JPH0738277A - 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法 - Google Patents

紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法

Info

Publication number
JPH0738277A
JPH0738277A JP19775393A JP19775393A JPH0738277A JP H0738277 A JPH0738277 A JP H0738277A JP 19775393 A JP19775393 A JP 19775393A JP 19775393 A JP19775393 A JP 19775393A JP H0738277 A JPH0738277 A JP H0738277A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
paper honeycomb
nickel
chloride copolymer
honeycomb structure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19775393A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Shiji
直樹 志治
Kiyoshi Ito
清 伊藤
Toshiya Tanioka
俊哉 谷岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nisshinbo Holdings Inc
Original Assignee
Nisshinbo Industries Inc
Nisshin Spinning Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nisshinbo Industries Inc, Nisshin Spinning Co Ltd filed Critical Nisshinbo Industries Inc
Priority to JP19775393A priority Critical patent/JPH0738277A/ja
Publication of JPH0738277A publication Critical patent/JPH0738277A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 紙製ハニカム状構造物に、五酸化アンチモン
と酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体及び/又
は塩化ビニリデン共重合体との混合物で含浸処理した
後、無電解メッキ法により銅もしくはニッケルの被膜又
は銅とニッケルの複合被膜を形成せしめることを特徴と
する紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法。 【効果】 製造される紙製ハニカム状構造物は難燃性に
優れており且つ金属被膜の密着性が良好で剥離、脱落す
ることがなく、しかも安価且つ軽量であり、電磁波シー
ルド材として、シールドルームの換気口等に使用するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電磁波シールドルーム
の換気口等に適した通風性及び電磁波シールド性能に優
れた紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に電磁波シールドルームには、温度
調節、換気のための換気口が設けられている。また、電
磁波シールドルームは殆んど密室に近い状態で使われる
ため、使用素材はシールド性能は勿論のこと、難燃性に
優れていることも重要な要件である。
【0003】従来、換気口の電磁波シールド材には、金
属板に孔をあけたいわゆるパンチングメタルや金網等が
使われている。しかしながら、パンチングメタルや金網
等は、通風性を考えて孔を多くすると、電磁波シールド
性能が損なわれるため、孔径を小さくし、その数を可及
的に少なくする必要がある。
【0004】従って、電磁波シールドルームの換気口に
は、電磁波シールドルームの性能を損なわず且つ通風性
を考慮して、アルミニウム、スチール又は真ちゅう製の
六角形状筒を作成し、これを接合してハニカム形状に加
工した電磁波シールド材が多く使用されている。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】電磁波シールドルー
ムの換気口に使われているアルミニウム、スチール又は
真ちゅう製の金属板をハニカム形状に加工したシールド
材は、高価であり且つ重く、更に金属のため施工が困難
であり、軽量化が望まれている。
【0006】軽量で難燃性の面からみると、アラミド製
ハニカム状構造物に無電解メッキ法又は無電解メッキ法
と電気メッキ法とを組合せた方法で金属メッキを施すこ
とにより、軽量なシールド材が提供することができる
が、アラミド製ハニカム状構造物は高価で、その上金属
メッキを施すと、アルミニウム、スチール等の金属製ハ
ニカム状構造物よりも更に高価になるという欠点があ
る。
【0007】本発明は、上述の如き問題点に鑑みて、安
価且つ軽量で施工が簡単な電磁波シールドルーム用換気
口に適した紙製のハニカム状構造物を提供することを目
的とする。
【0008】
【問題点を解決するための手段】本発明は、紙製ハニカ
ム状構造物に、五酸化アンチモンと酢酸ビニル−エチレ
ン−塩化ビニル共重合体及び/又は塩化ビニリデン共重
合体との混合物で含浸処理した後、無電解メッキ法によ
り銅もしくはニッケルの被膜又は銅とニッケルの複合被
膜を形成せしめることを特徴とする紙製ハニカム状電磁
波シールド材の製造法を提供するものである。
【0009】本発明の方法が特徴とする主な点は、紙製
ハニカム状構造物を、予め、五酸化アンチモンと酢酸ビ
ニル−エチレン−塩化ビニル共重合体及び/又は塩化ビ
ニリデン共重合体との混合物で含浸処理する点にある。
【0010】これにより、紙製ハニカム状構造物に優れ
た難燃性を付与することができると同時に、無電解メッ
キによって形成される銅、ニッケル又は銅−ニッケル複
合物の被膜の付着性を高めることができる。
【0011】上記の含浸処理に使用される酢酸ビニル−
エチレン−塩化ビニル共重合体は、酢酸ビニル、エチレ
ン及び塩化ビニルの合計重量を基準にして、酢酸ビニル
10〜80重量%、エチレン5〜40重量%及び塩化ビ
ニル10〜80重量%をそれ自体既知の重合法、例えば
水性媒体中で乳化重合させる方法等により共重合させる
ことにより得られる、通常ガラス転移温度が約−70〜
約100℃の範囲内の共重合体であることができ、その
ような共重合体の1例には、住友化学工業(株)からス
ミカフレックスS−850の商品名で販売されているも
のが挙げられる。
【0012】また、塩化ビニリデン共重合体は、塩化ビ
ニリデン20〜90重量%と、塩化ビニル又はアクリル
酸エステルもしくはメタクリル酸エステル10〜80重
量%を乳化重合法などの方法により共重合させることに
より得られる、ガラス転移温度が約−70〜約100℃
の範囲内にあるものが好ましく、例えば呉羽化学工業
(株)からクレハロンVAT−S314なる商品名で販
売されているものを使用することができる。
【0013】上記酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共
重合体及び塩化ビニリデン共重合体はそれぞれ単独で使
用することができ、或いは両者を混合して使用すること
ができる。両者を混合して使用する場合の混合割合には
特に制限がなく任意の割合で混合することができるが、
通常、酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体/塩
化ビニリデン共重合体の重量比が1/3〜3/1の範囲
内にあるのが好ましい。
【0014】五酸化アンチモン及び上記共重合体は水に
溶解ないし分散し、水性樹脂液とする。該樹脂液中にお
ける五酸化アンチモン/共重合体の配合割合は、通常、
重量比で1/1〜1/10、特に1/2〜1/4の範囲
内とすることができる。また、該樹脂液中の五酸化アン
チモン及び共重合体の濃度は両者の合計の固形分濃度で
10〜40重量%、特に20〜30重量%の範囲内にあ
るのが適当である。
【0015】含浸処理は、例えば、紙製ハニカム状構造
物を上記の水性樹脂液中に約5〜約20分間浸漬した後
乾燥することにより行なうことができる。
【0016】このようにして含浸処理された紙製ハニカ
ム状構造物の表面には次いで、無電解メッキ法により、
銅、ニッケル又は銅−ニッケル複合物の被膜を形成せし
める。無電解メッキ法はそれ自体既知の方法によって行
なうことができる。例えば、前記処理を行なった紙製ハ
ニカム状構造物を、塩化パラジウムと塩化第一錫との塩
酸酸性コロイド溶液に浸漬処理し、次いで水洗を行なっ
た後、硫酸酸性浴に浸漬処理することにより活性化を行
ない再び水洗する。このように活性化された紙製ハニカ
ム状構造物を次の無電解メッキ処理に供する。
【0017】無電解メッキ処理法は通常メッキすべき金
属のイオンを形成する金属塩化合物と還元剤及びPH調
整剤、さらには必要に応じて安定剤等のメッキ助剤から
なるメッキ液に所定の金属被膜を得るのに必要な時間浸
漬することにより行なうことができる。
【0018】以上述べた如くして処理された紙製ハニカ
ム状構造物は、難燃性に優れたおり且つ金属被膜の密着
性が良好で剥離、脱落することがなく、しかも安価且つ
軽量であり、電磁波シールド材として、シールドルーム
の換気口等に有利に使用することができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
【0020】実施例1 紙製ハニカム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイ
ズ:3.2mm、厚さ:12.7mm、縦全長:600m
m、横全長:600mm)を、五酸化アンチモン(日産
化学工業社製:酸化アンチモンゾルA−2550)15
重量部、酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体
(住友化学工業社製:スミカフレックスS−850)3
0重量部及び水55重量部を混合して調製した樹脂水溶
液に10分間浸漬後乾燥した。これにより、全表面を樹
脂被膜で被覆したハニカム状構造物を得た。
【0021】次に、樹脂被膜上に無電解銅メッキ及び無
電解ニッケルメッキを次の条件下で施した。
【0022】メッキ触媒として塩化パラジウムと塩化錫
との混合液(奥野製薬社製:キャタリストA−30)5
0ml/l、塩酸160ml/l、水790ml/lを
混合した触媒浴を調製した。
【0023】前記樹脂被膜で被覆したハニカム状構造物
をこの触媒浴に25℃で2分間浸漬後水洗し、次いで活
性化浴として硫酸50ml/l、水950ml/lの混
合液に45℃、3分間浸漬して塩化パラジウムを樹脂被
膜に固着させた。
【0024】その後、水洗して表1に示す組成の無電解
銅メッキ浴に28℃で5分間浸漬し、均一な銅メッキ皮
膜を形成させた。
【0025】
【表1】 水洗後、前記同様に銅メッキ皮膜に塩化パラジウムを固
着させ水洗して、表2に示す組成の無電解ニッケル浴に
35℃で7分間浸漬し、均一なニッケル皮膜を形成させ
水洗後乾燥した。
【0026】
【表2】 上記の方法により、紙製ハニカム状構造物に難燃性(測
定結果は表−3に示す)を付与した電磁波シールド材
(測定結果は表−4に示す)を得た。
【0027】実施例2 紙製ハニカム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイ
ズ:3.2mm、厚さ:12.7mm、縦全長:600m
m、横全長:600mm)を、五酸化アンチモン(日産
化学工業社製:酸化アンチモンゾルA−2550)15
重量部、塩化ビニリデン共重合体(呉羽化学工業社製:
クレハロンVAT−S314)30重量部及び水55重
量部を混合して調製した樹脂水溶液に10分間浸漬後乾
燥する。このようにして、全表面を樹脂皮膜で被覆した
ハニカム状構造物を得た。
【0028】次に、樹脂皮膜上に実施例1と同じ条件に
より無電解銅メッキを施し、均一な銅メッキ皮膜を形成
せしめ、水洗後乾燥した。
【0029】上記の方法によって、紙製ハニカム状構造
物に難燃性(測定結果は表3に示す)を付与した電磁波
シールド材(測定結果は表4に示す)を得た。
【0030】実施例3 紙製ハニカム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイ
ズ:3.2mm、厚さ:12.7mm、縦全長:600m
m、横全長:600mm)を、五酸化アンチモン(日産
化学工業社製:酸化アンチモンゾルA−2550)10
重量部、酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体
(住友化学工業社製:スミカフレックスS−850)2
0重量部、塩化ビニリデン共重合体(呉羽化学工業社
製:クレハロンVAT−S314)20重量部及び水5
0重量部を混合して調製した樹脂液に10分間浸漬後乾
燥した。このようにして、全表面を樹脂皮膜で被覆した
ハニカム状構造物を得た。
【0031】次に、樹脂皮膜上に実施例1と同じ条件下
で無電解銅ニッケルメッキを施し、均一なニッケル皮膜
を形成せしめ、水洗後乾燥した。
【0032】前記の方法により、紙製ハニカム状構造物
に難燃性(測定結果は表3に示す)を付与した電磁波シ
ールド材(測定結果は表4に示す)を得た。
【0033】実施例4 紙製ハニカム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイ
ズ:3.2mm、厚さ:12.7mm、縦全長:600m
m、横全長:600mm)を、五酸化アンチモン(日産
化学工業社製:酸化アンチモンゾルA−2550)10
重量部、酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体
(住友化学工業社製:スミカフレックスS−850)2
0重量部、塩化ビニリデン共重合体(呉羽化学工業社
製:クレハロンVAT−S314)20重量部及び水5
0重量部を混合した樹脂液に10分間浸漬後乾燥した。
これにより、全表面を樹脂皮膜で被覆したハニカム状構
造物を得た。
【0034】次に、樹脂皮膜上に実施例1と同じ条件下
で無電解銅メッキ及び無電解銅ニッケルメッキを施し、
均一な銅とニッケルの複合皮膜を形成せしめ、水洗後乾
燥した。
【0035】上記方法により、紙製ハニカム状構造物に
難燃性(測定結果は表3に示す)を付与した電磁波シー
ルド材(測定結果は表4に示す)を得た。
【0036】比較例1 実施例1〜4で使ったと同じ素材の未処理の紙製ハニカ
ム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイズ:3.2m
m、厚さ:12.7mm、縦全長:600mm、横全
長:600mm)は表3に示すとおり燃焼した。
【0037】比較例2 紙製ハニカム状構造物(昭和飛行機工業製、セルサイ
ズ:3.2mm、厚さ:12.7mm、縦全長:600m
m、横全長:600mm)に、実施例1〜4で行った難
燃性樹脂処理を施すことなく、直接実施例1と同じ条件
下で、無電解銅メッキ及び無電解ニッケルメッキを施
し、銅とニッケルの複合皮膜を形成させた。このハニカ
ム状構造物は、金属被膜の密着性が悪く且つ不均一であ
り、その上燃焼試験の結果は表3に示すとおり可燃性で
あった。
【0038】〔難燃性試験〕実施例1〜4及び比較例
1、2で得た試料について、JIS L 1091A−
1法(45゜ミクロバーナー法:大栄化学製器製作所
製:難燃性試験器)に準じて試験を行った。その結果は
表3のとおりであった。
【0039】
【表3】
【0040】実施例1〜4はいずれもJIS法の判定基
準値以下で難燃性基準に合格している。
【0041】他方、比較例1、2は判定基準値をオーバ
ーし不合格である。
【0042】〔電磁波シールド効果の測定〕実施例1〜
4及び比較例2で得た電磁波シールド材を12cm〜1
2cmに切断し、タケダ理研TR4110試験器にて周
波数50MHZ〜1GHZのシールド効果を測定した。
その結果を表4に示す。
【0043】実施例1〜4で得た金属メッキしたハニカ
ム状構造物は電磁波シールド性能が良好であった。
【0044】比較例2で得たものは、電磁波シールド性
は殆どなかった。
【0045】
【表4】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紙製ハニカム状構造物に、五酸化アンチ
    モンと酢酸ビニル−エチレン−塩化ビニル共重合体及び
    /又は塩化ビニリデン共重合体との混合物で含浸処理し
    た後、無電解メッキ法により銅もしくはニッケルの被膜
    又は銅とニッケルの複合被膜を形成せしめることを特徴
    とする紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法。
JP19775393A 1993-07-16 1993-07-16 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法 Pending JPH0738277A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19775393A JPH0738277A (ja) 1993-07-16 1993-07-16 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19775393A JPH0738277A (ja) 1993-07-16 1993-07-16 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0738277A true JPH0738277A (ja) 1995-02-07

Family

ID=16379776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19775393A Pending JPH0738277A (ja) 1993-07-16 1993-07-16 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0738277A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016117961A (ja) * 2014-12-18 2016-06-30 積水ナノコートテクノロジー株式会社 新規繊維、その用途、及びその製造方法
US10112758B2 (en) 2013-11-26 2018-10-30 Ecolab Usa Inc. Product packaging containing a solid product block
US20200115598A1 (en) * 2017-06-07 2020-04-16 Luoyang Institute Of Cutting-Edge Technology Wave-absorbing impregnation glue liquid, wave-absorbing honeycomb, and preparation methods thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10112758B2 (en) 2013-11-26 2018-10-30 Ecolab Usa Inc. Product packaging containing a solid product block
JP2016117961A (ja) * 2014-12-18 2016-06-30 積水ナノコートテクノロジー株式会社 新規繊維、その用途、及びその製造方法
US20200115598A1 (en) * 2017-06-07 2020-04-16 Luoyang Institute Of Cutting-Edge Technology Wave-absorbing impregnation glue liquid, wave-absorbing honeycomb, and preparation methods thereof
US11866616B2 (en) * 2017-06-07 2024-01-09 Luoyang Institute Of Cutting-Edge Technology Wave-absorbing impregnation glue liquid, wave-absorbing honeycomb, and preparation methods thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0081129B1 (de) Verfahren zur Aktivierung von Substratoberflächen für die stromlose Metallisierung
TWI524939B (zh) 用於無電金屬化之安定催化劑
KR100188481B1 (ko) 유전기질과 도금기질을 직접 전기도금 하는 방법
EP0146152B1 (en) Solderable palladium-nickel coatings
DE3750282T2 (de) Verfahren zur Metallplattierung.
JPH05503121A (ja) 金属被覆用触媒性水溶性高分子フィルム
US5342501A (en) Method for electroplating metal onto a non-conductive substrate treated with basic accelerating solutions for metal plating
JP2006522216A (ja) 銀メッキ回路に適するように改良を受けさせたコーティング
US4734299A (en) Sensitizing agent for electroless plating and method for sensitizing substrate with the agent
US20170171982A1 (en) Environmentally friendly stable catalysts for electroless metallization of printed circuit boards and through-holes
DE69505626T2 (de) Verfahren zur selektiven Plattierung
JP6463013B2 (ja) 5員複素環式窒素化合物を含有する無電解メタライゼーション触媒
KR101849644B1 (ko) 인쇄 회로 기판 및 쓰루-홀의 무전해 금속화를 위한 환경친화적 안정한 촉매를 사용하는 무전해 도금 방법
JPH0738277A (ja) 紙製ハニカム状電磁波シールド材の製造法
KR20170074763A (ko) 인쇄 회로 기판 및 쓰루-홀의 무전해 금속화를 위한 환경친화적 안정한 촉매
JPH07302965A (ja) プリント回路基板の製造方法
EP3480339A1 (en) Electroless platinum plating bath
DE3239090A1 (de) Schwarz-metallisierte substratoberflaechen
KR100295144B1 (ko) 비전도성기재의표면에전도성금속을도금하는방법및이를위한촉진용액
JP2002030177A (ja) 難燃性を有する導電性多孔体およびその製造方法
EP1763594A1 (de) Verfahren zur verbesserung der lötbarkeit von nickelüberzügen
JP2000178753A (ja) 無電解めっき方法
KR890004785B1 (ko) 무전해 도금용 증감(增感)제 및 기질의 증감법
SU1348306A1 (ru) Способ металлизации тонких минеральных волокон
DE1910106C3 (de) Verfahren zur Vorbehandlung von Nichtleitermaterialien vor der stromlosen Nickel-Bor-Abscheidung