JPH0741180B2 - 均一液滴生成装置 - Google Patents

均一液滴生成装置

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JPH0741180B2
JPH0741180B2 JP61019288A JP1928886A JPH0741180B2 JP H0741180 B2 JPH0741180 B2 JP H0741180B2 JP 61019288 A JP61019288 A JP 61019288A JP 1928886 A JP1928886 A JP 1928886A JP H0741180 B2 JPH0741180 B2 JP H0741180B2
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liquid
uniform
droplets
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正之 佐藤
芳夫 黒田
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NEC Corp
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NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高能率に均一液滴を生成する均一液滴生成装置
に関する。
〔従来の技術〕
従来の液滴生成装置は、高速空気流で吹きちぎったり、
高圧力を加えた液体をノズルから噴出させたり、液面に
超音波を集中させることにより、液滴を生成していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、従来の装置においては、生成される液滴
の粒径を均一にすることが不可能であった。すなわち、
いずれの場合も、液滴の大きさを規制するのは装置の機
械的形状、操作条件(圧力、温度等)および液体の物性
値(表面張力および粘性)であり、かなり広い粒度分布
とならざるを得なかった。
1本のノズルで均一液滴を生成することは、振動ノズル
法や交流電界法では可能であったが、1本のノズルだけ
では大量の液滴を生成することはできない。大量の液滴
を生成するために、複数個のノズルを用いると、従来の
方法では、ノズル毎に流量の制御が必要となり、均一液
滴生成はできなかった。
したがって本発明の目的は、均一な液滴を生成できる装
置を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば、円板または円筒面に複数個の穴を有す
る円筒からなる回転体と、前記回転体を回転させる駆動
手段と、前記回転体に液体を供給する給液管と、前記回
転体付近に設けられた電極と、前記電極に500V以上の交
流電圧またはパルス電圧を印加する電圧印加手段とを具
備することを特徴とする均一液滴生成装置を得ることが
できる。
〔発明の原理〕
スムーズに回転する円板に一定量の液体を供給すると、
円板周辺には一定間隔の噴出口が生じ、そこから生成さ
れる液滴あるいは連続液柱先端に交流または直流を重畳
した交流あるいはパルス状集中電界を作用させると、電
気的な表面張力と電気的な引力とにより、印加交流ある
いはパルスと同期して液滴が生成される。噴出口を物理
的に固定する(突起またはノズルを設ける)と、生成さ
れる液滴はまったく均一となる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例を示した図面を参照して説明す
る。
第1図を参照すると、本発明の第一の実施例は、円板1
と、円板1を回転させるモータ2と、円板1に液体5を
供給するパイプ8と、円板1付近に設けられた電極10
と、電極10に交流電圧またはパルス電圧を印加する高圧
交流電源11とを具備する。
円板1を駆動するモータ2およびシャフト部3はスリッ
プ端子4によって接地されている。液体5はケース6に
貯えられ、ポンプ7によりパイプ8を経て、円板1に供
給される。モータ2の駆動による円板1の回転によっ
て、液滴12は、第2図に示すように、放射状に一定間隔
を保ちながら放出される。余分の液体5はパイパスバル
ブ9を経てケース6に戻される。円板1の周辺には電極
10が設けられ、高圧交流電源11により高圧交流電圧また
はパルス電圧が印加されている。このため、円板1から
遠心力で飛出した液滴12は直径のバラツキがほとんどな
く、パイプ13により供給される捕集液14中に懸濁してい
る。捕集液14は、ドレイン15によって別の処理工程へ送
られる。
液体5の性質によってはこの装置全体を加熱または冷却
することも必要になる。たとえば、液体5に水または水
溶液を使用した場合、捕集液14には燈油に界面活性剤を
添加したものを使用することができる。
この液体5および捕集液14の選択により、たとえば均一
な粒径を持つマイクロカプセルや反応前駆体の製造に供
することもできる。
印加する交流電圧は、直流電圧を重畳してもよく、交流
は500V前後から55000V程度あるいはそれ以上、直流は0V
以上1000V前後あるいはそれ以上で、交流周波数は回転
数、粘度の組合せにも依存するが、5KHzから30KHz前後
で、粒径は100〜200μのものが得られる。
円板として、第3図に示すような周囲に規制的に突起16
を有する円板1′を用いれば、より安定した液滴を生成
できる。突起を設けることによって、液体の噴出口が固
定されると、噴出口1個当りの液体流量が決まり、一定
間間隔でちぎることにより均一液滴群が得られる。
第4図を参照すると、本発明の第二の実施例において
は、多数の穴(ノズル)21を規則的に明けた円筒22を回
転させ、パイプ8により供給された液体5は、穴21を通
過し、円筒22の表面から液滴12となって放出される。そ
れぞれ高圧電源11に接続されている電極10により粒子12
は均一の大きさで放出される。
第4図においては円筒22の回転軸に平行に(図面で上下
方向に)も多数の穴(ノズル)を設けたが、第5図に示
すように、高さを低くした円筒23の上下方向には1個の
ノズルを設けるようにしてもよい。
更に第6図を参照すると、突起24を持つ穴明き円筒23を
用い、突起24の先端から規則的に均一な粒径の液滴を生
成することもできる。
第7図を参照すると、本発明の第三の実施例は、本発明
をインクジェットプリンタに適用した例である。本発明
の第三の実施例によるインクジェットプリンタは、突起
付円板1′またはノズル付円筒23(回転体)と電極10と
高圧電源11とを有する均一液滴生成装置31と、インクタ
ンク32からポンプ33の駆動によって回転体内にインクを
供給するパイプ34と、回転体を収容するケース35と、ケ
ース35内に設けられた偏向電極36と、偏向電極36に制御
パルスを供給する制御パルス源37と、ケース35内に設け
られ、かつインクタンク32に連結された不要インク留め
38と、印字用紙を巻きつけるドラム39とを具備してい
る。
均一液滴生成装置31は、回転体の一回転に一回電極10近
傍で均一液滴が生成されるように、回転体の回転速度、
ノズルまたは突起の寸法、インクの粘度、パイプ34から
のインクの流量等の諸条件が決定される。
均一液滴生成装置31からの均一液滴は、偏向電極36間を
通ることにより、制御パルス源37からの制御によって偏
向され、ドラム39上の印字用紙に印字される。印字に使
用されなかった液滴は偏向電極36の偏向作用によってイ
ンク留め38に留められ、インクタンク32に戻される。
〔発明の効果〕
以上説明したとおり、本発明によれば、交流電圧を印加
しながら回転体表面から液滴を放出することにより均一
な液滴を高能率で生成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第一の実施例を示す断面図、第2図は
第一の実施例における回転体付近の拡大図、第3図は第
一の実施例における回転体の変形例を示す拡大図、第4
図は本発明の第二の実施例の部分断面図、第5図は第二
の実施例における回転体の変形例の断面図、第6図は第
二の実施例における回転体の他の変形例の斜視図、第7
図は本発明の第三の実施例を示す図である。 1……円板、2……モータ、3……シャフト部、4……
スリップ端子、5……液体、6……ケース、7……ポン
プ、8……パイプ、9……バルブ、10……電極、11……
高圧電源、12……インク液滴、13……パイプ、14……捕
集液、15……ドレイン、16……突起、21……穴(ノズ
ル)、22,23……円筒、24……突起、31……均一液滴生
成装置、32……インクタンク、33……ポンプ、34……パ
イプ、35……ケース、36……偏向電極、37……制御パル
ス源、38……不要インク留め、39……ドラム。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】円板または円筒面に複数個の穴を有する円
    筒からなる回転体と、前記回転体を回転させ一定間隔で
    液滴を放出させる駆動手段と、前記回転体に液体を供給
    する給液管と、前記回転体付近に設けられると共に前記
    液滴に対し電圧を印加する電極と、前記電極に500V以上
    の交流電圧またはパルス電圧を印加する電圧印加手段と
    を具備することを特徴とする均一液滴生成装置。
  2. 【請求項2】前記回転体が突起を有することを特徴とす
    る特許請求の範囲第(1)項記載の均一液滴生成装置。
  3. 【請求項3】前記回転体として歯車状の円板を用いるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の均一液
    滴生成装置。
  4. 【請求項4】前記円筒が複数個のノズルを有することを
    特徴とする特許請求の範囲だい(1)項記載の均一液滴
    生成装置。
  5. 【請求項5】前記電圧印加手段が、OV以上の直流電圧を
    前記交流電圧またはパルス電圧に重畳することを特徴と
    する特許請求の範囲第(1)項記載の均一液滴生成装
    置。
JP61019288A 1986-01-30 1986-01-30 均一液滴生成装置 Expired - Lifetime JPH0741180B2 (ja)

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JPS62176563A JPS62176563A (ja) 1987-08-03
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ID=11995254

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DE2713719C3 (de) * 1977-03-28 1980-09-04 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Einrichtung zum elektrostatischen Lackieren
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