JPH0749420B2 - 新規６，７−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 - Google Patents
新規６，７−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法Info
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- JPH0749420B2 JPH0749420B2 JP61269804A JP26980486A JPH0749420B2 JP H0749420 B2 JPH0749420 B2 JP H0749420B2 JP 61269804 A JP61269804 A JP 61269804A JP 26980486 A JP26980486 A JP 26980486A JP H0749420 B2 JPH0749420 B2 JP H0749420B2
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- compound
- acid
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なイソキノリン誘導体及びその製造法に
関するものである。
関するものである。
従来技術 本発明の原料化合物である一般式（II）の化合物として
は、6,7−ジベンジルオキシイソキノリン、6,7−ジメト
キシイソキノリン等を挙げることができるが、その製造
方法については、ジャーナル オブ ジ アメリカン
ケミカル ソサエティ（Journal of the American Chem
ical Society）第79巻,3773頁（1957年）、ジェイ ケ
ム ソック パーキン（J.Chem.Soc.Perkin）1.,2185頁
（1974年）、同2190頁（1974年）などに記載されてい
る。
は、6,7−ジベンジルオキシイソキノリン、6,7−ジメト
キシイソキノリン等を挙げることができるが、その製造
方法については、ジャーナル オブ ジ アメリカン
ケミカル ソサエティ（Journal of the American Chem
ical Society）第79巻,3773頁（1957年）、ジェイ ケ
ム ソック パーキン（J.Chem.Soc.Perkin）1.,2185頁
（1974年）、同2190頁（1974年）などに記載されてい
る。
発明を解決しようとする問題点および問題を解決するた
めの手段 本発明化合物は、文献未記載の新規化合物であり、更に
優れた抗菌作用を有するセファロスポリン誘導体の中間
原料として有用である。
めの手段 本発明化合物は、文献未記載の新規化合物であり、更に
優れた抗菌作用を有するセファロスポリン誘導体の中間
原料として有用である。
作用 本発明は一般式（Ｉ） ［式中、Ｒは水素原子又はアルカノイル基を示す］で表
される新規な化合物、その塩及び該化合物の製造法に関
するものである。
される新規な化合物、その塩及び該化合物の製造法に関
するものである。
次に本明細書に記載された各種記号及び用語について説
明する。
明する。
R1は低級アルキル基、アラルキル基、アロイル基、低級
アルコキシカルボニル基、若しくはR1は互いに結合して
環状アセタール、環状ケタール又はカルボネート基を示
し、加水分解若しくは接触還元によって除去可能な水酸
基の保護基を意味する。
アルコキシカルボニル基、若しくはR1は互いに結合して
環状アセタール、環状ケタール又はカルボネート基を示
し、加水分解若しくは接触還元によって除去可能な水酸
基の保護基を意味する。
低級アルキル基とは炭素数１〜４のアルキル基を示し、
具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基等が挙
げられ、特に好ましい例としてはメチル基が挙げられ
る。
具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基等が挙
げられ、特に好ましい例としてはメチル基が挙げられ
る。
アラルキル基とはベンジル基、ｐ−メトキシベンジル
基、フェネチル基等を示す。
基、フェネチル基等を示す。
アルカノイル基とは、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基等が挙げられ、特にアセチル基が好ましい。
チリル基等が挙げられ、特にアセチル基が好ましい。
アロイル基とはベンゾイル基、トルオイル基等を示す。
低級アルコキシカルボニル基とは炭素数２〜５のメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基、イソブトキシカルボニル基等を示し、特に
好ましい例としてはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられる。
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカ
ルボニル基、イソブトキシカルボニル基等を示し、特に
好ましい例としてはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられる。
環状アセタールとはメチレンアセタール、エチリデンア
セタール等を示す。
セタール等を示す。
環状ケタールとはイソプロピリデンケタール等を示す。
次に本発明化合物の製造方法を説明する。
本発明化合物は一般式（II） ［式中、R1は水酸基の保護基（但し、R1がアルカノイル
基の場合は除く）を示す］で表される化合物、又はその
塩の水酸基の保護基R1を除去し、要すればアシル化する
ことによって製造することができる。
基の場合は除く）を示す］で表される化合物、又はその
塩の水酸基の保護基R1を除去し、要すればアシル化する
ことによって製造することができる。
水酸基の保護基の除去方法はワイリイ（Wiley）社より1
981年に発行されたティ ダブリュー グリーン（T.W.G
reene）著のプロテクティブ グループス イン オー
ガニック シンセシス（Protective Groups in Organic
Synthesis）、プレナム プレス（Plenum Press）社よ
り1973年に発行されたジェイ エフ ダブリュー マコ
ミィー（J.F.W.McOmie）著のプロテクティブ グループ
ス イン オーガニック ケミストリー（Protective G
roups in Organic Chemistry）などに記載されている方
法に準じて行うことができる。特に好ましい水酸基の保
護基としては、酸加水分解又は接触還元によって容易に
除去できるメチル基、ベンジル基、メチレンアセタール
基、エトキシカルボニル基、カルボネート基が好まし
い。
981年に発行されたティ ダブリュー グリーン（T.W.G
reene）著のプロテクティブ グループス イン オー
ガニック シンセシス（Protective Groups in Organic
Synthesis）、プレナム プレス（Plenum Press）社よ
り1973年に発行されたジェイ エフ ダブリュー マコ
ミィー（J.F.W.McOmie）著のプロテクティブ グループ
ス イン オーガニック ケミストリー（Protective G
roups in Organic Chemistry）などに記載されている方
法に準じて行うことができる。特に好ましい水酸基の保
護基としては、酸加水分解又は接触還元によって容易に
除去できるメチル基、ベンジル基、メチレンアセタール
基、エトキシカルボニル基、カルボネート基が好まし
い。
１）酸加水分解による製造方法 一般式（II）の化合物を１〜10倍量、好ましくは、５〜
10倍量の酢酸と３〜10倍量、好ましくは、５〜10倍量の
臭化水素酸の溶液を窒素気流中、80〜120℃で、２〜30
時間煮沸した後、冷却および／または濃縮し、次いで要
すれば、アシル化することにより本発明化合物を製造す
ることができる。
10倍量の酢酸と３〜10倍量、好ましくは、５〜10倍量の
臭化水素酸の溶液を窒素気流中、80〜120℃で、２〜30
時間煮沸した後、冷却および／または濃縮し、次いで要
すれば、アシル化することにより本発明化合物を製造す
ることができる。
２）接触還元による製造方法 一般式（II）の化合物を水、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、酢酸、塩酸水溶液、
臭化水素酸水溶液、硫酸水溶液又はこれら混合溶液に溶
解し、５〜10％パラジウム炭素を一般式（II）の化合物
の５〜20％重量、好ましくは５〜10％重量用い、反応温
度20〜80℃、反応時間２〜10時間接触還元し、要すれば
アシル化することにより本発明化合物を製造することが
できる。
プロパノール、イソプロパノール、酢酸、塩酸水溶液、
臭化水素酸水溶液、硫酸水溶液又はこれら混合溶液に溶
解し、５〜10％パラジウム炭素を一般式（II）の化合物
の５〜20％重量、好ましくは５〜10％重量用い、反応温
度20〜80℃、反応時間２〜10時間接触還元し、要すれば
アシル化することにより本発明化合物を製造することが
できる。
上記アシル化反応は、酸加水分解又は接触還元による生
成物（6,7−ジヒドロキシイソキノリン又はその塩）を
単離するか若しくは単離することなくそのまま行うこと
ができる。
成物（6,7−ジヒドロキシイソキノリン又はその塩）を
単離するか若しくは単離することなくそのまま行うこと
ができる。
該アシル化反応は、6,7−ジヒドロキシイソキノリン又
はその塩を必要に応じて反応に悪影響を及ぼさない溶媒
例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等の溶媒中、触媒量若し
くは過剰のルイス酸の存在下に、過剰のカルボン酸無水
物を反応温度10〜180℃で0.5〜48時間行う。或いはアセ
トン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド又はこれらの混合溶媒中、２〜３当量の脱酸剤の存
在下に、２〜2.5当量のカルボン酸ハロゲン化物又はカ
ルボン酸無水物を反応温度０〜50℃で0.5〜10時間行
う。
はその塩を必要に応じて反応に悪影響を及ぼさない溶媒
例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等の溶媒中、触媒量若し
くは過剰のルイス酸の存在下に、過剰のカルボン酸無水
物を反応温度10〜180℃で0.5〜48時間行う。或いはアセ
トン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド又はこれらの混合溶媒中、２〜３当量の脱酸剤の存
在下に、２〜2.5当量のカルボン酸ハロゲン化物又はカ
ルボン酸無水物を反応温度０〜50℃で0.5〜10時間行
う。
反応終了後、反応液から本発明化合物（Ｉ）又はその塩
を単離精製するには、溶媒抽出、再結晶、クロマトグラ
フィー等公知の分離手段により行うことができる。
を単離精製するには、溶媒抽出、再結晶、クロマトグラ
フィー等公知の分離手段により行うことができる。
ルイス酸としては、例えばトリフルオロ酢酸、メタンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、三フ
ッ化ホウ素等が挙げられる。
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸、三フ
ッ化ホウ素等が挙げられる。
脱酸剤としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属塩、トリエチルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン等の有機アミンが挙げられ
る。
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属塩、トリエチルアミン、エチル
ジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジ
ン、N,N−ジメチルアニリン等の有機アミンが挙げられ
る。
カルボン酸無水物としては無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水酪酸が挙げられる。
酸、無水酪酸が挙げられる。
カルボン酸ハロゲン化物としては、塩化アセチル、塩化
プロピオニル、塩化ブチリルが挙げられる。
プロピオニル、塩化ブチリルが挙げられる。
本発明化合物は常法により酢酸塩、塩酸塩、臭化水素塩
酸、硫酸塩、硝酸塩及び過塩素酸塩等の無機酸塩、又メ
タンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有機
スルホン酸塩等とすることができる。
酸、硫酸塩、硝酸塩及び過塩素酸塩等の無機酸塩、又メ
タンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有機
スルホン酸塩等とすることができる。
尚、一般式（II）の化合物は、ジャーナル オブ ジ
アメリカン ケミカル ソサエティ（Journal of the A
merican Chemical Society）79巻,3773頁（1957年）、
ジェイ ケム ソック パーキン（J.Chem.Soc.Perki
n）I.,2185頁（1974年）、同2190頁（1974年）等に記載
の方法に準じて製造することができる。
アメリカン ケミカル ソサエティ（Journal of the A
merican Chemical Society）79巻,3773頁（1957年）、
ジェイ ケム ソック パーキン（J.Chem.Soc.Perki
n）I.,2185頁（1974年）、同2190頁（1974年）等に記載
の方法に準じて製造することができる。
次に実施例を挙げて本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例 実施例１ 6,7−ジヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・１水
和物の製造 （Ａ）3,4−ジベンジルオキシベンズアルデヒド73g（0.
23モル）をベンゼン500mlに溶解し、アミノアセトアル
デヒドジエチルアセタール25ml（0.172モル）を加え、
５時間還流撹拌して生成する水を分離除去する。反応溶
液を減圧下濃縮して、２−［Ｎ−（3,4−ジベンジルオ
キシベンジリデン）アミノ］アセトアルデヒドジエチル
アセタールの残渣を得る。この残渣をメタノール700ml
に溶解し、室温で水素化ホウ素ナトリウム6.0g（0.16モ
ル）を加え、15分間撹拌する。反応溶液は減圧下濃縮
し、残渣を酢酸エチルに溶解した後、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮し、２−
［Ｎ−（3,4−ジベンジルオキシベンジル）アミノ］ア
セトアルデヒドジエチルアセタールの残渣を得る。この
残渣を乾燥テトラヒドロフラン600mlに溶解し、ｐ−ト
ルエンスルホニルクロライド39.8g（0.12モル）及びト
リエチルアミン59ml（0.42モル）を加え、室温で17.5時
間撹拌する。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで脱水後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィ−（10％酢酸エチル・ヘキサ
ン）に付し、２−［Ｎ−ｐ−トリルスルホニル−Ｎ−
（3,4−ジベンジルオキシベンジル）アミノ］アセトア
ルデヒドジエチルアセタール70g（収率70.7％）を得
る。
和物の製造 （Ａ）3,4−ジベンジルオキシベンズアルデヒド73g（0.
23モル）をベンゼン500mlに溶解し、アミノアセトアル
デヒドジエチルアセタール25ml（0.172モル）を加え、
５時間還流撹拌して生成する水を分離除去する。反応溶
液を減圧下濃縮して、２−［Ｎ−（3,4−ジベンジルオ
キシベンジリデン）アミノ］アセトアルデヒドジエチル
アセタールの残渣を得る。この残渣をメタノール700ml
に溶解し、室温で水素化ホウ素ナトリウム6.0g（0.16モ
ル）を加え、15分間撹拌する。反応溶液は減圧下濃縮
し、残渣を酢酸エチルに溶解した後、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮し、２−
［Ｎ−（3,4−ジベンジルオキシベンジル）アミノ］ア
セトアルデヒドジエチルアセタールの残渣を得る。この
残渣を乾燥テトラヒドロフラン600mlに溶解し、ｐ−ト
ルエンスルホニルクロライド39.8g（0.12モル）及びト
リエチルアミン59ml（0.42モル）を加え、室温で17.5時
間撹拌する。反応溶液を減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで脱水後、減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィ−（10％酢酸エチル・ヘキサ
ン）に付し、２−［Ｎ−ｐ−トリルスルホニル−Ｎ−
（3,4−ジベンジルオキシベンジル）アミノ］アセトア
ルデヒドジエチルアセタール70g（収率70.7％）を得
る。
m.p.75℃ IR（KBr）cm-1:1600,1520,1460,1340,1250,1160,1130 NMR（DMSO−d6）δ:1.00（6H,t,J＝7.5Hz）,2.35（3H,
s）,3,07（2H,d,J＝6Hz）,3.20〜3.60（4H,m）,4.32（2
H,s）,4.35（1H,d,J＝6Hz）,4.90（2H,s）,5.08（2H,
s）,6.60〜7.80（17H,m） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物22.1g（39ミリモル）を
ジオキサン300mlに溶解し、6N−塩酸28mlを加えた後、
窒素雰囲気暗所下で5.5時間還流撹拌する。反応溶液を2
0％水酸化ナトリウム水溶液でpH10.0に調整し、減圧下
濃縮後、残渣を酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（２％メタノール・クロロホルム）で精製することによ
り6,7−ジベンジルオキシイソキノリン8.6g（収率64
％）を得る。
s）,3,07（2H,d,J＝6Hz）,3.20〜3.60（4H,m）,4.32（2
H,s）,4.35（1H,d,J＝6Hz）,4.90（2H,s）,5.08（2H,
s）,6.60〜7.80（17H,m） （Ｂ）上記（Ａ）で得た化合物22.1g（39ミリモル）を
ジオキサン300mlに溶解し、6N−塩酸28mlを加えた後、
窒素雰囲気暗所下で5.5時間還流撹拌する。反応溶液を2
0％水酸化ナトリウム水溶液でpH10.0に調整し、減圧下
濃縮後、残渣を酢酸エチルで抽出する。有機層を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下濃
縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（２％メタノール・クロロホルム）で精製することによ
り6,7−ジベンジルオキシイソキノリン8.6g（収率64
％）を得る。
p.m.97℃ IR（KBr）cm-1:1620,1580,1500,1240,1140,1000 NMR（DMSO−d6）δ:5.30（4H,s）,7.25〜7.80（13H,
m）,8.30（1H,d,J＝6Hz）,9.02（1H,s） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物7.8g（23ミリモル）はメ
タノール15ml及び40％臭化水素酸1.7mlの混合液に溶解
し、10％パラジウム炭素触媒1.5gを加え、水素雰囲気
下、50〜60℃で7.5時間撹拌する。反応溶液を濾過し、
濾液を減圧下濃縮する。残渣をＮ−臭化水素酸水溶液よ
り再結晶し、析出結晶をアセトン洗浄した後、５時間真
空乾燥して、標記化合物4.75g（収率79.4％）を得る。
m）,8.30（1H,d,J＝6Hz）,9.02（1H,s） （Ｃ）上記（Ｂ）で得た化合物7.8g（23ミリモル）はメ
タノール15ml及び40％臭化水素酸1.7mlの混合液に溶解
し、10％パラジウム炭素触媒1.5gを加え、水素雰囲気
下、50〜60℃で7.5時間撹拌する。反応溶液を濾過し、
濾液を減圧下濃縮する。残渣をＮ−臭化水素酸水溶液よ
り再結晶し、析出結晶をアセトン洗浄した後、５時間真
空乾燥して、標記化合物4.75g（収率79.4％）を得る。
m.p.205℃ IR（KBr）cm-1:1630,1610,1520,1480,1430,1300 NMR（DMSO−d6）δ:7.50（1H,s）,7.70（1H,s）,8.10
（1H,d,J＝6Hz）,8.30（1H,d,J＝6Hz）9.42（1H,s） C9H7NO2・HBr・H2Oとしての元素分析値 Ｃ Ｈ Ｎ Br 計算値 41.56 3.88 5.39 30.72 実測値 41.52 3.85 5.24 30.10 実施例２ 6,7−ジヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・１水
和物の製造 6,7−ジメトキシイソキノリン1.9g（10ミリモル）を酢
酸15ml及び40％臭化水素酸15mlの混合液に溶解し、窒素
雰囲気下、24時間還流撹拌する。反応溶液を減圧下濃縮
し、残渣をＮ−臭化水素酸水溶液より再結晶して、標記
化合物2.3g（収率88.4％）を得る。本品の融点、赤外吸
収スペクト及び核磁気共鳴スペクトルは実施例１の化合
物のそれに一致する。
（1H,d,J＝6Hz）,8.30（1H,d,J＝6Hz）9.42（1H,s） C9H7NO2・HBr・H2Oとしての元素分析値 Ｃ Ｈ Ｎ Br 計算値 41.56 3.88 5.39 30.72 実測値 41.52 3.85 5.24 30.10 実施例２ 6,7−ジヒドロキシイソキノリン・臭化水素酸塩・１水
和物の製造 6,7−ジメトキシイソキノリン1.9g（10ミリモル）を酢
酸15ml及び40％臭化水素酸15mlの混合液に溶解し、窒素
雰囲気下、24時間還流撹拌する。反応溶液を減圧下濃縮
し、残渣をＮ−臭化水素酸水溶液より再結晶して、標記
化合物2.3g（収率88.4％）を得る。本品の融点、赤外吸
収スペクト及び核磁気共鳴スペクトルは実施例１の化合
物のそれに一致する。
実施例３ 6,7−ジアセトキシイソキノリンの製造 6,7−ジアセトキシイソキノリン・臭化水素酸塩・１水
和物500mg（1.9ミリモル）をトリフルオロ酢酸10mlに懸
濁し、室温で無水酢酸2.0ml（21ミリモル）を加え、同
温度で24時間撹拌する。反応溶液を減圧下に濃縮し、残
渣に水及び酢酸エチルを加えた後、水層を５％炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH8.0に調整し、酢酸エチルで抽出
する。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで脱水し、減圧下に濃縮して、標記化合物440mg
（収率93.4％）を得る。
和物500mg（1.9ミリモル）をトリフルオロ酢酸10mlに懸
濁し、室温で無水酢酸2.0ml（21ミリモル）を加え、同
温度で24時間撹拌する。反応溶液を減圧下に濃縮し、残
渣に水及び酢酸エチルを加えた後、水層を５％炭酸水素
ナトリウム水溶液でpH8.0に調整し、酢酸エチルで抽出
する。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナト
リウムで脱水し、減圧下に濃縮して、標記化合物440mg
（収率93.4％）を得る。
IR（KBr）cm-1:1770,1620,1500,1460,1380,1200 NMR（DMSO−d6）δ:2.39（6H,s）,7.85（1H,d,J＝6.0H
z）,7.90（1H,s）,8.05（1H,s）,8.53（1H,d,J＝6.0H
z）,9.30（1H,s） 発明の効果 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、更にセ
フェム核の３位に6,7−ジヒドロキシイソキノリニウム
メチル基、又は6,7−ジアセトキシイソキノリニウムメ
チル基等の6,7−ジアルカノイルオキシイソキノリウム
メチル基を有する下記式 ［式中、Ｒは水素原子又はアルカノイル基及びR2はアシ
ル基を示す］で表されるセファロスポリン誘導体は、イ
ソキノリン核が無置換又はモノヒドロキシ置換の化合物
と比較して、グラム陰性菌、特にシュードモナス エル
ギノーサ（Pseudomonas aeruginosa）、シュードモナス
セパシア（Pseudomonas cepacia）及びアシネトバク
ター カルコアセティカス（Acinetcbacter calcoaceti
cus）などのブドウ糖非発酵グラム陰性桿菌（glucose n
on−fermentative gram−negative rods）に対し、抗菌
力が著しく強力であることを見出しているが、本発明化
合物は、その中間原料として有用な化合物である。
z）,7.90（1H,s）,8.05（1H,s）,8.53（1H,d,J＝6.0H
z）,9.30（1H,s） 発明の効果 本発明化合物は文献未記載の新規化合物であり、更にセ
フェム核の３位に6,7−ジヒドロキシイソキノリニウム
メチル基、又は6,7−ジアセトキシイソキノリニウムメ
チル基等の6,7−ジアルカノイルオキシイソキノリウム
メチル基を有する下記式 ［式中、Ｒは水素原子又はアルカノイル基及びR2はアシ
ル基を示す］で表されるセファロスポリン誘導体は、イ
ソキノリン核が無置換又はモノヒドロキシ置換の化合物
と比較して、グラム陰性菌、特にシュードモナス エル
ギノーサ（Pseudomonas aeruginosa）、シュードモナス
セパシア（Pseudomonas cepacia）及びアシネトバク
ター カルコアセティカス（Acinetcbacter calcoaceti
cus）などのブドウ糖非発酵グラム陰性桿菌（glucose n
on−fermentative gram−negative rods）に対し、抗菌
力が著しく強力であることを見出しているが、本発明化
合物は、その中間原料として有用な化合物である。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式中、Ｒは水素原子又はアルカノイル基を示す］で表
される化合物又はその塩。 - 【請求項２】一般式（II） ［式中、R1は水酸基の保護基（但し、R1がアルカノイル
基の場合は除く）を示す］で表される化合物又はその塩
の水酸基の保護基を除去し、次いで要すれば、アシル化
することを特徴とする 一般式（Ｉ） ［式中、Ｒは水素原子又はアルカノイル基を示す］で表
される化合物又はその塩の製造法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61269804A JPH0749420B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 新規６，７−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
| DE8787103970T DE3775798D1 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und antibakterielle mittel. |
| AT87103970T ATE71384T1 (de) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporinverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und antibakterielle mittel. |
| EP87103970A EP0238060B1 (en) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
| CA000532358A CA1296012C (en) | 1986-03-19 | 1987-03-18 | 6,7-dihydroxy-isoquinoline derivatives |
| KR1019870002518A KR950001027B1 (ko) | 1986-03-19 | 1987-03-19 | 세팔로스포린 유도체의 제조 방법 |
| US07/029,903 US4782155A (en) | 1986-03-19 | 1987-03-25 | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
| KR1019940029965A KR950004702B1 (ko) | 1986-03-19 | 1994-11-15 | 이소퀴놀린 유도체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61269804A JPH0749420B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | 新規６，７−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61059368 Division | 1986-03-19 | 1986-03-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62234068A JPS62234068A (ja) | 1987-10-14 |
| JPH0749420B2 true JPH0749420B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=17477402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61269804A Expired - Lifetime JPH0749420B2 (ja) | 1986-03-19 | 1986-11-14 | 新規６，７−ジ置換イソキノリン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749420B2 (ja) |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP61269804A patent/JPH0749420B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓ要約番号８７：１２８１７８ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62234068A (ja) | 1987-10-14 |
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