JPH0746442B2 - 光学情報記録媒体 - Google Patents
光学情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH0746442B2 JPH0746442B2 JP61153116A JP15311686A JPH0746442B2 JP H0746442 B2 JPH0746442 B2 JP H0746442B2 JP 61153116 A JP61153116 A JP 61153116A JP 15311686 A JP15311686 A JP 15311686A JP H0746442 B2 JPH0746442 B2 JP H0746442B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- reflective layer
- recording medium
- optical information
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザー光線を用いた情報記録再生装置に用
いる記録媒体として例えば光ディスク、とりわけ書き換
え可能な光ディスクに関し、その書き換え特性を向上さ
せる構成を提供する。
いる記録媒体として例えば光ディスク、とりわけ書き換
え可能な光ディスクに関し、その書き換え特性を向上さ
せる構成を提供する。
従来の技術 光ディスク等の光学情報記録媒体において記録層を薄く
する一つの流れがある。その狙いは、主として記録部の
熱容量を下げて記録・消去に必要なエネルギーを低減さ
せる（高感度化）ことであり、同時に光の干渉効果を効
果的に利用して記録前後の反射光又は透過光の変化量を
大きくし、大きい信号（高S/N化）ということである。
もちろん、記録層をただ薄くするだけでは、かえって記
録層における光吸収効率が低下して感度は下がってしま
う。そこで、例えば1965年にドーバー社から発行された
ヘブンズの著書「固体薄膜の光学的性質」P69に記載の
マトリックス法等により記録層における光吸収効率を高
める工夫がなされている。具体例として、例えば公開特
特許公報昭57−11839号には、基板上にAu,Al等の光反射
係数の高い金属薄膜を反射層として設け、その上にカル
コゲン化物合金薄膜から成る記録層、アクリル樹脂等よ
り成る被覆層を施した構成、又更に反射層と記録層との
間に、干渉効果を最大限にすべく光の行路長を調整する
ための透明な挿間層を追加した構成が示されてい 。こ
れらの構成においては各層の光学定数をベースに各層の
膜厚が厳密に決定されることになる。
する一つの流れがある。その狙いは、主として記録部の
熱容量を下げて記録・消去に必要なエネルギーを低減さ
せる（高感度化）ことであり、同時に光の干渉効果を効
果的に利用して記録前後の反射光又は透過光の変化量を
大きくし、大きい信号（高S/N化）ということである。
もちろん、記録層をただ薄くするだけでは、かえって記
録層における光吸収効率が低下して感度は下がってしま
う。そこで、例えば1965年にドーバー社から発行された
ヘブンズの著書「固体薄膜の光学的性質」P69に記載の
マトリックス法等により記録層における光吸収効率を高
める工夫がなされている。具体例として、例えば公開特
特許公報昭57−11839号には、基板上にAu,Al等の光反射
係数の高い金属薄膜を反射層として設け、その上にカル
コゲン化物合金薄膜から成る記録層、アクリル樹脂等よ
り成る被覆層を施した構成、又更に反射層と記録層との
間に、干渉効果を最大限にすべく光の行路長を調整する
ための透明な挿間層を追加した構成が示されてい 。こ
れらの構成においては各層の光学定数をベースに各層の
膜厚が厳密に決定されることになる。
発明が解決しようとする問題点 上記記録媒体において、記録層としてカルコゲン化物合
金薄膜、反射層としてAu又はAlを適用し、書き換え型の
光ディスクを構成した場合、十分高い光吸収効率が得ら
れるにもかかわらず期待されるほどの高感度が得られな
いことがわかった。
金薄膜、反射層としてAu又はAlを適用し、書き換え型の
光ディスクを構成した場合、十分高い光吸収効率が得ら
れるにもかかわらず期待されるほどの高感度が得られな
いことがわかった。
カルコゲン化物合金等において発現される結晶相とアモ
ルファス相との間の可逆的相変態は光照射による熱的プ
ロセスで生じる。このうちアモルファス相を結晶化する
過程においては、漸時、結晶化温度以上に保つ必要があ
るが、上記構造の場合、光照射によって生じた熱は主に
反射層を伝って容易に周囲に拡散する。このためエネル
ギーロスが大きく高感度が得られない。即ち、これまで
のところ、前述の光学情報記録媒体においては構造に伴
う利点が十分生かされず、その欠点が強調されることに
なっていた。
ルファス相との間の可逆的相変態は光照射による熱的プ
ロセスで生じる。このうちアモルファス相を結晶化する
過程においては、漸時、結晶化温度以上に保つ必要があ
るが、上記構造の場合、光照射によって生じた熱は主に
反射層を伝って容易に周囲に拡散する。このためエネル
ギーロスが大きく高感度が得られない。即ち、これまで
のところ、前述の光学情報記録媒体においては構造に伴
う利点が十分生かされず、その欠点が強調されることに
なっていた。
問題点を解決するための手段 本発明は、上述の問題を解決する手段として反射層の材
料に注目し、高い反射係数に主眼をおいた従来のAu,Al
等の薄膜を、光反射係数はAu,Alに比べてやや低いが熱
拡散率がはるかに小さいNi−Cr合金を主成分とする薄膜
に置きかえ、その組成、膜厚を適当に選定したものであ
る。
料に注目し、高い反射係数に主眼をおいた従来のAu,Al
等の薄膜を、光反射係数はAu,Alに比べてやや低いが熱
拡散率がはるかに小さいNi−Cr合金を主成分とする薄膜
に置きかえ、その組成、膜厚を適当に選定したものであ
る。
作 用 光学情報記録媒体の反射層を熱拡散率の小さいNi−Cr合
金にすることにより、光照射の際、照射部での周囲への
熱拡散が小さくなって記録層を効率よく昇温させること
が可能となる。このため記録層においてアモルファス相
を結晶化させるのに必要な光パワー密度が小さくてす
み、高感度の光学情報記録媒体が得られる。
金にすることにより、光照射の際、照射部での周囲への
熱拡散が小さくなって記録層を効率よく昇温させること
が可能となる。このため記録層においてアモルファス相
を結晶化させるのに必要な光パワー密度が小さくてす
み、高感度の光学情報記録媒体が得られる。
実施例 以下、図面に基いて本発明を説明する。
第１図に本発明の光学情報記録媒体の一構成例を示す。
図中（ａ）は、保護層６側から光を入射させる例であ
り、（ｂ）は基材１側から光を入射させる例である。
図中（ａ）は、保護層６側から光を入射させる例であ
り、（ｂ）は基材１側から光を入射させる例である。
基本的には（ａ），（ｂ）は全く同じ構成であるが基板
と各層の位置関係及び基板に形成する順番の違いが基板
及び各層の材質、製法等に多少の差を生ずる。
と各層の位置関係及び基板に形成する順番の違いが基板
及び各層の材質、製法等に多少の差を生ずる。
基板１としてはPMMA,ポリカーボネイト等の樹脂又はガ
ラス等、通常光ディスクに用いられる表面の平滑なもの
を用いるが、（ａ）タイプの場合は基板が透明である必
要はなく表面の平滑な金属板、セラミックス板を用いる
ことができる。光ディスクの場合、通常基材平面７はレ
ーザ光線を導くために、スパイラル又は同心円状のトラ
ックで覆われている。
ラス等、通常光ディスクに用いられる表面の平滑なもの
を用いるが、（ａ）タイプの場合は基板が透明である必
要はなく表面の平滑な金属板、セラミックス板を用いる
ことができる。光ディスクの場合、通常基材平面７はレ
ーザ光線を導くために、スパイラル又は同心円状のトラ
ックで覆われている。
２は反射層であって本発明においてはNi,Crを主成分と
する合金薄膜を用いる。
する合金薄膜を用いる。
透明体層3,5としてはSiO2,Al2O3,ZnS,ZnSe等の誘電体層
を用いる。これらの層の働きは、１つには記録層４が記
録，消去を繰り返した時に破壊されるのを防止すること
であり、１つには前述した多重干渉効果を利用して記録
層４への光吸収効率を高めることであり、同時に記録前
後の反射光、又は透過光の変化量を大きくして高いS/N
を得ることである。
を用いる。これらの層の働きは、１つには記録層４が記
録，消去を繰り返した時に破壊されるのを防止すること
であり、１つには前述した多重干渉効果を利用して記録
層４への光吸収効率を高めることであり、同時に記録前
後の反射光、又は透過光の変化量を大きくして高いS/N
を得ることである。
記録層４の材料としては、書き換え型の場合は、例えば
Te,Seをベースとするカルコゲン化物合金等、結晶相と
アモルファス相との間で熱的プロセスに基づき可逆的な
構造変化をおこす物質、或いは光磁気記録媒体に用いら
れる希土類元素と遷移金属元素とをベースとする物質等
を用いることができる。
Te,Seをベースとするカルコゲン化物合金等、結晶相と
アモルファス相との間で熱的プロセスに基づき可逆的な
構造変化をおこす物質、或いは光磁気記録媒体に用いら
れる希土類元素と遷移金属元素とをベースとする物質等
を用いることができる。
保護層６は樹脂をスピンコートしたり、基材と同様の樹
脂板、金属板等を接着剤を用いてはり合わせることによ
って形成する。
脂板、金属板等を接着剤を用いてはり合わせることによ
って形成する。
各層の膜厚はマトリックス法により厳密に決定すること
ができる。ただし場合によっては２つの透明体層3,5の
うち片方、又は両方の無い構成も考えられる。これは記
録層４の材料系によっても異なるが、この構成を例えば
いわゆる追加記録型の書き換えないタイプの記録媒体に
適用する場合には前述の破壊防止効果はさほど必要でな
く、光学的な効率のみを考えればよい。この場合、特に
光の入射側の透明体層５は必ずしも必要ではない。さら
には同図（ｃ）に示すように２組の記録媒体を反射層２
を内側にして接着層８により貼り合わせることにより両
面から記録，再生，消去可能な構造が用いられる。
ができる。ただし場合によっては２つの透明体層3,5の
うち片方、又は両方の無い構成も考えられる。これは記
録層４の材料系によっても異なるが、この構成を例えば
いわゆる追加記録型の書き換えないタイプの記録媒体に
適用する場合には前述の破壊防止効果はさほど必要でな
く、光学的な効率のみを考えればよい。この場合、特に
光の入射側の透明体層５は必ずしも必要ではない。さら
には同図（ｃ）に示すように２組の記録媒体を反射層２
を内側にして接着層８により貼り合わせることにより両
面から記録，再生，消去可能な構造が用いられる。
反射層２は記録層における入射光線の吸収効率を高める
とともに、他の層の屈折率ｎ、消衰係数ｋ、膜厚ｄと関
連して光学情報記録媒体の設計範囲を拡大することにあ
る。さらに熱拡散率の小さい反射層を選ぶことにより、
光照射に対する光学情報記録媒体の感度が向上する。こ
れは光照射部での周囲への熱の逃げが主に反射層を伝わ
ってなされることによる。反射層をニッケル−クロム合
金とすることにより、以前用いられていたAuからなる反
射層に比べて、光学情報記録媒体の感度が飛躍的に向上
することが実験的に確められた。
とともに、他の層の屈折率ｎ、消衰係数ｋ、膜厚ｄと関
連して光学情報記録媒体の設計範囲を拡大することにあ
る。さらに熱拡散率の小さい反射層を選ぶことにより、
光照射に対する光学情報記録媒体の感度が向上する。こ
れは光照射部での周囲への熱の逃げが主に反射層を伝わ
ってなされることによる。反射層をニッケル−クロム合
金とすることにより、以前用いられていたAuからなる反
射層に比べて、光学情報記録媒体の感度が飛躍的に向上
することが実験的に確められた。
次に更に具体的な例をもって本発明を詳述する。
実施例１ 第２図に示す構成のテストピースを多数用意した。基材
として厚さ1.2mmのPMMA樹脂９、第１及び第２の誘電体
層としてZnS層10、記録層11として（Te65Ge20Se15）70S
b30の組成の化合物層を用い、反射層12はNi−（0,10,2
0,40,60,80,90,100）at％Cr及びAuを選んだ。さらにUV
樹脂13で、厚さ1.2mmPMMA樹脂の保護層14を貼り合せ
た。各層はそれぞれ１×10-5Torr以下の真空槽内で電子
ビーム蒸着法により形成した。記録層は４つのソースか
ら、反射層のうちニッケル−クロム合金は２つのソース
から、それぞれの成分の蒸着レートを制御しながら同時
蒸着して形成した。各層の膜厚は、記録，消去に用いる
レーザの波長λ（〜8300Å）と、各層の屈折率ｎとを基
準に選んだ。第１のZnS層の膜厚を５λ/16n（〜1050
Å）、記録層の膜厚を400Å、第２のZnS層の膜厚をλ/2
n（〜1680Å）、反射層の膜厚を200Å,400Å，及び600
Åとした。
として厚さ1.2mmのPMMA樹脂９、第１及び第２の誘電体
層としてZnS層10、記録層11として（Te65Ge20Se15）70S
b30の組成の化合物層を用い、反射層12はNi−（0,10,2
0,40,60,80,90,100）at％Cr及びAuを選んだ。さらにUV
樹脂13で、厚さ1.2mmPMMA樹脂の保護層14を貼り合せ
た。各層はそれぞれ１×10-5Torr以下の真空槽内で電子
ビーム蒸着法により形成した。記録層は４つのソースか
ら、反射層のうちニッケル−クロム合金は２つのソース
から、それぞれの成分の蒸着レートを制御しながら同時
蒸着して形成した。各層の膜厚は、記録，消去に用いる
レーザの波長λ（〜8300Å）と、各層の屈折率ｎとを基
準に選んだ。第１のZnS層の膜厚を５λ/16n（〜1050
Å）、記録層の膜厚を400Å、第２のZnS層の膜厚をλ/2
n（〜1680Å）、反射層の膜厚を200Å,400Å，及び600
Åとした。
蒸着により形成された記録膜はアモルファス状態であ
る。上記サンプルにレーザ光を照射すると、照射部で記
録層が加熱され、アモルファス→結晶の相変態がおこ
る。この時、レーザ光のパワーを一定にする相変化開始
に用いるレーザ光照射時間の長短で各サンプルの感度の
優劣を決ることができる。相変化が行ると記録膜の屈折
率ｎが変化するので、サンプルの反射率変化を観察する
ことにより、相変化開始点を知ることができる。各サン
プルに2mWのレーザ光を、照射時間を10n secから10u se
cまでかえて照射した。この時、相変化開始に要した照
射時間を図３に示す。この時、反射層の膜厚はそれぞれ
400Åである。Au反射層を用いたサンプルでは、反射層
の膜厚が200,400,600Åいづれの場合も、10μsecまでの
照射時間では、相変化はおこらなかった。
る。上記サンプルにレーザ光を照射すると、照射部で記
録層が加熱され、アモルファス→結晶の相変態がおこ
る。この時、レーザ光のパワーを一定にする相変化開始
に用いるレーザ光照射時間の長短で各サンプルの感度の
優劣を決ることができる。相変化が行ると記録膜の屈折
率ｎが変化するので、サンプルの反射率変化を観察する
ことにより、相変化開始点を知ることができる。各サン
プルに2mWのレーザ光を、照射時間を10n secから10u se
cまでかえて照射した。この時、相変化開始に要した照
射時間を図３に示す。この時、反射層の膜厚はそれぞれ
400Åである。Au反射層を用いたサンプルでは、反射層
の膜厚が200,400,600Åいづれの場合も、10μsecまでの
照射時間では、相変化はおこらなかった。
この実験結果を考察するにあたり、各反射層材料の熱的
及び光学的特性について述べる。
及び光学的特性について述べる。
表１に、Au,Ni,Cr及びNi−40at％Crの熱特性を示す（th
e TPRC Data Series.Vol 1＆４）。
e TPRC Data Series.Vol 1＆４）。
この表から明らかな様に、Auに比べてNi及びCrの熱拡散
率は1/4〜1/7と小さい。ニッケル・クロム合金になると
熱伝達率はさらに小さくなる。前述の実験の結果は、反
射層をニッケル−クロム合金、Ni,Cr,Auとした順に感度
が悪くなることを示しているが、これは、熱伝達率の小
さい反射層を選んだ時に高感度が得られるという予想と
一致する。実験結果から、ニッケル−クロム合金の組成
比は感度に対して幅広いマージンをもつことがわかる。
すなわち、Ni−（０−80）at％Crの組成範囲で感度向上
寄与の大きい反射層とすることができる。
率は1/4〜1/7と小さい。ニッケル・クロム合金になると
熱伝達率はさらに小さくなる。前述の実験の結果は、反
射層をニッケル−クロム合金、Ni,Cr,Auとした順に感度
が悪くなることを示しているが、これは、熱伝達率の小
さい反射層を選んだ時に高感度が得られるという予想と
一致する。実験結果から、ニッケル−クロム合金の組成
比は感度に対して幅広いマージンをもつことがわかる。
すなわち、Ni−（０−80）at％Crの組成範囲で感度向上
寄与の大きい反射層とすることができる。
次に光学的特性について述べる。あらかじめ、各層の屈
折率ｎ及び消衰係数ｋを実験的手法により求めておき、
これらの値と各膜厚を与えることにより、前述したサン
プルの各層における波長8300Åのレーザ光の吸収量を算
出した。記録層及び反射層以外の層ではｋ＝０なので吸
収はない。表２に計算に用いた各層のn,k、表３に計算
結果を示す。
折率ｎ及び消衰係数ｋを実験的手法により求めておき、
これらの値と各膜厚を与えることにより、前述したサン
プルの各層における波長8300Åのレーザ光の吸収量を算
出した。記録層及び反射層以外の層ではｋ＝０なので吸
収はない。表２に計算に用いた各層のn,k、表３に計算
結果を示す。
Au反射層の膜厚が200Å,400Å，……と厚くなるにつれ
て、記録層での吸収が大きくなる。これは反射層での反
射率が膜厚の増加に伴い大きくなることによる。Au反射
層の場合、600Åの膜厚で、記録層における吸収は飽和
値の99％に達する。いづれの膜厚にせよ、膜厚400ÅのN
i−40at％Cr反射層のサンプルよりも、記録層での吸収
が大きい。計算より反射層の反射率を高めることによ
り、記録層での吸収効率が高まることがわかるが、前述
の実験結果とあわせると、記録層での吸収効率を高める
だけではアモルファス→結晶の相変態感度を高めること
はできない。前述したように熱の逃げの律速となってい
る反射相の熱拡散率が重要である。熱の逃げという観点
から表３をみると、反射層における吸収効率に注目すべ
き点がある。すなわち、Au反射層では４％以下の吸収し
かないのが、Ni−40at％Cr反射層では34％の吸収があ
る。Cr量が20〜80at％となっても、この吸収効率はほと
んどかわらない。反射層での吸収が大きいと、光射照の
際、記録層と同時に反射層も昇温される。それ故、両層
の温度差があまり広がらないので記録層からの熱の逃げ
が小さく、効率より記録層が昇温され、結果として感度
が向上する。
て、記録層での吸収が大きくなる。これは反射層での反
射率が膜厚の増加に伴い大きくなることによる。Au反射
層の場合、600Åの膜厚で、記録層における吸収は飽和
値の99％に達する。いづれの膜厚にせよ、膜厚400ÅのN
i−40at％Cr反射層のサンプルよりも、記録層での吸収
が大きい。計算より反射層の反射率を高めることによ
り、記録層での吸収効率が高まることがわかるが、前述
の実験結果とあわせると、記録層での吸収効率を高める
だけではアモルファス→結晶の相変態感度を高めること
はできない。前述したように熱の逃げの律速となってい
る反射相の熱拡散率が重要である。熱の逃げという観点
から表３をみると、反射層における吸収効率に注目すべ
き点がある。すなわち、Au反射層では４％以下の吸収し
かないのが、Ni−40at％Cr反射層では34％の吸収があ
る。Cr量が20〜80at％となっても、この吸収効率はほと
んどかわらない。反射層での吸収が大きいと、光射照の
際、記録層と同時に反射層も昇温される。それ故、両層
の温度差があまり広がらないので記録層からの熱の逃げ
が小さく、効率より記録層が昇温され、結果として感度
が向上する。
以上述べたように、相変化の感度は、反射層での熱の逃
げやすさに最も強く依存する。ニッケル−クロム合金を
反射層に用いることにより、熱的・光学的に優れた反射
層が得られることが、実験及び計算によって示された。
げやすさに最も強く依存する。ニッケル−クロム合金を
反射層に用いることにより、熱的・光学的に優れた反射
層が得られることが、実験及び計算によって示された。
実施例２ 一般に金属は酸化物になると、熱拡散率が小さくなるこ
とが知られている。ニッケル−クロム合金についても同
様の事が期待できる。光学情報記録媒体の反射層として
ニッケル−クロム合金を選んだ時、酸素を含むと熱拡散
率が小さくなるのであれば、光照射による記録層でのア
モルファス→結晶の相変態感度が更に向上することが期
待できる。このことを実験で確めた。前述の構成のサン
プルを用意した。この時、ニッケル−クロム合金反射層
を蒸着によって成膜する際、真空槽内の酸素分圧を種々
にかえた。得られたサンプルに2mWのレーザ光を照射
し、相変化開始に要した時照時間を調べると同時に、反
射層中のNi,Cr,Oの組成比をオージェ分析によって求め
たた。この結果を表４に示す。ニッケル−クロムの組成
比はNi−40at％Crに統一してある。表４に示すようにNi
−40at％Crを反射層材料とした際、反射層中に取り込ま
れる酸素量が多くなると、光学情報記録媒体の感度が向
上することが確認された。しかし、反射層中に含まれる
酸素の量が50％にもなると、反射層での反射率が極端に
低下するため、反射層本来の働きを失い感度が低下する
ことが確認された。
とが知られている。ニッケル−クロム合金についても同
様の事が期待できる。光学情報記録媒体の反射層として
ニッケル−クロム合金を選んだ時、酸素を含むと熱拡散
率が小さくなるのであれば、光照射による記録層でのア
モルファス→結晶の相変態感度が更に向上することが期
待できる。このことを実験で確めた。前述の構成のサン
プルを用意した。この時、ニッケル−クロム合金反射層
を蒸着によって成膜する際、真空槽内の酸素分圧を種々
にかえた。得られたサンプルに2mWのレーザ光を照射
し、相変化開始に要した時照時間を調べると同時に、反
射層中のNi,Cr,Oの組成比をオージェ分析によって求め
たた。この結果を表４に示す。ニッケル−クロムの組成
比はNi−40at％Crに統一してある。表４に示すようにNi
−40at％Crを反射層材料とした際、反射層中に取り込ま
れる酸素量が多くなると、光学情報記録媒体の感度が向
上することが確認された。しかし、反射層中に含まれる
酸素の量が50％にもなると、反射層での反射率が極端に
低下するため、反射層本来の働きを失い感度が低下する
ことが確認された。
実施例３ 前述したように多層構造からなる光学情報記録媒体の各
層の膜厚はマトリックス法により厳密に選定できる。反
射層は高い反射率をもち記録層での光吸収効率を高める
ことが要求されるので、ある程度以上の膜厚が必要とな
る。第４図にZnS基板上に形成したNi−40at％Cr合金の
膜厚と反射率の関係を示す。Ni−40at％cr合金の膜厚が
500Åを超えると反射率は飽和して変化しない。いま一
つ反射層の熱拡散率が他層のそれと比べて著しく小さ
く、反射層において熱拡散が律速していることを考える
と、反射層の膜厚を必要以上に厚くすることは光照射部
での熱拡散を大きくし、かえって昇温効率が下がること
が容易に予想される。前述の構成のサンプルを用い、Ni
−40at％Cr合金を反射層材料に選んだ時、反射層の膜厚
とサンプルの感度の関係を調べた。この結果を表５に示
す。予想されるように感度が高いのはNi−40at％Cr合金
反射層の膜厚が200Å〜600Åという限られた範囲にある
ことが確められた。同様の実験により、Ni−Cr合金の組
成がNi−（20〜80at％）Crの間では組成に関係なくNi−
Cr反射層の膜厚が200〜600Åの時に高感度が得られるこ
とが確認された。
層の膜厚はマトリックス法により厳密に選定できる。反
射層は高い反射率をもち記録層での光吸収効率を高める
ことが要求されるので、ある程度以上の膜厚が必要とな
る。第４図にZnS基板上に形成したNi−40at％Cr合金の
膜厚と反射率の関係を示す。Ni−40at％cr合金の膜厚が
500Åを超えると反射率は飽和して変化しない。いま一
つ反射層の熱拡散率が他層のそれと比べて著しく小さ
く、反射層において熱拡散が律速していることを考える
と、反射層の膜厚を必要以上に厚くすることは光照射部
での熱拡散を大きくし、かえって昇温効率が下がること
が容易に予想される。前述の構成のサンプルを用い、Ni
−40at％Cr合金を反射層材料に選んだ時、反射層の膜厚
とサンプルの感度の関係を調べた。この結果を表５に示
す。予想されるように感度が高いのはNi−40at％Cr合金
反射層の膜厚が200Å〜600Åという限られた範囲にある
ことが確められた。同様の実験により、Ni−Cr合金の組
成がNi−（20〜80at％）Crの間では組成に関係なくNi−
Cr反射層の膜厚が200〜600Åの時に高感度が得られるこ
とが確認された。
実施例４ 厚さ0.2mmのガラス基板上に厚さ400ÅのAl及びNi−（2
0,40,60,80）at％Cr膜を電子ビーム蒸着法により形成し
た。このテストピースを80℃−湿度80％の雰囲気中に保
持した時の反射率変化を分光器を用いて測定した。耐湿
試験前と30日間の耐湿試験後の反射率変化は、Alの場合
30％以上であるのに対し、Ni−Cr合金は何れも１％以下
であった。
0,40,60,80）at％Cr膜を電子ビーム蒸着法により形成し
た。このテストピースを80℃−湿度80％の雰囲気中に保
持した時の反射率変化を分光器を用いて測定した。耐湿
試験前と30日間の耐湿試験後の反射率変化は、Alの場合
30％以上であるのに対し、Ni−Cr合金は何れも１％以下
であった。
発明の効果 以上述べたように、本発明によって従来の光学情報記録
媒体よりも大巾に記録感度が高く、かつ耐湿性に優れた
可逆的光学情報記録媒体が提供された。
媒体よりも大巾に記録感度が高く、かつ耐湿性に優れた
可逆的光学情報記録媒体が提供された。
この効果に基づき、例えば画像処理用のコンピューター
用ファイル・メモリー等への応用が可能となった。
用ファイル・メモリー等への応用が可能となった。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の光学情報記録媒体の基本構成を示す断
面図、第２図は本発明の光学情報記録媒体の感度測定用
テストサンプルの断面図、第３図は前記テストサンプル
を用いて、2mWのレーザ光を照射した時、記録層におけ
るアモルファス→結晶相変態に要する照射時間と反射層
材料の関係を示す図、第４図はZnS基板上に形成したNi
−40at％Cr合金の膜厚と反射率の関係を示す図である。 １……基板、２……反射層、３……透明体層、４……記
録層、６……保護層。
面図、第２図は本発明の光学情報記録媒体の感度測定用
テストサンプルの断面図、第３図は前記テストサンプル
を用いて、2mWのレーザ光を照射した時、記録層におけ
るアモルファス→結晶相変態に要する照射時間と反射層
材料の関係を示す図、第４図はZnS基板上に形成したNi
−40at％Cr合金の膜厚と反射率の関係を示す図である。 １……基板、２……反射層、３……透明体層、４……記
録層、６……保護層。
Claims (4)
- 【請求項１】光を吸収して結晶相とアモルファス相との
間で可逆的に相変態を起こす記録材料層を具備した記録
層と、前記記録層への光吸収効率を高めるための光反射
層、及び光の光路長を調節し、記録前後の反射光の変化
量を大きくするための透明体層とを基板上に備え、前記
反射層が、Ni−Cr合金を主成分とする薄膜で形成するこ
とを特徴とする光学情報記録媒体。 - 【請求項２】Ni−Cr合金薄膜の組成をNi100−xCrxとし
た時、ｘを20≦ｘ≦80の範囲に選ぶことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の光学情報記録媒体。 - 【請求項３】Ni−Cr合金薄膜中に含まれる酸素量をyat
％とした時、ｙを０≦ｙ≦50の範囲に選ぶことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の光学情報記録媒体。 - 【請求項４】Ni−Cr合金薄膜の膜厚を200〜600Åの範囲
に選ぶことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
学情報記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61153116A JPH0746442B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光学情報記録媒体 |
| US07/066,229 US4839883A (en) | 1986-06-30 | 1987-06-25 | Optical information recording medium |
| EP87109353A EP0251286B1 (en) | 1986-06-30 | 1987-06-29 | Optical information recording medium |
| DE8787109353T DE3769862D1 (de) | 1986-06-30 | 1987-06-29 | Optischer informationsaufzeichnungstraeger. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61153116A JPH0746442B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光学情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639040A JPS639040A (ja) | 1988-01-14 |
| JPH0746442B2 true JPH0746442B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15555318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61153116A Expired - Fee Related JPH0746442B2 (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 光学情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0746442B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE139052T1 (de) * | 1987-08-08 | 1996-06-15 | Mitsui Petrochemical Ind | Photomagnetisches speichermedium |
| JP2797359B2 (ja) * | 1989-01-09 | 1998-09-17 | 東レ株式会社 | 光記録媒体 |
| JP2827545B2 (ja) * | 1990-03-14 | 1998-11-25 | 松下電器産業株式会社 | 光学情報の記録方法 |
| JP3180813B2 (ja) * | 1990-08-20 | 2001-06-25 | 日本電気株式会社 | 光学的情報記録媒体 |
| JP2812181B2 (ja) * | 1993-06-17 | 1998-10-22 | 日本電気株式会社 | 光学的情報記録媒体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62239347A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-20 | Konika Corp | 光磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP61153116A patent/JPH0746442B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS639040A (ja) | 1988-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3292890B2 (ja) | 光反射放熱用材料を用いた相変化形光記録媒体 | |
| JP3913014B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法ならびにその記録再生方法 | |
| TW200428382A (en) | Optical information recording medium | |
| JP2000322770A (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| US4922462A (en) | Reversible memory structure for optical reading and writing and which is capable of erasure | |
| US20060141202A1 (en) | Information recording medium and manufacturing method thereof | |
| TW567486B (en) | Rewritable optical information recording medium | |
| JPH04265787A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH0746442B2 (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JP2003323743A (ja) | 情報記録媒体とその製造方法 | |
| US4879205A (en) | Information storage medium and a method of manufacturing the same | |
| JP3313246B2 (ja) | 光学的情報記録媒体 | |
| JPS6358639A (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JPS63121142A (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JP3801612B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2650507B2 (ja) | 光学的情報記録用媒体 | |
| JP2001209970A (ja) | 情報記録媒体とその製造方法およびその記録再生方法 | |
| JPH11138996A (ja) | 記憶部材 | |
| RU2127915C1 (ru) | Носитель информации оптического запоминающего устройства | |
| JP2940176B2 (ja) | 光学記録媒体およびその記録再生方法 | |
| JP2001126312A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH0714206A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH10289478A (ja) | 光学式情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0679386B2 (ja) | 光学情報記録媒体 | |
| JPH11120614A (ja) | 記憶部材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |