JPH07503942A - ペプチド合成に使用するための保護されたホスホノアルキルフェニルアラニン化合物 - Google Patents

ペプチド合成に使用するための保護されたホスホノアルキルフェニルアラニン化合物

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JPH07503942A JP5507010A JP50701092A JPH07503942A JP H07503942 A JPH07503942 A JP H07503942A JP 5507010 A JP5507010 A JP 5507010A JP 50701092 A JP50701092 A JP 50701092A JP H07503942 A JPH07503942 A JP H07503942A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 ペプチド合成に使用するための保護されたホスホノアルキルフェニルアラニン化 合物 の鈍感導入に適切なものとするように官能基化された、フィニルアラニン及びそ の光学活性異性体のホスホン酸含有誘導体の提供に関する。
発明の背景 4−ホスホノメチル−DL−フィニルアラニン(式1a)及びその誘導体(弐1 b−d)の合成は、これまで報告されてきた(表1参照)。そのような合成の目 的は、N−メチル−D−アスパラギン酸2の競合アンタゴニストとしての、又、 、l、3.4 は0−ホスホチロ7ノ の擬態としての、製造された4−ホスホノメチル−DL −フィニルアラニンを利用することにある。これらのこれまで製造された誘導体 は、“Fmo cプロトコール”を用いた溶液相又は固相ペプチド合成のいずれ かのために開発された標準プロトコールを用いて、ペプチド又はペプチド擬態へ の鈍感導入に適切ではない。
ペプチド合成への中心となるものは、ペプチド中の他の官能基の保存に適合し碍 る条件の下で容易に除去される部分を有する反応性官能基の保護である。ペプチ ド化学の主要な部門は、最近、ペプチド鎖へのアミノ酸モノマーのカップリング 反応中におけるα−アミノ基の保護のための9−フルオレニルメチロキシカルボ ニル(Fmoc)基を用いて発達した。
Fmo c基は、次いで一般に、ピペリジンのような適当な塩基による簡単な処 理により除去される。そのような反応では、アミノ酸モノマー上の他の化学的に 反応性のある基は、Fm0c基を除去するたやに使用される塩基条件に安定な官 能基により保護されなければならない。伝統的に、これらの他の基は、所定の樹 脂から最終的なペプチドを分割するために使用されるようなマイルドな酸処理( 例えばトリフルオロ酢酸)により除去された。塩基に対し安定であり、マイルド な酸処理により容易に除去されるので、第3ブチル基が、ヒドロキシル基の保護 のため、Fmocを含む残基に広く使用される。
本発明の化合物とは異なり、表1(化合物1a−16)に示す、従来知られた4 −ホスホノメチル−DL−フィニル−アラニン化合物は、それらをペプチド合成 に適切なものとするための合成操作を必要とする。
表1 R’ F)、2R3Raf ”dHHFNBnb4 本発明は、下記式に示す、新規な4−ホスボッ−メチル−DL−フェニルアラニ ン誘導体、その同族体、及びその光学異性体を提供する。
式中、t−BuOは、第3ブトキシ基を示し、Fmocは、9−フル万しニルメ チロキ7カルボニル(Fmoc)基を示ペンタフルτロフェニル、ニトロフェニ ル、1−ベンゾ−トリアゾリル、及び1−コハク酸−イミドイルであり、*はキ ラル炭素原子を示す。
式(1)の化合物は、ペプチドの合成に有用である。特に、それらは、生化学の 研究における分子の道具として、及び/又は増殖性の疾病の治療薬として有用で あるO−ホスホチロシンの安定な同族体を得ることを望む場合に、ペプチドの合 成に有用である。
本発明は、以下の反応式■に示すように、式II+のアジド誘導体が式IIの対 応するアミド誘導体に変換される新規な合成プロセスを提供することに関する。
上記反応式において、R及びR5は同一か又は異なっており、C1−8の低級ア ルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル、t−ブ チル等)からなる群から選ばれたものであり、水素化触媒はPd−C又はプラチ ナ等である。この化合物は、本明細書で論じている式(I)の所定の化合物を形 成する際の中間体として有用である。
本発明はまた、式(1)の所定の化合物又はその誘導体を製造する上で使用され る他の新規な合成プロセスに関するものでもある。この合成プロセスは、以下の 反応式(11)に示されており、その工程の1つとして、反応式(I)に示す合 成プロセスを含んでいる。
(約−10〜−40℃) 1−スクシン−ゴミドリー9−フルオレニルメチルカーボネ上記反応式(11) において、R及びR5はCの低級アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピ ル、2−プロピル、ブチル、t−ブチル等)であり、X+はナトリウム等のアル カリ金属であり、水素化触媒はPd−C又はプラチナ等であり、水混和性有機溶 媒はジオキサン、アルコール(例えばメタノール、エタノール等)、アセチルニ トリル等であり、Fmoc−OBTは1−ベンゾ−トリアゾリル−9−フルオレ ニル−メチロキシカーボネートであり、FmoCは9−フルオレニルメチロキシ カルボニルである。この化合物は、の中心は、エチルα−アジドアセテート′と 4[ビス(1−一ト、又はFmocを放出し、所望ならばFmo c−OBTの 代わりに上述の反応式に使用される他の適切な化合物である。
上述の反応式IIに示す式(ド)の化合物は、適切なR6部分と反応して、R6 が水素以外のものである類似の式(1)の化合物とカルボニルジイミダゾール( DCC)とを反応させることを含む。
発明の詳細な説明 以下の説明及び実施例は、本発明の実施を望む者を助けるために提供される。そ うであっても、以下の説明は、本発明者らによるそれらの発見に対し与えられる 保護の節回を制限するものと解釈されるべきではない。
本発明は、例えばペプチド合成に使用するための、上述の式(1)の化合物の提 供に関する。そのような式(I)の化合物は、上述の反応式(11)に示すよう に、又は別途本明細書で説明するように、得ることが出来る。式(I)の化合物 の合成の特定の例として、以下の合成例が提供される。
4[ビス(t−ブチル)ホスホノメチル]−N−Fmocタイトルの化合物(以 下の合成の化合物No、4)の合成ブチル)ホスホノメチルコーベンズアルデヒ ド(化合物1)とのアルドール縮合によるアジ化ビニル[(化合物No、2)( 74%)]を得ることである。アジ化ビニル(化合物No。
2)は、その第3ブチル基がマイルドな条件(2,8/<−Jし合成ルートへの 鍵である。最終的に、化合物N014を得るためのFmo c−アミノ保護の導 入に付随するメチルエステルの加水分解は、IN水酸化ナトリウム(=よる化合 物3の処理(20分)、及びその後、二酸化炭素を導入すること1こよるpH8 への調整、及びこの混合物を1−ベン゛ノド1ノア・ノIJルー9−フルτレニ ルメチルカーボネート(Fmoc−OBT)8と一昼夜反応させることにより達 成される。最終的な生成物(化合物No、4)は、白色粉末(48%の全収ff 1)として得られる。
化合物の製造 α−アジド−4−Cビス(t−ブチル)ホスホノメチル]桂皮酸メチルエステル ((化合物No、2):4−[ビス(t−ブチル)ホスホノメチル]ベンズアル デヒド(化合物No、1.3.3.12g、10mmo 1)及びエチルα−ア ジドアセテート(12,90g、100mmo1,100等量の無水MeOH( 50mL)の冷溶液(−30℃)に対し、5.4MのNaOMe溶液(14,8 mL。
3αmmo 1,8等量)を、アルゴン雰囲気で2分間にわたり撹拌しつつ加え る。無色反応混合物を2℃で1時間撹拌し、E t 20 (3I100 m  L )で抽出し、(MgS04により)乾燥し、Et、、Oを除去する。得られ た無色のオイルを石油エーテル(30ml)中に溶解し、−78℃に冷却し、混 合しつつ0°Cに暖め、白色結晶固形物を得る。この固形物を、水で冷やされた 石油/Et20 (30: 1.30m1)で処理し、濾過し、乾燥する。収率 2.86g (74%)、mp109−111℃、C19H2gN 305p  SMW409 (化合物は燃焼分析のためには不安定過ぎる)を得る。
F ABMS : m/ z =410 (M+1)IR(KBr) v−29 80,2124,1707,1439,1369,1330cm−I ’ HNMR(200MHz、 CD CL3 ) :δ−1,42(s 、1 8H12t C4I9 ) 、3.05 (d、2H2J =22Hz、 P  CI2 ) 、3.90 (s、 3H,OCH3) 、6. 90 (s 、 L H,ビニル基”) 、7.28 (dd。
d、LH,J−5Hz及び8Hz、 H) 、7. 11 (d。
α 2H,J = 2Hz &8Hz、 A r H3&5 ) 、7.74 (d 。
2H,J −8HZ、 A r H2&6 )化合物; 12 (4,50g、 110mmol)のMeOH(30mL)溶液を4パー(Parr)の装置(2 ,8バールH2)内で、10%のPd−C(1,10g)上で1時間室温下で振 とうする。セリート(Celite)フィルターを通して濾過し、溶媒を除去し て、オイルとして3. 75g(89%)の化合物No、3を得る。
CI 9 H32N Os P・3/4H20計算値 C57,20H8,46 N3.51実測値 C57,23H8,14NB、55FABMS :m/z= 386 (M+1)IR(膜)v−3863,3383,2979,17B9゜ 1653.1558,1540,1514.1456.1394.1369cm ’ ’HNMR(250MHz、CDCL3)’δ−1,42(s、 18H12t −C4I9 ) 、1.66 (b r s、 2H,NH2) 、2.86  (d d、L H,J =8Hz及び13Hz、 Hβ1) 、3.01 (d 、 2H,J−21Hz、 P−CH2) 、3.06 (d d、LH,J− 5Hz及び13Hz。
Hβ2) 、3.70 (s、3H,0CH3) 、3.72 (d末として化 合物N094を得る。835g (73%);mp2H,J =8Hz、 A  r H2&6 ) 、7.22 (d d、 2H。
持されている。
4−〔ビス(t−7’チル)ホスホノメチル]−N−Fm。
アミン化合物No、3 (770mg、1.93mmo 1)のジオキサン(1 0mL)溶液を、INのNaOH水溶液(10mL、10rnmo l、5当f f1)とともに室温下で撹拌する。次いで、二酸化炭素をバブリングさせ(生じ たpH=8.0〜8.5) 、Fmoc−OBT (857mg、2.40mm ol、1.2当量)をジオキサン(3I10ml)中の=a液として加え、常温 で一昼夜撹拌する。反応混合物を5%クエン酸(200mL)の冷水溶液とCH Cl3 (3×100mL)との間に分配させ、合された有機溶液を冷5%クエ ン酸(I X 1.○OmL) 、塩水(IX200mLンで洗浄し、乾燥しく 〜工gS04)、薄黄色の樹脂(1,92g)を得る。この樹脂をCHCl3中 にとり、シリカパッドを通して濾過する。未反応のFmoc−OBT及び不純物 をCHCl3中 (5I100mL)を用いて除去し、次いで、CHCl3中1 %EtOHにより生成物を溶出しく8I100mL)65−70℃(ガス、de c、) 計算値 C66,77H6,79N2.36実測値 67.08 7.26 2 .32FABMS :m/子−594(ム−i+1)IR(膜)V=2979. 1721.1513,1450゜1370cm’ ’ H−Nム、IR(250!vIHz、 CDCL3 ) ’δ−1,31( S、9H,2t−C4H9) 、1.38 (S、9H,を−C4H9) 、3 . 01 (d d、L HlJ ” 14Hz及び22Hz、 P−C−H)  、3.18 (M、 LH,Hβ、 )、α 3、29 (m、 LH,H,92) 、4.22 (t、 LH,J =7H z、QC−H) 、4. 32 (dd 、IH,J=7Hz及び10Hz、N GO2C−H)、4.48 (dd 、1α H,J=7Hz及び10 Hz 、 N G O2C−Hβ) 、4 、68  (m、IH,NC−H) 、5.40 (d、IH,J −7Hz、N−H)  、7.12 (d、2H,J=8Hz、ArH2&構造上の帰属は、 H−HC O3Y及び13C−NMRI:より支持されている。
2カツプリングパターンは変形している。
5カツプリングパターンは明白である。
0帰属は逆かも知れない。
6帰属は逆かも知れない。
光学異性体 式Iの化合物のり、L−光学異性体を用いて製造された化合物(例えばペプチド )は、生体系との種々の生物学的相互作用を示すであろう。式Iのり、L−光学 異性体は、典型的には、遊離酸(α−アミノ基のFmoc保護を伴って又は伴わ ずに)とキラルアミンとの反応により、又は遊離酸(α−アミノ基のFmoc保 護を伴って又は伴わずに)とキラル酸との反応により形成されたジアステレオマ ー塩混合物の分Hにより達成される。例えば、ブルシン塩としてのN−アセチル −DL−チロシンの分離は、そのような手順の典型である。
以上、本発明について説明したが、本発明は種々に変形し得ることは明らかであ る。そのような変形は、本発明の精神及び範囲を逸脱するものではなく、そのよ うな修正は当業者に明らかであり、以下の請求の範囲に含まれるものである。
本明細書で引用した刊行物及び/又は特許は、全体として本明細書の一部をなす ものである。
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Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.下記式(I)に示す化合物又はその光学異性体。 ▲数式、化学式、表等があります▼(I)式中、Xは、−CH2−、−CHF− 、−CF2−、−CHOH−、又は−C(O)−を示し、t−BuOは、第3ブ トキシ基を示し、Fmocは、9−フルオレニルメチロキシカルボニル基を示し 、R6は、水素、ベンジル、ペンタフルオロフェニル、ニトロフェニル、ベンゾ トリアゾリル、又はスクシンイミドリルを示し、*はキラル炭素原子を示す。
  2. 2.4[ビス(t−ブチル)ホスホノメチル]−N−Fmoc−DL−フェニル アラニンである請求項1に記載の化合物。
  3. 3.4[ビス(t−ブチル)ホスホノメチル]−N−Fmoc−D−フェニルア ラニンである請求項1に記載の化合物。
  4. 4.4[ビス(t−ブチル)ホスホノメチル]−N−Fmoc−L−フェニルア ラニンである請求項1に記載の化合物。
  5. 5.下記式(III)に示す化合物を水素化する工程を具備する下記式(II) に示す化合物を製造する方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)式中、R4及びR5は、C1−8の 低級アルキル基。 ▲数式、化学式、表等があります▼(III)式中、R4及びR5は、上述と同 様。
  6. 6.前記式(III)の化合物は、水素化触媒及び式R5H(R5は上述と同様 )に示す化合物の存在下で水素化される請求項5に記載の方法。
  7. 7.式(III)に示す化合物は、室温下で水素化される請求項6に記載の方法 。
  8. 8.式(IV)に示す化合物とエチルa−アジドアセテートとを、アルカリ金属 及び式R5OH(R5はC1−8の低級アルキル基)に示すアルコール溶媒の存 在下で反応させて、下記式(III)に示す化合物を得る工程1と、工程1で製 造された式(III)に示す化合物を水素化して式(II)に示す化合物を得る 工程2と、工程2で製造された式(ll)に示す化合物を適当な塩基と反応させ 、反応混合物をpH8に調整し、その後、式(II)に示す化合物を1−ベンゾ トリアゾリル−9−フルオレニルメチルカーボネート又は1−スクシンイミドリ −9−フルオレニルメチルカーボネートと反応させる工程3とを具備する、下記 式(I′)に示す化合物の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(I′)式中、R4はC1−8の低級アルキ ル基、Fmocは、9−フルオレニルメチロキシカルボニル基を示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)▲数式、化学式、表等があります▼ (III)式中、R4及びR5は、上述と同様。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)式中、R4及びR5は、上述と同様 。
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