JPH0744967Y2 - 蛍光ｘ線膜厚計 - Google Patents
蛍光ｘ線膜厚計Info
- Publication number
- JPH0744967Y2 JPH0744967Y2 JP1988150103U JP15010388U JPH0744967Y2 JP H0744967 Y2 JPH0744967 Y2 JP H0744967Y2 JP 1988150103 U JP1988150103 U JP 1988150103U JP 15010388 U JP15010388 U JP 15010388U JP H0744967 Y2 JPH0744967 Y2 JP H0744967Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- ray
- film thickness
- fluorescent
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、蛍光Ｘ線膜厚計に関する。
従来の蛍光Ｘ線膜厚計のシャッタ装置は、文字通りＸ線
通路を開閉して、コリメータから試料台へと向かうＸ線
を通過させ、または、遮断するもので、装置の校正には
無関係であった。
通路を開閉して、コリメータから試料台へと向かうＸ線
を通過させ、または、遮断するもので、装置の校正には
無関係であった。
〔考案が解決しようとする課題〕 したがって、定期的に装置の校正を行うことが必要であ
り、しかも、装置の校正時には、試料台上に校正板を置
いたり、試料台上の校正板の位置調整を必要とするなど
手間がかかっていた。
り、しかも、装置の校正時には、試料台上に校正板を置
いたり、試料台上の校正板の位置調整を必要とするなど
手間がかかっていた。
本考案は、上記の欠点を解消することを目的としてなさ
れたものである。
れたものである。
上記目的を達成するために、本考案が採用する主たる手
段は、 Ｘ線を発生するためのＸ線源と、Ｘ線が照射される試料
を載置する試料台と、試料より発生する蛍光Ｘ線を検出
する検出器、Ｘ線源と試料台との間に設けられたシャッ
タ装置、および、コリメータからなる蛍光Ｘ線膜厚計に
おいて、前記シャッタ装置は、シャッタ本体と、シャッ
タ本体に内蔵されるシャッタを膜厚測定状態と膜厚非測
定状態とに切換える切換機構とを有し、かつ、上記シャ
ッタは、校正板と、膜厚測定時にＸ線をコリメータへ導
く測定用導入孔と、膜厚非測定時にＸ線を上記校正板に
導く校正用導入孔とを具備したことを特徴とする蛍光Ｘ
線膜厚計である。
段は、 Ｘ線を発生するためのＸ線源と、Ｘ線が照射される試料
を載置する試料台と、試料より発生する蛍光Ｘ線を検出
する検出器、Ｘ線源と試料台との間に設けられたシャッ
タ装置、および、コリメータからなる蛍光Ｘ線膜厚計に
おいて、前記シャッタ装置は、シャッタ本体と、シャッ
タ本体に内蔵されるシャッタを膜厚測定状態と膜厚非測
定状態とに切換える切換機構とを有し、かつ、上記シャ
ッタは、校正板と、膜厚測定時にＸ線をコリメータへ導
く測定用導入孔と、膜厚非測定時にＸ線を上記校正板に
導く校正用導入孔とを具備したことを特徴とする蛍光Ｘ
線膜厚計である。
まず、シャッタを切換機構により、膜厚非測定に切換え
た場合について説明すると、この状態では、校正用導入
孔はＸ線を通過させる位置に向けられているため、Ｘ線
はこの孔を通り校正板を照射する。そして、校正板から
発生した蛍光Ｘ線は、校正用検出器窓より入り検出素子
に達し、校正情報を与える。このとき、コリメータへの
Ｘ線通路は遮断状態にある。つぎに、切換機構を膜厚測
定に切換えると、シャッタは、測定用導入孔をＸ線が通
過する位置に向けるため、Ｘ線は、この孔からコリメー
タを通り、試料台上の試料を照射し、試料から蛍光Ｘ線
を発生させる。この蛍光Ｘ線は、測定用窓を通して検出
素子に達し、測定情報を与える。
た場合について説明すると、この状態では、校正用導入
孔はＸ線を通過させる位置に向けられているため、Ｘ線
はこの孔を通り校正板を照射する。そして、校正板から
発生した蛍光Ｘ線は、校正用検出器窓より入り検出素子
に達し、校正情報を与える。このとき、コリメータへの
Ｘ線通路は遮断状態にある。つぎに、切換機構を膜厚測
定に切換えると、シャッタは、測定用導入孔をＸ線が通
過する位置に向けるため、Ｘ線は、この孔からコリメー
タを通り、試料台上の試料を照射し、試料から蛍光Ｘ線
を発生させる。この蛍光Ｘ線は、測定用窓を通して検出
素子に達し、測定情報を与える。
第１図は、蛍光Ｘ線膜厚計の概念図である。第２図は、
本考案の要部であるシャッタ装置で、第２図ａは膜厚非
測定状態時のＸ線軸を通る断面図である。第２図ｂは、
第２図ａにおけるＸ線軸を通り紙面に垂直な断面図であ
る。
本考案の要部であるシャッタ装置で、第２図ａは膜厚非
測定状態時のＸ線軸を通る断面図である。第２図ｂは、
第２図ａにおけるＸ線軸を通り紙面に垂直な断面図であ
る。
ここに、１はＸ線源、２はシャッタ装置、３は検出器、
４はコリメータ、５は試料台、1AはＸ線ビーム、2Aはシ
ャッタ本体、2Bは切換機構である揺動アクチュエータ、
2B1はその回転中心、2Cはシャッタ、2C1は測定用導入
孔、2C2は校正用導入孔、2Dは校正板、2Eはストッパ、2
Fは軸受、2Gは止め輪、2Hは軸受押さえ、2Iは止めね
じ、2JはＸ線漏洩防止用蓋、2Kは校正板から発生する蛍
光Ｘ線、2Lはシャッタ本体側に設けられている溝、３は
検出器、3Aは測定用窓、3Bは校正用窓、４はコリメータ
である。
４はコリメータ、５は試料台、1AはＸ線ビーム、2Aはシ
ャッタ本体、2Bは切換機構である揺動アクチュエータ、
2B1はその回転中心、2Cはシャッタ、2C1は測定用導入
孔、2C2は校正用導入孔、2Dは校正板、2Eはストッパ、2
Fは軸受、2Gは止め輪、2Hは軸受押さえ、2Iは止めね
じ、2JはＸ線漏洩防止用蓋、2Kは校正板から発生する蛍
光Ｘ線、2Lはシャッタ本体側に設けられている溝、３は
検出器、3Aは測定用窓、3Bは校正用窓、４はコリメータ
である。
次に、第２図ａ〜第２図ｂに基づき本考案によるシャッ
タ装置の機能について説明する。これらの図は、先に説
明したように膜厚非測定状態を示す図で、Ｘ線源１より
のＸ線ビーム1Aはシャッタ本体2Aに導かれ、シャッタ2C
の校正用導入孔2C2を通過し、校正板2Dを照射する。そ
して、そこから発生する蛍光Ｘ線2Kを検出器３の校正用
窓3Bより取り込み、装置の校正用情報を与える。この状
態のとき、測定用導入孔2C1はＸ線軸に直角の向きにあ
るため、Ｘ線は遮断状態にある。
タ装置の機能について説明する。これらの図は、先に説
明したように膜厚非測定状態を示す図で、Ｘ線源１より
のＸ線ビーム1Aはシャッタ本体2Aに導かれ、シャッタ2C
の校正用導入孔2C2を通過し、校正板2Dを照射する。そ
して、そこから発生する蛍光Ｘ線2Kを検出器３の校正用
窓3Bより取り込み、装置の校正用情報を与える。この状
態のとき、測定用導入孔2C1はＸ線軸に直角の向きにあ
るため、Ｘ線は遮断状態にある。
次に、膜厚測定に移るには、揺動アクチュエータ2Bを回
動させる。このとき、揺動アクチュエータ2Bに機械的に
結合されているシャッタも回動し、これに固定されてい
るストッパ2Eもシャッタ本体2Aに設けられている円弧上
の溝内を移動し90度回転すると、その終端に衝突し停止
する。そして、シャッタ内の測定用導入孔2C1はＸ線ビ
ームを受け入れる位置に位置決めされる。Ｘ線は測定用
導入孔2C1を通り、シャッタ本体下部に位置するコリメ
ータ４で試料膜厚測定に適当なＸ線照射面積を作り、試
料に到達して膜厚測定を行う。このとき、校正用導入孔
2C2はＸ線軸と直交しているためＸ線は遮断状態にあ
る。
動させる。このとき、揺動アクチュエータ2Bに機械的に
結合されているシャッタも回動し、これに固定されてい
るストッパ2Eもシャッタ本体2Aに設けられている円弧上
の溝内を移動し90度回転すると、その終端に衝突し停止
する。そして、シャッタ内の測定用導入孔2C1はＸ線ビ
ームを受け入れる位置に位置決めされる。Ｘ線は測定用
導入孔2C1を通り、シャッタ本体下部に位置するコリメ
ータ４で試料膜厚測定に適当なＸ線照射面積を作り、試
料に到達して膜厚測定を行う。このとき、校正用導入孔
2C2はＸ線軸と直交しているためＸ線は遮断状態にあ
る。
本考案は、以上の構成により、膜厚非測定時に試料への
Ｘ線を遮蔽するとともに、自動的に装置の校正用情報を
得られるので、従来行われていた定期的な装置の校正が
不要となる上に、しかも、装置の校正時に必要であった
試料台上に校正板を置いたり、試料台上の校正板の位置
調整などの手間を省くことができるので、操作性の良い
蛍光Ｘ線膜厚計を得ることができる。さらに、コリメー
タはシャッタ内に設けられていず、又シャッタを回転さ
せることにより測定用導入孔と校正用導入孔の位置を切
り換えればよいので余分なスペースをとらずコンパクト
にすることができる。
Ｘ線を遮蔽するとともに、自動的に装置の校正用情報を
得られるので、従来行われていた定期的な装置の校正が
不要となる上に、しかも、装置の校正時に必要であった
試料台上に校正板を置いたり、試料台上の校正板の位置
調整などの手間を省くことができるので、操作性の良い
蛍光Ｘ線膜厚計を得ることができる。さらに、コリメー
タはシャッタ内に設けられていず、又シャッタを回転さ
せることにより測定用導入孔と校正用導入孔の位置を切
り換えればよいので余分なスペースをとらずコンパクト
にすることができる。
第１図は本考案を説明するための蛍光Ｘ線膜厚計の概念
図、第２図は本考案の要部であるシャッタ装置の実施例
で、第２図ａは膜厚非測定状態におけるＸ線軸を通る断
面図、第２図ｂは第２図においてＸ線軸を通り紙面に垂
直な断面図である。 １……Ｘ線源 ２……シャッタ装置 ３……検出器 ４……コリメータ ５……試料台 1A……Ｘ線ビーム 2A……シャッタ本体 2B……揺動アクチュエータ（切換機構） 2B1……回転中心 2C……シャッタ 2C1……測定用導入孔 2C2……校正用導入孔 2D……校正板 2E……ストッパ 2F……軸受 2G……止め輪 2H……軸受押え 2I……止めねじ 2J……Ｘ線漏洩防止用蓋 2K……校正板から発生する蛍光Ｘ線 2L……シャッタ本体側に設けられている溝 ３……検出器 3A……測定用窓 3B……校正用窓 ４……コリメータ
図、第２図は本考案の要部であるシャッタ装置の実施例
で、第２図ａは膜厚非測定状態におけるＸ線軸を通る断
面図、第２図ｂは第２図においてＸ線軸を通り紙面に垂
直な断面図である。 １……Ｘ線源 ２……シャッタ装置 ３……検出器 ４……コリメータ ５……試料台 1A……Ｘ線ビーム 2A……シャッタ本体 2B……揺動アクチュエータ（切換機構） 2B1……回転中心 2C……シャッタ 2C1……測定用導入孔 2C2……校正用導入孔 2D……校正板 2E……ストッパ 2F……軸受 2G……止め輪 2H……軸受押え 2I……止めねじ 2J……Ｘ線漏洩防止用蓋 2K……校正板から発生する蛍光Ｘ線 2L……シャッタ本体側に設けられている溝 ３……検出器 3A……測定用窓 3B……校正用窓 ４……コリメータ
Claims (3)
- 【請求項１】Ｘ線を発生するためのＸ線源と、Ｘ線が照
射される試料を載置する試料台と、試料より発生する蛍
光Ｘ線を検出する検出器、Ｘ線源と試料台との間に設け
られたシャッタ装置、および、前記シャッタ装置下に設
けられるコリメータからなる蛍光Ｘ線膜厚計において、
前記シャッタ装置は、シャッタ本体と、シャッタ本体に
内蔵されるシャッタと、前記シャッタを第１の位置と第
２の位置とに前記シャッタを回転することによって回転
位置決めする切換機構とを有し、かつ、上記シャッタ
は、校正板と、前記第１の位置においてＸ線を前記コリ
メータに導く測定用導入孔と、前記第２の位置において
Ｘ線を上記校正板に導く校正用導入孔を具備したことを
特徴とする蛍光Ｘ線膜厚計。 - 【請求項２】前記測定用導入孔と前記校正用導入孔は交
差し、前記シャッタは、前記交差した領域を通りＸ線軸
に垂直な軸の回りに回転可能なことを特徴とする請求項
１記載の蛍光Ｘ線膜厚計。 - 【請求項３】前記校正板は、前記第２の位置において前
記Ｘ線が照射される時に、前記交差した領域より下方に
あることを特徴とする請求項２記載の蛍光Ｘ線膜厚計。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988150103U JPH0744967Y2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
| DE3937715A DE3937715A1 (de) | 1988-11-17 | 1989-11-13 | Mit roentgenstrahlfluoreszenz arbeitendes duennschicht-dickenmessgeraet |
| US07/436,874 US5060247A (en) | 1988-11-17 | 1989-11-15 | Fluorescent x-ray film thickness gauge |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988150103U JPH0744967Y2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0271207U JPH0271207U (ja) | 1990-05-30 |
| JPH0744967Y2 true JPH0744967Y2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=15489570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988150103U Expired - Lifetime JPH0744967Y2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5060247A (ja) |
| JP (1) | JPH0744967Y2 (ja) |
| DE (1) | DE3937715A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6345086B1 (en) * | 1999-09-14 | 2002-02-05 | Veeco Instruments Inc. | X-ray fluorescence system and method |
| US6787773B1 (en) | 2000-06-07 | 2004-09-07 | Kla-Tencor Corporation | Film thickness measurement using electron-beam induced x-ray microanalysis |
| EP1405060A2 (en) * | 2001-06-29 | 2004-04-07 | Panalytical B.V. | Device for and method of material analysis using a shutter comprising a calibration sample |
| US6664541B2 (en) | 2001-10-01 | 2003-12-16 | Kla Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for defect localization |
| US6801596B2 (en) | 2001-10-01 | 2004-10-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for void characterization |
| WO2003052398A1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-06-26 | Agresearch Limited | Calibration method and apparatus |
| US6810105B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-10-26 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for dishing and erosion characterization |
| FR2895792B1 (fr) * | 2005-12-29 | 2008-02-22 | Commissariat Energie Atomique | Mesure d'epaisseur de film(s) present(s) en couche mince sur un support echantillon |
| JP4468400B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2010-05-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置及び検査方法 |
| CN102089647B (zh) * | 2008-04-01 | 2014-03-12 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 光谱探测器的校准 |
| CN102284513A (zh) * | 2011-05-16 | 2011-12-21 | 清华大学 | 一种凸度仪用准直机构 |
| JP6305247B2 (ja) * | 2014-06-13 | 2018-04-04 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光ｘ線分析装置 |
| US11815480B2 (en) * | 2018-04-20 | 2023-11-14 | Outotec (Finland) Oy | X-ray fluorescence analyzer and a method for performing an x-ray fluorescence analysis |
| WO2020154368A1 (en) * | 2019-01-25 | 2020-07-30 | Allied Bioscience, Inc. | Analysis of antimicrobial coatings using xrf |
| US20240077437A1 (en) * | 2022-09-05 | 2024-03-07 | Bruker Technologies Ltd. | Monitoring properties of X-ray beam during X-ray analysis |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58184655U (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | Ｘ線自動較正装置 |
| JPS60127405A (ja) * | 1983-12-13 | 1985-07-08 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 螢光ｘ線膜厚計 |
| DE3731973A1 (de) * | 1987-09-23 | 1989-04-13 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Vorrichtung zur stabilisierung fuer roentgenfluoreszenzschichtdicken-messgeraete und verfahren hierzu |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP1988150103U patent/JPH0744967Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-13 DE DE3937715A patent/DE3937715A1/de not_active Withdrawn
- 1989-11-15 US US07/436,874 patent/US5060247A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5060247A (en) | 1991-10-22 |
| JPH0271207U (ja) | 1990-05-30 |
| DE3937715A1 (de) | 1990-05-23 |
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