JPH073549A - ガイド用部材 - Google Patents
ガイド用部材Info
- Publication number
- JPH073549A JPH073549A JP14610593A JP14610593A JPH073549A JP H073549 A JPH073549 A JP H073549A JP 14610593 A JP14610593 A JP 14610593A JP 14610593 A JP14610593 A JP 14610593A JP H073549 A JPH073549 A JP H073549A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- ceramic coating
- surface roughness
- base material
- average
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- Fishing Rods (AREA)
- Yarns And Mechanical Finishing Of Yarns Or Ropes (AREA)
- Spinning Or Twisting Of Yarns (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】母材１上にセラミックス被覆層２を形成すると
ともに、その表面の平均凹凸径を２〜２０μｍとし、か
つ表面粗さ（Ｒａ）を０．２〜２．０μｍとしてガイド
用部材を構成する。 【効果】摺動特性及び耐摩耗性に優れた各種ガイドを得
ることができ、特に紡糸機械のガイドにおいて、今後糸
が益々高品質化、ファインデニール化していく中で、求
められる耐久性と摺動特性を満足するガイド用部材を提
供できる。
ともに、その表面の平均凹凸径を２〜２０μｍとし、か
つ表面粗さ（Ｒａ）を０．２〜２．０μｍとしてガイド
用部材を構成する。 【効果】摺動特性及び耐摩耗性に優れた各種ガイドを得
ることができ、特に紡糸機械のガイドにおいて、今後糸
が益々高品質化、ファインデニール化していく中で、求
められる耐久性と摺動特性を満足するガイド用部材を提
供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば紡績機械用糸ガ
イドや釣糸用ガイド、あるいはテープガイド等に用いら
れるガイド用部材に関するものである。
イドや釣糸用ガイド、あるいはテープガイド等に用いら
れるガイド用部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、紡績機械用糸ガイドの材質と
しては、アルミナやチタニア等のセラミックス、あるい
は金属材にＣｒメッキを施したものが用いられてきた
（例えば、特公昭５２−４８６４７号公報、特開昭５７
−１０２４７２号公報等参照）。また、近年では母材上
にセラミックスコーティングを施したガイドも用いられ
るようになった。
しては、アルミナやチタニア等のセラミックス、あるい
は金属材にＣｒメッキを施したものが用いられてきた
（例えば、特公昭５２−４８６４７号公報、特開昭５７
−１０２４７２号公報等参照）。また、近年では母材上
にセラミックスコーティングを施したガイドも用いられ
るようになった。
【０００３】さらに、近年、繊維業界では糸速を大幅に
向上することにより生産性を上げ、コストダウンに対応
している。しかし糸速が速くなるほど糸ガイドは熱を持
ちやすくなるため、熱の影響による糸の品質低下が問題
となる。そこで糸ガイドに要求される特性として特に低
摩擦係数を有することが重要となってきた。
向上することにより生産性を上げ、コストダウンに対応
している。しかし糸速が速くなるほど糸ガイドは熱を持
ちやすくなるため、熱の影響による糸の品質低下が問題
となる。そこで糸ガイドに要求される特性として特に低
摩擦係数を有することが重要となってきた。
【０００４】また、糸業界のもうひとつの流れとして、
糸の極細化による高品質化がある。具体的には従来の絹
や一般衣料用糸が１ｄ（デニール）または１．５〜５．
６ｄであるのに対して、極細糸（ファインデニール）と
して０．１〜０．００１ｄと糸の直径を１／５０〜１／
５０００とすることにより高品質化しようとするもので
ある。
糸の極細化による高品質化がある。具体的には従来の絹
や一般衣料用糸が１ｄ（デニール）または１．５〜５．
６ｄであるのに対して、極細糸（ファインデニール）と
して０．１〜０．００１ｄと糸の直径を１／５０〜１／
５０００とすることにより高品質化しようとするもので
ある。
【０００５】この結果、次の二つの理由により低摩擦係
数を有することが重要となってきた。ひとつは糸が細く
なるために糸とガイド間の摺動特性が糸の品質に大きく
影響するためであり、もうひとつは糸が大幅に細くなる
ことから従来と同じ生産量を維持するために紡糸速度を
大幅に向上する必要があるため、糸と糸ガイド間の摺動
特性が更に厳しくなるためである。
数を有することが重要となってきた。ひとつは糸が細く
なるために糸とガイド間の摺動特性が糸の品質に大きく
影響するためであり、もうひとつは糸が大幅に細くなる
ことから従来と同じ生産量を維持するために紡糸速度を
大幅に向上する必要があるため、糸と糸ガイド間の摺動
特性が更に厳しくなるためである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、これらの糸
ガイドに対する要求特性に対し、従来のセラミックス
材、セラミックスコーティング材とも低摩擦係数という
面で満足できない状況にあった。
ガイドに対する要求特性に対し、従来のセラミックス
材、セラミックスコーティング材とも低摩擦係数という
面で満足できない状況にあった。
【０００７】まず、チタニアセラミックスは最も古くよ
り糸ガイドとして用いられており、材質的に比較的軟ら
かいため糸との馴染みがよい反面、摩耗しやすく耐久性
に劣るという欠点を持っていた。そのため、近年は硬度
が高く耐摩耗性に優れるアルミナセラミックスが幅広く
使用されている。しかし、アルミナセラミックスは焼結
体表面の結晶が角張っているため、糸の傷つき防止の為
にバレル研磨等にて加工し、または更にミガキ加工を施
して製品化していた。そのため、摺動面が平坦になりす
ぎて摩擦係数が高くなるという問題があった。
り糸ガイドとして用いられており、材質的に比較的軟ら
かいため糸との馴染みがよい反面、摩耗しやすく耐久性
に劣るという欠点を持っていた。そのため、近年は硬度
が高く耐摩耗性に優れるアルミナセラミックスが幅広く
使用されている。しかし、アルミナセラミックスは焼結
体表面の結晶が角張っているため、糸の傷つき防止の為
にバレル研磨等にて加工し、または更にミガキ加工を施
して製品化していた。そのため、摺動面が平坦になりす
ぎて摩擦係数が高くなるという問題があった。
【０００８】また、セラミックスコーティング材は、被
覆層が微粒より構成され表面が平坦となるため摩擦係数
が高かった。そのため、糸ガイドとして使用した場合、
低摩擦係数という面で満足する特性が得られず、特に厳
しい摺動特性が要求される場合には使用されなかった。
覆層が微粒より構成され表面が平坦となるため摩擦係数
が高かった。そのため、糸ガイドとして使用した場合、
低摩擦係数という面で満足する特性が得られず、特に厳
しい摺動特性が要求される場合には使用されなかった。
【０００９】一方、Ｃｒメッキ材は低摩擦係数を有する
が、耐摩耗性に劣るという欠点を持っており、メッキが
剥がれやすいため長期使用できないという問題があっ
た。
が、耐摩耗性に劣るという欠点を持っており、メッキが
剥がれやすいため長期使用できないという問題があっ
た。
【００１０】このように、糸ガイドにおいて、耐久性と
低摩擦係数を共に満足する材料はなかった。
低摩擦係数を共に満足する材料はなかった。
【００１１】また、繊維以外の釣糸やテープなどのガイ
ド部材においても、同様に優れた耐摩耗性を維持したま
ま、摩擦係数を低くすることが求められているが、これ
らの要求特性を満たすことは困難であった。
ド部材においても、同様に優れた耐摩耗性を維持したま
ま、摩擦係数を低くすることが求められているが、これ
らの要求特性を満たすことは困難であった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記に鑑みて本発明者等
は、セラミックス被覆層の表面状態を制御することによ
り、摺動特性を向上できることを知見した。即ち、本願
発明によれば、母材上にセラミックス被覆層を形成する
とともに、その表面の平均凹凸径を２〜２０μｍとし、
かつ表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ）を０．２〜２．
０μｍとしたことを特徴とする。
は、セラミックス被覆層の表面状態を制御することによ
り、摺動特性を向上できることを知見した。即ち、本願
発明によれば、母材上にセラミックス被覆層を形成する
とともに、その表面の平均凹凸径を２〜２０μｍとし、
かつ表面粗さ（中心線平均粗さ：Ｒａ）を０．２〜２．
０μｍとしたことを特徴とする。
【００１３】なお、本発明における平均凹凸径とは、図
１に示すように、母材１上のセラミックス被覆層２の表
面に存在する凹凸形状を、各凹部で区切ったときのそれ
ぞれの凸部の径ｘの平均値のことを言う。この平均凹凸
径は、通常の平均結晶粒子径の測定と同様に、表面の電
子顕微鏡写真をもとにして測定することができる。
１に示すように、母材１上のセラミックス被覆層２の表
面に存在する凹凸形状を、各凹部で区切ったときのそれ
ぞれの凸部の径ｘの平均値のことを言う。この平均凹凸
径は、通常の平均結晶粒子径の測定と同様に、表面の電
子顕微鏡写真をもとにして測定することができる。
【００１４】このように、本発明では、大きな凹凸を持
ったセラミックス被覆層２を形成することが重要であ
る。つまり、従来のセラミックスコーティング材におけ
る被覆層は、極めて小さな結晶のものであるため母材の
凹凸を埋めてしまい、被覆層の表面状態が平坦となるも
のしか得られず、その結果摩擦係数が高かったのであ
る。この点に関し、本発明ではコーティング条件を調整
することにより、セラミックス被覆層２中に丸みを帯び
た大きな結晶を析出させることで、表面が小さな凹凸状
となり、耐摩耗性に優れるとともに優れた摺動特性を得
られるようにしたのである。
ったセラミックス被覆層２を形成することが重要であ
る。つまり、従来のセラミックスコーティング材におけ
る被覆層は、極めて小さな結晶のものであるため母材の
凹凸を埋めてしまい、被覆層の表面状態が平坦となるも
のしか得られず、その結果摩擦係数が高かったのであ
る。この点に関し、本発明ではコーティング条件を調整
することにより、セラミックス被覆層２中に丸みを帯び
た大きな結晶を析出させることで、表面が小さな凹凸状
となり、耐摩耗性に優れるとともに優れた摺動特性を得
られるようにしたのである。
【００１５】また、セラミックス被覆層２を形成するこ
とにより、丸味を帯びた凹凸形状が得られるため糸等に
ダメージを与えにくくすることができ、しかもセラミッ
クス被覆層２は高純度とできることから、不純物による
悪影響を防止できる。
とにより、丸味を帯びた凹凸形状が得られるため糸等に
ダメージを与えにくくすることができ、しかもセラミッ
クス被覆層２は高純度とできることから、不純物による
悪影響を防止できる。
【００１６】そして、本発明のセラミックス被覆層２の
平均凹凸径は、２〜２０μｍの範囲内であることが必要
である。これは、平均凹凸径が２μｍよりも小さいと表
面が滑らかになりすぎて低摩擦特性を示さなくなり、逆
に２０μｍより大きいと凹凸上面部にフラット形状が現
れることや、表面形状が不均一になりやすく低摩擦特性
を示さなくなるためである。特に、糸ガイドとして低摩
擦係数が要求される部位に使用される場合には、平均凹
凸径５〜１０μｍの範囲内のものが好ましい。これは、
摺動の際の接触点が少なく、非常に低い摩擦係数を示す
ためである。
平均凹凸径は、２〜２０μｍの範囲内であることが必要
である。これは、平均凹凸径が２μｍよりも小さいと表
面が滑らかになりすぎて低摩擦特性を示さなくなり、逆
に２０μｍより大きいと凹凸上面部にフラット形状が現
れることや、表面形状が不均一になりやすく低摩擦特性
を示さなくなるためである。特に、糸ガイドとして低摩
擦係数が要求される部位に使用される場合には、平均凹
凸径５〜１０μｍの範囲内のものが好ましい。これは、
摺動の際の接触点が少なく、非常に低い摩擦係数を示す
ためである。
【００１７】また本発明は、セラミックス被覆層２の表
面粗さ（Ｒａ）を０．２〜２．０μｍの範囲とすること
が必要である。これは、表面粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ
よりも小さければ摺動の際の接触点が多くなって低摩擦
特性を示さなくなり、逆に表面粗さ（Ｒａ）が２．０μ
ｍよりも大きくなれば、摺動の際形状的に引っかかりが
生じて低摩擦特性を示さなくなるためである。
面粗さ（Ｒａ）を０．２〜２．０μｍの範囲とすること
が必要である。これは、表面粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ
よりも小さければ摺動の際の接触点が多くなって低摩擦
特性を示さなくなり、逆に表面粗さ（Ｒａ）が２．０μ
ｍよりも大きくなれば、摺動の際形状的に引っかかりが
生じて低摩擦特性を示さなくなるためである。
【００１８】なお、このようなセラミックス被覆層２を
得るためには、予め母材１の表面粗さ（Ｒａ）を０．２
〜２．０μｍの範囲内としておいて、この上に膜厚１．
０〜１０μｍの範囲内でＣＶＤ法やＰＶＤ法等の通常の
コーティング方法を用いてセラミックス被覆層２を形成
し、その条件をコントロールすることによって所定の平
均凹凸径、表面粗さとすることができる。例えば、プラ
ズマＣＶＤを行う際の温度を低くすれば、凹凸を大きく
することができる。
得るためには、予め母材１の表面粗さ（Ｒａ）を０．２
〜２．０μｍの範囲内としておいて、この上に膜厚１．
０〜１０μｍの範囲内でＣＶＤ法やＰＶＤ法等の通常の
コーティング方法を用いてセラミックス被覆層２を形成
し、その条件をコントロールすることによって所定の平
均凹凸径、表面粗さとすることができる。例えば、プラ
ズマＣＶＤを行う際の温度を低くすれば、凹凸を大きく
することができる。
【００１９】また、本発明において、セラミックス被覆
層２の材質としては、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 等の酸化物、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、
ＴａＣ等の炭化物、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＮ、ＺｒＮ、Ａｌ
Ｎ、ＴａＮ等の窒化物、ＴｉＢ2、ＺｒＢ等のホウ化物
のうち一種以上を用いる。また、母材１はアルミナ、ジ
ルコニア、炭化珪素、窒化珪素等のセラミックスや、サ
ーメット、超硬合金、あるいは金属材等を用いるが、高
剛性で熱膨張率が被覆層と一致するように、母材１もセ
ラミックスとすることが好ましい。
層２の材質としては、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、ＴｉＯ2 等の酸化物、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、
ＴａＣ等の炭化物、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＮ、ＺｒＮ、Ａｌ
Ｎ、ＴａＮ等の窒化物、ＴｉＢ2、ＺｒＢ等のホウ化物
のうち一種以上を用いる。また、母材１はアルミナ、ジ
ルコニア、炭化珪素、窒化珪素等のセラミックスや、サ
ーメット、超硬合金、あるいは金属材等を用いるが、高
剛性で熱膨張率が被覆層と一致するように、母材１もセ
ラミックスとすることが好ましい。
【００２０】
【実施例】以下本発明の実施例を説明する。
【００２１】Ａｌ2 Ｏ3 またはＳｉＣの母材１に、セラ
ミックス被覆層２としてＡｌ2 Ｏ3またはＳｉＣを３μ
ｍの厚みでプラズマＣＶＤ法により被着した。このと
き、母材の表面粗さや、プラズマＣＶＤの条件を変化さ
せることによって、表１に示すように、セラミックス被
覆層２の平均凹凸径や表面粗さをさまざまに変化させ
た。また、比較例として、従来の金属製母材上にＣｒメ
ッキを施したものなどを用意した。
ミックス被覆層２としてＡｌ2 Ｏ3またはＳｉＣを３μ
ｍの厚みでプラズマＣＶＤ法により被着した。このと
き、母材の表面粗さや、プラズマＣＶＤの条件を変化さ
せることによって、表１に示すように、セラミックス被
覆層２の平均凹凸径や表面粗さをさまざまに変化させ
た。また、比較例として、従来の金属製母材上にＣｒメ
ッキを施したものなどを用意した。
【００２２】それぞれ、被覆層の平均凹凸径、表面粗
さ、表面のビッカース硬度を測定し、表２に示す条件で
糸を摺動させた時の摩擦係数を測定した。結果は表１に
示す通りである。
さ、表面のビッカース硬度を測定し、表２に示す条件で
糸を摺動させた時の摩擦係数を測定した。結果は表１に
示す通りである。
【００２３】なお、平均凹凸径は、表面の電子顕微鏡写
真上に任意に８ｃｍの直線を３本引き、この線上にある
凸部の数をＮとして 平均凹凸径（μｍ）＝８０×３÷５６２÷Ｎ により算出した。また表面粗さは、中心線平均粗さＲａ
（μｍ）を測定した。
真上に任意に８ｃｍの直線を３本引き、この線上にある
凸部の数をＮとして 平均凹凸径（μｍ）＝８０×３÷５６２÷Ｎ により算出した。また表面粗さは、中心線平均粗さＲａ
（μｍ）を測定した。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】表１より、Ｎｏ．８は従来のＣｒメッキ材
であり、摩擦係数は低いものの、ビッカース硬度が８０
０ｋｇ／ｍｍ2 と低く耐摩耗性が悪いものであった。ま
た、Ｎｏ．７は従来のセラミックコーティング材である
が、被覆層の凹凸径が２μｍよりも小さいために表面が
フラットとなり、摩擦係数が０．３１と高かった。な
お、このセラミックコーティング材において、表面の粗
い母材を用いると、均一な表面が得られず摺動部材とし
て適さないものであった。
であり、摩擦係数は低いものの、ビッカース硬度が８０
０ｋｇ／ｍｍ2 と低く耐摩耗性が悪いものであった。ま
た、Ｎｏ．７は従来のセラミックコーティング材である
が、被覆層の凹凸径が２μｍよりも小さいために表面が
フラットとなり、摩擦係数が０．３１と高かった。な
お、このセラミックコーティング材において、表面の粗
い母材を用いると、均一な表面が得られず摺動部材とし
て適さないものであった。
【００２７】また、Ｎｏ．６は被覆層が大きな凹凸を持
っているが、表面粗さが０．１μｍと小さく、表面がフ
ラットであるために高い摩擦係数となった。
っているが、表面粗さが０．１μｍと小さく、表面がフ
ラットであるために高い摩擦係数となった。
【００２８】これらに対し、Ｎｏ．１〜５に示す本発明
実施例は、表面粗さ０．２〜２．０μｍの範囲内で、被
覆層の平均凹凸径が２〜２０μｍの範囲内であることか
ら、摩擦係数を０．２７以下と小さくすることができ
た。特に表面粗さを１．０μｍ以上、平均凹凸径を５〜
１０μｍとしたＮｏ．２、３、５の実施例では、摩擦係
数０．２２以下と従来のＣｒメッキ材よりも優れた摩擦
係数であった。また、これらの実施例では、表面に高純
度のＡｌ2 Ｏ3 またはＳｉＣよりなる被覆層があるた
め、ビッカース硬度が２０００〜３０００ｋｇ／ｍｍ2
と高く、優れた耐摩耗性を有することも確認された。
実施例は、表面粗さ０．２〜２．０μｍの範囲内で、被
覆層の平均凹凸径が２〜２０μｍの範囲内であることか
ら、摩擦係数を０．２７以下と小さくすることができ
た。特に表面粗さを１．０μｍ以上、平均凹凸径を５〜
１０μｍとしたＮｏ．２、３、５の実施例では、摩擦係
数０．２２以下と従来のＣｒメッキ材よりも優れた摩擦
係数であった。また、これらの実施例では、表面に高純
度のＡｌ2 Ｏ3 またはＳｉＣよりなる被覆層があるた
め、ビッカース硬度が２０００〜３０００ｋｇ／ｍｍ2
と高く、優れた耐摩耗性を有することも確認された。
【００２９】以上の実施例では、母材および被覆層にＡ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣを用いたものを示したが、その他のＺ
ｒＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＢ2 等を用いても全く同様で
ある。さらに、本発明は糸ガイドに限らず、さまざまな
ガイド用部材として適用できることは言うまでもない。
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＣを用いたものを示したが、その他のＺ
ｒＯ2 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＢ2 等を用いても全く同様で
ある。さらに、本発明は糸ガイドに限らず、さまざまな
ガイド用部材として適用できることは言うまでもない。
【００３０】
【発明の効果】このように本発明によれば、母材上にセ
ラミックス被覆層を形成するとともに、その表面の平均
凹凸径を２〜２０μｍとし、かつ表面粗さ（Ｒａ）を
０．２〜２．０μｍとしてガイド用部材を構成したこと
によって、摺動特性及び耐摩耗性に優れた各種ガイドを
得ることができる。したがって、特に紡糸機械のガイド
において、今後糸が益々高品質化、ファインデニール化
していく中で、求められる耐久性と摺動特性を満足する
ガイド用部材を提供することができる。
ラミックス被覆層を形成するとともに、その表面の平均
凹凸径を２〜２０μｍとし、かつ表面粗さ（Ｒａ）を
０．２〜２．０μｍとしてガイド用部材を構成したこと
によって、摺動特性及び耐摩耗性に優れた各種ガイドを
得ることができる。したがって、特に紡糸機械のガイド
において、今後糸が益々高品質化、ファインデニール化
していく中で、求められる耐久性と摺動特性を満足する
ガイド用部材を提供することができる。
【図１】本発明のガイド用部材の断面を示す模式図であ
る。
る。
１：母材 ２：セラミックス被覆層
Claims (1)
- 【請求項１】母材上にセラミックス被覆層を形成すると
ともに、該セラミックス被覆層表面の平均凹凸径を２〜
２０μｍとし、かつ表面粗さ（Ｒａ）を０．２〜２．０
μｍとしたことを特徴とするガイド用部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610593A JP3380291B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ガイド用部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14610593A JP3380291B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ガイド用部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH073549A true JPH073549A (ja) | 1995-01-06 |
| JP3380291B2 JP3380291B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=15400267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14610593A Expired - Fee Related JP3380291B2 (ja) | 1993-06-17 | 1993-06-17 | ガイド用部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3380291B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09143825A (ja) * | 1995-11-21 | 1997-06-03 | Toray Ind Inc | 糸条の捲縮加工装置 |
| KR20010067620A (ko) * | 2001-02-23 | 2001-07-13 | 이해덕 | 플라즈마 용사법을 이용한 연사기용 스핀들 디스크 제조방법 |
| JP2005036377A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-02-10 | Toray Ind Inc | 製糸用糸道部材およびその製造方法ならびにそれを用いた合成繊維の製糸方法 |
| WO2008049825A1 (de) * | 2006-10-26 | 2008-05-02 | Oerlikon Textile Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur führung oder behandlung eines multifilen fadens sowie verfahren zur herstellung einer keramikoberfläche |
| JP2011089237A (ja) * | 2009-10-26 | 2011-05-06 | Tmt Machinery Inc | 糸条交絡装置 |
| US8435624B2 (en) | 2003-10-13 | 2013-05-07 | Imperial College Innovations Limited | Wear-resisting surface structure |
-
1993
- 1993-06-17 JP JP14610593A patent/JP3380291B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2011089237A (ja) * | 2009-10-26 | 2011-05-06 | Tmt Machinery Inc | 糸条交絡装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3380291B2 (ja) | 2003-02-24 |
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