JPH0751840Y2 - Substrate transfer mechanism - Google Patents

Substrate transfer mechanism

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JPH0751840Y2
JPH0751840Y2 JP6949191U JP6949191U JPH0751840Y2 JP H0751840 Y2 JPH0751840 Y2 JP H0751840Y2 JP 6949191 U JP6949191 U JP 6949191U JP 6949191 U JP6949191 U JP 6949191U JP H0751840 Y2 JPH0751840 Y2 JP H0751840Y2
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JP
Japan
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substrate
roller
transfer mechanism
belt
substrate transfer
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JP6949191U
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JPH0521499U (en
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喜隆 金田
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Denso Ten Ltd
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Denso Ten Ltd
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案は基板搬送機構、特にディ
ッピング後の基板を搬送するのに適した基板搬送機に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer mechanism, and more particularly to a substrate transfer device suitable for transferring a substrate after dipping.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の基板搬送機構は図8及び図9に示
したように構成されており、図中11は基板搬送機構1
0を構成する2本のレールを示している。これらレール
11は基板15を支持するのに適した所定の間隔をおい
て配置されており、レール11の上端部近傍にはベルト
13を挿通させ、支持するための溝12が形成されてい
る。レール11の両端部にはベルト13を回転させるプ
ーリ17が配設されており、これら対向したプーリ17
は支持棒18により連結されている。そして支持棒18
がモータ(図示せず)により回転させられることにより
プーリ17が回転し、プーリ17の回転がベルト13に
伝達され、基板15が搬送されるようになっている。こ
の搬送の際に基板15上には電子部品16がセットされ
てゆく。また、19は基板15の大きさに合わせて、レ
ール11間隔を調節するレール幅調節機構を示してい
る。
2. Description of the Related Art A conventional substrate transfer mechanism is constructed as shown in FIGS. 8 and 9, and 11 in FIG.
The two rails that make up 0 are shown. These rails 11 are arranged at a predetermined interval suitable for supporting the substrate 15, and a groove 12 for inserting and supporting the belt 13 is formed near the upper end portion of the rail 11. Pulleys 17 for rotating the belt 13 are arranged at both ends of the rail 11, and the pulleys 17 facing each other are provided.
Are connected by a support rod 18. And support rod 18
Is rotated by a motor (not shown), the pulley 17 rotates, the rotation of the pulley 17 is transmitted to the belt 13, and the substrate 15 is conveyed. During this transportation, the electronic component 16 is set on the substrate 15. Reference numeral 19 indicates a rail width adjusting mechanism that adjusts the interval between the rails 11 according to the size of the board 15.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】はんだ槽から出た基板
15にはフラックスが多量に付着しており、上記した従
来の基板搬送機構10にあっては、ベルト13とレール
11との間に前記フラックスが詰まり、基板15を多く
搬送させるにつれて、やがてベルト13の回転が困難と
なってくるといった課題があった。
A large amount of flux adheres to the substrate 15 coming out of the solder bath, and in the above-described conventional substrate transfer mechanism 10, the above-mentioned space is present between the belt 13 and the rail 11. There is a problem that the rotation of the belt 13 becomes difficult as the flux is clogged and the substrate 15 is transported more.

【0004】本考案は上記課題に鑑み考案されたもので
あって、フラックスが多量に付着した基板を大量に搬送
しても、その搬送をスムーズに行なうことができる基板
搬送機構を提供することを目的としている。
The present invention has been devised in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate transfer mechanism capable of smoothly transferring a large amount of substrates with a large amount of flux adhered thereto. Has an aim.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本考案に係る基板搬送機構は、ディッピング後の基板
を搬送する基板搬送機構において、前記基板を案内する
2本のレールが前記機構の両側部に配設され、前記基板
を下方から支持する小ローラ部と、前記基板を側端部か
ら支持する大ローラ部とから構成されたローラが、前記
レールの内側斜側面に回動自在に列設されていることを
特徴としている。
In order to achieve the above object, a substrate transfer mechanism according to the present invention is a substrate transfer mechanism for transferring a substrate after dipping, wherein two rails for guiding the substrate are the same as those of the mechanism. A roller, which is arranged on both sides and is composed of a small roller portion that supports the substrate from below and a large roller portion that supports the substrate from a side end portion, is rotatably attached to the inner slope of the rail. Characterized by being lined up.

【0006】[0006]

【作用】上記構成によれば、基板を支持して搬送するロ
ーラが、前記基板を下方から支持する小ローラ部と、前
記基板を側端部から支持する大ローラ部とから構成さ
れ、前記ローラがレールの内側斜側面回動自在に列設さ
れているので、前記基板と前記ローラとは点接触的に接
することとなり、従来の基板とベルトとの面接触とは相
違し、フラックスの前記ローラへの付着量は極端に少な
くなる。また、点接触的であるため前記基板底面と前記
ローラとの間の摩擦抵抗が小さくなり、前記基板の搬送
に要する動力が少なくてすむ。
According to the above construction, the roller for supporting and transporting the substrate is composed of the small roller portion for supporting the substrate from below and the large roller portion for supporting the substrate from the side end portion. Since the inner side surfaces of the rails are rotatably rotatably arranged, the substrate and the roller come into point contact with each other, which is different from the conventional surface contact between the substrate and the belt. The amount adhered to is extremely small. Further, since it is point-contact type, the frictional resistance between the bottom surface of the substrate and the roller is small, and the power required to convey the substrate is small.

【0007】しかも前記基板は前記小ローラ部と前記大
ローラ部とにより、下方及び両側端部から支持されるの
で、安定的な搬送が可能となる。
Moreover, since the substrate is supported by the small roller portion and the large roller portion from the lower side and both end portions, stable conveyance is possible.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本考案に係る基板搬送機構の実施例を
図面に基づいて説明する。図1は基板搬送機構30の概
略を示す斜視図であり、基板搬送機構30の両側には基
板15によって規制される所定間隔を保ってレール3
2、32が配設されている。レール32は下部が内方へ
突出した内側斜側面33を備えており、内側斜側面33
にローラ34が複数個回動自在に取り付けられている。
ローラ34は基板15を下方から支持する小ローラ部3
5と、基板15を側端部から支持する大ローラ部36と
を備え、大ローラ部36の内側斜側面33側には図2に
示したようにベルト係合部37が形成され、これら小ロ
ーラ部35、大ローラ部36及びベルト係合部37は一
体的に構成されている。ローラ34は内側斜側面33に
固定された支持ボルト38により回動自在に支持されて
おり、ベルト係合部37に係合しているベルト39の駆
動により回転するようになっている。ベルト39の駆動
は図示されていないモータにより行なわれる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a substrate transfer mechanism according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an outline of the board transfer mechanism 30, and rails 3 are provided on both sides of the board transfer mechanism 30 with a predetermined interval regulated by the board 15.
2, 32 are provided. The rail 32 has an inner sloped surface 33 whose lower portion protrudes inward.
A plurality of rollers 34 are rotatably attached to the.
The roller 34 is a small roller portion 3 that supports the substrate 15 from below.
5 and a large roller portion 36 that supports the substrate 15 from the side end portion thereof, and a belt engaging portion 37 is formed on the inner side slope 33 side of the large roller portion 36 as shown in FIG. The roller portion 35, the large roller portion 36, and the belt engaging portion 37 are integrally formed. The roller 34 is rotatably supported by a support bolt 38 fixed to the inner inclined surface 33, and is rotated by driving a belt 39 engaged with the belt engaging portion 37. The belt 39 is driven by a motor (not shown).

【0009】通常搬送される基板15の大きさは120
×120mm程度であり、この基板15の大きさに合わ
せて大ローラ部36の直径は20mm程度に設定され、
ローラ34の間隔は1mm程度に設定されている。
The size of the substrate 15 that is normally transported is 120.
The diameter of the large roller portion 36 is set to about 20 mm according to the size of the substrate 15,
The distance between the rollers 34 is set to about 1 mm.

【0010】このように構成された基板搬送機構30に
あって基板15を搬送する際には、前記モータが回転さ
せられ、該モータの回転に伴ってベルト39が駆動され
る。ベルト39の駆動によりベルト係合部37に回転力
が伝達され、ローラ34が回転することとなる。ローラ
34の回転に伴い、小ローラ部35及び大ローラ部36
により支持された基板15が搬送されることとなる。
When the substrate 15 is carried in the substrate carrying mechanism 30 having such a structure, the motor is rotated and the belt 39 is driven in accordance with the rotation of the motor. By driving the belt 39, the rotational force is transmitted to the belt engaging portion 37, and the roller 34 is rotated. As the roller 34 rotates, the small roller portion 35 and the large roller portion 36
The substrate 15 supported by is transported.

【0011】この搬送の際、基板15は小ローラ部3
5、大ローラ部36により図2に示したように点接触的
に支持されることとなり、フラックスの小ローラ部35
及び大ローラ部36への付着量を極端に減らすことがで
きる。またローラ34をテフロン(登録商標)等、フラ
ックスの付着しにくい材料を用いて形成することにより
ローラ34へのフラックスの付着量をさらに減らすこと
ができる。またベルト係合部37は大ローラ部36によ
り基板15側とは隔離されており、ベルト係合部37と
ベルト39との間にフラックスが侵入することはなく、
ベルト39によるローラ34の回転が妨げられることは
ない。従ってローラ34の回転に伴う基板15のスムー
ズな搬送を確保することができる。
At the time of this transportation, the substrate 15 is held by the small roller portion 3.
5, the large roller portion 36 is supported in a point contact manner as shown in FIG.
Also, the amount of adhesion to the large roller portion 36 can be extremely reduced. Further, by forming the roller 34 from a material such as Teflon (registered trademark) that does not easily adhere to the flux, the amount of the flux adhered to the roller 34 can be further reduced. Further, the belt engaging portion 37 is separated from the substrate 15 side by the large roller portion 36, so that flux does not enter between the belt engaging portion 37 and the belt 39,
The rotation of the roller 34 by the belt 39 is not hindered. Therefore, it is possible to ensure smooth conveyance of the substrate 15 due to the rotation of the roller 34.

【0012】しかも基板15は小ローラ部35により下
方から、大ローラ部36により側端部からと2点支持が
なされ、このため極めて安定的にローラ34により支持
されることとなる。
Moreover, the substrate 15 is supported at two points by the small roller portion 35 from below and the large roller portion 36 from the side end portions, so that it is very stably supported by the roller 34.

【0013】さらには基板15はローラ34により点接
触的に支持されているため基板15の搬送の際、ローラ
34との間における摩擦抵抗は小さく、前記モータにか
かる負荷を小さいものにすることができる。
Further, since the substrate 15 is supported by the rollers 34 in a point contact manner, the frictional resistance between the substrate 15 and the rollers 34 is small when the substrate 15 is conveyed, and the load applied to the motor can be made small. it can.

【0014】図4は本考案に斯かる基板搬送機構の別の
実施例の要部を示している。図1乃至図3に示した実施
例のものと異なる点は、ベルト係合部41が内側斜側面
33を挟んで大ローラ部36と反対側に形成されている
点である。かかる構成となすことにより、ベルト39へ
のフラックスの付着をより確実に防止することができ
る。その他の効果は上記実施例の場合と同様である。
FIG. 4 shows an essential part of another embodiment of the substrate transfer mechanism according to the present invention. The difference from the embodiment shown in FIGS. 1 to 3 is that the belt engaging portion 41 is formed on the opposite side of the large roller portion 36 with the inner inclined side surface 33 interposed therebetween. With such a configuration, it is possible to more reliably prevent the flux from adhering to the belt 39. Other effects are similar to those of the above-mentioned embodiment.

【0015】図5はさらに別の実施例の要部を示してお
り、この実施例のものが図4に示した実施例のものと相
違している点はベルト係合部41の代わりにギヤ部43
が形成され、これらギヤ部43の間にもギヤ(図示せ
ず)が介装され、ベルト39によらずにギヤ部43及び
前記ギヤによって駆動力が伝達されるようになっている
点である。本実施例によれば複数個のローラ34の回転
数を任意に容易に調整することができる。その他の効果
は図1乃至図3に示した実施例の場合と同様に得ること
ができる。
FIG. 5 shows the essential parts of yet another embodiment. The difference between this embodiment and the embodiment shown in FIG. 4 is that instead of the belt engaging portion 41, a gear is used. Part 43
Is formed, and a gear (not shown) is also interposed between these gear portions 43 so that the driving force is transmitted by the gear portion 43 and the gears instead of the belt 39. . According to this embodiment, the rotational speeds of the plurality of rollers 34 can be easily adjusted arbitrarily. Other effects can be obtained in the same manner as in the case of the embodiment shown in FIGS.

【0016】図6及び図7はさらに別の実施例における
基板15を移動させるためのスライド機構45を示して
おり、スライド機構45はその両端部に支持枠46、4
6を有し、これら支持枠46の間に摺動部50の案内杆
47、47が架設されている。案内杆47の間にはシリ
ンダ48が配設されている。支持枠46及び案内杆47
は摺動部50を貫通しており、摺動部50は摺動部50
に内装されたピストン(図示せず)の動きに伴いシリン
ダ48上を摺動するように構成されている。摺動部50
の上部には進退自在のスライドピン51が配設されてお
り、スライドピン51を突出させた状態で摺動部50が
シリンダ48上を移動すると、基板15がスライドピン
51に押されて搬送されるようになっている。このスラ
イド機構45はローラ34の下方に配設される。
FIGS. 6 and 7 show a slide mechanism 45 for moving the substrate 15 in still another embodiment, and the slide mechanism 45 has support frames 46, 4 at both ends thereof.
The guide rods 47, 47 of the sliding portion 50 are provided between the support frames 46. A cylinder 48 is arranged between the guide rods 47. Support frame 46 and guide rod 47
Penetrates through the sliding portion 50, and the sliding portion 50
It is configured to slide on the cylinder 48 in accordance with the movement of a piston (not shown) installed in the cylinder. Sliding part 50
A slide pin 51 that can move back and forth is provided on the upper part of the board. When the slide portion 50 moves on the cylinder 48 with the slide pin 51 protruding, the substrate 15 is pushed by the slide pin 51 and is conveyed. It has become so. The slide mechanism 45 is arranged below the roller 34.

【0017】本実施例のものでは基板15がスライド機
構45によって移動させられるため、前記モータ、ベル
ト39、ベルト係合部37を必要とせず、ローラ34は
内側斜側面33に回動自在に支持されていればよい。ま
た、基板15はローラ34により点接触的に支持されて
いるため、基板15とローラ34との間における摩擦抵
抗は少なく、基板15を搬送するための動力は極めて小
さなものですますことができる。
In the present embodiment, since the substrate 15 is moved by the slide mechanism 45, the motor, the belt 39 and the belt engaging portion 37 are not required, and the roller 34 is rotatably supported on the inner side slope 33. It should have been done. Further, since the substrate 15 is supported by the roller 34 in a point contact manner, the frictional resistance between the substrate 15 and the roller 34 is small, and the power for transporting the substrate 15 can be extremely small.

【0018】[0018]

【考案の効果】以上の説明により明らかなように、本考
案に係る基板搬送機構にあっては、基板を案内する2本
のレールが機構の両側部に配設され、前記基板を下方か
ら支持する小ローラ部と、前記基板を側端部から支持す
る大ローラ部とから構成されたローラが、前記レールの
内側斜側面に回動自在に列設されているので、前記基板
と前記ローラとは点接触的に接することとなり、フラッ
クスの前記ローラへの付着量を極めて少ないものとする
ことができる。また、前記基板底面と前記ローラとの間
の摩擦抵抗が小さくなり、従って前記基板の搬送に要す
る動力を小さなものとすることができる。
As is apparent from the above description, in the substrate transfer mechanism according to the present invention, two rails for guiding the substrate are arranged on both sides of the mechanism to support the substrate from below. Since a roller composed of a small roller portion and a large roller portion that supports the substrate from the side end is rotatably arranged in a row on the inner slant side surface of the rail, the substrate and the roller are Are in point-contact with each other, and the amount of flux adhered to the roller can be made extremely small. Further, the frictional resistance between the bottom surface of the substrate and the roller is reduced, and therefore the power required to convey the substrate can be reduced.

【0019】しかも前記基板を前記小ローラ部と前記大
ローラ部とにより、下方及び両側端部から支持すること
ができ、安定した搬送を実現することができる。
Moreover, the substrate can be supported from the lower side and both side ends by the small roller portion and the large roller portion, and stable conveyance can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案に係る基板搬送機構の実施例の概略を示
す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an embodiment of a substrate transfer mechanism according to the present invention.

【図2】実施例に係る基板搬送機構の要部を示す断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a main part of a substrate transfer mechanism according to an embodiment.

【図3】実施例に係る基板搬送機構の要部を示す正面図
である。
FIG. 3 is a front view showing a main part of the substrate transfer mechanism according to the embodiment.

【図4】別の実施例に係る基板搬送機構の要部を示す断
面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a main part of a substrate transfer mechanism according to another embodiment.

【図5】さらに別の実施例に係る基板搬送機構の要部を
示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a main part of a substrate transfer mechanism according to still another embodiment.

【図6】さらに別の実施例に係るスライド機構の概略を
示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing the outline of a slide mechanism according to still another embodiment.

【図7】スライド機構の概略を示す側面図である。FIG. 7 is a side view showing an outline of a slide mechanism.

【図8】従来の基板搬送機構を示す概略斜視図である。FIG. 8 is a schematic perspective view showing a conventional substrate transfer mechanism.

【図9】従来の基板搬送機構の要部を示す正面断面図で
ある。
FIG. 9 is a front sectional view showing a main part of a conventional substrate transfer mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

15 基板 30 基板搬送機構 32 レール 33 内側斜側面 34 ローラ 35 小ローラ部 36 大ローラ部 15 Substrate 30 Substrate Transfer Mechanism 32 Rail 33 Inside Bevel Side 34 Roller 35 Small Roller Part 36 Large Roller Part

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 ディッピング後の基板を搬送する基板搬
送機構において、前記基板を案内する2本のレールが前
記機構の両側部に配設され、前記基板を下方から支持す
る小ローラ部と、前記基板を側端部から支持する大ロー
ラ部とから構成されたローラが、前記レールの内側斜側
面に回動自在に列設されていることを特徴とする基板搬
送機構。
1. A substrate transport mechanism for transporting a substrate after dipping, wherein two rails for guiding the substrate are provided on both sides of the mechanism, and a small roller portion for supporting the substrate from below, A substrate transfer mechanism, wherein a roller including a large roller portion that supports the substrate from a side end portion is rotatably arranged in a row on the inner side slope of the rail.
JP6949191U 1991-08-30 1991-08-30 Substrate transfer mechanism Expired - Lifetime JPH0751840Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6949191U JPH0751840Y2 (en) 1991-08-30 1991-08-30 Substrate transfer mechanism

Applications Claiming Priority (1)

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JPH0521499U JPH0521499U (en) 1993-03-19
JPH0751840Y2 true JPH0751840Y2 (en) 1995-11-22

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ID=13404234

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