JPH0741001Y2 - 自動現像機の定着液補充装置 - Google Patents
自動現像機の定着液補充装置Info
- Publication number
- JPH0741001Y2 JPH0741001Y2 JP1989111385U JP11138589U JPH0741001Y2 JP H0741001 Y2 JPH0741001 Y2 JP H0741001Y2 JP 1989111385 U JP1989111385 U JP 1989111385U JP 11138589 U JP11138589 U JP 11138589U JP H0741001 Y2 JPH0741001 Y2 JP H0741001Y2
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- JP
- Japan
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- fixing
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- liquid
- solution
- chemical liquid
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/395—Regeneration of photographic processing agents other than developers; Replenishers therefor
- G03C5/3958—Replenishment processes or compositions, i.e. addition of useful photographic processing agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
- G03D3/06—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
- G03D3/065—Liquid supply; Liquid circulation outside tanks replenishment or recovery apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 この考案は、例えば写真製版工程に適した高コントラス
ト用の自動現像機に用いられる定着液の補充装置に関す
るものである。
ト用の自動現像機に用いられる定着液の補充装置に関す
るものである。
《従来の技術》 近年、高コントラスト用の自動現像機では、高温・迅速
処理を可能にした、いわゆる、ラス現象と称する現像液
及び定着液が使用されるようになった。
処理を可能にした、いわゆる、ラス現象と称する現像液
及び定着液が使用されるようになった。
このような現像用補充液ないし定着用補充液は、複数種
の薬液（その中に希釈液も含む）を所定の比率で調合し
たものが用いられるが、調合後に補充する調合補充方式
よりも、各薬液を所要量ずつ別々に補充する分離補充方
式が採用されるようになった。
の薬液（その中に希釈液も含む）を所定の比率で調合し
たものが用いられるが、調合後に補充する調合補充方式
よりも、各薬液を所要量ずつ別々に補充する分離補充方
式が採用されるようになった。
それは例えば第３図に示すように、複数種の薬液A,B,と
水Ｃとをそれぞれ個別の定量ポンプPA・PB・PCで定量処
理槽２へ供給することにより、所定の調合比率で定量液
を補充するように構成されている。
水Ｃとをそれぞれ個別の定量ポンプPA・PB・PCで定量処
理槽２へ供給することにより、所定の調合比率で定量液
を補充するように構成されている。
この分離補充方式によれば、あらかじめ薬液を調合する
手間を省くことができ、また調合後の薬液の劣化がない
というメリットの他に水で希釈する場合には、水道管を
引いておけばその補充タンク11Cは省け、他の薬液の補
充タンク11A・11Bは小さいもので足りるので、調合補充
方式のような大きな補充液タンクが不要になる等、実用
上多大のメリットがあり、近年では分離補充方式がその
主流となっている。
手間を省くことができ、また調合後の薬液の劣化がない
というメリットの他に水で希釈する場合には、水道管を
引いておけばその補充タンク11Cは省け、他の薬液の補
充タンク11A・11Bは小さいもので足りるので、調合補充
方式のような大きな補充液タンクが不要になる等、実用
上多大のメリットがあり、近年では分離補充方式がその
主流となっている。
《考案が解決しようとする課題》 ところで、上記分離補充方式による定着液補充装置にお
いては、薬液の成分により定着処理槽２内の定着液（母
液）Ｆと薬液Ｂとが化学反応して、薬液Ｂの導入管12B
内に結晶が析出し、その導入口が詰まり、調合バランス
を損なうという問題があった。
いては、薬液の成分により定着処理槽２内の定着液（母
液）Ｆと薬液Ｂとが化学反応して、薬液Ｂの導入管12B
内に結晶が析出し、その導入口が詰まり、調合バランス
を損なうという問題があった。
また薬液Ｂの導入管12B端部を定着液面と接触しないよ
うに配置しても、定着液Ｆより発生するガスの影響で前
述した場合と同様に結晶が発生する。
うに配置しても、定着液Ｆより発生するガスの影響で前
述した場合と同様に結晶が発生する。
本発明はこのような点に着目してなされたもので、分離
補充方式を採る定着処理装置において、薬液Ｂの導入口
の詰まりを解消することにより、調合バランスを崩すこ
となく補充液を供給し得るようにすることを目的とす
る。
補充方式を採る定着処理装置において、薬液Ｂの導入口
の詰まりを解消することにより、調合バランスを崩すこ
となく補充液を供給し得るようにすることを目的とす
る。
《課題を解決するための手段》 上述の目的を達成するために、本発明は以下のように構
成される。
成される。
即ち、定着液と化学反応しても結晶を析出しない第１の
薬液と、定着液と化学反応して結晶を析出する第２の薬
液とを、それぞれ個別の定量ポンプにより定着処理槽へ
供給するとともに、水を定量ポンプまたは水道管により
定着処理槽へ供給することにより、所定の調合比率で定
着液を補充するようにした自動現像機の定着液補充装置
において、 定着処理槽内の定着液に臨ませて配置され、前記第１の
薬液を定着処理槽内へ供給する第１の薬液用の導入管
と、定着処理槽の一側上部に付設配置された薬液投入用
の隔離箱と、前記隔離箱内に臨ませて配置され、第２の
薬液と水とをそれぞれ当該隔離箱内へ供給する第２の薬
液用の導入管及び水用の導入管とを備え、隔離箱内の水
位を定着処理槽の水位より高くして、第２の薬液と水と
の混合液を定着処理槽内へオーバーフローさせることに
より供給することを特徴とする。
薬液と、定着液と化学反応して結晶を析出する第２の薬
液とを、それぞれ個別の定量ポンプにより定着処理槽へ
供給するとともに、水を定量ポンプまたは水道管により
定着処理槽へ供給することにより、所定の調合比率で定
着液を補充するようにした自動現像機の定着液補充装置
において、 定着処理槽内の定着液に臨ませて配置され、前記第１の
薬液を定着処理槽内へ供給する第１の薬液用の導入管
と、定着処理槽の一側上部に付設配置された薬液投入用
の隔離箱と、前記隔離箱内に臨ませて配置され、第２の
薬液と水とをそれぞれ当該隔離箱内へ供給する第２の薬
液用の導入管及び水用の導入管とを備え、隔離箱内の水
位を定着処理槽の水位より高くして、第２の薬液と水と
の混合液を定着処理槽内へオーバーフローさせることに
より供給することを特徴とする。
《作用》 本考案では、定着処理槽内の定着液と化学反応しても結
晶を析出しない第１の薬液用の導入管を定着処理槽内に
臨ませ、上記定着液と化学反応して結晶を析出する第２
の薬液用の導入管と水用の導入管とを隔離箱内に臨ませ
て隔離するとともに、第２の薬液を水で希釈してその混
合液を定着処理槽内へオーバーフローさせて供給するこ
とにより、第２の薬液用の導入管内に結晶が析出するの
を防ぐ。
晶を析出しない第１の薬液用の導入管を定着処理槽内に
臨ませ、上記定着液と化学反応して結晶を析出する第２
の薬液用の導入管と水用の導入管とを隔離箱内に臨ませ
て隔離するとともに、第２の薬液を水で希釈してその混
合液を定着処理槽内へオーバーフローさせて供給するこ
とにより、第２の薬液用の導入管内に結晶が析出するの
を防ぐ。
《実施例》 第１図は本考案に係る自動現像機の概要図、第２図はそ
の要部斜視図である。
の要部斜視図である。
この自動現像機は、現像処理槽１、定着処理槽２、水洗
処理槽３、及び乾燥処理槽４を備え、露光済みの感材を
搬送ローラ（図示せず）によって順次各処理槽１〜４内
へ送り込み、処理済みの感材をトレイ５へ排出するよう
に槽成されている。そして現像処理槽１及び定着処理槽
２には、それぞれ分離補充方式による現像液補充装置
（図示せず）及び定着液補充装置10が設けられ、あらか
じめ設定入力した調合比率に基づいて、各種薬液の補充
が行われるようになっている。
処理槽３、及び乾燥処理槽４を備え、露光済みの感材を
搬送ローラ（図示せず）によって順次各処理槽１〜４内
へ送り込み、処理済みの感材をトレイ５へ排出するよう
に槽成されている。そして現像処理槽１及び定着処理槽
２には、それぞれ分離補充方式による現像液補充装置
（図示せず）及び定着液補充装置10が設けられ、あらか
じめ設定入力した調合比率に基づいて、各種薬液の補充
が行われるようになっている。
即ち、定着液補充装置10は定着処理槽２内の定着液Ｆと
化学反応しても結晶を析出しない第１の薬液Ａ（以下、
単に薬液Ａという）と、上記定着液Ｆと化学反応して結
晶を析出する第２の薬液Ｂ（以下、単に薬液Ｂとい
う）、希釈液である水Ｃの各補充タンク11A〜11Cと、各
薬液等Ａ〜Ｃを定着処理槽２へ導入する導入管12A〜12C
と、各導入管に接続された各定量ポンプPA〜PCと、あら
かじめ設定入力した調合比率に基づいて定量ポンプPA〜
PCを駆動制御する制御手段13と、定着処理槽２内の一側
上部に付設配置された薬液Ｂ導入用の隔離箱15とを具備
して成る。
化学反応しても結晶を析出しない第１の薬液Ａ（以下、
単に薬液Ａという）と、上記定着液Ｆと化学反応して結
晶を析出する第２の薬液Ｂ（以下、単に薬液Ｂとい
う）、希釈液である水Ｃの各補充タンク11A〜11Cと、各
薬液等Ａ〜Ｃを定着処理槽２へ導入する導入管12A〜12C
と、各導入管に接続された各定量ポンプPA〜PCと、あら
かじめ設定入力した調合比率に基づいて定量ポンプPA〜
PCを駆動制御する制御手段13と、定着処理槽２内の一側
上部に付設配置された薬液Ｂ導入用の隔離箱15とを具備
して成る。
各定量ポンプPA〜PCは、例えばベローズポンプによって
構成され、単位時間内に一定の液量を給送し得るように
なっている。そして、駆動制御手段13は例えば調合比率
の設定部と、調合比率に基づいて各薬液等の補充量を計
算する演算部と、サンプリング周期を計時する計時手段
と、感材の処理量積算手段を具備して成り、サンプリン
グ周期内に処理された感材の量に応じて、薬液等Ａ・Ｂ
・Ｃを補充するよう、各定量ポンプPA〜PCを駆動制御す
るように構成されている。
構成され、単位時間内に一定の液量を給送し得るように
なっている。そして、駆動制御手段13は例えば調合比率
の設定部と、調合比率に基づいて各薬液等の補充量を計
算する演算部と、サンプリング周期を計時する計時手段
と、感材の処理量積算手段を具備して成り、サンプリン
グ周期内に処理された感材の量に応じて、薬液等Ａ・Ｂ
・Ｃを補充するよう、各定量ポンプPA〜PCを駆動制御す
るように構成されている。
上記隔離箱15は、例えば第２図に示すように、定着処理
槽２内の一側上部に付設配置され、一方の薬液Ａの導入
管12Aを定着処理槽２内に臨ませ、他方の薬液Ｂの導入
管12Bと、水Ｃの導入管12Cとを隔離箱15内に臨ませ、隔
離箱15内で薬液Ｂを薬品メーカー指定の希釈率（約数十
倍）に希釈し、その希釈液を隔離箱15よりオーバーフロ
ーさせて定着処理槽２内へ供給するように構成されてい
る。なおあらかじめ隔離箱15を上記希釈液で満たしてお
き、薬液Ｂと水Ｃの導入により順次オーバーフローさせ
ることは、言うまでもない。
槽２内の一側上部に付設配置され、一方の薬液Ａの導入
管12Aを定着処理槽２内に臨ませ、他方の薬液Ｂの導入
管12Bと、水Ｃの導入管12Cとを隔離箱15内に臨ませ、隔
離箱15内で薬液Ｂを薬品メーカー指定の希釈率（約数十
倍）に希釈し、その希釈液を隔離箱15よりオーバーフロ
ーさせて定着処理槽２内へ供給するように構成されてい
る。なおあらかじめ隔離箱15を上記希釈液で満たしてお
き、薬液Ｂと水Ｃの導入により順次オーバーフローさせ
ることは、言うまでもない。
第２図中符号16は、定着液Ｆの水位を隔離箱15の水位よ
り低く維持するためのオーバーフロー管である。これに
より、定着液Ｆの成分が薬液Ｂの導入管12B内に侵入す
るおそれはなく、結晶の析出により当該導入管が詰まる
おそれは解消する。
り低く維持するためのオーバーフロー管である。これに
より、定着液Ｆの成分が薬液Ｂの導入管12B内に侵入す
るおそれはなく、結晶の析出により当該導入管が詰まる
おそれは解消する。
上記実施例では各導入管12A・12B・12Cの端部を液中に
没するように配置したが、導入管12B以外の導入管の端
部は液面上にでていてもよい。
没するように配置したが、導入管12B以外の導入管の端
部は液面上にでていてもよい。
また上記実施例では隔離箱15を定着処理槽２内に付設配
置したが、これに限らず隔離箱15を定着処理槽の一側外
面に付設配置し、オーバーフロー用の連通口を介して上
記希釈液を定着処理槽２内へ流入させるようにしてもよ
い。また隔離箱15は必ずしも箱形に限るものではなく、
第１図示のように、隔離壁を定着処理槽２内に一体に形
成したものでもよい。
置したが、これに限らず隔離箱15を定着処理槽の一側外
面に付設配置し、オーバーフロー用の連通口を介して上
記希釈液を定着処理槽２内へ流入させるようにしてもよ
い。また隔離箱15は必ずしも箱形に限るものではなく、
第１図示のように、隔離壁を定着処理槽２内に一体に形
成したものでもよい。
さらに、希釈液である水Ｃの補充は、水道管を利用すれ
ばその補充タンク11Cを省くことができる。この場合に
は定量ポンプPCに代えて定量供給弁を用いればよい。
ばその補充タンク11Cを省くことができる。この場合に
は定量ポンプPCに代えて定量供給弁を用いればよい。
また、上記実施例では、薬液Ａ用の導入管12Aを直接定
着処理槽２内に臨ませるように配置したが、当該導入管
を12Aを間接的に定着処理槽２内に臨ませるようにして
もよい。即ち、薬液Ｂを供給する隔離箱とは別の隔離箱
を定着処理槽２内に設け、この隔離箱に薬液Ａ用の導入
管を12Aを臨ませて配置し、上記定着処理槽２内に当該
薬液Ａを間接的に供給するようにしてもよい。
着処理槽２内に臨ませるように配置したが、当該導入管
を12Aを間接的に定着処理槽２内に臨ませるようにして
もよい。即ち、薬液Ｂを供給する隔離箱とは別の隔離箱
を定着処理槽２内に設け、この隔離箱に薬液Ａ用の導入
管を12Aを臨ませて配置し、上記定着処理槽２内に当該
薬液Ａを間接的に供給するようにしてもよい。
《考案の効果》 以上の説明で明らかなように、本考案では定着処理槽内
の定着液と、定着処理槽内の定着液Ｆと化学反応して結
晶を析出する薬液Ｂの導入管を隔離箱を介して隔離する
とともに、その薬液Ｂを水で希釈して定着処理槽内へオ
ーバーフローさせるようにしたので、薬液Ｂの導入管内
に結晶が析出するのを防ぐことができる。従って、従来
例のように、当該導入口の目詰りにより、定着液の調合
バランスが損なわれる問題は解消する。
の定着液と、定着処理槽内の定着液Ｆと化学反応して結
晶を析出する薬液Ｂの導入管を隔離箱を介して隔離する
とともに、その薬液Ｂを水で希釈して定着処理槽内へオ
ーバーフローさせるようにしたので、薬液Ｂの導入管内
に結晶が析出するのを防ぐことができる。従って、従来
例のように、当該導入口の目詰りにより、定着液の調合
バランスが損なわれる問題は解消する。
第１図は本考案に係る自動現像機の概要図、第２図はそ
の要部の斜視図、第３図は従来例の概要図である。 Ａ……第１の薬液、Ｂ……第２の薬液、Ｃ……水、Ｆ…
…定着液（母液）、PA・PB・PC……定量ポンプ、２……
定着処理槽、10……定着液補充装置、12A……第１の薬
液用の導入管、12B……第２の薬液用の導入管、12C……
水用の導入管、15……隔離箱。
の要部の斜視図、第３図は従来例の概要図である。 Ａ……第１の薬液、Ｂ……第２の薬液、Ｃ……水、Ｆ…
…定着液（母液）、PA・PB・PC……定量ポンプ、２……
定着処理槽、10……定着液補充装置、12A……第１の薬
液用の導入管、12B……第２の薬液用の導入管、12C……
水用の導入管、15……隔離箱。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 戸川 仁志 京都府京都市南区久世築山町465番地の１ 大日本スクリーン製造株式会社久世工場 内 (72)考案者 三浦 伸明 京都府京都市南区久世築山町465番地の１ 大日本スクリーン製造株式会社久世工場 内
Claims (1)
- 【請求項１】定着液と化学反応しても結晶を析出しない
第１の薬液と、定着液と化学反応して結晶を析出する第
２の薬液とを、それぞれ個別の定量ポンプにより定着処
理槽へ供給するとともに、水を定量ポンプまたは水道管
により定着処理槽へ供給することにより、所定の調合比
率で定着液を補充するようにした自動現像機の定着液補
充装置において、 定着処理槽内の定着液に臨ませて配置され、前記第１の
薬液を定着処理槽内へ供給する第１の薬液用の導入管
と、 定着処理槽の一側上部に付設配置された薬液投入用の隔
離箱と、 前記隔離箱内に臨ませて配置され、第２の薬液と水とを
それぞれ当該隔離箱内へ供給する第２の薬液用の導入管
及び水用の導入管とを備え、 隔離箱内の水位を定着処理槽の水位より高くして、第２
の薬液と水との混合液を定着処理槽内へオーバーフロー
させることにより供給することを特徴とする自動現像機
の定着液補充装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989111385U JPH0741001Y2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 自動現像機の定着液補充装置 |
| US07/586,454 US5150142A (en) | 1989-09-21 | 1990-09-21 | Device for replenishing fixing solution employed in automatic processor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989111385U JPH0741001Y2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 自動現像機の定着液補充装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349547U JPH0349547U (ja) | 1991-05-15 |
| JPH0741001Y2 true JPH0741001Y2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=14559840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989111385U Expired - Lifetime JPH0741001Y2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 自動現像機の定着液補充装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5150142A (ja) |
| JP (1) | JPH0741001Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003080460A1 (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-02 | Graham Packaging Company, L. P. | Container with stackable base |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4165186A (en) * | 1976-11-15 | 1979-08-21 | Lyle J. Bricker | Photographic chemical mixing system |
-
1989
- 1989-09-21 JP JP1989111385U patent/JPH0741001Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-09-21 US US07/586,454 patent/US5150142A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5150142A (en) | 1992-09-22 |
| JPH0349547U (ja) | 1991-05-15 |
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