。
【００３２】参考例３ ５−アミノ−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１０．０
ｇ）、濃塩酸（８．４７ml）およびアセトン（１００m
l）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)（２．４６
ｇ）の水（１０ml）溶液を１０℃以下の温度で滴下し
た。１０℃で３０分かきまぜた後、ヨウ化カリウム(KI)
（２．４６ｇ）の水（１０ml）溶液を滴下した。反応混
合物は、さらに３０〜３５℃で１時間、３５〜４０℃で
１時間かきまぜた後減圧下に濃縮した。残留物を水に注
いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥
(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留油状物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサ
ン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、５−ヨ−ド
−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕ピリジン（７．２２ｇ，５２％）を
得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色結
晶。融点 １０５〜１０６℃。 参考例４ ５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（２．５ｇ）の
テトラヒドロフラン（４０ml）溶液にｎ-ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，４．６１ml）を窒素気流
下、−６５℃で滴下した。混合物を同温度で１５分間か
きまぜた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．７１
ml）を滴下した。冷却浴を除去し、さらに３０分かきま
ぜた後、塩化アンモニウム飽和水溶液（６ml）を加え
た。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留
去し、５−ホルミル−２−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１．
５ｇ，７９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶した。無色結晶。融点 ９９〜１００℃。
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１０．０
ｇ）、濃塩酸（８．４７ml）およびアセトン（１００m
l）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)（２．４６
ｇ）の水（１０ml）溶液を１０℃以下の温度で滴下し
た。１０℃で３０分かきまぜた後、ヨウ化カリウム(KI)
（２．４６ｇ）の水（１０ml）溶液を滴下した。反応混
合物は、さらに３０〜３５℃で１時間、３５〜４０℃で
１時間かきまぜた後減圧下に濃縮した。残留物を水に注
いで酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥
(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留油状物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサ
ン（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、５−ヨ−ド
−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリル）エトキシ〕ピリジン（７．２２ｇ，５２％）を
得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色結
晶。融点 １０５〜１０６℃。 参考例４ ５−ヨ−ド−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（２．５ｇ）の
テトラヒドロフラン（４０ml）溶液にｎ-ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液（１．６Ｍ，４．６１ml）を窒素気流
下、−６５℃で滴下した。混合物を同温度で１５分間か
きまぜた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．７１
ml）を滴下した。冷却浴を除去し、さらに３０分かきま
ぜた後、塩化アンモニウム飽和水溶液（６ml）を加え
た。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留
去し、５−ホルミル−２−〔２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（１．
５ｇ，７９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶した。無色結晶。融点 ９９〜１００℃。
【００３３】参考例５ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンズアルデヒド（７．０ｇ）のエタ
ノール（１００ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリ
ウム（０．４７３ｇ）を加え、室温で２時間かきまぜ
た。反応混合物に酢酸（２ml）を加えた後、氷−水に注
いで析出する結晶をろ取した。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンジルアルコール
（６．９ｇ，８８％）を得た。無色板状晶。融点 １１
２〜１１３℃。 参考例６ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンジルアルコール（６．８ｇ）のク
ロロホルム（１００ml）溶液に塩化チオニル（３．１
ｇ）を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄、乾燥(MgS
O4)した後、溶媒を留去し、４−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンジル
クロリド（６．５ｇ，９０％）を得た。無色針状晶。融
点 ９３〜９４℃。 参考例７ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンジルクロリド（６．４ｇ）、粉末
シアン化カリウム（４．０ｇ）およびN,N-ジメチルホル
ムアミド（５０ml）の混合物を６０℃で２時間かきまぜ
た。反応混合物は水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を留去
し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕ベンジルシアニド（５．２ｇ，８
１％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。
無色針状晶。融点 １０９〜１１０℃。
リル）エトキシ〕ベンズアルデヒド（７．０ｇ）のエタ
ノール（１００ml）溶液に氷冷下、水素化ホウ素ナトリ
ウム（０．４７３ｇ）を加え、室温で２時間かきまぜ
た。反応混合物に酢酸（２ml）を加えた後、氷−水に注
いで析出する結晶をろ取した。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンジルアルコール
（６．９ｇ，８８％）を得た。無色板状晶。融点 １１
２〜１１３℃。 参考例６ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンジルアルコール（６．８ｇ）のク
ロロホルム（１００ml）溶液に塩化チオニル（３．１
ｇ）を加え、室温で１時間かきまぜた。反応混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄、乾燥(MgS
O4)した後、溶媒を留去し、４−〔２−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンジル
クロリド（６．５ｇ，９０％）を得た。無色針状晶。融
点 ９３〜９４℃。 参考例７ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕ベンジルクロリド（６．４ｇ）、粉末
シアン化カリウム（４．０ｇ）およびN,N-ジメチルホル
ムアミド（５０ml）の混合物を６０℃で２時間かきまぜ
た。反応混合物は水に注いで酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶媒を留去
し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕ベンジルシアニド（５．２ｇ，８
１％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。
無色針状晶。融点 １０９〜１１０℃。
【００３４】参考例８ 水素化ナトリウム（油性、６０％、２．０ｇ）をシアノ
メチルホスホン酸ジエチル（８．２ｇ）のテトラヒドロ
フラン（１５０ml）の溶液に０℃で少量づつ加え、１５
分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベン
ズアルデヒド（１３．０ｇ）を加え、室温で３０分間か
きまぜた。反応混合物を氷−水に注いで酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶
媒を留去し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕シンナモニトリル（１
１．８ｇ，８５％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 １１２〜１１３℃。 参考例９〜１５ 参考例８と同様にして〔表２〕の化合物を得た。
メチルホスホン酸ジエチル（８．２ｇ）のテトラヒドロ
フラン（１５０ml）の溶液に０℃で少量づつ加え、１５
分同温度でかきまぜた。ついで、４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベン
ズアルデヒド（１３．０ｇ）を加え、室温で３０分間か
きまぜた。反応混合物を氷−水に注いで酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶
媒を留去し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕シンナモニトリル（１
１．８ｇ，８５％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 １１２〜１１３℃。 参考例９〜１５ 参考例８と同様にして〔表２〕の化合物を得た。
【表２】 注1) （Ｅ）体：（Ｚ）体＝３：１の混合物。 ＮＭＲ(δppm in CDCl3): 1.2-2.1(10H,m), 2.24(3H,
s), 2.6-2.8(1H,m),2.89(2H,t,J=7Hz), 5.28(d,J=12Hz)
and 5.70(d,J=16.5Hz)(total 1H),6.88 and 6.91(tota
l 2H,each d,J=9Hz), 7.02(d,12Hz) and 7.32(d,J=16.5
Hz)(total 1H), 7.37 and 7.76(total 2H,each d,J=9H
z) 注2) 単離せず、次の反応に使用 注3) （Ｅ）体：（Ｚ）体＝５：２の混合物。 ＮＭＲ(δppm in CDCl3): 2.24(3H,s), 2.38(3H,s), 2.
88(2H,t,J=7Hz),4.21 and 4.23(t,J=7Hz)(total 2H),
5.28(d,J=12Hz) and 5.71(d,J=16.5Hz)(total 1H), 6.8
9 and 6.93(total 2H, each d,J=9Hz), 7.02(d,J=12Hz)
and 7.32(d,J=16.5Hz)(total 1H), 7.37 and 7.77(tot
al 2H,each d,J=9Hz)。
s), 2.6-2.8(1H,m),2.89(2H,t,J=7Hz), 5.28(d,J=12Hz)
and 5.70(d,J=16.5Hz)(total 1H),6.88 and 6.91(tota
l 2H,each d,J=9Hz), 7.02(d,12Hz) and 7.32(d,J=16.5
Hz)(total 1H), 7.37 and 7.76(total 2H,each d,J=9H
z) 注2) 単離せず、次の反応に使用 注3) （Ｅ）体：（Ｚ）体＝５：２の混合物。 ＮＭＲ(δppm in CDCl3): 2.24(3H,s), 2.38(3H,s), 2.
88(2H,t,J=7Hz),4.21 and 4.23(t,J=7Hz)(total 2H),
5.28(d,J=12Hz) and 5.71(d,J=16.5Hz)(total 1H), 6.8
9 and 6.93(total 2H, each d,J=9Hz), 7.02(d,J=12Hz)
and 7.32(d,J=16.5Hz)(total 1H), 7.37 and 7.77(tot
al 2H,each d,J=9Hz)。
【００３５】参考例１６ ４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）エトキシ〕シンナモニトリル（４．０ｇ）、パラ
ジウム−炭素（５％，０．５ｇ）および酢酸エチル（５
０ml）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に付した。
触媒をろ別後、ろ液を減圧下に濃縮し、３−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エ
トキシ〕フェニル〕プロピオニトリル（３．７ｇ，９３
％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色針状晶。融点 １０９〜１１０℃。 参考例１７〜２１ 参考例１６と同様にして〔表３〕の化合物を得た。
リル）エトキシ〕シンナモニトリル（４．０ｇ）、パラ
ジウム−炭素（５％，０．５ｇ）および酢酸エチル（５
０ml）の混合物を、１気圧、室温で接触還元に付した。
触媒をろ別後、ろ液を減圧下に濃縮し、３−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エ
トキシ〕フェニル〕プロピオニトリル（３．７ｇ，９３
％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無
色針状晶。融点 １０９〜１１０℃。 参考例１７〜２１ 参考例１６と同様にして〔表３〕の化合物を得た。
【表３】
【００３６】参考例２２ 水素化ナトリウム（油性、６０％、２．２ｇ）をホスホ
ノ酢酸トリエチル（１１．２ｇ）のテトラヒドロフラン
（２００ml）の溶液に０℃で少量づつ加え、１５分同温
度でかきまぜた。ついで、４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンズアル
デヒド（１４．０ｇ）を加え、室温で１時間かきまぜ
た。反応混合物を氷−水に注いで２Ｎ塩酸で中和し、析
出結晶をろ取した。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶
し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕けい皮酸エチル（１５．１ｇ，８
８％）を得た。無色針状晶。融点 １１４〜１１５℃。 参考例２３ 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１．
５Ｍ，６７ml）を４−〔２−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリル）エトキシ〕けい皮酸エチル（１
５．０ｇ）のトルエン（２００ml）縣濁液に０℃で滴下
した。室温で２時間かきまぜた後、氷冷下に２ＮＨＣｌ
（２００ml）を加えた。有機層は、水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後濃縮し、（Ｅ）−３−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕−２−プロペン−１−オール（１２．０ｇ，９０
％）を得た。酢酸エチルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １２７〜１２８℃。
ノ酢酸トリエチル（１１．２ｇ）のテトラヒドロフラン
（２００ml）の溶液に０℃で少量づつ加え、１５分同温
度でかきまぜた。ついで、４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕ベンズアル
デヒド（１４．０ｇ）を加え、室温で１時間かきまぜ
た。反応混合物を氷−水に注いで２Ｎ塩酸で中和し、析
出結晶をろ取した。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶
し、４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕けい皮酸エチル（１５．１ｇ，８
８％）を得た。無色針状晶。融点 １１４〜１１５℃。 参考例２３ 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン溶液（１．
５Ｍ，６７ml）を４−〔２−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリル）エトキシ〕けい皮酸エチル（１
５．０ｇ）のトルエン（２００ml）縣濁液に０℃で滴下
した。室温で２時間かきまぜた後、氷冷下に２ＮＨＣｌ
（２００ml）を加えた。有機層は、水洗、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）後濃縮し、（Ｅ）−３−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕−２−プロペン−１−オール（１２．０ｇ，９０
％）を得た。酢酸エチルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １２７〜１２８℃。
【００３７】参考例２４ （Ｅ）−３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２−プロ
ペン−１−オール（３．１ｇ）、パラジウム−炭素（５
％，０．５ｇ）および酢酸エチル（５０ml）の混合物
を、１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別後、
ろ液を減圧下に濃縮し、３−〔４−〔２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニ
ル〕プロパン−１−オール（２．８ｇ，９０％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点９９〜１００℃。 参考例２５ ３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロパン−１−オー
ル（２．６ｇ）およびベンゼン（５０ml）の混合物に三
臭化リン(PBr3)（２．１ｇ）を加え、７０℃で２時間か
きまぜた。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶
媒を留去し、３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピ
ルブロミド（０．９８ｇ，３２％）を得た。酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 ７８〜
７９℃。
−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕−２−プロ
ペン−１−オール（３．１ｇ）、パラジウム−炭素（５
％，０．５ｇ）および酢酸エチル（５０ml）の混合物
を、１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別後、
ろ液を減圧下に濃縮し、３−〔４−〔２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニ
ル〕プロパン−１−オール（２．８ｇ，９０％）を得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状
晶。融点９９〜１００℃。 参考例２５ ３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロパン−１−オー
ル（２．６ｇ）およびベンゼン（５０ml）の混合物に三
臭化リン(PBr3)（２．１ｇ）を加え、７０℃で２時間か
きまぜた。反応混合物は、水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥(MgSO4)した後、溶
媒を留去し、３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピ
ルブロミド（０．９８ｇ，３２％）を得た。酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点 ７８〜
７９℃。
【００３８】参考例２６ ５−アミノ−２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（９．１ｇ）、
ＨＢｒ水（４７％，１４．２ml）およびアセトン（１５
０ml）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)（２．３
３ｇ）の水（１０ml）溶液を１０℃以下の温度で滴下し
た。１０℃で３０分かきまぜた後、アクリロニトリル(C
H2=CHCN)（1２．1ml）を加えた。混合物を激しくかきま
ぜながら酸化第１銅(Cu2O)（０．１ｇ）を加えた。反応
混合物は、さらに３０〜３５℃で１時間かきまぜた後減
圧下に濃縮した。残留物を水に注いで濃アンモニア水で
アルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留油
状物をシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エ
チル−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分よ
り、２−ブロモ−３−〔２−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジ
ル〕プロピオニトリル（６．１１ｇ，４８％）を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色結晶。融点
９３〜９４℃。 参考例２７ ２−ブロモ−３−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕
プロピオニトリル（２．０ｇ）、パラジウム−炭素（５
％，０．２ｇ）およびジオキサン（３０ml）の混合物
を、１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別後、
ろ液を減圧下に濃縮し、残留油状物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン（２：
３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、３−〔２−〔２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エト
キシ〕−５−ピリジル〕プロピオニトリル（１．３ｇ，
７８％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色結晶。融点 １０５〜１０６℃。
４−オキサゾリル）エトキシ〕ピリジン（９．１ｇ）、
ＨＢｒ水（４７％，１４．２ml）およびアセトン（１５
０ml）の混合物に、亜硝酸ナトリウム(NaNO2)（２．３
３ｇ）の水（１０ml）溶液を１０℃以下の温度で滴下し
た。１０℃で３０分かきまぜた後、アクリロニトリル(C
H2=CHCN)（1２．1ml）を加えた。混合物を激しくかきま
ぜながら酸化第１銅(Cu2O)（０．１ｇ）を加えた。反応
混合物は、さらに３０〜３５℃で１時間かきまぜた後減
圧下に濃縮した。残留物を水に注いで濃アンモニア水で
アルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層
は水洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留油
状物をシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エ
チル−ヘキサン（１：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分よ
り、２−ブロモ−３−〔２−〔２−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジ
ル〕プロピオニトリル（６．１１ｇ，４８％）を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色結晶。融点
９３〜９４℃。 参考例２７ ２−ブロモ−３−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕
プロピオニトリル（２．０ｇ）、パラジウム−炭素（５
％，０．２ｇ）およびジオキサン（３０ml）の混合物
を、１気圧、室温で接触還元に付した。触媒をろ別後、
ろ液を減圧下に濃縮し、残留油状物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン（２：
３，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、３−〔２−〔２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エト
キシ〕−５−ピリジル〕プロピオニトリル（１．３ｇ，
７８％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。無色結晶。融点 １０５〜１０６℃。
【００３９】参考例２８ ２−ブロモ−３−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕
プロピオニトリル（４．５ｇ）、臭化リチウム(LiBr)
（1．１４ｇ）、炭酸リチウム(Li2CO3)（２．１７ｇ）
および N,N-ジメチルホルムアミド（５０ml）の混合物
を１２０℃で２．５時間かきまぜた。反応混合物は、水
に注いで、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水
洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、（Ｅ）−３
−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕アクリロニトリ
ル（３．２，８９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。淡黄色結晶。融点１１６〜１１７℃。 参考例２９ ４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニル）−５−メチ
ル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕ベンズアルデヒド
（２．０ｇ）、シアノ酢酸エチル（０．７９５ｇ）、ピ
ペリジン（０．１５ｇ）およびピリジン（３０ml）の混
合物を１００〜１１０℃で２時間かきまぜた。反応混合
物を、水に注ぎ析出した結晶をろ取、ジクロロメタン−
エタノールから再結晶し、４−〔２−〔２−（２−クロ
ロルフェニル）−５−メチル−４−オキサゾリル〕エト
キシ〕−α−シアノけい皮酸エチル（２．４５ｇ，９６
％）を得た。無色針状晶。融点 １２０〜１２１℃。
ニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕
プロピオニトリル（４．５ｇ）、臭化リチウム(LiBr)
（1．１４ｇ）、炭酸リチウム(Li2CO3)（２．１７ｇ）
および N,N-ジメチルホルムアミド（５０ml）の混合物
を１２０℃で２．５時間かきまぜた。反応混合物は、水
に注いで、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水
洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、（Ｅ）−３
−〔２−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキ
サゾリル）エトキシ〕−５−ピリジル〕アクリロニトリ
ル（３．２，８９％）を得た。酢酸エチル−ヘキサンか
ら再結晶した。淡黄色結晶。融点１１６〜１１７℃。 参考例２９ ４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニル）−５−メチ
ル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕ベンズアルデヒド
（２．０ｇ）、シアノ酢酸エチル（０．７９５ｇ）、ピ
ペリジン（０．１５ｇ）およびピリジン（３０ml）の混
合物を１００〜１１０℃で２時間かきまぜた。反応混合
物を、水に注ぎ析出した結晶をろ取、ジクロロメタン−
エタノールから再結晶し、４−〔２−〔２−（２−クロ
ロルフェニル）−５−メチル−４−オキサゾリル〕エト
キシ〕−α−シアノけい皮酸エチル（２．４５ｇ，９６
％）を得た。無色針状晶。融点 １２０〜１２１℃。
【００４０】参考例３０ ４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニル）−５−メチ
ル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕−α−シアノけい皮
酸エチル（２．２５ｇ）およびジオキサン（３０ml）−
エタノール（３０ml）の混合物に水素化ホウ素ナトリウ
ム（０．０６ｇ）を氷冷下に加え、同温度で１時間かき
まぜた。反応混合物を氷−水に注いで酸性化後、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後
減圧下に溶媒を留去し、残留油状物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール（５
０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、３−〔４−〔２
−〔２−（２−クロロルフェニル）−５−メチル−４−
オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−２−シアノプロ
ピオン酸エチル（２．２５ｇ，ｑｕａｎｔ．）の油状物
を得た。NMR(δ ppm in CDCl3): 1.27(3H,t,J=7Hz), 2.
39(3H,s), 3.00(2H,t,J=6.5Hz), 3.12(1H,dd,J=14&8H
z), 3.22(1H,dd,J=14&6Hz), 3.66(1H,dd,J=8&6Hz), 4.2
2(2H,q,J=7Hz), 4.24(2H,t,J=6.5Hz), 6.87(2H,d,J=9H
z), 7.17(2H,d,J=9Hz), 7.25-7.5(3H,m), 7.85-8.0(1H,
m)。 参考例３１ ３−〔４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニル）−５
−メチル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−
２−シアノプロピオン酸エチル（２．２４ｇ）、１Ｎ
ＮａＯＨ（１５ml）およびエタノール（５０ml）の混合
物を室温で１時間かきまぜた。反応混合物を、水に注ぎ
酸性化後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水
洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留結晶を
ろ取した。この結晶を、ピリジン（５ml）−o-ジクロロ
ベンゼン（５０ml）に加え２時間還流下に加熱した。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残留油状物をシリカゲルク
ロマトグラフィーに付した。クロロホルムで溶出する部
分より、３−〔４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニ
ル）−５−メチル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェ
ニル〕プロピオニトリル（１．５ｇ，８０％）を得た。
ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。淡黄色結晶。融点 ８８〜８９℃。
ル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕−α−シアノけい皮
酸エチル（２．２５ｇ）およびジオキサン（３０ml）−
エタノール（３０ml）の混合物に水素化ホウ素ナトリウ
ム（０．０６ｇ）を氷冷下に加え、同温度で１時間かき
まぜた。反応混合物を氷−水に注いで酸性化後、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層は水洗、乾燥(MgSO4)後
減圧下に溶媒を留去し、残留油状物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール（５
０：１，ｖ／ｖ）で溶出する部分より、３−〔４−〔２
−〔２−（２−クロロルフェニル）−５−メチル−４−
オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−２−シアノプロ
ピオン酸エチル（２．２５ｇ，ｑｕａｎｔ．）の油状物
を得た。NMR(δ ppm in CDCl3): 1.27(3H,t,J=7Hz), 2.
39(3H,s), 3.00(2H,t,J=6.5Hz), 3.12(1H,dd,J=14&8H
z), 3.22(1H,dd,J=14&6Hz), 3.66(1H,dd,J=8&6Hz), 4.2
2(2H,q,J=7Hz), 4.24(2H,t,J=6.5Hz), 6.87(2H,d,J=9H
z), 7.17(2H,d,J=9Hz), 7.25-7.5(3H,m), 7.85-8.0(1H,
m)。 参考例３１ ３−〔４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニル）−５
−メチル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェニル〕−
２−シアノプロピオン酸エチル（２．２４ｇ）、１Ｎ
ＮａＯＨ（１５ml）およびエタノール（５０ml）の混合
物を室温で１時間かきまぜた。反応混合物を、水に注ぎ
酸性化後、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は水
洗、乾燥(MgSO4)後減圧下に溶媒を留去し、残留結晶を
ろ取した。この結晶を、ピリジン（５ml）−o-ジクロロ
ベンゼン（５０ml）に加え２時間還流下に加熱した。反
応混合物を減圧下に濃縮し、残留油状物をシリカゲルク
ロマトグラフィーに付した。クロロホルムで溶出する部
分より、３−〔４−〔２−〔２−（２−クロロルフェニ
ル）−５−メチル−４−オキサゾリル〕エトキシ〕フェ
ニル〕プロピオニトリル（１．５ｇ，８０％）を得た。
ジクロロメタン−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。淡黄色結晶。融点 ８８〜８９℃。
【００４１】参考例３２ 参考例２２と同様にして、４−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチルを得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色柱状
晶。融点 １４５−１４６℃。 参考例３３ 参考例２３と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２−ペロペン−１−オールを得た。酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
３４−１３５℃。 参考例３４ 活性二酸化マンガン（MnO2）（９．０ｇ）を（Ｅ）−３
−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オール
（３．７ｇ）のジクロロメタン（８０ml）溶液に加え、
室温で１時間かきまぜた。反応混合物は、セライト層を
通してろ過し、ろ液を減圧下に濃縮、４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモ
アルデヒド（２．６ｇ，７０％）を得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１
４−１１５℃。
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチルを得
た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色柱状
晶。融点 １４５−１４６℃。 参考例３３ 参考例２３と同様にして、（Ｅ）−３−〔４−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２−ペロペン−１−オールを得た。酢酸エチル
−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
３４−１３５℃。 参考例３４ 活性二酸化マンガン（MnO2）（９．０ｇ）を（Ｅ）−３
−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オール
（３．７ｇ）のジクロロメタン（８０ml）溶液に加え、
室温で１時間かきまぜた。反応混合物は、セライト層を
通してろ過し、ろ液を減圧下に濃縮、４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモ
アルデヒド（２．６ｇ，７０％）を得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１
４−１１５℃。
【００４２】参考例３５ 水素化ナトリウム（油性、６０％，０．３２ｇ）をシア
ノメチルホスホン酸ジエチル（１．３ｇ）のテトラヒド
ロフラン（５０ml）の溶液に０℃で少量ずつ加え、１５
分間同温度でかきまぜた。ついで、４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモア
ルデヒド（２．０ｇ）を加え、氷冷下に３０分間かきま
ぜた。反応混合物は、水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥（MgSO4）後減圧下に濃
縮、（Ｅ,Ｅ）−５−〔４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２，４−
ペンタジエンニトリル（１．５ｇ，６８％）を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点
１２０−１２１℃。 参考例３６ 参考例２４と同様にして、３−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕プ
ロパン−１−オールを得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 ７２−７３℃。 参考例３７ 参考例２５と同様にして、３−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕プ
ロピルブロミドを得た。エチルエーテル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 ８０−８１℃。
ノメチルホスホン酸ジエチル（１．３ｇ）のテトラヒド
ロフラン（５０ml）の溶液に０℃で少量ずつ加え、１５
分間同温度でかきまぜた。ついで、４−（５−メチル−
２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモア
ルデヒド（２．０ｇ）を加え、氷冷下に３０分間かきま
ぜた。反応混合物は、水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル層は、水洗、乾燥（MgSO4）後減圧下に濃
縮、（Ｅ,Ｅ）−５−〔４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２，４−
ペンタジエンニトリル（１．５ｇ，６８％）を得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色針状晶。融点
１２０−１２１℃。 参考例３６ 参考例２４と同様にして、３−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕プ
ロパン−１−オールを得た。酢酸エチル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 ７２−７３℃。 参考例３７ 参考例２５と同様にして、３−〔４−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕プ
ロピルブロミドを得た。エチルエーテル−ヘキサンから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 ８０−８１℃。
【００４３】参考例３８ ３−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）フェニル〕プロピルブロミド（１．５
ｇ）、粉末シアン化カリウム（１．５２ｇ）およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ml）の混合物を８０℃
で３時間かきまぜた。反応混合物は、水に注ぎ酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（MgSO4）
後減圧下に濃縮、４−〔４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ブチロニト
リル（１．２ｇ，９２％）を得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 ７３−７４℃。 参考例３９ 参考例３８と同様にして、４−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕ブチロニトリルを得た。エチルエーテル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 ６９−７０℃。 参考例４０ 参考例２２と同様に、４−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモアルデヒドとホ
スホノ酢酸トリエチルとの反応により、（Ｅ，Ｅ）−５
−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメトキシ）フェニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチ
ルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １３７−１３８℃。
リルメトキシ）フェニル〕プロピルブロミド（１．５
ｇ）、粉末シアン化カリウム（１．５２ｇ）およびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ml）の混合物を８０℃
で３時間かきまぜた。反応混合物は、水に注ぎ酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（MgSO4）
後減圧下に濃縮、４−〔４−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ブチロニト
リル（１．２ｇ，９２％）を得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 ７３−７４℃。 参考例３９ 参考例３８と同様にして、４−〔４−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェ
ニル〕ブチロニトリルを得た。エチルエーテル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点 ６９−７０℃。 参考例４０ 参考例２２と同様に、４−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）シンナモアルデヒドとホ
スホノ酢酸トリエチルとの反応により、（Ｅ，Ｅ）−５
−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリ
ルメトキシ）フェニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチ
ルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １３７−１３８℃。
【００４４】参考例４１ 参考例１６と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−（５−メ
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチルを接触還元反応
に付し、５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕吉草酸エチルを得
た。ヘキサンから再結晶した。無色柱状晶。融点 ５７
−５８℃。 参考例４２ ５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）フェニル〕吉草酸エチル（２．５５ｇ）
のエーテル（２０ml）溶液を氷点下、水素化リチウムア
ルミニウム（LiAlH4）（０．２４７ｇ）のエーテル（４
０ml）懸濁液に滴下した。混合物を氷点下に１５分間か
きまぜた後、水（２ml）を滴下し、不溶物をろ別、ろ液
を濃縮し５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−１−ペンタノール
（２．１５ｇ，９４％）を得た。酢酸エチル−ヘキサン
から再結晶した。無色柱状晶。融点 ７８−７９℃。 参考例４３ 参考例２５と同様に、５−〔４−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−１−
ペンタノールと三臭化リンとの反応で、５−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕ペンチルブロミドを得た。エーテル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点５８−５９℃。
チル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２，４−ペンタジエン酸エチルを接触還元反応
に付し、５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕吉草酸エチルを得
た。ヘキサンから再結晶した。無色柱状晶。融点 ５７
−５８℃。 参考例４２ ５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リルメトキシ）フェニル〕吉草酸エチル（２．５５ｇ）
のエーテル（２０ml）溶液を氷点下、水素化リチウムア
ルミニウム（LiAlH4）（０．２４７ｇ）のエーテル（４
０ml）懸濁液に滴下した。混合物を氷点下に１５分間か
きまぜた後、水（２ml）を滴下し、不溶物をろ別、ろ液
を濃縮し５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−１−ペンタノール
（２．１５ｇ，９４％）を得た。酢酸エチル−ヘキサン
から再結晶した。無色柱状晶。融点 ７８−７９℃。 参考例４３ 参考例２５と同様に、５−〔４−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−１−
ペンタノールと三臭化リンとの反応で、５−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕ペンチルブロミドを得た。エーテル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色針状晶。融点５８−５９℃。
【００４５】参考例４４ 参考例３８と同様に、５−〔４−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ペンチ
ルブロミドとシアン化カリウムとの反応で、５−〔４−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕ヘキサンニトリルを得た。エーテル−ヘ
キサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ７６−
７７℃。 参考例４５ ４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニルオキサゾ
ール（９．２ｇ）、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン
（７．９５ｇ）、炭酸カリウム（６．７３ｇ）及びＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）（１００ml）の混合
物を７０〜８０℃で２．５時間かきまぜた後、水に注い
で酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥
（MgSO4）後、溶媒を留去し４'−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノン
（１１．６ｇ，８５％）を得た。酢酸エチル−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２６−１２
７℃。 参考例４６ 参考例２２と同様に、４'−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノンとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、（Ｅ）−３−〔４
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−２−ブテン酸メチルを得た。酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１２５−１２６℃。
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ペンチ
ルブロミドとシアン化カリウムとの反応で、５−〔４−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕ヘキサンニトリルを得た。エーテル−ヘ
キサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ７６−
７７℃。 参考例４５ ４−クロロメチル−５−メチル−２−フェニルオキサゾ
ール（９．２ｇ）、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン
（７．９５ｇ）、炭酸カリウム（６．７３ｇ）及びＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド（DMF）（１００ml）の混合
物を７０〜８０℃で２．５時間かきまぜた後、水に注い
で酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥
（MgSO4）後、溶媒を留去し４'−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノン
（１１．６ｇ，８５％）を得た。酢酸エチル−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２６−１２
７℃。 参考例４６ 参考例２２と同様に、４'−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）アセトフェノンとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、（Ｅ）−３−〔４
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−２−ブテン酸メチルを得た。酢酸エ
チル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１２５−１２６℃。
【００４６】参考例４７ 参考例２３と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン酸メチルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２−ブテン−１−オールを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１２６−１２７℃。 参考例４８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−オールを活性二酸化マンガンに
よる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−アールを得た。酢酸エチル−ヘ
キサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ９４−
９５℃。 参考例４９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−アールとシアノメチルホスホン
酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２，４−ヘキサジエンニトリルを得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １３４−１３６℃
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン酸メチルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２−ブテン−１−オールを得た。酢酸エチ
ル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１２６−１２７℃。 参考例４８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−オールを活性二酸化マンガンに
よる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−アールを得た。酢酸エチル−ヘ
キサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 ９４−
９５℃。 参考例４９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−ブテン−１−アールとシアノメチルホスホン
酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
フェニル〕−２，４−ヘキサジエンニトリルを得た。酢
酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １３４−１３６℃
【００４７】参考例５０ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−５−メチル−
２−フェニルオキサゾールとｍ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、３−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。エタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点
６７−６８℃。 参考例５１ 参考例２２と同様に、３−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリエチルとの反応により、３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
エチルを得た。エタノールから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ９４−９５℃。 参考例５２ 参考例２３と同様に、３−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。酢酸エチルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １２０−１２１℃。
２−フェニルオキサゾールとｍ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、３−（５−メチル−２−フェニ
ル−４−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。エタノールから再結晶した。無色プリズム晶。融点
６７−６８℃。 参考例５１ 参考例２２と同様に、３−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリエチルとの反応により、３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
エチルを得た。エタノールから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ９４−９５℃。 参考例５２ 参考例２３と同様に、３−（５−メチル−２−フェニル
−４−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸エチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。酢酸エチルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １２０−１２１℃。
【００４８】参考例５３ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔３−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０
３−１０４℃。 参考例５４ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔３−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを油状
物として得た。 参考例５５ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルチアゾールとｐ−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応により、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得た。
酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 ８１−８２℃。
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔３−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。酢酸エチル−
ヘキサンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０
３−１０４℃。 参考例５４ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔３−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔３−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを油状
物として得た。 参考例５５ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルチアゾールとｐ−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドとの反応により、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得た。
酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 ８１−８２℃。
【００４９】参考例５６ 参考例２２と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホスホ
ノ酢酸トリメチルとの反応により、４−（５−メチル−
４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）けい皮酸メチ
ルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １４２−１４３℃。 参考例５７ 参考例２３と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−チアゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化ジ
イソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）
−３−〔４−（５−メチル−４−フェニル−２−チアゾ
リルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オール
を得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶
した。無色プリズム晶。融点 １２５−１２６℃。 参考例５８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガンによ
る酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−
４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕−
２−プロペン−１−アールを得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１
１７℃。
−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホスホ
ノ酢酸トリメチルとの反応により、４−（５−メチル−
４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）けい皮酸メチ
ルを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色
プリズム晶。融点 １４２−１４３℃。 参考例５７ 参考例２３と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−チアゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化ジ
イソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）
−３−〔４−（５−メチル−４−フェニル−２−チアゾ
リルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１−オール
を得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶
した。無色プリズム晶。融点 １２５−１２６℃。 参考例５８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガンによ
る酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−
４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕−
２−プロペン−１−アールを得た。酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１
１７℃。
【００５０】参考例５９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホン酸
ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−（５−
メチル−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得た。酢酸エ
チル−エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１０８−１０９℃。 参考例６０ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルオキサゾールとｐ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、４−（５−メチル−４−フェニ
ル−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９０−９１℃。 参考例６１ 参考例２２と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
メチルを得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０９−１１０
℃。
−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェニル〕
−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホン酸
ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−（５−
メチル−４−フェニル−２−チアゾリルメトキシ）フェ
ニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得た。酢酸エ
チル−エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点
１０８−１０９℃。 参考例６０ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルオキサゾールとｐ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、４−（５−メチル−４−フェニ
ル−２−チアゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 ９０−９１℃。 参考例６１ 参考例２２と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
メチルを得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテルから
再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０９−１１０
℃。
【００５１】参考例６２ 参考例２３と同様に、４−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−４−フェニル−２−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。クロロホルム−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １５４−１５
５℃。 参考例６３ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチ
ル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。クロロホルム
−エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
４４−１４６℃。 参考例６４ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−
（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得
た。ついで参考例１６と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４
−（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを接
触還元反応に付し、５−〔４−（５−メチル−４−フェ
ニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕吉草酸ニ
トリルを得た。酢酸エチル−エーテル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 ６５−６６℃。
−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル−４−フェニル−２−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。クロロホルム−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １５４−１５
５℃。 参考例６３ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチ
ル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。クロロホルム
−エーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １
４４−１４６℃。 参考例６４ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔４−
（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得
た。ついで参考例１６と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔４
−（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを接
触還元反応に付し、５−〔４−（５−メチル−４−フェ
ニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕吉草酸ニ
トリルを得た。酢酸エチル−エーテル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 ６５−６６℃。
【００５２】参考例６５ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−５−メチル−
２−（２−ナフチル）オキサゾールとｐ−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドとの反応により、４−〔５−メチル−２
−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕ベン
ズアルデヒドを得た。クロロホルム−エーテルから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 １６３−１６４℃。 参考例６６ 参考例２２と同様に、４−〔５−メチル−２−（２−ナ
フチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕ベンズアルデヒ
ドとホスホノ酢酸トリメチルとの反応により、４−〔５
−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメ
トキシ〕けい皮酸メチルを得た。クロロホルム−エーテ
ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １８５−１
８６℃。 参考例６７ 参考例２３と同様に、４−〔５−メチル−２−（２−ナ
フチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕けい皮酸メチル
を水素化ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付
し、（Ｅ）−３−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフ
チル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕−２−
プロペン−１−オールを得た。クロロホルム−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １５９−１６
０℃。
２−（２−ナフチル）オキサゾールとｐ−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドとの反応により、４−〔５−メチル−２
−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕ベン
ズアルデヒドを得た。クロロホルム−エーテルから再結
晶した。無色プリズム晶。融点 １６３−１６４℃。 参考例６６ 参考例２２と同様に、４−〔５−メチル−２−（２−ナ
フチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕ベンズアルデヒ
ドとホスホノ酢酸トリメチルとの反応により、４−〔５
−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメ
トキシ〕けい皮酸メチルを得た。クロロホルム−エーテ
ルから再結晶した。無色プリズム晶。融点 １８５−１
８６℃。 参考例６７ 参考例２３と同様に、４−〔５−メチル−２−（２−ナ
フチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕けい皮酸メチル
を水素化ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付
し、（Ｅ）−３−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフ
チル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕−２−
プロペン−１−オールを得た。クロロホルム−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １５９−１６
０℃。
【００５３】参考例６８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔４−〔５−メチル
−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕
フェニル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マ
ンガンによる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−〔５
−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕−２−プロペン−１−アールを得
た。クロロホルム−エーテルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １７９−１８０℃。 参考例６９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−〔５−メチル
−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕
フェニル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチル
ホスホン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−
〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキ
サゾリルメトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン
ニトリルを得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １５９−１６０℃。 参考例７０ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−５−メチル−
２−（２−ナフチル）オキサゾールと４−（４−ヒドロ
キシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、４−
〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキ
サゾリルメトキシ〕フェニル〕ブチロニトリルを得た。
クロロホルム−エーテルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １４９−１５１℃。
−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕
フェニル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マ
ンガンによる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔４−〔５
−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメ
トキシ〕フェニル〕−２−プロペン−１−アールを得
た。クロロホルム−エーテルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １７９−１８０℃。 参考例６９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔４−〔５−メチル
−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕
フェニル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチル
ホスホン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−
〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキ
サゾリルメトキシ〕フェニル〕−２，４−ペンタジエン
ニトリルを得た。酢酸エチル−エーテルから再結晶し
た。無色プリズム晶。融点 １５９−１６０℃。 参考例７０ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−５−メチル−
２−（２−ナフチル）オキサゾールと４−（４−ヒドロ
キシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、４−
〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキ
サゾリルメトキシ〕フェニル〕ブチロニトリルを得た。
クロロホルム−エーテルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １４９−１５１℃。
【００５４】参考例７１ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−５−メチル−
２−（２−ナフチル）オキサゾールと５−（４−ヒドロ
キシフェニル）吉草酸メチルとの反応により、５−〔４
−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾ
リルメトキシ〕フェニル〕吉草酸メチルを得た。ついで
参考例４２と同様に、５−〔４−〔５−メチル−２−
（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニ
ル〕吉草酸メチルを水素化リチウムアルミニウムによる
還元反応に付し、５−〔４−〔５−メチル−２−（２−
ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ペ
ンタン−１−オールを得た。酢酸エチル−エーテルから
再結晶した。無色針状晶。融点 １２８−１２９℃。 参考例７２ ５−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−
オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ペンタン−１−オー
ル（１．１ｇ）、トリエチルアミン（０．３３３ｇ）及
びジクロロメタン（４０ml）の混合物に氷冷下メタンス
ルホニルクロリド（０．３４５ｇ）を滴下した。混合物
を室温で２時間かきまぜた後、水洗、乾燥（MgSO4）
し、溶媒を留去して５−〔４−〔５−メチル−２−（２
−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕
ペンチル メタンスルホネート（１．２１ｇ，９２％）
を得た。ジクロロメタン−エーテルから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １３２−１３３℃。
２−（２−ナフチル）オキサゾールと５−（４−ヒドロ
キシフェニル）吉草酸メチルとの反応により、５−〔４
−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−オキサゾ
リルメトキシ〕フェニル〕吉草酸メチルを得た。ついで
参考例４２と同様に、５−〔４−〔５−メチル−２−
（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニ
ル〕吉草酸メチルを水素化リチウムアルミニウムによる
還元反応に付し、５−〔４−〔５−メチル−２−（２−
ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ペ
ンタン−１−オールを得た。酢酸エチル−エーテルから
再結晶した。無色針状晶。融点 １２８−１２９℃。 参考例７２ ５−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフチル）−４−
オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ペンタン−１−オー
ル（１．１ｇ）、トリエチルアミン（０．３３３ｇ）及
びジクロロメタン（４０ml）の混合物に氷冷下メタンス
ルホニルクロリド（０．３４５ｇ）を滴下した。混合物
を室温で２時間かきまぜた後、水洗、乾燥（MgSO4）
し、溶媒を留去して５−〔４−〔５−メチル−２−（２
−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕
ペンチル メタンスルホネート（１．２１ｇ，９２％）
を得た。ジクロロメタン−エーテルから再結晶した。無
色プリズム晶。融点 １３２−１３３℃。
【００５５】参考例７３ 参考例３８と同様に、５−〔４−〔５−メチル−２−
（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニ
ル〕ペンチル メタンスルホネートとシアン化カリウム
との反応で、６−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフ
チル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ヘキサ
ンニトリルを得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１
７℃。 参考例７４ 参考例３５と同様に、４−〔３−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）プロポキシ〕ベンズアルデ
ヒドとシアノメチルホスホン酸ジエチルとの反応により
４−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）プロポキシ〕シンナモニトリルを得た。酢酸エチ
ル−イソプロピルエーテル−ヘキサンから再結晶した。
無色プリズム晶。融点 ９７−９８℃。 参考例７５ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルオキサゾールとｏ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、２−（５−メチル−４−フェニ
ル−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。酢酸エチル−エーテルから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ９５−９６℃。 参考例７６ 参考例２２と同様に、２−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
メチルを得た。酢酸エチル−クロロホルム−エーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点１２８−１２９
℃。
（２−ナフチル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニ
ル〕ペンチル メタンスルホネートとシアン化カリウム
との反応で、６−〔４−〔５−メチル−２−（２−ナフ
チル）−４−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ヘキサ
ンニトリルを得た。酢酸エチル−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１
７℃。 参考例７４ 参考例３５と同様に、４−〔３−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリル）プロポキシ〕ベンズアルデ
ヒドとシアノメチルホスホン酸ジエチルとの反応により
４−〔３−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾ
リル）プロポキシ〕シンナモニトリルを得た。酢酸エチ
ル−イソプロピルエーテル−ヘキサンから再結晶した。
無色プリズム晶。融点 ９７−９８℃。 参考例７５ 参考例４５と同様に、２−クロロメチル−５−メチル−
４−フェニルオキサゾールとｏ−ヒドロキシベンズアル
デヒドとの反応により、２−（５−メチル−４−フェニ
ル−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドを得
た。酢酸エチル−エーテルから再結晶した。無色プリズ
ム晶。融点 ９５−９６℃。 参考例７６ 参考例２２と同様に、２−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）ベンズアルデヒドとホス
ホノ酢酸トリメチルとの反応により、２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸
メチルを得た。酢酸エチル−クロロホルム−エーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点１２８−１２９
℃。
【００５６】参考例７７ 参考例２３と同様に、２−（５−メチル−４−フェニル
−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル−４−フェニル−２−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。酢酸エチル−クロロホルム−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２８−１２
９℃。 参考例７８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。クロロホルム
−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点１１２−１１３℃。 参考例７９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔２−
（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得
た。エタノール−クロロホルムから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点１２８−１２９℃。
−２−オキサゾリルメトキシ）けい皮酸メチルを水素化
ジイソブチルアルミニウムによる還元反応に付し、
（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル−４−フェニル−２−
オキサゾリルメトキシ）フェニル〕−２−プロペン−１
−オールを得た。酢酸エチル−クロロホルム−エーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １２８−１２
９℃。 参考例７８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マンガン
による酸化反応に付し、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチ
ル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールを得た。クロロホルム
−イソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム
晶。融点１１２−１１３℃。 参考例７９ 参考例３５と同様に、（Ｅ）−３−〔２−（５−メチル
−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２−プロペン−１−アールとシアノメチルホスホ
ン酸ジエチルとの反応により（Ｅ，Ｅ）−５−〔２−
（５−メチル−４−フェニル−２−オキサゾリルメトキ
シ）フェニル〕−２，４−ペンタジエンニトリルを得
た。エタノール−クロロホルムから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点１２８−１２９℃。
【００５７】参考例８０ 参考例４５と同様に、２−（ベンゾ〔ｂ〕フラン−２−
イル）−４−クロロメチル−５−メチルオキサゾールと
４−（４−ヒドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反
応により、４−〔４−〔２−（ベンゾ〔ｂ〕フラン−２
−イル）−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ〕フ
ェニル〕ブチロニトリルを得た。ジクロロメタン−イソ
プロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １１８−１１９℃。 参考例８１ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−２−（フラン
−２−イル）−５−メチルオキサゾールと４−（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、４
−〔４−〔２−（フラン−２−イル）−５−メチル−４
−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ブチロニトリルを
油状物として得た。 ＮＭＲ(δ ppm in CDCl3): 1.85-2.05(2H,m), 2.31(2H,
t,J=7Hz), 2.42(3H,s),2.72(2H,t,J=7.5Hz), 4.97(2H,
s), 6.52(1H,dd,J=3.5＆2Hz), 6.9-7.0(3H,m), 7.10(2
H,d,J=9Hz), 7.53(1H,dd,J=2＆1Hz)。 参考例８２ 参考例４５と同様に、３−クロロメチル−１−メチル−
５−フェニル−１，２，４−トリアゾールと４−（４−
ヒドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、
４−〔４−（１−メチル−５−フェニル−１，２，４−
トリアゾール−３−イルメトキシ）フェニル〕ブチロニ
トリルを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０
７℃。
イル）−４−クロロメチル−５−メチルオキサゾールと
４−（４−ヒドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反
応により、４−〔４−〔２−（ベンゾ〔ｂ〕フラン−２
−イル）−５−メチル−４−オキサゾリルメトキシ〕フ
ェニル〕ブチロニトリルを得た。ジクロロメタン−イソ
プロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。融
点 １１８−１１９℃。 参考例８１ 参考例４５と同様に、４−クロロメチル−２−（フラン
−２−イル）−５−メチルオキサゾールと４−（４−ヒ
ドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、４
−〔４−〔２−（フラン−２−イル）−５−メチル−４
−オキサゾリルメトキシ〕フェニル〕ブチロニトリルを
油状物として得た。 ＮＭＲ(δ ppm in CDCl3): 1.85-2.05(2H,m), 2.31(2H,
t,J=7Hz), 2.42(3H,s),2.72(2H,t,J=7.5Hz), 4.97(2H,
s), 6.52(1H,dd,J=3.5＆2Hz), 6.9-7.0(3H,m), 7.10(2
H,d,J=9Hz), 7.53(1H,dd,J=2＆1Hz)。 参考例８２ 参考例４５と同様に、３−クロロメチル−１−メチル−
５−フェニル−１，２，４−トリアゾールと４−（４−
ヒドロキシフェニル）ブチロニトリルとの反応により、
４−〔４−（１−メチル−５−フェニル−１，２，４−
トリアゾール−３−イルメトキシ）フェニル〕ブチロニ
トリルを得た。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０
７℃。
【００５８】参考例８３ 参考例１と同様に、２−クロロ−５−ニトロピリジンと
５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメタノー
ルとの反応により、２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジンを得
た。収率 ８４％。ジクロロメタン−イソプロピルエー
テルから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １４２
−１４３℃。 参考例８４ 参考例２と同様に、２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジンを接
触還元反応に付し、５−アミノ−２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジンを得
た。収率 ８１％。メタノール−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０
７℃。 参考例８５ ５−アミノ−２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）ピリジン（４．００ｇ）、４７％
ＨＢｒ（１２．２ｇ）、およびアセトン（８０ｍｌ）の
混合物に、亜硝酸ナトリウム（１．０８ｇ）の水（２ｍ
ｌ）溶液を５℃以下の温度で滴下した。３０分間かきま
ぜた後、アクリル酸メチル（６．１２ｇ）を加え、１０
〜２０℃の温度でかきまぜながら酸化第一銅（Ｃｕ
2Ｏ）（０．２０ｇ）を加えた。室温で１時間かきまぜ
た後、反応混合物を濃縮した。残留物に濃アンモニア水
を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水
洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後減圧下に溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：５，ｖ／ｖ）で溶出する部分から２
−ブロモ−３−［２−（５−メチル−２−フェニル−４
−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロピオン
酸メチルを油状物（２．２７ｇ，３７％）として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：2.48(3H,s), 3.18(1H,dd,
J=14.5&7Hz), 3.39(1H,dd,J=14.5&8Hz), 3.76(3H,s),
4.34(1H,dd,J=8&7Hz), 5.28(2H,s), 6.78(1H,d,J=8.5H
z), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1(3H,m).
５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメタノー
ルとの反応により、２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジンを得
た。収率 ８４％。ジクロロメタン−イソプロピルエー
テルから再結晶した。淡黄色プリズム晶。融点 １４２
−１４３℃。 参考例８４ 参考例２と同様に、２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ニトロピリジンを接
触還元反応に付し、５−アミノ−２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）ピリジンを得
た。収率 ８１％。メタノール−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １０６−１０
７℃。 参考例８５ ５−アミノ−２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）ピリジン（４．００ｇ）、４７％
ＨＢｒ（１２．２ｇ）、およびアセトン（８０ｍｌ）の
混合物に、亜硝酸ナトリウム（１．０８ｇ）の水（２ｍ
ｌ）溶液を５℃以下の温度で滴下した。３０分間かきま
ぜた後、アクリル酸メチル（６．１２ｇ）を加え、１０
〜２０℃の温度でかきまぜながら酸化第一銅（Ｃｕ
2Ｏ）（０．２０ｇ）を加えた。室温で１時間かきまぜ
た後、反応混合物を濃縮した。残留物に濃アンモニア水
を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水
洗、乾燥（ＭｇＳＯ4）後減圧下に溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチ
ル−ヘキサン（１：５，ｖ／ｖ）で溶出する部分から２
−ブロモ−３−［２−（５−メチル−２−フェニル−４
−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロピオン
酸メチルを油状物（２．２７ｇ，３７％）として得た。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：2.48(3H,s), 3.18(1H,dd,
J=14.5&7Hz), 3.39(1H,dd,J=14.5&8Hz), 3.76(3H,s),
4.34(1H,dd,J=8&7Hz), 5.28(2H,s), 6.78(1H,d,J=8.5H
z), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1(3H,m).
【００５９】参考例８６ ２−ブロモ−３−［２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロピオ
ン酸メチル（４．００ｇ）、１，８−ジアザビシクロ
［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）（１．４１
ｇ）およびトルエン（８０ｍｌ）の混合物を９０〜１０
０℃で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注いで酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分から（Ｅ）−３−
［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−５−ピリジル］アクリル酸メチルの結晶
（２．７１ｇ，８３％）を得た。ジエチルエーテル−イ
ソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １１６−１１７℃。 参考例８７ 参考例２３と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］アクリル酸メチルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）−３−［２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
−５−ピリジル］−２−プロペン−１−オールを得た。
収率 ７６％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１
７℃。 参考例８８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マン
ガンによる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−［２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
５−ピリジル］−２−プロペン−１−アールを得た。収
率 ９２％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４７−１４８
℃。 参考例８９ 参考例２４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−オールを接触還元反応に
付し、３−［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロパノールを
得た。収率 ８２％。ジエチルエーテル−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 ８９−９０℃。
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロピオ
ン酸メチル（４．００ｇ）、１，８−ジアザビシクロ
［５，４，０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）（１．４１
ｇ）およびトルエン（８０ｍｌ）の混合物を９０〜１０
０℃で２時間かきまぜた。反応混合物を水に注いで酢酸
エチルで抽出した。酢酸エチル層は、水洗、乾燥（Ｍｇ
ＳＯ4）後減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル−ヘキサン
（１：３，ｖ／ｖ）で溶出する部分から（Ｅ）−３−
［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリル
メトキシ）−５−ピリジル］アクリル酸メチルの結晶
（２．７１ｇ，８３％）を得た。ジエチルエーテル−イ
ソプロピルエーテルから再結晶した。無色プリズム晶。
融点 １１６−１１７℃。 参考例８７ 参考例２３と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］アクリル酸メチルを水素化ジイソブチルアルミ
ニウムによる還元反応に付し、（Ｅ）−３−［２−（５
−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）
−５−ピリジル］−２−プロペン−１−オールを得た。
収率 ７６％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテル
から再結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１
７℃。 参考例８８ 参考例３４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−オールを活性二酸化マン
ガンによる酸化反応に付し、（Ｅ）−３−［２−（５−
メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−
５−ピリジル］−２−プロペン−１−アールを得た。収
率 ９２％。ジクロロメタン−イソプロピルエーテルか
ら再結晶した。無色プリズム晶。融点 １４７−１４８
℃。 参考例８９ 参考例２４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−オールを接触還元反応に
付し、３−［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］プロパノールを
得た。収率 ８２％。ジエチルエーテル−ヘキサンから
再結晶した。無色針状晶。融点 ８９−９０℃。
【００６０】参考例９０ 参考例７２と同様に、３−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロパノールをメタンスルホニル化して、３−［２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−５−ピリジル］プロピル メタンスルホネートを
油状物として得た。収率 ８９％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.95-2.15(2H,m), 2.48(3
H,s), 2.70(2H,t,J=7.5Hz), 3.01(3H,s), 4.24(2H,t,J=
6.5Hz), 5.28(2H,s), 6.78(1H, d,J=8.5Hz), 7.35-7.5
(4H,m), 7.95-8.1(3H,m). 参考例９１ 参考例３８と同様に、３−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロピル メタンスルホネートとシアン化カリウムとの
反応により、４−［２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］ブチロニ
トリルを油状物として得た。 収率 ９５％。 ＮＭＲ(δ ppm in CDCl3)：1.85-2.05(2H,m), 2.35(2
H,t,J=7Hz), 2.48(3H,s),2.73(2H,t,J=7.5Hz), 5.28(2
H,s), 6.80(1H,d,J=8.5Hz), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1
(3H,m). 参考例９２ 参考例６４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−アールにシアノメチルホ
スホン酸ジエチルを反応し、次いで接触還元することに
より、５−［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］吉草酸ニトリル
を油状物として得た。収率 ９６％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.55-1.85(4H,m), 2.37(2
H,t,J=6.5Hz), 2.48(3H,s), 2.59(2H,t,J=7Hz), 5.27(2
H,s), 6.77(1H,d,J=8.5Hz), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1
(3H,m).
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロパノールをメタンスルホニル化して、３−［２−
（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキ
シ）−５−ピリジル］プロピル メタンスルホネートを
油状物として得た。収率 ８９％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.95-2.15(2H,m), 2.48(3
H,s), 2.70(2H,t,J=7.5Hz), 3.01(3H,s), 4.24(2H,t,J=
6.5Hz), 5.28(2H,s), 6.78(1H, d,J=8.5Hz), 7.35-7.5
(4H,m), 7.95-8.1(3H,m). 参考例９１ 参考例３８と同様に、３−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロピル メタンスルホネートとシアン化カリウムとの
反応により、４−［２−（５−メチル−２−フェニル−
４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］ブチロニ
トリルを油状物として得た。 収率 ９５％。 ＮＭＲ(δ ppm in CDCl3)：1.85-2.05(2H,m), 2.35(2
H,t,J=7Hz), 2.48(3H,s),2.73(2H,t,J=7.5Hz), 5.28(2
H,s), 6.80(1H,d,J=8.5Hz), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1
(3H,m). 参考例９２ 参考例６４と同様に、（Ｅ）−３−［２−（５−メチル
−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピ
リジル］−２−プロペン−１−アールにシアノメチルホ
スホン酸ジエチルを反応し、次いで接触還元することに
より、５−［２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］吉草酸ニトリル
を油状物として得た。収率 ９６％。 ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）：1.55-1.85(4H,m), 2.37(2
H,t,J=6.5Hz), 2.48(3H,s), 2.59(2H,t,J=7Hz), 5.27(2
H,s), 6.77(1H,d,J=8.5Hz), 7.35-7.5(4H,m), 7.95-8.1
(3H,m).
【００６１】実施例１ ３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル−４−オ
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピオニトリル
（０．７ｇ）、アジ化ナトリウム（０．４１１ｇ）、塩
化アンモニウム（０．３３７ｇ）および N,N-ジメチル
ホルムアミド（1５ml）の混合物を１２０℃で２４時間
かきまぜた。反応混合物は水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（MgSO4）した後、溶
媒を留去し、５−〔２−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
エチル〕テトラゾール（０．３８ｇ，４８％）を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １４３〜１４４℃。 実施例２〜実施例１４ 実施例１と同様にして、〔表４〕および〔表５〕の化合
物を得た。
キサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピオニトリル
（０．７ｇ）、アジ化ナトリウム（０．４１１ｇ）、塩
化アンモニウム（０．３３７ｇ）および N,N-ジメチル
ホルムアミド（1５ml）の混合物を１２０℃で２４時間
かきまぜた。反応混合物は水に注いで酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層は水洗、乾燥（MgSO4）した後、溶
媒を留去し、５−〔２−〔４−〔２−（５−メチル−２
−フェニル−４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕
エチル〕テトラゾール（０．３８ｇ，４８％）を得た。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １４３〜１４４℃。 実施例２〜実施例１４ 実施例１と同様にして、〔表４〕および〔表５〕の化合
物を得た。
【表４】
【表５】 1) Na塩 元素分析値 Ｃ16Ｈ18Ｎ5Ｏ2Ｎa・１／２Ｈ2
Ｏとして 計算値： Ｃ，55.81; Ｈ，5.56; Ｎ，20.34 分析値： Ｃ，56.01; Ｈ，5.82; Ｎ，20.68
Ｏとして 計算値： Ｃ，55.81; Ｈ，5.56; Ｎ，20.34 分析値： Ｃ，56.01; Ｈ，5.82; Ｎ，20.68
【００６２】実施例１５ （Ｅ）−５−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−
オキサゾリルメトキシ）スチリル〕テトラゾール（１．
０ｇ）、パラジウム−炭素（５％，０．５ｇ）およびジ
オキサン（１００ml）の混合物を、１気圧、室温で接触
還元に付した。触媒をろ別、ろ液を減圧下に濃縮、５−
〔２−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）フェニル〕エチル〕テトラゾール
（０．８１ｇ，８１％）を得た。メタノール−クロロホ
ルムから再結晶した。無色板状晶。融点 ２０３−２０
４℃。 実施例１６ 実施例１５と同様にして、５−〔４−〔４−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テトラゾールを
接触還元に付し、５−〔４−〔４−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ブチ
ル〕テトラゾールを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
オキサゾリルメトキシ）スチリル〕テトラゾール（１．
０ｇ）、パラジウム−炭素（５％，０．５ｇ）およびジ
オキサン（１００ml）の混合物を、１気圧、室温で接触
還元に付した。触媒をろ別、ろ液を減圧下に濃縮、５−
〔２−〔４−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサ
ゾリルメトキシ）フェニル〕エチル〕テトラゾール
（０．８１ｇ，８１％）を得た。メタノール−クロロホ
ルムから再結晶した。無色板状晶。融点 ２０３−２０
４℃。 実施例１６ 実施例１５と同様にして、５−〔４−〔４−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テトラゾールを
接触還元に付し、５−〔４−〔４−（５−メチル−２−
フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニル〕ブチ
ル〕テトラゾールを得た。酢酸エチル−ヘキサンから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １１６−１１７℃。
【００６３】実施例１７〜実施例２７ 実施例１と同様にして、〔表６〕、〔表７〕の化合物を
得た。
得た。
【表６】
【００６４】
【表７】
【００６５】実施例２８ 実施例１と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔３−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２，４−ペンタジエンニトリルとアジ化ナトリウ
ム−塩化アンモニウムとの反応により、５−〔４−〔３
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テ
トラゾールを得た。メタノールから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点 ２０１−２０２℃。 実施例２９ 実施例１と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２，４−ペンタジエンニトリルとアジ化ナトリウ
ム−塩化アンモニウムとの反応により、５−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テ
トラゾールを得た。ジクロロメタン−メタノールから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １９２−１９３℃。
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２，４−ペンタジエンニトリルとアジ化ナトリウ
ム−塩化アンモニウムとの反応により、５−〔４−〔３
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テ
トラゾールを得た。メタノールから再結晶した。無色プ
リズム晶。融点 ２０１−２０２℃。 実施例２９ 実施例１と同様に、（Ｅ，Ｅ）−５−〔２−（５−メチ
ル−２−フェニル−４−オキサゾリルメトキシ）フェニ
ル〕−２，４−ペンタジエンニトリルとアジ化ナトリウ
ム−塩化アンモニウムとの反応により、５−〔４−〔２
−（５−メチル−２−フェニル−４−オキサゾリルメト
キシ）フェニル〕−１，３−ブタジエン−１−イル〕テ
トラゾールを得た。ジクロロメタン−メタノールから再
結晶した。無色プリズム晶。融点 １９２−１９３℃。
【００６６】実施例３０〜実施例３５ 実施例１５と同様にして、〔表８〕の化合物を得た。
【表８】 １) 油状物。ＮＭＲ（δ ppm in CDCl3）: 1.15(3H,d,J
=7Hz), 1.35-1.85(4H,m), 2.47(3H,s), 2.47-2.68(1H,
m), 2.68-2.95(2H,m), 4.91(2H,s), 6.73(2H,d,J=8.8H
z), 6.92(2H,d,J=8.8Hz), 7.35-7.52(3H,m), 7.90-8.05
(2H,m)。
=7Hz), 1.35-1.85(4H,m), 2.47(3H,s), 2.47-2.68(1H,
m), 2.68-2.95(2H,m), 4.91(2H,s), 6.73(2H,d,J=8.8H
z), 6.92(2H,d,J=8.8Hz), 7.35-7.52(3H,m), 7.90-8.05
(2H,m)。
【００６７】実施例３６ 実施例１と同様に、４−［２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］ブ
チロニトリルとアジ化ナトリウム−塩化アンモニウムと
の反応により、５−［３−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。収率 ４５
％。メタノール−酢酸エチルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １３７−１３８℃。 実施例３７ 実施例１と同様に、５−［２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］吉
草酸ニトリルとアジ化ナトリウム−塩化アンモニウムと
の反応により、５−［４−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
ブチル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。収率 ４６％。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １０４−１０５℃。
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］ブ
チロニトリルとアジ化ナトリウム−塩化アンモニウムと
の反応により、５−［３−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
プロピル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。収率 ４５
％。メタノール−酢酸エチルから再結晶した。無色プリ
ズム晶。融点 １３７−１３８℃。 実施例３７ 実施例１と同様に、５−［２−（５−メチル−２−フェ
ニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］吉
草酸ニトリルとアジ化ナトリウム−塩化アンモニウムと
の反応により、５−［４−［２−（５−メチル−２−フ
ェニル−４−オキサゾリルメトキシ）−５−ピリジル］
ブチル］−１Ｈ−テトラゾールを得た。収率 ４６％。
酢酸エチル−ヘキサンから再結晶した。無色プリズム
晶。融点 １０４−１０５℃。
【００６８】 製剤例１（錠剤の製造例） （１）５−〔２−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル− ４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕エチル〕− テトラゾール（実施例１で製造の化合物） １０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロースカルシウム ４４ｇ （５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １２０ｇ （１），（２），（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）１０mgを含有する錠
剤１０００錠を製造する。
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）１０mgを含有する錠
剤１０００錠を製造する。
【００６９】 製剤例２（錠剤の製造例） （１）５−〔３−〔４−〔２−（５−メチル−２−フェニル− ４−オキサゾリル）エトキシ〕フェニル〕プロピル〕− テトラゾール（実施例７で製造の化合物） ３０ｇ （２）乳糖 ５０ｇ （３）トウモロコシデンプン １５ｇ （４）カルボキシメチルセルロースカルシウム ４４ｇ （５）ステアリン酸マグネシウム １ｇ １０００錠 １４０ｇ （１），（２），（３）の全量および３０ｇの（４）を
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）３０mgを含有する錠
剤１０００錠を製造する。
水で練合し、真空乾燥後製粒を行う。この製粒末に１４
ｇの（４）及び１ｇの（５）を混合し、打錠機で錠剤と
することにより、一錠当たり（１）３０mgを含有する錠
剤１０００錠を製造する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/44 ＡＤＮ 9454−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 403/12 ２５７ 403/14 413/14 417/12 ２５７ 417/14 ２１３
Claims (14)
- 【請求項１】一般式 【化１】 〔式中、n は 1 から 3 の整数を、Ａは置換基を有して
いてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項２】Ａが置換基を有していてもよい含窒素複素
環残基である請求項１記載のテトラゾール誘導体または
その薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項３】Ａが置換基を有していてもよい式 【化２】 〔式中、Ｂ1はＳ，ＯまたはＮＲ（式中Ｒは水素原子，
低級アルキル基またはアラルキル基を示す。）で示され
る基を、Ｂ2は窒素原子またはＣ−Ｒ2（Ｒ2は水素また
は水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基を示
す。）を示す。Ｒ1は水素原子またはそれぞれ置換され
ていてもよい炭化水素残基または複素環残基を示すが、
Ｒ1とＲ2が隣接する炭素原子にそれぞれ置換していると
きはＲ1とＲ2が互いに結合して縮合環を形成していても
よい。〕で表される芳香性５員環残基である請求項１記
載のテトラゾール誘導体またはその薬理学的に許容しう
る塩。 - 【請求項４】Ａが式 【化３】 〔式中、Ｒ1は水素またはそれぞれ置換されていてもよ
い炭化水素残基または複素環残基を、Ｒ2は水素または
水酸基で置換されていてもよい低級アルキル基を、Ｂは
酸素原子またはイオウ原子を示す。〕で示される基であ
る請求項１記載のテトラゾール誘導体またはその薬理学
的に許容しうる塩。 - 【請求項５】Ａが式 【化４】 〔式中、Ｂは酸素原子またはイオウ原子を示し、Ｒ3，
Ｒ4は水素またはそれぞれ置換されていてもよい炭化水
素残基または複素環残基を示すが、Ｒ3とＲ4が結合した
縮合環を形成してもよい。〕で示される基である請求項
１記載のテトラゾール誘導体またはその薬理学的に許容
される塩。 - 【請求項６】Ｂ1がＮＲ（式中、Ｒは水素原子、低級ア
ルキル基またはアラルキル基を示す。）であり、Ｂ2が
窒素原子である請求項３記載のテトラゾール誘導体また
はその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項７】ｎが１または２である請求項１記載のテト
ラゾール誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項８】ＸがＣＨである請求項１記載のテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項９】Ｙが炭素数１〜５の二価の炭化水素残基で
ある請求項１記載のテトラゾール誘導体またはその薬理
学的に許容しうる塩。 - 【請求項１０】Ｙが炭素数１〜５のアルキレンである請
求項１記載のテトラゾール誘導体またはその薬理学的に
許容しうる塩。 - 【請求項１１】Ｙが−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−または−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−である請求項１記載のテトラゾール
誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項１２】一般式 【化５】 〔式中、ｎは１から３の整数を、Ａは置換基を有してい
てもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩を有効成分
として含有してなる糖尿病治療剤。 - 【請求項１３】一般式 【化６】 〔式中、ｎは１から３の整数を、Ａは置換基を有してい
てもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残基
を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表されるテトラゾー
ル誘導体またはその薬理学的に許容しうる塩を有効成分
として含有してなる高脂血症治療剤。 - 【請求項１４】一般式 【化７】 〔式中、ｎは１から３の整数を示し、Ａは置換基を有し
ていてもよい複素環残基を示す。Ｙは二価の炭化水素残
基を、ＸはＣＨまたはＮを示す。〕で表される化合物と
金属アジド化合物とを反応させることを特徴とする一般
式 【化８】 〔式中、各記号は前記と同意義である。〕で表されるテ
トラゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12128894A JP3466273B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14090693 | 1993-06-11 | ||
| JP5-140906 | 1993-06-11 | ||
| JP12128894A JP3466273B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0753555A true JPH0753555A (ja) | 1995-02-28 |
| JP3466273B2 JP3466273B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=26458698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12128894A Expired - Fee Related JP3466273B2 (ja) | 1993-06-11 | 1994-06-02 | テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3466273B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998007699A1 (fr) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Japan Tobacco Inc. | Derives d'acide propionique et applications de ces derives |
| WO2002076959A1 (fr) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Derive heterocyclique a cinq membres d'acide alcanoique |
| US6710063B1 (en) | 1999-06-25 | 2004-03-23 | Smithkline Beecham Corporation | Activators of PPAR delta |
| JP2010519306A (ja) * | 2007-02-22 | 2010-06-03 | アイアールエム・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | Ｇタンパク質共役受容体を調節するための化合物および方法 |
-
1994
- 1994-06-02 JP JP12128894A patent/JP3466273B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998007699A1 (fr) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Japan Tobacco Inc. | Derives d'acide propionique et applications de ces derives |
| US6710063B1 (en) | 1999-06-25 | 2004-03-23 | Smithkline Beecham Corporation | Activators of PPAR delta |
| US6723740B2 (en) | 1999-06-25 | 2004-04-20 | Smithkline Beecham Corporation | Activator of PPAR delta |
| WO2002076959A1 (fr) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Derive heterocyclique a cinq membres d'acide alcanoique |
| JP2010519306A (ja) * | 2007-02-22 | 2010-06-03 | アイアールエム・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | Ｇタンパク質共役受容体を調節するための化合物および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3466273B2 (ja) | 2003-11-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6049791B2 (ja) | ペルオキシソーム増殖剤活性化受容体δの活性化剤 | |
| US4725610A (en) | Thiazolidinedione derivatives, their production and use | |
| EP0783496B9 (en) | Thiazolidinedione derivatives, their production and use | |
| US6147099A (en) | Oxazolidinedione derivatives, their production and use | |
| JP3997491B2 (ja) | カルバゾール誘導体、その溶媒和物、又は薬学的に許容されるその塩 | |
| US5489602A (en) | Thiazolidinedione derivatives, their production and use | |
| US5952509A (en) | Production of benzaldehyde compounds | |
| EP0629624B1 (en) | Tetrazole derivatives, their production and use | |
| SK109993A3 (en) | Thiazolidinedione derivatives producing and use thereof | |
| JP2006516137A (ja) | Ｃｂ−１リガンドとしての４，５−ジアリールチアゾール誘導体 | |
| JP2007502264A (ja) | Ｈｍ７４ａ受容体アゴニストとしての２−置換安息香酸誘導体 | |
| JPWO2006059744A1 (ja) | ペルオキシソーム増殖剤活性化受容体δの活性化剤 | |
| JP3466273B2 (ja) | テトラゾール誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬 | |
| RU2144533C1 (ru) | Производные тетразола, способ их получения и фармацевтические композиции на их основе | |
| JP3836521B2 (ja) | ２，４−チアゾリジンジオン誘導体、その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物 | |
| US20150018411A1 (en) | Compounds as ppar beta/delta inhibitors for treating ppar beta/delta-mediated diseases | |
| AU682218B2 (en) | Tetrazole derivatives, their production and use | |
| JP3893166B2 (ja) | ベンゾフラン誘導体およびそれを含んでなる医薬組成物 | |
| JP2007284352A (ja) | ピラゾール誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030805 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070829 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |