JPH0740097B2 - カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 - Google Patents
カイラルスメクチック液晶素子の製造方法Info
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- JPH0740097B2 JPH0740097B2 JP20274886A JP20274886A JPH0740097B2 JP H0740097 B2 JPH0740097 B2 JP H0740097B2 JP 20274886 A JP20274886 A JP 20274886A JP 20274886 A JP20274886 A JP 20274886A JP H0740097 B2 JPH0740097 B2 JP H0740097B2
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、液晶表示素子や液晶−光シャッターアレイ等
のカイラルスメクチック液晶素子の製造方法に関し、更
に詳しくは、液晶分子の初期配向状態を改善することに
より配向欠陥のない均一なモノドメインの液晶相を得、
表示ならびに駆動特性を改善したカラーフィルターを有
する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の製造方法
に関するものである。
のカイラルスメクチック液晶素子の製造方法に関し、更
に詳しくは、液晶分子の初期配向状態を改善することに
より配向欠陥のない均一なモノドメインの液晶相を得、
表示ならびに駆動特性を改善したカラーフィルターを有
する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の製造方法
に関するものである。
［従来の技術］ 従来の液晶素子としては、例えばエム・シャット（M.Sc
hadt）とダブリュー・ヘルフリッヒ（W.Helfrich）著
“アプライド・フィジックス・レターズ”（“Applied
Physics Letters"）第18巻、第４号（1971年２月15日発
行）、第127頁〜128頁の“ボルテージ・ディペンダント
・オプティカル・アクティビティー・オブ・ア・ツイス
テッド・ネマチック・リキッド・クリスタル（“Voltag
e Dependent Optical Activity of a Twisted Nematic
Liquid Crystal"）に示されたツイステッド・ネマチッ
ク（twisted nematic）液晶を用いたものが知られてい
る。このTN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極
構造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する
問題点があるため、画素数が制限されていた。
hadt）とダブリュー・ヘルフリッヒ（W.Helfrich）著
“アプライド・フィジックス・レターズ”（“Applied
Physics Letters"）第18巻、第４号（1971年２月15日発
行）、第127頁〜128頁の“ボルテージ・ディペンダント
・オプティカル・アクティビティー・オブ・ア・ツイス
テッド・ネマチック・リキッド・クリスタル（“Voltag
e Dependent Optical Activity of a Twisted Nematic
Liquid Crystal"）に示されたツイステッド・ネマチッ
ク（twisted nematic）液晶を用いたものが知られてい
る。このTN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極
構造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する
問題点があるため、画素数が制限されていた。
また、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
これらの問題点を解決するものとして、クラーク（Clar
k）等により米国特許第4,367,924号明細書で強誘電性液
晶素子が提案されている。
k）等により米国特許第4,367,924号明細書で強誘電性液
晶素子が提案されている。
第２図は強誘電性液晶の動作説明のために、セルの例を
模式的に描いたものである。21aと21bは、In2O3、SnO2
やITO（Indium Tin Oxide）等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板（ガラス板）であり、その間に複数の
液晶分子層22がガラス面に垂直になる様に配向したSmC
＊相またはSmH＊相の液晶が封入されている。太線で示
した線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
は、その分子に直交した方向に双極子モーメント
（Ｐ⊥）24を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせん
構造がほどけ、双極子モーメント（Ｐ⊥）24はすべて電
界方向に向くよう、液晶分子23の配向方向を変えること
ができる。液晶分子23は細長い形状を有しており、その
長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例え
ばガラス面の上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは容易に理解され
る。
模式的に描いたものである。21aと21bは、In2O3、SnO2
やITO（Indium Tin Oxide）等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板（ガラス板）であり、その間に複数の
液晶分子層22がガラス面に垂直になる様に配向したSmC
＊相またはSmH＊相の液晶が封入されている。太線で示
した線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
は、その分子に直交した方向に双極子モーメント
（Ｐ⊥）24を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせん
構造がほどけ、双極子モーメント（Ｐ⊥）24はすべて電
界方向に向くよう、液晶分子23の配向方向を変えること
ができる。液晶分子23は細長い形状を有しており、その
長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例え
ばガラス面の上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは容易に理解され
る。
本発明の強誘電性カイラルスメクチック液晶素子で好ま
しく用いられる液晶セルは、その厚さを充分に薄く（例
えば10μ以下）することができる。このように液晶相が
薄くなるにしたがい、第３図に示すように電界を印加し
ていない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ、非ら
せん構造となり、その双極子モーメントPa又はPbは上向
き（34a）又は下向き（34b）のどちらかの状態をとる。
このようなセルに、第３図に示す如く一定の閾値以上の
極性の異なる電界EaまたはEbを付与すると、双極子モー
メントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して上向
き34a又は、下向き34bと向きを変え、それに応じて液晶
分子は第一の安定状態33a、あるいは第二の安定状態33b
の何れか一方に配向する。
しく用いられる液晶セルは、その厚さを充分に薄く（例
えば10μ以下）することができる。このように液晶相が
薄くなるにしたがい、第３図に示すように電界を印加し
ていない状態でも液晶分子のらせん構造はほどけ、非ら
せん構造となり、その双極子モーメントPa又はPbは上向
き（34a）又は下向き（34b）のどちらかの状態をとる。
このようなセルに、第３図に示す如く一定の閾値以上の
極性の異なる電界EaまたはEbを付与すると、双極子モー
メントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して上向
き34a又は、下向き34bと向きを変え、それに応じて液晶
分子は第一の安定状態33a、あるいは第二の安定状態33b
の何れか一方に配向する。
このような強誘電性液晶を光学変調素子として用いるこ
との利点は、先に述べたが２つある。その第１は、応答
速度が極めて速いことであり、第２は液晶分子の配向が
双安定性を有することである。第２の点を、例えば第３
図によって更に説明すると、電界Eaを印加すると液晶分
子は第一の安定状態33aに配向するが、この状態は電界
を切っても安定である。又、逆向きの電界Ebを印加する
と、液晶分子は第二の安定状態33bに配向して、その分
子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこの状態に
留っている。また、与える電界Eaが一定の閾値を越えな
い限り、それぞれの配向状態にやはり維持されている。
このような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現さ
れるには、セルとしては出来るだけ薄い方が好ましい。
との利点は、先に述べたが２つある。その第１は、応答
速度が極めて速いことであり、第２は液晶分子の配向が
双安定性を有することである。第２の点を、例えば第３
図によって更に説明すると、電界Eaを印加すると液晶分
子は第一の安定状態33aに配向するが、この状態は電界
を切っても安定である。又、逆向きの電界Ebを印加する
と、液晶分子は第二の安定状態33bに配向して、その分
子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこの状態に
留っている。また、与える電界Eaが一定の閾値を越えな
い限り、それぞれの配向状態にやはり維持されている。
このような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現さ
れるには、セルとしては出来るだけ薄い方が好ましい。
この強誘電性液晶素子が所定の駆動特性を発揮するため
には、一対の平行基板間に配置される強誘電性液晶が、
電界の印加状態とは無関係に、上記２つの安定状態の間
での変換が効果的に起こるような分子配列状態にあるこ
とが必要である。例えばカイラルスメクティック相を有
する強誘電性液晶については、カイラルスメクティック
相の液晶分子層が基板面に対して垂直で、したがって液
晶分子軸が基板面にほぼ平行に配列した領域（モノドメ
イン）が形成される必要がある。しかしながら、これま
での強誘電性液晶素子においては、このようなモノドメ
イン構造を有する液晶の配向状態が、必ずしも満足に形
成されなかったために、充分な特性が得られなかった実
情である。
には、一対の平行基板間に配置される強誘電性液晶が、
電界の印加状態とは無関係に、上記２つの安定状態の間
での変換が効果的に起こるような分子配列状態にあるこ
とが必要である。例えばカイラルスメクティック相を有
する強誘電性液晶については、カイラルスメクティック
相の液晶分子層が基板面に対して垂直で、したがって液
晶分子軸が基板面にほぼ平行に配列した領域（モノドメ
イン）が形成される必要がある。しかしながら、これま
での強誘電性液晶素子においては、このようなモノドメ
イン構造を有する液晶の配向状態が、必ずしも満足に形
成されなかったために、充分な特性が得られなかった実
情である。
第４図は従来の強誘電性液晶素子の断面図を表わし、第
５図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状
態を表わす概略説明図である。
５図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状
態を表わす概略説明図である。
すなわち、第４図に示す従来の強誘電性液晶素子40は、
一対の平行基板41と42を有しており、基板41と42にはそ
れぞれマトリクス電極構造をなすストライプ状の透明電
極43と44が設けられている。
一対の平行基板41と42を有しており、基板41と42にはそ
れぞれマトリクス電極構造をなすストライプ状の透明電
極43と44が設けられている。
一般に、カラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の色素またはこれを含む層からなっているが、各
色素層の膜厚はその形成法にかかわらずそれぞれ異なる
ので、2000Å〜１μｍ程度の段差Ａが形成される。この
結果、降温過程を利用して配向制御を行うと、上述の段
差Ａが原因となって、たとえカラーフィルター層上に有
機樹脂層の保護膜48を１層設けたとしても、その段差Ａ
を境にして強誘電性液晶47に配向欠陥を生じることにな
る。また、この段差Ａが存在する基板41と42の上にそれ
ぞれ配向制御膜45と46を設けると、この配向制御膜にも
段差Ａに応じて形成された段差Ｃが画素のほぼ膜厚分で
生じ、上述の同様に強誘電性液晶47に配向欠陥を生じ
る。
（Ｂ）の色素またはこれを含む層からなっているが、各
色素層の膜厚はその形成法にかかわらずそれぞれ異なる
ので、2000Å〜１μｍ程度の段差Ａが形成される。この
結果、降温過程を利用して配向制御を行うと、上述の段
差Ａが原因となって、たとえカラーフィルター層上に有
機樹脂層の保護膜48を１層設けたとしても、その段差Ａ
を境にして強誘電性液晶47に配向欠陥を生じることにな
る。また、この段差Ａが存在する基板41と42の上にそれ
ぞれ配向制御膜45と46を設けると、この配向制御膜にも
段差Ａに応じて形成された段差Ｃが画素のほぼ膜厚分で
生じ、上述の同様に強誘電性液晶47に配向欠陥を生じ
る。
第５図は、上記強誘電性液晶素子をクロスニコルの偏光
顕微鏡で観察した時のスケッチで、図中の白線51は液晶
素子に使用したスペーサー（図示せず）のラインに対応
し、線52及び53は第４図の基板41上の段差Ｃに対応して
観察されている。また、図中の部分54は対向電極間には
さまれた強誘電性液晶である。偏光顕微鏡中に多数現出
した刃状線55は強誘電性液晶の配向欠陥を表わしてい
る。
顕微鏡で観察した時のスケッチで、図中の白線51は液晶
素子に使用したスペーサー（図示せず）のラインに対応
し、線52及び53は第４図の基板41上の段差Ｃに対応して
観察されている。また、図中の部分54は対向電極間には
さまれた強誘電性液晶である。偏光顕微鏡中に多数現出
した刃状線55は強誘電性液晶の配向欠陥を表わしてい
る。
この様に強誘電性液晶の接する面で1000Å以上の段差が
存在すると、その段差から配向欠陥を生じ、強誘電性液
晶のモノドメイン形成は阻害される。
存在すると、その段差から配向欠陥を生じ、強誘電性液
晶のモノドメイン形成は阻害される。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者等は、この様な基板上の段差が強誘電性液晶に
対する配向欠陥を発生させる原因となっていることを実
験により明らかにした。
対する配向欠陥を発生させる原因となっていることを実
験により明らかにした。
本発明の目的は、上記の配向欠陥の発生を防止し、強誘
電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効
果特性を充分に発揮することのできる強誘電性カイラル
スメクチック液晶素子の製造方法を提供することにあ
る。
電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効
果特性を充分に発揮することのできる強誘電性カイラル
スメクチック液晶素子の製造方法を提供することにあ
る。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者等は、とくに強誘電性液晶が等方相（高温状
態）より液晶相（低温状態）へ移行する降温過程におけ
る初期配向性に着目し、強誘電性液晶の双安定性に基づ
く素子の作動特性と液晶層のモノドメイン性を両立し得
る構造を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子
を見出したものである。
態）より液晶相（低温状態）へ移行する降温過程におけ
る初期配向性に着目し、強誘電性液晶の双安定性に基づ
く素子の作動特性と液晶層のモノドメイン性を両立し得
る構造を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子
を見出したものである。
本発明の方法により製造されるカイラルスメクチック液
晶素子は、このような知見に基づくものであり、より詳
しくは、液晶層と接する面に段差がなく、つまり液晶層
の膜厚に急激な変化を生じさせなくすることにより降温
過程における初期配向性を良好な状態とし、配向欠陥の
ないモノドメインを形成する点に特徴を有している。
晶素子は、このような知見に基づくものであり、より詳
しくは、液晶層と接する面に段差がなく、つまり液晶層
の膜厚に急激な変化を生じさせなくすることにより降温
過程における初期配向性を良好な状態とし、配向欠陥の
ないモノドメインを形成する点に特徴を有している。
すなわち、本発明は、一対の基板及びカイラルスメクチ
ック液晶を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメ
クチック液晶のらせん配列構造の形成が抑制されるのに
十分に小さく設定させてなる液晶素子の製造方法におい
て、少なくとも一方の基板上にカラーフィルター単位を
複数配置してカラーフィルター層を形成した後、該カラ
ーフィルター層上に低粘度樹脂を塗布してカラーフィル
ター単位間を埋めると共にカラーフィルター層の表面を
被覆する工程により第１の透明樹脂層を形成し、次いで
該第１の透明樹脂層の上に高粘度樹脂を塗布する工程に
より第２の透明樹脂層を形成することを特徴とするカイ
ラルスメクチック液晶素子の製造方法である。
ック液晶を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメ
クチック液晶のらせん配列構造の形成が抑制されるのに
十分に小さく設定させてなる液晶素子の製造方法におい
て、少なくとも一方の基板上にカラーフィルター単位を
複数配置してカラーフィルター層を形成した後、該カラ
ーフィルター層上に低粘度樹脂を塗布してカラーフィル
ター単位間を埋めると共にカラーフィルター層の表面を
被覆する工程により第１の透明樹脂層を形成し、次いで
該第１の透明樹脂層の上に高粘度樹脂を塗布する工程に
より第２の透明樹脂層を形成することを特徴とするカイ
ラルスメクチック液晶素子の製造方法である。
以下、本発明を図面に基ずき説明する。
第１図は本発明の方法により製造された強誘電性カイラ
ルスメクチック液晶素子の基本構成を示す断面図であ
る。第１図において、強誘電性液晶素子１はガラス板ま
たはプラスチック板などの透明板を用いた基板２と３を
有し、その間には強誘電性液晶４が挟持されている。各
基板２と３にはマトリクス電極構造を形成するストライ
プ状のパターン形状の透明電極５と６が配設され、この
透明電極の上には配向制御膜７及び８が形成されてい
る。Ｒ（赤）,G（緑）,B（青）の各カラーフィルター
は、所望の分光特性により各膜厚が設定され、ある程度
の段差をもって形成されている。
ルスメクチック液晶素子の基本構成を示す断面図であ
る。第１図において、強誘電性液晶素子１はガラス板ま
たはプラスチック板などの透明板を用いた基板２と３を
有し、その間には強誘電性液晶４が挟持されている。各
基板２と３にはマトリクス電極構造を形成するストライ
プ状のパターン形状の透明電極５と６が配設され、この
透明電極の上には配向制御膜７及び８が形成されてい
る。Ｒ（赤）,G（緑）,B（青）の各カラーフィルター
は、所望の分光特性により各膜厚が設定され、ある程度
の段差をもって形成されている。
一方、必要に応じては、各カラーフィルター画素間隙に
遮光層11が形成される。
遮光層11が形成される。
また、少なくとも一方の基板上にカラーフィルター単位
を複数配置してカラーフィルター層を形成し、該カラー
フィルター単位間に低粘度樹脂から形成された第１の透
明樹脂層を設けると共にカラーフィルター層の上に該第
１の透明樹脂層を設け、該第１の透明樹脂層の上に高粘
度樹脂から形成された第２の透明樹脂層を設けてなる。
すなわち、カラーフィルターの少なくとも隣接部には、
本発明の低粘度樹脂から形成され画素間段差の平坦化層
である第１の透明樹脂層９が設けられ、その上に高粘度
樹脂から形成され平坦化層およびカラーフィルターの保
護層である第２の透明樹脂層10および透明電極5,6が順
次積層される。
を複数配置してカラーフィルター層を形成し、該カラー
フィルター単位間に低粘度樹脂から形成された第１の透
明樹脂層を設けると共にカラーフィルター層の上に該第
１の透明樹脂層を設け、該第１の透明樹脂層の上に高粘
度樹脂から形成された第２の透明樹脂層を設けてなる。
すなわち、カラーフィルターの少なくとも隣接部には、
本発明の低粘度樹脂から形成され画素間段差の平坦化層
である第１の透明樹脂層９が設けられ、その上に高粘度
樹脂から形成され平坦化層およびカラーフィルターの保
護層である第２の透明樹脂層10および透明電極5,6が順
次積層される。
上記の構成による基板では、カラーフィルターの膜厚及
び画素間の窪みによる段差が補正されているため、画素
上に透明電極、配向制御膜を順に形成しても、基板面を
ほぼ平坦に保つことができる。
び画素間の窪みによる段差が補正されているため、画素
上に透明電極、配向制御膜を順に形成しても、基板面を
ほぼ平坦に保つことができる。
本発明では、前述の平坦化により、カラーフィルター基
板の段差を1000Å以下とすることができるが、好ましく
は500Å以下とするのが望ましい。この段差が1000Åを
こえると、特に1200Å以上で形成された非平坦化層を用
いた液晶素子は、前述の第５図で示した刃状線の配向欠
陥を生じることになる。
板の段差を1000Å以下とすることができるが、好ましく
は500Å以下とするのが望ましい。この段差が1000Åを
こえると、特に1200Å以上で形成された非平坦化層を用
いた液晶素子は、前述の第５図で示した刃状線の配向欠
陥を生じることになる。
本発明で用いられるカラーフィルターとしては、強誘電
性カイラルスメクチック液晶素子を形成する際の工程条
件に耐えられる特性を持ち、かつ所望とする耐久性を持
ったものであれば、特に限定されるものでなく、色素及
びこれを含む層をパターン状に形成して作製される。そ
の層厚は所望とする分光特性により決定されるが、通常
は0.5〜５μｍ程度で、好ましくは0.5〜1.5μｍ程度
で、各色の層厚ができる限り小さいほうが好適である。
性カイラルスメクチック液晶素子を形成する際の工程条
件に耐えられる特性を持ち、かつ所望とする耐久性を持
ったものであれば、特に限定されるものでなく、色素及
びこれを含む層をパターン状に形成して作製される。そ
の層厚は所望とする分光特性により決定されるが、通常
は0.5〜５μｍ程度で、好ましくは0.5〜1.5μｍ程度
で、各色の層厚ができる限り小さいほうが好適である。
さらに、場合によては表示特性を向上させる目的及び各
画素のカラーフィルターの間隙の段差を小さくするため
に、各画素間に遮光層をクロム、アルミニウム等の遮光
能力をもつ金属薄膜を蒸着法で、あるいは感光性ポリア
ミノ系樹脂中にカーボンブラック、複合酸化物黒顔料、
金属粉等の遮光能力をもつ材料を分散させた遮光樹脂膜
を塗布法で形成すればより効果的である。
画素のカラーフィルターの間隙の段差を小さくするため
に、各画素間に遮光層をクロム、アルミニウム等の遮光
能力をもつ金属薄膜を蒸着法で、あるいは感光性ポリア
ミノ系樹脂中にカーボンブラック、複合酸化物黒顔料、
金属粉等の遮光能力をもつ材料を分散させた遮光樹脂膜
を塗布法で形成すればより効果的である。
本発明の第１の透明樹脂層は、主にカラーフィルター形
成後に生じた基板上の段差を平坦化する目的で形成され
る。従って、低粘度化された樹脂が用いられ、通常は50
cps（センチポイズ）／（室温下）以下、好ましくは20
〜50cpsの粘度が望ましく、カラーフィルター表面に低
粘度に調整されたポリアミド系、ポリイミド系、ポリウ
レタン系、アクリル系、ポリカーボネート系及びシリコ
ン系等の有機樹脂又はこれらの感光性樹脂をスピンコー
ト、ロールコート、ディッピング等の塗布法にて塗布し
てフォトリソ工程により形成する。その層厚は、カラー
フィルターの画素間隙部分を埋めるのに必要な厚さでよ
く、最も厚い画素厚さと同じかまたは若干厚めに設定す
ることが好ましい。
成後に生じた基板上の段差を平坦化する目的で形成され
る。従って、低粘度化された樹脂が用いられ、通常は50
cps（センチポイズ）／（室温下）以下、好ましくは20
〜50cpsの粘度が望ましく、カラーフィルター表面に低
粘度に調整されたポリアミド系、ポリイミド系、ポリウ
レタン系、アクリル系、ポリカーボネート系及びシリコ
ン系等の有機樹脂又はこれらの感光性樹脂をスピンコー
ト、ロールコート、ディッピング等の塗布法にて塗布し
てフォトリソ工程により形成する。その層厚は、カラー
フィルターの画素間隙部分を埋めるのに必要な厚さでよ
く、最も厚い画素厚さと同じかまたは若干厚めに設定す
ることが好ましい。
本発明の第２の透明樹脂層は、第１の透明樹脂層にてほ
ぼ平坦化された層上に形成され、カラーフィルターによ
り生じた段差をより平坦化するとともに、主としてカラ
ーフィルターの保護をする目的で形成される。従って、
樹脂分を多くした高粘度の樹脂材を用い、通常は50cps
（センチポイズ）／（室温下）をこえる粘度のものを、
好ましくは、100cpsから1200cps程度の範囲に調整され
たポリアミド系、ポリイミド系、ポリウレタン系、アク
リル系、ポリカーボネート系及びシリコン系等の有機樹
脂又はこれらの感光性樹脂をスピンコート、ロールコー
ト等の塗布法にて塗布してフォトリソ工程により形成す
る。
ぼ平坦化された層上に形成され、カラーフィルターによ
り生じた段差をより平坦化するとともに、主としてカラ
ーフィルターの保護をする目的で形成される。従って、
樹脂分を多くした高粘度の樹脂材を用い、通常は50cps
（センチポイズ）／（室温下）をこえる粘度のものを、
好ましくは、100cpsから1200cps程度の範囲に調整され
たポリアミド系、ポリイミド系、ポリウレタン系、アク
リル系、ポリカーボネート系及びシリコン系等の有機樹
脂又はこれらの感光性樹脂をスピンコート、ロールコー
ト等の塗布法にて塗布してフォトリソ工程により形成す
る。
樹脂材の選定については、第１の透明樹脂と同等でも、
又異なるものでもよく、強誘電性カイラルスメクチック
液晶素子のセル形成工程にさらされる各環境への耐性及
び強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の所望とする
信頼性等から任意のものを選定することができる。その
層厚も、以上の観点から任意に設定されるが、通常は0.
5〜５μｍ程度、好ましくは0.5〜1.0μｍ程度で層を形
成する。
又異なるものでもよく、強誘電性カイラルスメクチック
液晶素子のセル形成工程にさらされる各環境への耐性及
び強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の所望とする
信頼性等から任意のものを選定することができる。その
層厚も、以上の観点から任意に設定されるが、通常は0.
5〜５μｍ程度、好ましくは0.5〜1.0μｍ程度で層を形
成する。
本発明に用いられる配向制御膜の材料としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ピリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミ
ド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユ
リア樹脂、アクリル樹脂などの樹脂類、あるいは感光性
ポリイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジ
スト、フェノールノボラック系フォトレジストあるいは
電子線フォトレジスト（ポリメチルメタクリレート、エ
ポキシ化−1,4−ポリブタジエンなど）などから選択し
て形成することができる。配向制御膜７は、強誘電性カ
イラルスメクチック液晶の膜厚にも依存するが、一般的
には10Å〜１μｍ、好適には100Å〜3000Åの範囲に設
定する。
ば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ピリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミ
ド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユ
リア樹脂、アクリル樹脂などの樹脂類、あるいは感光性
ポリイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジ
スト、フェノールノボラック系フォトレジストあるいは
電子線フォトレジスト（ポリメチルメタクリレート、エ
ポキシ化−1,4−ポリブタジエンなど）などから選択し
て形成することができる。配向制御膜７は、強誘電性カ
イラルスメクチック液晶の膜厚にも依存するが、一般的
には10Å〜１μｍ、好適には100Å〜3000Åの範囲に設
定する。
本発明で用いる液晶材料として、とくに適したものは双
安定性を有する液晶であって、強誘電性を有するもので
ある。具体的にはカイラルスメクチックＣ相（SmC＊）,
H相（SmH＊）,I相（SmI＊）,J相（SmJ＊）,K相（Sm
K＊）,G相（SmG＊）またはＦ相（SmF＊）の液晶を用い
ることができる。
安定性を有する液晶であって、強誘電性を有するもので
ある。具体的にはカイラルスメクチックＣ相（SmC＊）,
H相（SmH＊）,I相（SmI＊）,J相（SmJ＊）,K相（Sm
K＊）,G相（SmG＊）またはＦ相（SmF＊）の液晶を用い
ることができる。
この強誘電性液晶については、“ル・ジュールナル・ド
・フィジーク・ルテール”（“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRES"）1975年、36（Ｌ−69）号、「フェロエレク
トリック・リキッド・クリスタルス」（「Ferroelectri
c Liquid Crystals」）；“アプライド・フィジックス
・レターズ”（“Applied Physics Letters"）1980年、
36（11）号、「サブミクロ・セカンド・バイステイブル
・エレクトロオプチック・スイッチング・イン・リキッ
ド・クリスタルス」（「Submicro Second Bistable Ele
ctrooptic Switching in Liquid Crystals」）；“固体
物理"1981年 16（141）号、「液晶」等に記載されてお
り、本発明においては、これらに開示された強誘電性液
晶を使用することができる。
・フィジーク・ルテール”（“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRES"）1975年、36（Ｌ−69）号、「フェロエレク
トリック・リキッド・クリスタルス」（「Ferroelectri
c Liquid Crystals」）；“アプライド・フィジックス
・レターズ”（“Applied Physics Letters"）1980年、
36（11）号、「サブミクロ・セカンド・バイステイブル
・エレクトロオプチック・スイッチング・イン・リキッ
ド・クリスタルス」（「Submicro Second Bistable Ele
ctrooptic Switching in Liquid Crystals」）；“固体
物理"1981年 16（141）号、「液晶」等に記載されてお
り、本発明においては、これらに開示された強誘電性液
晶を使用することができる。
強誘電性液晶の具体例としては、例えばデシロキシベン
ジリデン−ｐ′−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
ト（DOBAMBC）、ヘキシルオキシベンジリデン−ｐ′−
アミノ−２−クロルプロピルシンナメート（HOBACP
C）、４−ｏ−（２−メチル）−ブチルレゾルシリデン
−４′−オクチルアニリン（MBRAS）が挙げられる。
ジリデン−ｐ′−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
ト（DOBAMBC）、ヘキシルオキシベンジリデン−ｐ′−
アミノ−２−クロルプロピルシンナメート（HOBACP
C）、４−ｏ−（２−メチル）−ブチルレゾルシリデン
−４′−オクチルアニリン（MBRAS）が挙げられる。
これらの材料を用いて素子を構成する場合、液晶化合物
がカイラルスメクティック相となるような温度状態に保
持するため、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれ
たブロック等により支持することができる。
がカイラルスメクティック相となるような温度状態に保
持するため、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれ
たブロック等により支持することができる。
［作 用］ 本発明の強誘電性カイラルスメクチック液晶素子はカラ
ーフィルター層上に低粘度樹脂から形成される第１の透
明樹脂層、及び高粘度樹脂から形成される第２の透明樹
脂層を順次積層してなるので、平坦化された第２の樹脂
層の上に透明電極および配向制御膜が積層され、基板の
平面性が良好となるために液晶相と接する面に段差がな
く、該平面性のよい基板に挟持された液晶相は等方相よ
り、液晶相に移行する降温過程において、徐冷すること
により、液晶相領域が次第に広がり均一なモノドメイン
の液晶相を形成するようになる。
ーフィルター層上に低粘度樹脂から形成される第１の透
明樹脂層、及び高粘度樹脂から形成される第２の透明樹
脂層を順次積層してなるので、平坦化された第２の樹脂
層の上に透明電極および配向制御膜が積層され、基板の
平面性が良好となるために液晶相と接する面に段差がな
く、該平面性のよい基板に挟持された液晶相は等方相よ
り、液晶相に移行する降温過程において、徐冷すること
により、液晶相領域が次第に広がり均一なモノドメイン
の液晶相を形成するようになる。
例えば、液晶として強誘電性液晶相を示す前述のDOBAMB
Cを例にあげて説明すると、DOBAMBCの等方相より徐冷し
ていくとき、約115℃でスメクティックＡ相（SmA相）に
相転移する。このとき、基板にラビングあるいはSiO2斜
め蒸着などの配向処理が施されていると、液晶分子の分
子軸が基板に、平行で、かつ一方向に配向したモノドメ
インが形成される。さらに、冷却を進めていくと、液晶
層の厚みに依存する約90〜75℃の間の特定温度でカイラ
ルスメクティックＣ相（SmC＊相）に相転移する。ま
た、液晶層の厚みを約２μｍ以下とした場合は、SmC＊
相のらせんが解け、双安定性を示す。
Cを例にあげて説明すると、DOBAMBCの等方相より徐冷し
ていくとき、約115℃でスメクティックＡ相（SmA相）に
相転移する。このとき、基板にラビングあるいはSiO2斜
め蒸着などの配向処理が施されていると、液晶分子の分
子軸が基板に、平行で、かつ一方向に配向したモノドメ
インが形成される。さらに、冷却を進めていくと、液晶
層の厚みに依存する約90〜75℃の間の特定温度でカイラ
ルスメクティックＣ相（SmC＊相）に相転移する。ま
た、液晶層の厚みを約２μｍ以下とした場合は、SmC＊
相のらせんが解け、双安定性を示す。
［実施例］ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１ 第６図（ａ）〜（ｇ）は、R,G,B3色のカラーフィルター
の色画素の形成工程例を示す工程図である。
の色画素の形成工程例を示す工程図である。
本実施例では着色材の濃度をあらかじめ設定して各色画
素の膜厚をほぼ一定にすることができ、かつ簡便な製造
プロセスにより微細パターンを形成することができ、さ
らに機械的特性をはじめ、耐熱性、耐光性、耐溶剤性等
の諸特性の優れた方式である、感光性基を分子内に有す
るポリアミド樹脂中に着色材料を分散してなる着色樹脂
のフォトリソ工程を繰り返すことにより形成されるカラ
ーフィルターを用いた場合を説明する。
素の膜厚をほぼ一定にすることができ、かつ簡便な製造
プロセスにより微細パターンを形成することができ、さ
らに機械的特性をはじめ、耐熱性、耐光性、耐溶剤性等
の諸特性の優れた方式である、感光性基を分子内に有す
るポリアミド樹脂中に着色材料を分散してなる着色樹脂
のフォトリソ工程を繰り返すことにより形成されるカラ
ーフィルターを用いた場合を説明する。
まず、コーニング社の＃7059ガラス基板61上に、所望の
分光特性を得ることのできる青色着色樹脂材［ヘリオゲ
ン ブルー （Heliogen Blue）L7080（商品名,BASF社
製,C.I.No.74160）をPA−1000C（商品名，宇部興産社
製，ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン、顔料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感
光性の着色樹脂材］をスピンナー塗布法により、1.5μ
ｍの膜厚に塗布して着色樹脂層62を形成した。（第６図
（ａ）参照） 次に該着色樹脂層62に80℃、30分間のプリベークを行な
った後、形成しようとするパターン形状に対応したフォ
トマスク63を介して高圧水銀灯にて露光した。（第６図
（ｂ）参照） 露光終了後、第６図（ｃ）のごとく、光硬化部分62aを
有する着色樹脂層62の未露光部のみを溶解する専用現像
液（Ｎ−メチル−２−ピロリドンを主成分とする現像
液）にて超音波を使用して現像し、専用リンス液（例え
ば、イソプロピルアルコールを主成分とするリンス液）
で処理した後、150℃、30分間のポストベークを行な
い、パターン形状を有する青色のパターン状着色樹脂層
64を形成した。（第６図（ｄ）参照） 続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上
に、第２色目として緑色着色樹脂材［リオノール グリ
ーン（Lionol Green）6YK（商品名，東洋インキ社製,C.
I.No.74265）をPA−1000 C（商品名，宇部興産社製，ポ
リマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン、顔
料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感光性の
着色樹脂材］を用いる以外は、上記と同様にして、緑色
のパターン状着色樹脂層65を基板上の所定の位置に形成
した。
分光特性を得ることのできる青色着色樹脂材［ヘリオゲ
ン ブルー （Heliogen Blue）L7080（商品名,BASF社
製,C.I.No.74160）をPA−1000C（商品名，宇部興産社
製，ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン、顔料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感
光性の着色樹脂材］をスピンナー塗布法により、1.5μ
ｍの膜厚に塗布して着色樹脂層62を形成した。（第６図
（ａ）参照） 次に該着色樹脂層62に80℃、30分間のプリベークを行な
った後、形成しようとするパターン形状に対応したフォ
トマスク63を介して高圧水銀灯にて露光した。（第６図
（ｂ）参照） 露光終了後、第６図（ｃ）のごとく、光硬化部分62aを
有する着色樹脂層62の未露光部のみを溶解する専用現像
液（Ｎ−メチル−２−ピロリドンを主成分とする現像
液）にて超音波を使用して現像し、専用リンス液（例え
ば、イソプロピルアルコールを主成分とするリンス液）
で処理した後、150℃、30分間のポストベークを行な
い、パターン形状を有する青色のパターン状着色樹脂層
64を形成した。（第６図（ｄ）参照） 続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上
に、第２色目として緑色着色樹脂材［リオノール グリ
ーン（Lionol Green）6YK（商品名，東洋インキ社製,C.
I.No.74265）をPA−1000 C（商品名，宇部興産社製，ポ
リマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン、顔
料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感光性の
着色樹脂材］を用いる以外は、上記と同様にして、緑色
のパターン状着色樹脂層65を基板上の所定の位置に形成
した。
さらに、この様にして青色及び緑色パターンの形成され
ている基板上に、第３色目として、赤色着色樹脂材［イ
ルガジン レッド（Irgazin Red）BPT（商品名，チバガ
イギー（Ciba−Geigy）社製,C.I.No.71127）をPA−1000
C（商品名，宇部興産社製，ポリマー分＝10％、溶剤:N
−メチル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配
合）に分散させ作製した感光性の着色樹脂材］を用いる
以外は、上記と同様にして、赤色のパターン状着色樹脂
層66を基板上の所定の位置に形成し、Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の３色ストライプの着色パターンを得
た。（第６図（ｅ）参照） 次に、３色着色パターンの形成されたガラス基板上に、
遮光層として、黒色着色樹脂材［カーボンブラック（C.
I.No.77266）をPA−1000C（ポリマー分＝10％、顔料：
ポリマー＝1:4配合）に分散させて作製した感光性の着
色樹脂材］を用い、上記と同様の方法にて各画素間の間
隙に合致させて遮光パターンの遮光層67を形成した。
ている基板上に、第３色目として、赤色着色樹脂材［イ
ルガジン レッド（Irgazin Red）BPT（商品名，チバガ
イギー（Ciba−Geigy）社製,C.I.No.71127）をPA−1000
C（商品名，宇部興産社製，ポリマー分＝10％、溶剤:N
−メチル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配
合）に分散させ作製した感光性の着色樹脂材］を用いる
以外は、上記と同様にして、赤色のパターン状着色樹脂
層66を基板上の所定の位置に形成し、Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の３色ストライプの着色パターンを得
た。（第６図（ｅ）参照） 次に、３色着色パターンの形成されたガラス基板上に、
遮光層として、黒色着色樹脂材［カーボンブラック（C.
I.No.77266）をPA−1000C（ポリマー分＝10％、顔料：
ポリマー＝1:4配合）に分散させて作製した感光性の着
色樹脂材］を用い、上記と同様の方法にて各画素間の間
隙に合致させて遮光パターンの遮光層67を形成した。
この様にして得られたカラーフィルターパターン上に、
第１の透明樹脂層68として、あらかじめ粘度を50cpsに
調整した感光性ポリアミド樹脂液［PA−1000 C（商品
名，宇部興産社製、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン）］をスピンナー塗布法により約0.5μｍの膜厚にて
形成した。（第６図（ｆ）参照） プリベーク（70℃×20分）、露光、現像、リンス、ポス
トベーク（150℃×30分）処理を行ない、平坦化層を形
成した後、該第１の透明樹脂層68上に、第２の透明樹脂
層69として、あらかじめ粘度を100cpsに調整した感光性
ポリアミド樹脂液［PA−1000 C（商品名，宇部興産社
製、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン）］をスピンナー
塗布法により約１μｍの膜厚にて形成した。（第６図
（ｇ）参照） プリベーク（70℃×20分）、露光、現像、リンス、ポス
トベーク（150℃×30分）処理を行ない、保護膜とし
た。
第１の透明樹脂層68として、あらかじめ粘度を50cpsに
調整した感光性ポリアミド樹脂液［PA−1000 C（商品
名，宇部興産社製、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン）］をスピンナー塗布法により約0.5μｍの膜厚にて
形成した。（第６図（ｆ）参照） プリベーク（70℃×20分）、露光、現像、リンス、ポス
トベーク（150℃×30分）処理を行ない、平坦化層を形
成した後、該第１の透明樹脂層68上に、第２の透明樹脂
層69として、あらかじめ粘度を100cpsに調整した感光性
ポリアミド樹脂液［PA−1000 C（商品名，宇部興産社
製、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン）］をスピンナー
塗布法により約１μｍの膜厚にて形成した。（第６図
（ｇ）参照） プリベーク（70℃×20分）、露光、現像、リンス、ポス
トベーク（150℃×30分）処理を行ない、保護膜とし
た。
以上により、同一平面化されたカラーフィルター基板を
形成することができた。
形成することができた。
次に第１図に示す様に、ITOを500Åの厚さにスパッタリ
ング法により成膜し、透明電極５とした。この上に配向
制御膜７として、ポリイミド形成溶液（日立化成工業
「PIO」）を3000rpmで回転するスピンナーで塗布し、15
0℃で30分間加熱を行って2000Åのポリイミド被膜を形
成した。しかる後、このポリイミド被膜表面をラビング
処理した。
ング法により成膜し、透明電極５とした。この上に配向
制御膜７として、ポリイミド形成溶液（日立化成工業
「PIO」）を3000rpmで回転するスピンナーで塗布し、15
0℃で30分間加熱を行って2000Åのポリイミド被膜を形
成した。しかる後、このポリイミド被膜表面をラビング
処理した。
このようにして形成したカラーフィルター基板と、対向
する基板３を貼り合せてセル組し、強誘電性液晶を注
入、封口して液晶素子を得た。この液晶素子をクロスニ
コルの偏光顕微鏡で観察したところ、内部の液晶分子は
配向欠陥を生じていないことが確認された。
する基板３を貼り合せてセル組し、強誘電性液晶を注
入、封口して液晶素子を得た。この液晶素子をクロスニ
コルの偏光顕微鏡で観察したところ、内部の液晶分子は
配向欠陥を生じていないことが確認された。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば基板上のカラーフ
ィルター層の膜厚の差がある場合でも、該カラーフィル
ター層上に平坦化をもたらす低粘度樹脂から形成される
第１の透明樹脂層、及び平坦化と保護化をもたらす高粘
度樹脂から形成される第２の透明樹脂層を順次積層する
ことにより、カラーフィルターの各画素間に生じる膜厚
差上の微小な段差や、各画素間隙より生ずる段差をなく
すことが可能となり、配向欠陥の発生を防止することが
でき、強誘電性カイラルスメクチック液晶の特性を十分
に発揮し得るカイラルスメクチック液晶素子を提供する
ことができる。
ィルター層の膜厚の差がある場合でも、該カラーフィル
ター層上に平坦化をもたらす低粘度樹脂から形成される
第１の透明樹脂層、及び平坦化と保護化をもたらす高粘
度樹脂から形成される第２の透明樹脂層を順次積層する
ことにより、カラーフィルターの各画素間に生じる膜厚
差上の微小な段差や、各画素間隙より生ずる段差をなく
すことが可能となり、配向欠陥の発生を防止することが
でき、強誘電性カイラルスメクチック液晶の特性を十分
に発揮し得るカイラルスメクチック液晶素子を提供する
ことができる。
第１図は本発明に係わる強誘電性カイラルスメクチック
液晶素子の基本構成を示す示す断面図、第２図及び第３
図は本発明で用いる強誘電性液晶を模式的に表わした斜
視図、第４図は従来の強誘電性液晶素子の断面図、第５
図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状態
を表わす概略説明図および第６図（ａ）〜（ｇ）は本発
明の色画素の形成工程を示す工程図である。 1,40……強誘電性液晶素子 2,3,41,42,61……基板 4,47……強誘電性液晶 5,6,43,44……透明電極 7,8,45,46……配向制御膜 11,67……遮光層 9,68……第１の透明樹脂層 10,69……第２の透明樹脂層 48……保護膜（平坦化膜） 64,65,66……パターン状着色樹脂層
液晶素子の基本構成を示す示す断面図、第２図及び第３
図は本発明で用いる強誘電性液晶を模式的に表わした斜
視図、第４図は従来の強誘電性液晶素子の断面図、第５
図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状態
を表わす概略説明図および第６図（ａ）〜（ｇ）は本発
明の色画素の形成工程を示す工程図である。 1,40……強誘電性液晶素子 2,3,41,42,61……基板 4,47……強誘電性液晶 5,6,43,44……透明電極 7,8,45,46……配向制御膜 11,67……遮光層 9,68……第１の透明樹脂層 10,69……第２の透明樹脂層 48……保護膜（平坦化膜） 64,65,66……パターン状着色樹脂層
フロントページの続き (72)発明者 村田 辰雄 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 田村 美樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 関村 信行 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−6624（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−166523（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】一対の基板及びカイラルスメクチック液晶
を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメクチック
液晶のらせん配列構造の形成が抑制させるのに十分に小
さく設定させてなる液晶素子の製造方法において、少な
くとも一方の基板上にカラーフィルター単位を複数配置
してカラーフィルター層を形成した後、該カラーフィル
ター層上に低粘度樹脂を塗布してカラーフィルター単位
間を埋めると共にカラーフィルター層の表面を被覆する
工程により第１の透明樹脂層を形成し、次いで該第１の
透明樹脂層の上に高粘度樹脂を塗布する工程により第２
の透明樹脂層を形成することを特徴とするカイラルスメ
クチック液晶素子の製造方法。 - 【請求項２】前記低粘度樹脂の室温下の塗布時の粘度が
50cps（センチポイズ）以下であり、高粘度樹脂の室温
下の塗布時の粘度が50cps（センチポイズ）をこえてい
る特許請求の範囲第１項記載のカイラルスメクチック液
晶素子の製造方法。 - 【請求項３】隣り合うカラーフィルター単位間に遮光層
を配置する特許請求の範囲第１項又は第２項記載のカイ
ラルスメクチック液晶素子の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20274886A JPH0740097B2 (ja) | 1986-08-30 | 1986-08-30 | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 |
| US07/090,703 US4917471A (en) | 1986-08-30 | 1987-08-28 | Liquid crystal device |
| US07/416,034 US5101289A (en) | 1986-08-30 | 1989-10-02 | Chiral smectic color display device with interval between color filters: color filter film thickness ratio of 0-5 |
| US08/238,345 US5398126A (en) | 1986-08-30 | 1994-05-05 | Ferroelectric color liquid crystal device lacking alignment defects |
| US08/352,756 US5548424A (en) | 1986-08-30 | 1994-12-05 | Liquid crystal device having two resins films formed from solutions of different viscosities |
| US08/430,422 US5568293A (en) | 1986-08-30 | 1995-04-28 | Liquid crystal display having trapezoidal color filters formed from a low-temperature curing polyamino resin having a photosensitive group |
| US08/430,418 US5500751A (en) | 1986-08-30 | 1995-04-28 | Ferroelectric liquid crystal color filter surrounded by a heat fusible resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20274886A JPH0740097B2 (ja) | 1986-08-30 | 1986-08-30 | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6360425A JPS6360425A (ja) | 1988-03-16 |
| JPH0740097B2 true JPH0740097B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=16462510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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