JPH0749312A - 赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方法及びその装置 - Google Patents
赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方法及びその装置Info
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- JPH0749312A JPH0749312A JP9865791A JP9865791A JPH0749312A JP H0749312 A JPH0749312 A JP H0749312A JP 9865791 A JP9865791 A JP 9865791A JP 9865791 A JP9865791 A JP 9865791A JP H0749312 A JPH0749312 A JP H0749312A
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- axis
- holder
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 同一規格のウエーハを再度セットした際に、
ミクロンオーダーで同一位置に位置決めさせる。 【構成】 試料ウエーハを三点で固定するＸ軸用当接面
部と、Ｙ軸用当接面部と、これら双方に向け押圧する押
圧手段とを備え、Ｘ軸とＹ軸に基づいて赤外吸収測定を
行うとともに、同一の試料ウエーハの再度セット後のＸ
軸とＹ軸を決定し、先のＸ軸とＹ軸に一致させる修正演
算を行ない、これに基づいて再度赤外吸収測定を行わし
める。
ミクロンオーダーで同一位置に位置決めさせる。 【構成】 試料ウエーハを三点で固定するＸ軸用当接面
部と、Ｙ軸用当接面部と、これら双方に向け押圧する押
圧手段とを備え、Ｘ軸とＹ軸に基づいて赤外吸収測定を
行うとともに、同一の試料ウエーハの再度セット後のＸ
軸とＹ軸を決定し、先のＸ軸とＹ軸に一致させる修正演
算を行ない、これに基づいて再度赤外吸収測定を行わし
める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外吸収測定する際に
ステージ上にセットされるウエーハの位置決め方法及び
その装置に関する。
ステージ上にセットされるウエーハの位置決め方法及び
その装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】赤外吸収測定装置は、シリコンウエーハ
上の異物の赤外吸収測定及びシリコン結晶中の不純物濃
度を測定するものであり、図６に示すように、ＦＴ−Ｉ
Ｒ本体１、赤外顕微鏡部２、検出器３を備え、試料たる
ウエーハは、ステージ４上に載置されて測定が行われ
る。
上の異物の赤外吸収測定及びシリコン結晶中の不純物濃
度を測定するものであり、図６に示すように、ＦＴ−Ｉ
Ｒ本体１、赤外顕微鏡部２、検出器３を備え、試料たる
ウエーハは、ステージ４上に載置されて測定が行われ
る。
【０００３】ステージ４は、通常は図７に示すように、
ウエーハ５を載置するリング状ホルダー６を備えてい
る。なお、８は透孔である。
ウエーハ５を載置するリング状ホルダー６を備えてい
る。なお、８は透孔である。
【０００４】そして、この種の赤外吸収測定装置に於て
は、ステージの移動は所謂マニュアル移動によりなさ
れ、測定始点までマニュアルにて行った後、一定範囲を
一定ピッチで自動移動するものであった。
は、ステージの移動は所謂マニュアル移動によりなさ
れ、測定始点までマニュアルにて行った後、一定範囲を
一定ピッチで自動移動するものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ウエーハ等の試料は、
熱処理等の処理前と処理後に赤外吸収測定が行われて、
これらの測定結果を比較評価したり、また、同一形状の
ウエーハを各別に濃度比較を行ったりするものである
が、従来の赤外吸収測定装置に於ては、ウエーハの大体
の位置決めを行うことができても、μオーダーでの同一
位置の測定は困難であった。
熱処理等の処理前と処理後に赤外吸収測定が行われて、
これらの測定結果を比較評価したり、また、同一形状の
ウエーハを各別に濃度比較を行ったりするものである
が、従来の赤外吸収測定装置に於ては、ウエーハの大体
の位置決めを行うことができても、μオーダーでの同一
位置の測定は困難であった。
【０００６】すなわち、従来は、目視でウエーハをマニ
ュアル移動しているため、測定始点を厳密且つ規則的に
定めることができず、いわんや目ではっきり確認できる
ものがウエーハ上に存しない場合は、マニュアル移動す
らも行い得ないものであった。
ュアル移動しているため、測定始点を厳密且つ規則的に
定めることができず、いわんや目ではっきり確認できる
ものがウエーハ上に存しない場合は、マニュアル移動す
らも行い得ないものであった。
【０００７】そこで、本発明は、ウエーハの測定に際
し、位置決めを確実に行うことができ、ひいては位置決
めの自動化に適用可能なウエーハの位置決め方法及びそ
の装置を提案するものである。
し、位置決めを確実に行うことができ、ひいては位置決
めの自動化に適用可能なウエーハの位置決め方法及びそ
の装置を提案するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ステージ上に試料ウエーハを載置し、当
該ウエーハのオリエンテーションフラットに沿った仮想
線と、この仮想線に直交し前記ウエーハの周面と接する
仮想線とをＸ、Ｙ軸となし、このＸ、Ｙ軸を読み取って
当該ウエーハ固有の第１の座標軸を決定し、この座標軸
に基づいて試料ウエーハの赤外吸収測定を行う赤外吸収
測定装置に於るウエーハの位置決め方法を第１の発明と
し、ステージ上に試料ウエーハを載置し、赤外顕微鏡部
により試料ウエーハの赤外吸収測定を行う赤外吸収測定
装置に於て、試料ウエーハのオリエンテーションフラッ
トが当接するＹ軸用の当接面部と、前記当接面部に対し
直角の位相をなしウエーハの周面部が当接するＸ軸用の
当接面部とを有するホルダーと、前記ホルダーを着脱可
能に固定し該ホルダーをＸ、Ｙ軸方向に移動可能とした
ステージと、前記ホルダー又はステージに設けられ、ホ
ルダーの前記Ｘ、Ｙ双方の当接面部に対しウエーハを押
圧付勢する押圧手段と、前記赤外顕微鏡部に設けられた
Ｘ、Ｙ軸スケールと、前記Ｘ、Ｙ軸スケールの位置を電
気的に読み取る位置読み取り装置と、を備えた赤外吸収
測定に於るウエーハの位置決め装置を第２の発明とする
ものである。
に、本発明は、ステージ上に試料ウエーハを載置し、当
該ウエーハのオリエンテーションフラットに沿った仮想
線と、この仮想線に直交し前記ウエーハの周面と接する
仮想線とをＸ、Ｙ軸となし、このＸ、Ｙ軸を読み取って
当該ウエーハ固有の第１の座標軸を決定し、この座標軸
に基づいて試料ウエーハの赤外吸収測定を行う赤外吸収
測定装置に於るウエーハの位置決め方法を第１の発明と
し、ステージ上に試料ウエーハを載置し、赤外顕微鏡部
により試料ウエーハの赤外吸収測定を行う赤外吸収測定
装置に於て、試料ウエーハのオリエンテーションフラッ
トが当接するＹ軸用の当接面部と、前記当接面部に対し
直角の位相をなしウエーハの周面部が当接するＸ軸用の
当接面部とを有するホルダーと、前記ホルダーを着脱可
能に固定し該ホルダーをＸ、Ｙ軸方向に移動可能とした
ステージと、前記ホルダー又はステージに設けられ、ホ
ルダーの前記Ｘ、Ｙ双方の当接面部に対しウエーハを押
圧付勢する押圧手段と、前記赤外顕微鏡部に設けられた
Ｘ、Ｙ軸スケールと、前記Ｘ、Ｙ軸スケールの位置を電
気的に読み取る位置読み取り装置と、を備えた赤外吸収
測定に於るウエーハの位置決め装置を第２の発明とする
ものである。
【０００９】
【作用】ウエーハをセットするには、ステージ上に所定
の規格のホルダーをセットし、このホルダーにウエーハ
をセットする。ウエーハは、ホルダーのＸ軸側の当接面
部と、Ｙ軸側の当接面部と、押圧手段とにより固定され
る。そして、ウエーハのオリエンテーションフラットに
沿った仮想線をＹ軸とし、このＹ軸に直交する仮想線を
Ｘ軸として、当該ウエーハ固有の座標軸が決定され、ウ
エーハの赤外吸収測定が行われる。従って、一度ウエー
ハを取り外しても、確実に再度、目的の座標点にて測定
でき、ミクロンオーダーの微小領域での再測定が可能と
なる。
の規格のホルダーをセットし、このホルダーにウエーハ
をセットする。ウエーハは、ホルダーのＸ軸側の当接面
部と、Ｙ軸側の当接面部と、押圧手段とにより固定され
る。そして、ウエーハのオリエンテーションフラットに
沿った仮想線をＹ軸とし、このＹ軸に直交する仮想線を
Ｘ軸として、当該ウエーハ固有の座標軸が決定され、ウ
エーハの赤外吸収測定が行われる。従って、一度ウエー
ハを取り外しても、確実に再度、目的の座標点にて測定
でき、ミクロンオーダーの微小領域での再測定が可能と
なる。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係る試料ウエーハ
の位置決め装置を示すもので、ステージ４には、ホルダ
ー６と、このホルダー６の位置微調整をなす調整具７が
備えてある。
の位置決め装置を示すもので、ステージ４には、ホルダ
ー６と、このホルダー６の位置微調整をなす調整具７が
備えてある。
【００１１】そして、本実施例の位置決め装置には、ホ
ルダー６にウエーハ５が載置されたとき、当該ウエーハ
５のオリエンテーションフラット５ａが当接する当接面
部１１と、この当接面部１１に対し直角の位相を有しウ
エーハ５の周面部５ｂが当接する当接面部１２を設けて
いる。これらの当接面部１１、１２は、この実施例では
矩形状の突出部１０、１０により構成されている。そし
て、当接面部１１はＹ軸を、もう一方の当接面部１２は
Ｘ軸を、それぞれ担うこととなる。
ルダー６にウエーハ５が載置されたとき、当該ウエーハ
５のオリエンテーションフラット５ａが当接する当接面
部１１と、この当接面部１１に対し直角の位相を有しウ
エーハ５の周面部５ｂが当接する当接面部１２を設けて
いる。これらの当接面部１１、１２は、この実施例では
矩形状の突出部１０、１０により構成されている。そし
て、当接面部１１はＹ軸を、もう一方の当接面部１２は
Ｘ軸を、それぞれ担うこととなる。
【００１２】１３は押圧具で、ステージ４上に設けられ
ている。押圧具１３は、ばね材１４の先端に押圧子１５
を設けて構成され、この押圧子１５によってウエーハ５
を当接面部１１、１２に対し押圧付勢している。また、
押圧具１３は、一対の長溝１６、１６を具備しており、
この長溝１６、１６を、ステージ４上のピン４ａとロー
レット付きつまみ４ｂに係合させ、つまみ４ｂをまわし
て固定することにより、押圧具１３の固着がなされる。
また、ホルダー６には、ウエーハ５が透孔８より落下す
るのを阻止するための突片６ａが複数箇所形成されてい
る。更に、上記位置決め装置には、ステージ４自体のＸ
軸およびＹ軸ををホルダー６のＸ軸およびＹ軸にそれぞ
れマニュアル操作により平行に調節する調節装置が設け
られている。
ている。押圧具１３は、ばね材１４の先端に押圧子１５
を設けて構成され、この押圧子１５によってウエーハ５
を当接面部１１、１２に対し押圧付勢している。また、
押圧具１３は、一対の長溝１６、１６を具備しており、
この長溝１６、１６を、ステージ４上のピン４ａとロー
レット付きつまみ４ｂに係合させ、つまみ４ｂをまわし
て固定することにより、押圧具１３の固着がなされる。
また、ホルダー６には、ウエーハ５が透孔８より落下す
るのを阻止するための突片６ａが複数箇所形成されてい
る。更に、上記位置決め装置には、ステージ４自体のＸ
軸およびＹ軸ををホルダー６のＸ軸およびＹ軸にそれぞ
れマニュアル操作により平行に調節する調節装置が設け
られている。
【００１３】上記位置決め装置は、図２に示すように、
従来の赤外吸収測定装置に組込まれており、上記ステー
ジ４にはステージ４をＸ軸やＹ軸方向に自動的に移動さ
せるＸＹステージコントローラ１０が連結されている。
このコントローラ１０にはコンピュータ１１が接続さ
れ、コンピュータ１１にはＣＲＴ１２およびプリンタ１
３が接続されている。
従来の赤外吸収測定装置に組込まれており、上記ステー
ジ４にはステージ４をＸ軸やＹ軸方向に自動的に移動さ
せるＸＹステージコントローラ１０が連結されている。
このコントローラ１０にはコンピュータ１１が接続さ
れ、コンピュータ１１にはＣＲＴ１２およびプリンタ１
３が接続されている。
【００１４】次に、このような位置決め装置により試料
ウエーハを位置決めし、赤外吸収測定する方法について
説明する。
ウエーハを位置決めし、赤外吸収測定する方法について
説明する。
【００１５】まず、図５に於て、ステージ自体の座標系
Ｘ，Ｙを決定し、そのＸ，Ｙ座標系の中に各ウエーハサ
イズの原点（ｅ，ｆ；４”Φウエーハの原点）、（ｃ，
ｄ；５”Φウエーハの原点）、（ａ，ｂ；６”Φウエー
ハの原点）を決定することによって、それぞれの座標系
（ｘ，ｙ；４”Φウエーハの座標系）、（ｘ’，ｙ’；
５”Φウエーハの座標系）、（ｘ”，ｙ”；６”Φウエ
ーハの座標系）を決定することができる。すなわち、
Ｘ，Ｙ座標系の内で、（ｅ，ｆ）、（ｃ，ｄ）、（ａ，
ｂ）をそれぞれの原点としてやることによって、各々の
座標系を決定する。このとき、Ｘとｘ，ｘ’，ｘ”及び
Ｙとｙ，ｙ’，ｙ”はそれぞれ平行とする。この操作に
より、ウエーハの座標系をステージ座標上で設定するこ
とができる。
Ｘ，Ｙを決定し、そのＸ，Ｙ座標系の中に各ウエーハサ
イズの原点（ｅ，ｆ；４”Φウエーハの原点）、（ｃ，
ｄ；５”Φウエーハの原点）、（ａ，ｂ；６”Φウエー
ハの原点）を決定することによって、それぞれの座標系
（ｘ，ｙ；４”Φウエーハの座標系）、（ｘ’，ｙ’；
５”Φウエーハの座標系）、（ｘ”，ｙ”；６”Φウエ
ーハの座標系）を決定することができる。すなわち、
Ｘ，Ｙ座標系の内で、（ｅ，ｆ）、（ｃ，ｄ）、（ａ，
ｂ）をそれぞれの原点としてやることによって、各々の
座標系を決定する。このとき、Ｘとｘ，ｘ’，ｘ”及び
Ｙとｙ，ｙ’，ｙ”はそれぞれ平行とする。この操作に
より、ウエーハの座標系をステージ座標上で設定するこ
とができる。
【００１６】次に、簡単な測定方法を図３に示すフロー
チャートを参照して説明する。まず、ステップ１に於て
測定ウエーハインチサイズのホルダーをセットし、ステ
ップ２でウエーハをセットし、ステップ３に於て各イン
チサイズの座標系を選択する。その後、ステップ４に於
て、調整装置をマニュアル操作によりウエーハと座標系
を一致するように調整する。次に、各々の原点（ｅ，
ｆ）、（ｃ，ｄ）、（ａ，ｂ）を基に、任意の位置Ａ
（ｘ，ｙ）を指定してあげることにより測定したい任意
の位置への自動移動が可能となる。
チャートを参照して説明する。まず、ステップ１に於て
測定ウエーハインチサイズのホルダーをセットし、ステ
ップ２でウエーハをセットし、ステップ３に於て各イン
チサイズの座標系を選択する。その後、ステップ４に於
て、調整装置をマニュアル操作によりウエーハと座標系
を一致するように調整する。次に、各々の原点（ｅ，
ｆ）、（ｃ，ｄ）、（ａ，ｂ）を基に、任意の位置Ａ
（ｘ，ｙ）を指定してあげることにより測定したい任意
の位置への自動移動が可能となる。
【００１７】従って、ウエーハを再度セットした場合で
も、目標の測定点を一致させることが可能となり、ミク
ロンオーダーの微粒子及び微小領域の赤外吸収分析をス
ムーズに行うことができる。
も、目標の測定点を一致させることが可能となり、ミク
ロンオーダーの微粒子及び微小領域の赤外吸収分析をス
ムーズに行うことができる。
【００１８】図４は、本発明の他の実施例に係るもの
で、この例の場合は、前例よりも小径のウエーハ５を載
置固定するためのホルダー６を示している。前例と同一
の構成要素には共通の符号を付している。なお、図１及
び図４において、ホルダー６をＸ及びＹ軸方向に移動可
能に設けておき、そのＸ、Ｙ軸上の位置をエンコーダ等
の任意な計測具により測定可能に設けておけば、Ｘ、Ｙ
軸上の位置を把握し、且つ分析目的位置に於る赤外吸収
の測定を定型的に行うことができる。
で、この例の場合は、前例よりも小径のウエーハ５を載
置固定するためのホルダー６を示している。前例と同一
の構成要素には共通の符号を付している。なお、図１及
び図４において、ホルダー６をＸ及びＹ軸方向に移動可
能に設けておき、そのＸ、Ｙ軸上の位置をエンコーダ等
の任意な計測具により測定可能に設けておけば、Ｘ、Ｙ
軸上の位置を把握し、且つ分析目的位置に於る赤外吸収
の測定を定型的に行うことができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｘ軸用およびＹ軸用当接面部と押圧手段によりウエーハ
が固定されるので、確実に且つ着脱容易に固定できる。
また、ウエーハの周面の一部が当接するオリエンテーシ
ョンフラットに沿う仮想線Ｘ軸およびこれに直交する仮
想線Ｙ軸に基づいて、ウエーハ上の測定点が決定され
る。従って、再度セットした場合でも同一測定点で測定
でき、ミクロンオーダーの微小領域の分析をスムースに
行える上、サイズの異なるウエーハをセットした場合で
も同様な修正により試料ホルダーのみを交換することで
対応することが可能となった。
Ｘ軸用およびＹ軸用当接面部と押圧手段によりウエーハ
が固定されるので、確実に且つ着脱容易に固定できる。
また、ウエーハの周面の一部が当接するオリエンテーシ
ョンフラットに沿う仮想線Ｘ軸およびこれに直交する仮
想線Ｙ軸に基づいて、ウエーハ上の測定点が決定され
る。従って、再度セットした場合でも同一測定点で測定
でき、ミクロンオーダーの微小領域の分析をスムースに
行える上、サイズの異なるウエーハをセットした場合で
も同様な修正により試料ホルダーのみを交換することで
対応することが可能となった。
【図１】本発明の一実施例に係る位置決め装置の平面図
である。
である。
【図２】赤外吸収測定装置の概略縦断面図である。
【図３】測定フローチャートである。
【図４】本発明の他の実施例に係る平面図である。
【図５】本発明のその他の実施例に係り、異なる規格の
場合の修正処理の説明図である。
場合の修正処理の説明図である。
【図６】従来例に係り、赤外吸収測定装置の概略断面図
である。
である。
【図７】位置決め装置の平面図である。
４ ステージ ５ ウエーハ ６ ホルダー １１、１２ 当接面部 １３ 押圧具 １４ ばね材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北川 信行 佐賀県杵島郡江北町大字上小田2201番地 九州電子金属株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 ステージ上に試料ウエーハを載置し、当
該ウエーハのオリエンテーションフラットに沿った仮想
線と、この仮想線に直交し前記ウエーハの周面と接する
仮想線とをＸ、Ｙ軸となし、このＸ、Ｙ軸を読み取って
当該ウエーハ固有の第１の座標軸を決定し、この座標軸
に基づいて試料ウエーハの赤外吸収測定を行うことを特
徴とする赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方
法。 - 【請求項２】 ステージ上に試料ウエーハを載置し、赤
外顕微鏡部により試料ウエーハの赤外吸収測定を行う赤
外吸収測定装置に於て、 試料ウエーハのオリエンテーションフラットが当接する
Ｙ軸用の当接面部と、前記当接面部に対し直角の位相を
なしウエーハの周面部が当接するＸ軸用の当接面部とを
有するホルダーと、 前記ホルダーを着脱可能に固定し該ホルダーをＸ、Ｙ軸
方向に移動可能としたステージと、 前記ホルダー又はステージに設けられ、ホルダーの前記
Ｘ、Ｙ双方の当接面部に対しウエーハを押圧付勢する押
圧手段と、 前記赤外顕微鏡部に設けられたＸ、Ｙ軸スケールと、 前記Ｘ、Ｙ軸スケールの位置を電気的に読み取る位置読
み取り装置と、を備えたことを特徴とする赤外吸収測定
に於るウエーハの位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9865791A JPH0749312A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9865791A JPH0749312A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0749312A true JPH0749312A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=14225587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9865791A Pending JPH0749312A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 赤外吸収測定装置に於るウエーハの位置決め方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749312A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100403322B1 (ko) * | 1996-06-24 | 2004-05-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 제조방법 및 그에 사용되는 노광장치 |
| JP2006041436A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | サセプタ、気相成長装置、エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP9865791A patent/JPH0749312A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100403322B1 (ko) * | 1996-06-24 | 2004-05-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 제조방법 및 그에 사용되는 노광장치 |
| JP2006041436A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | サセプタ、気相成長装置、エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ |
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