JPH0740067A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
- Publication number
- JPH0740067A JPH0740067A JP5189801A JP18980193A JPH0740067A JP H0740067 A JPH0740067 A JP H0740067A JP 5189801 A JP5189801 A JP 5189801A JP 18980193 A JP18980193 A JP 18980193A JP H0740067 A JPH0740067 A JP H0740067A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- optical head
- lenses
- laser beam
- changing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レンズを可変することにより、描画線幅を広
範囲に変えることができ、描画時間を短縮できるような
レーザ描画装置を提供する。 【構成】 光学ヘッド１２の先端部にそれぞれの焦点距
離が異なる複数のレンズ１０を有する電動レボルバユニ
ット９を設ける。電動レボルバユニット９によりレンズ
１０を交換することで、種々のビームスポット径の書込
用レーザ１０１を被加工物１００に照射する。
範囲に変えることができ、描画時間を短縮できるような
レーザ描画装置を提供する。 【構成】 光学ヘッド１２の先端部にそれぞれの焦点距
離が異なる複数のレンズ１０を有する電動レボルバユニ
ット９を設ける。電動レボルバユニット９によりレンズ
１０を交換することで、種々のビームスポット径の書込
用レーザ１０１を被加工物１００に照射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレーザ描画装置に関
し、特にレーザ光を用いて微細パターンを描画するよう
なレーザ描画装置に関する。
し、特にレーザ光を用いて微細パターンを描画するよう
なレーザ描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光を用いて微細パターンを描画す
るレーザ描画装置として、特開平４−１０６１３号公報
および特開平４−１０６１４号公報で提案されたものが
ある。この提案されたレーザ描画装置は、第１の方向に
スライドする第１のテーブル上に光学ヘッドを設け、第
１の方向とは直交する第２の方向にスライドする第２の
テーブル上に被加工物を配置し、光学ヘッドから出射し
たレーザ光を被加工物に照射し、第１および第２のテー
ブルの移動速度に応じて光学ヘッドに供給するレーザ光
の出力を制御するようにしたものである。
るレーザ描画装置として、特開平４−１０６１３号公報
および特開平４−１０６１４号公報で提案されたものが
ある。この提案されたレーザ描画装置は、第１の方向に
スライドする第１のテーブル上に光学ヘッドを設け、第
１の方向とは直交する第２の方向にスライドする第２の
テーブル上に被加工物を配置し、光学ヘッドから出射し
たレーザ光を被加工物に照射し、第１および第２のテー
ブルの移動速度に応じて光学ヘッドに供給するレーザ光
の出力を制御するようにしたものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の提案
されたレーザ描画装置では、光学ヘッドの先端にレーザ
光を絞り込むためのレンズが固定的に取り付けられてい
る。このため、光学ヘッドから出射されるレーザ光によ
る描画可能な線幅の範囲が限られてしまう。たとえば、
線幅を細くするためのレンズを使用した場合、太い線を
一度に描画するのは不可能であり、その線に沿って細い
線を何回も描画する必要がある。特に、大面積の塗りつ
ぶしパターンを描画するには、長時間を必要とするとい
う問題点があった。
されたレーザ描画装置では、光学ヘッドの先端にレーザ
光を絞り込むためのレンズが固定的に取り付けられてい
る。このため、光学ヘッドから出射されるレーザ光によ
る描画可能な線幅の範囲が限られてしまう。たとえば、
線幅を細くするためのレンズを使用した場合、太い線を
一度に描画するのは不可能であり、その線に沿って細い
線を何回も描画する必要がある。特に、大面積の塗りつ
ぶしパターンを描画するには、長時間を必要とするとい
う問題点があった。
【０００４】それゆえに、この発明の主たる目的は、レ
ンズを可変することにより、描画線幅を広範囲に変える
ことができ、それによって描画時間の短縮を図ることの
できるようなレーザ描画装置を提供することである。
ンズを可変することにより、描画線幅を広範囲に変える
ことができ、それによって描画時間の短縮を図ることの
できるようなレーザ描画装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
レーザ光を出射するための光学ヘッドが配置され、第１
の方向にスライドする第１のテーブルと、被加工物が配
置され、第１の方向とは直交する第２の方向に第１のテ
ーブルとは個別的に移動する第２のテーブルと、第１の
テーブルおよび第２のテーブルが相対的に移動する速度
に応じて光学ヘッドに供給するレーザ光の出力を制御す
る出力制御手段とを備えたレーザ描画装置において、光
学ヘッドの先端に設けられ、レーザ光を絞り込むための
複数のレンズを交換するレンズ交換機構を備えて構成さ
れる。より好ましくは、レンズ交換機構としてレボルバ
が用いられる。
レーザ光を出射するための光学ヘッドが配置され、第１
の方向にスライドする第１のテーブルと、被加工物が配
置され、第１の方向とは直交する第２の方向に第１のテ
ーブルとは個別的に移動する第２のテーブルと、第１の
テーブルおよび第２のテーブルが相対的に移動する速度
に応じて光学ヘッドに供給するレーザ光の出力を制御す
る出力制御手段とを備えたレーザ描画装置において、光
学ヘッドの先端に設けられ、レーザ光を絞り込むための
複数のレンズを交換するレンズ交換機構を備えて構成さ
れる。より好ましくは、レンズ交換機構としてレボルバ
が用いられる。
【０００６】
【作用】この発明に係るレーザ描画装置は、光学ヘッド
の先端に複数のレンズを交換可能なレンズ交換機構を設
け、レンズを交換することによってレーザ光を絞り込む
ビームスポット径を可変にする。
の先端に複数のレンズを交換可能なレンズ交換機構を設
け、レンズを交換することによってレーザ光を絞り込む
ビームスポット径を可変にする。
【０００７】
【実施例】図１はこの発明の一実施例の全体の構成を示
すブロック図である。図１において、レーザ光源として
Ｈｅ−Ｃｄレーザチューブ１が設けられ、このＨｅ−Ｃ
ｄレーザチューブ１から出射された書込用レーザ１０１
はミラー２で反射され、パワーコントロール用ＡＯＭ３
に入射される。このパワーコントロール用ＡＯＭ３は書
込用レーザ１０１のレーザ出力を制御するためのもので
ある。パワーコントロール用ＡＯＭ３によって出力が調
整された書込用レーザ１０１はレーザパワーモニタ４に
入射される。レーザパワーモニタ４は書込用レーザ１０
１をモニタし、モニタ出力をパワーサーボ回路７に与
え、パワーサーボ回路７はパワーコントロール用ＡＯＭ
３をフィードバック制御する。モニタされた書込用レー
ザ１０１はミラー５で反射され、光学ヘッド１２に入射
される。
すブロック図である。図１において、レーザ光源として
Ｈｅ−Ｃｄレーザチューブ１が設けられ、このＨｅ−Ｃ
ｄレーザチューブ１から出射された書込用レーザ１０１
はミラー２で反射され、パワーコントロール用ＡＯＭ３
に入射される。このパワーコントロール用ＡＯＭ３は書
込用レーザ１０１のレーザ出力を制御するためのもので
ある。パワーコントロール用ＡＯＭ３によって出力が調
整された書込用レーザ１０１はレーザパワーモニタ４に
入射される。レーザパワーモニタ４は書込用レーザ１０
１をモニタし、モニタ出力をパワーサーボ回路７に与
え、パワーサーボ回路７はパワーコントロール用ＡＯＭ
３をフィードバック制御する。モニタされた書込用レー
ザ１０１はミラー５で反射され、光学ヘッド１２に入射
される。
【０００８】光学ヘッド１２は第１の方向（Ｘ方向）に
移動可能な第１のテーブル１３上に設けられており、こ
の第１のテーブル１３とは直交する第２の方向（Ｙ方
向）に移動可能な第２のテーブル１４には被加工物（図
示せず）が設けられている。第１のテーブル１３と第２
のテーブル１４の移動速度が検出され、その検出出力は
パワーサーボ回路７に与えられ、パワーサーボ回路７は
第１のテーブル１３および第２のテーブル１４の移動速
度に応じてレーザ光の出力を制御する。
移動可能な第１のテーブル１３上に設けられており、こ
の第１のテーブル１３とは直交する第２の方向（Ｙ方
向）に移動可能な第２のテーブル１４には被加工物（図
示せず）が設けられている。第１のテーブル１３と第２
のテーブル１４の移動速度が検出され、その検出出力は
パワーサーボ回路７に与えられ、パワーサーボ回路７は
第１のテーブル１３および第２のテーブル１４の移動速
度に応じてレーザ光の出力を制御する。
【０００９】図２は光学ヘッド１２の先端に取付けられ
た電動レボルバユニットを示す側面図である。図２にお
いて、図１に示した光学ヘッド１２内にはミラー６が設
けられており、このミラー６によって図１に示したミラ
ー５で反射された書込用レーザ１０１がさらに垂直方向
に反射され、電動レボルバユニット９に入射される。電
動レボルバユニット９は光学ヘッド１２の先端部に設け
られており、それぞれの焦点距離が異なる複数のレンズ
１０を電動で切換可能になっている。電動レボルバユニ
ット９に導かれた書込用レーザ１０１はレンズ１０より
テーブル１４上に置かれた被加工物１００表面に集光さ
れる。この時、電動レボルバユニット９を回転させてレ
ンズ１０を変更することにより、集光されるレーザ光の
径を変えることができる。それによって、描画される線
幅を変えることができる。
た電動レボルバユニットを示す側面図である。図２にお
いて、図１に示した光学ヘッド１２内にはミラー６が設
けられており、このミラー６によって図１に示したミラ
ー５で反射された書込用レーザ１０１がさらに垂直方向
に反射され、電動レボルバユニット９に入射される。電
動レボルバユニット９は光学ヘッド１２の先端部に設け
られており、それぞれの焦点距離が異なる複数のレンズ
１０を電動で切換可能になっている。電動レボルバユニ
ット９に導かれた書込用レーザ１０１はレンズ１０より
テーブル１４上に置かれた被加工物１００表面に集光さ
れる。この時、電動レボルバユニット９を回転させてレ
ンズ１０を変更することにより、集光されるレーザ光の
径を変えることができる。それによって、描画される線
幅を変えることができる。
【００１０】レンズ１０としてたとえば１μｍ程度から
数十μｍ程度までの線幅を描画可能なような焦点距離を
設定することにより、さまざまなパターンへの対応幅が
広くなる。また、太い線幅を持たせることにより、大面
積の塗りつぶしパターンなどであっても描画時間を大幅
に短縮できる。
数十μｍ程度までの線幅を描画可能なような焦点距離を
設定することにより、さまざまなパターンへの対応幅が
広くなる。また、太い線幅を持たせることにより、大面
積の塗りつぶしパターンなどであっても描画時間を大幅
に短縮できる。
【００１１】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、光学
ヘッドの先端部にレーザ光を絞り込むための複数のレン
ズを交換可能に設けたことにより、数種類の線幅を短時
間で描画することが可能となる。
ヘッドの先端部にレーザ光を絞り込むための複数のレン
ズを交換可能に設けたことにより、数種類の線幅を短時
間で描画することが可能となる。
【図１】この発明の一実施例の全体の構成を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】図１に示した光学ヘッドの先端に設けられる電
動レボルバユニットの側面図である。
動レボルバユニットの側面図である。
１ Ｈｅ−Ｃｄレーザチューブ ２，５，６ ミラー ３ パワーコントロール用ＡＯＭ ４ レーザパワーモニタ ７ パワーサーボ回路 ９ 電動レボルバユニット １０ 集光レンズ １２ 光学ヘッド １３ 第１のテーブル １４ 第２のテーブル １００ 被加工物 １０１ 書込用レーザ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 26/10 Ｚ 27/00 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０５ 9122−2Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｓ 3/101 8934−4Ｍ 7352−4Ｍ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５ Ｂ 7352−4Ｍ ５２９
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ光を出射するための光学ヘッドが
配置され、第１の方向にスライドする第１のテーブル
と、 被加工物が配置され、前記第１の方向とは直交する第２
の方向に前記第１のテーブルとは個別的に移動する第２
のテーブルと、 前記第１のテーブルおよび前記第２のテーブルが相対的
に移動する速度に応じて前記光学ヘッドに供給するレー
ザ光の出力を制御する出力制御手段とを備えたレーザ描
画装置において、 前記光学ヘッドの先端に設けられ、前記レーザ光を絞り
込むための複数のレンズを交換するレンズ交換機構を設
けたことを特徴とする、レーザ描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189801A JPH0740067A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | レーザ描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5189801A JPH0740067A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | レーザ描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0740067A true JPH0740067A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16247442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5189801A Withdrawn JPH0740067A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | レーザ描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740067A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100835614B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2008-06-05 | 아메코 주식회사 | 복합가공기 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP5189801A patent/JPH0740067A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100835614B1 (ko) * | 2007-02-05 | 2008-06-05 | 아메코 주식회사 | 복합가공기 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001003 |