JPH07328784A - レーザ加工機における光路系の保護方法及び装置並びに同装置を備えてなるレーザ加工機 - Google Patents
レーザ加工機における光路系の保護方法及び装置並びに同装置を備えてなるレーザ加工機Info
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- JPH07328784A JPH07328784A JP6123546A JP12354694A JPH07328784A JP H07328784 A JPH07328784 A JP H07328784A JP 6123546 A JP6123546 A JP 6123546A JP 12354694 A JP12354694 A JP 12354694A JP H07328784 A JPH07328784 A JP H07328784A
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ加工機における光路系の光学部品の劣
化防止を図ることを目的とする。 【構成】 上記目的を達成するために、レーザ加工機に
おける光路系の保護方法にして、空気中の窒素と酸素と
を分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する（ａ）工程
と、上記分離装置によって分離された窒素リッチガス
を、レーザ加工機における光路カバー内へ導入し、上記
光路カバー内を外気圧より高圧に保持する（ｂ）工程よ
りなる保護方法である。また、レーザ加工機における光
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなるものであ
る。
化防止を図ることを目的とする。 【構成】 上記目的を達成するために、レーザ加工機に
おける光路系の保護方法にして、空気中の窒素と酸素と
を分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する（ａ）工程
と、上記分離装置によって分離された窒素リッチガス
を、レーザ加工機における光路カバー内へ導入し、上記
光路カバー内を外気圧より高圧に保持する（ｂ）工程よ
りなる保護方法である。また、レーザ加工機における光
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなるものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ加工機における
光路系の保護方法及び装置並びに同装置を備えてなるレ
ーザ加工機に関する。
光路系の保護方法及び装置並びに同装置を備えてなるレ
ーザ加工機に関する。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、レーザ加工機はレーザ発
振器とレーザ加工ヘッドを備えており、上記レーザ発振
器とレーザ加工ヘッドとの間には、レーザ発振器からの
レーザビームをレーザ加工ヘッドへ導くための複数ベン
ドミラーが配置してある。
振器とレーザ加工ヘッドを備えており、上記レーザ発振
器とレーザ加工ヘッドとの間には、レーザ発振器からの
レーザビームをレーザ加工ヘッドへ導くための複数ベン
ドミラーが配置してある。
【０００３】前記レーザ発振器からレーザ加工ヘッドに
至るレーザビームの通路は光路系と呼称され、危険防止
および防塵を図るために、上記光路系はパイプ部材によ
って外気と区画してあるのが一般的である。
至るレーザビームの通路は光路系と呼称され、危険防止
および防塵を図るために、上記光路系はパイプ部材によ
って外気と区画してあるのが一般的である。
【０００４】前記レーザ加工ヘッドが移動自在な構成に
おいては、レーザ発振器からレーザ加工ヘッドに至る光
路長が変化するので、例えば蛇腹、テレスコピックチュ
ーブ等を使用した構成となっている。
おいては、レーザ発振器からレーザ加工ヘッドに至る光
路長が変化するので、例えば蛇腹、テレスコピックチュ
ーブ等を使用した構成となっている。
【０００５】そして、外気が光路系内に侵入することを
防止すべく、ドライエアユニットによって清浄し乾燥し
た空気を前記光路系内へ供給し、前記ベンドミラー，レ
ンズ等の光学部品の保護を図っている。
防止すべく、ドライエアユニットによって清浄し乾燥し
た空気を前記光路系内へ供給し、前記ベンドミラー，レ
ンズ等の光学部品の保護を図っている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述のごとき従来の構
成においては、清浄しかつ乾燥した空気を光路系内へ供
給することによって外気の侵入を防止しているので、光
路系内は外気に比較して塵埃等が極めて少ないものの、
前記空気中に含まれる酸素、微量水分によって、光学部
品は長時間使用すると劣化することがある。
成においては、清浄しかつ乾燥した空気を光路系内へ供
給することによって外気の侵入を防止しているので、光
路系内は外気に比較して塵埃等が極めて少ないものの、
前記空気中に含まれる酸素、微量水分によって、光学部
品は長時間使用すると劣化することがある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述のごとき従来の問題
に鑑みて、本発明の光路系の保護方法は、空気中の窒素
と酸素とを分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する
（ａ）工程と；上記分離装置によって分離された窒素リ
ッチガスを、レーザ加工機における光路カバー内へ導入
し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
（ｂ）工程とよりなる光路系の保護方法である。
に鑑みて、本発明の光路系の保護方法は、空気中の窒素
と酸素とを分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する
（ａ）工程と；上記分離装置によって分離された窒素リ
ッチガスを、レーザ加工機における光路カバー内へ導入
し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
（ｂ）工程とよりなる光路系の保護方法である。
【０００８】また、レーザ加工機における光路系の保護
方法にして、空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装
置へ圧縮空気を供給する（ａ）工程と；上記分離装置に
よって分離された窒素リッチガスを、オイルミストを除
去するフィルタを介してレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導入し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保
持する（ｂ）工程とよりなる光路系の保護方法である。
方法にして、空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装
置へ圧縮空気を供給する（ａ）工程と；上記分離装置に
よって分離された窒素リッチガスを、オイルミストを除
去するフィルタを介してレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導入し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保
持する（ｂ）工程とよりなる光路系の保護方法である。
【０００９】また、本発明は、レーザ加工機における光
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなるレーザ加工
機における光路系保護装置である。
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなるレーザ加工
機における光路系保護装置である。
【００１０】また、さらに、窒素リッチガスをレーザ加
工における光路カバー内へ導く導管に、窒素リッチガス
中のオイルミストの除去を行うフィルタを設けてなるレ
ーザ加工機における光路系保護装置である。
工における光路カバー内へ導く導管に、窒素リッチガス
中のオイルミストの除去を行うフィルタを設けてなるレ
ーザ加工機における光路系保護装置である。
【００１１】さらに本発明は、圧縮空中の塵埃を除去す
るフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒
素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によっ
て分離された窒素リッチガスをレーザ加工機における光
路カバー内へ導く第１の導管と、前記光路カバー内の窒
素リッチガスを、レーザ加工機における加工ヘッドへ導
く第２の導管と、を備えてなるレーザ加工機である。
るフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒
素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によっ
て分離された窒素リッチガスをレーザ加工機における光
路カバー内へ導く第１の導管と、前記光路カバー内の窒
素リッチガスを、レーザ加工機における加工ヘッドへ導
く第２の導管と、を備えてなるレーザ加工機である。
【００１２】また、第１の導管に、窒素リッチガス内の
オイルミストを除去するフィルタを設けてなるレーザ加
工機である。
オイルミストを除去するフィルタを設けてなるレーザ加
工機である。
【００１３】さらに、圧縮空気中の塵埃を除去するフィ
ルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸
素とを分離する分離装置と、この分離装置によって分離
された窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導く導管と、上記窒素リッチガスをレーザ加工機
の加工ヘッドへ導くべく前記導管から分岐した分岐管
と、を備えてなるレーザ加工機である。
ルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸
素とを分離する分離装置と、この分離装置によって分離
された窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導く導管と、上記窒素リッチガスをレーザ加工機
の加工ヘッドへ導くべく前記導管から分岐した分岐管
と、を備えてなるレーザ加工機である。
【００１４】また、導管に、窒素リッチガス内のオイル
ミストを除去するフィルタを設けてなるレーザ加工機で
ある。
ミストを除去するフィルタを設けてなるレーザ加工機で
ある。
【００１５】
【作用】前記構成により、本発明においては、圧縮空気
を分離装置に供給して窒素と酸素に分離し、この分離装
置によって分離された窒素リッチガスを光路系のカバー
内へ導入し、かつ外気圧より高圧に保持るものである。
を分離装置に供給して窒素と酸素に分離し、この分離装
置によって分離された窒素リッチガスを光路系のカバー
内へ導入し、かつ外気圧より高圧に保持るものである。
【００１６】したがって、外気が光路系内に侵入するこ
とが防止できると共に、光路系内の空気は窒素が極めて
多く、かつ水分及び酸素が極めて少ない状態の空気とな
り、空気中の酸素や水分による光学部品の劣化を防止す
るとができるものである。
とが防止できると共に、光路系内の空気は窒素が極めて
多く、かつ水分及び酸素が極めて少ない状態の空気とな
り、空気中の酸素や水分による光学部品の劣化を防止す
るとができるものである。
【００１７】
【実施例】第１図を参照するに、概略的に示しように、
レーザ加工機１はレーザ発振器３を備えると共に集光レ
ンズ５を備えたレーザ加工ヘッド７を備えている。上記
レーザ発振器３とレーザ加工ヘッド７は、上記レーザ発
振器３から発振されたレーザビームＬＢを前記レーザ加
工ヘッド７へ導くための複数のベンドミラー９を備え、
かつ適宜の光路カバー１１を備えてなる光路系１３によ
って接続されている。
レーザ加工機１はレーザ発振器３を備えると共に集光レ
ンズ５を備えたレーザ加工ヘッド７を備えている。上記
レーザ発振器３とレーザ加工ヘッド７は、上記レーザ発
振器３から発振されたレーザビームＬＢを前記レーザ加
工ヘッド７へ導くための複数のベンドミラー９を備え、
かつ適宜の光路カバー１１を備えてなる光路系１３によ
って接続されている。
【００１８】上記光路カバー１１は、例えば適宜形状の
パイプ部材、蛇腹、テレスコピックチューブ等よりなる
ものであって、その構成は従来の構成と同一であるか
ら、光路系１３のより詳細については説明を省略する。
パイプ部材、蛇腹、テレスコピックチューブ等よりなる
ものであって、その構成は従来の構成と同一であるか
ら、光路系１３のより詳細については説明を省略する。
【００１９】前記光路系カバー１１内へ窒素リッチガス
を供給して光路系の保護を行うために、圧縮空気中の窒
素と酸素とを分離する分離装置１５が設けてある。
を供給して光路系の保護を行うために、圧縮空気中の窒
素と酸素とを分離する分離装置１５が設けてある。
【００２０】この分離装置１５は、ポリイミド製の中空
糸膜が空気中の窒素よりも酸素を透過し易い性質を利用
したもので、多数本の中空糸をまとめて容器に入れても
モジュール化してある。
糸膜が空気中の窒素よりも酸素を透過し易い性質を利用
したもので、多数本の中空糸をまとめて容器に入れても
モジュール化してある。
【００２１】この分離装置１５においては、入口１５Ａ
から圧縮空気を供給すると、圧縮空気が中空糸膜内を流
れていく間に空気中の酸素，水分，オイルミストが選択
的に膜を透過するので、第１出口１５Ｂからは窒素リッ
チガス（純度９９．５％〜９４％）を得ることができ
る。そして、中空糸膜を透過した酸素，水分，オイルミ
ストは第２出口１５Ｃから酸素リッチガスとして排出さ
れる。
から圧縮空気を供給すると、圧縮空気が中空糸膜内を流
れていく間に空気中の酸素，水分，オイルミストが選択
的に膜を透過するので、第１出口１５Ｂからは窒素リッ
チガス（純度９９．５％〜９４％）を得ることができ
る。そして、中空糸膜を透過した酸素，水分，オイルミ
ストは第２出口１５Ｃから酸素リッチガスとして排出さ
れる。
【００２２】前記窒素リッチガスは、空気中の酸素，水
分，オイルミストを除去した窒素ガス（純度９９．５％
〜９４％）であって、大気圧露点で−５０度以上のドラ
イエアー（窒素）である。通常の冷凍機ドライヤーの大
気圧露点が−１０度程度であるから、前記窒素リッチガ
スは、光路系１３の保護に極めて有利であることが理解
されよう。
分，オイルミストを除去した窒素ガス（純度９９．５％
〜９４％）であって、大気圧露点で−５０度以上のドラ
イエアー（窒素）である。通常の冷凍機ドライヤーの大
気圧露点が−１０度程度であるから、前記窒素リッチガ
スは、光路系１３の保護に極めて有利であることが理解
されよう。
【００２３】前記分離装置１５へ圧縮空気を供給するた
めに、例えばコンプレッサのごとき圧力源１７と分離装
置１５の入口１５Ａは、圧力源１７から得られる高圧空
気に含まれる塵及びオイルミストを除去するためのフィ
ルタ１９を介して接続してある。
めに、例えばコンプレッサのごとき圧力源１７と分離装
置１５の入口１５Ａは、圧力源１７から得られる高圧空
気に含まれる塵及びオイルミストを除去するためのフィ
ルタ１９を介して接続してある。
【００２４】そして、前記分離装置１５によって分離さ
れた窒素リッチガスを光路系１３における前記光路カバ
ー１１内へ供給するために、当該光路カバー１１の適宜
位置に設けた接続口２１と前記分離装置１５の第１の出
口１５Ｂは導管（パイプ）２３を介して接続してある。
れた窒素リッチガスを光路系１３における前記光路カバ
ー１１内へ供給するために、当該光路カバー１１の適宜
位置に設けた接続口２１と前記分離装置１５の第１の出
口１５Ｂは導管（パイプ）２３を介して接続してある。
【００２５】なお、分離装置１５における第２出口１５
Ｃは大気圧に開放してある。
Ｃは大気圧に開放してある。
【００２６】上記構成により、圧力源１７からの圧縮空
気はフィルタ１９を通過することにより塵，オイルミス
トを除去して分離装置１５の入口１５Ａに供給される。
気はフィルタ１９を通過することにより塵，オイルミス
トを除去して分離装置１５の入口１５Ａに供給される。
【００２７】上記入口１５Ａから分離装置１５内へ供給
された圧縮空気は、中空糸膜内を通過する際に、酸素、
水分、オイルミスト（前記フィルタによって除去されず
に通過した残りのオイルミスト）と窒素とに分離され、
分離装置１５の第１出口１５Ｂから純度９４％〜９９．
５％の窒素ガス（窒素リッチガス）が排出される。そし
て、第２出口１５Ｃからは中空糸膜を透過した酸素等が
酸素リッチガスとして排出される。
された圧縮空気は、中空糸膜内を通過する際に、酸素、
水分、オイルミスト（前記フィルタによって除去されず
に通過した残りのオイルミスト）と窒素とに分離され、
分離装置１５の第１出口１５Ｂから純度９４％〜９９．
５％の窒素ガス（窒素リッチガス）が排出される。そし
て、第２出口１５Ｃからは中空糸膜を透過した酸素等が
酸素リッチガスとして排出される。
【００２８】この際、前記窒素リッチガスは大気圧露点
で−５０度以上のドライエアーであり、この窒素リッチ
ガスが導管２３を介して光路系１３の光路系カバー１１
内へ供給され、当該光路カバー１１内は大気圧よりも高
圧に保持される。
で−５０度以上のドライエアーであり、この窒素リッチ
ガスが導管２３を介して光路系１３の光路系カバー１１
内へ供給され、当該光路カバー１１内は大気圧よりも高
圧に保持される。
【００２９】すなわち、光路カバー１１内は大気圧より
も高圧であり、しかも酸素が極めて少ないドライエアー
（窒素純度９４％〜９９．５％）であるから、光路カバ
ー１１の火災事故やベンドミラー９等の光学部品の保護
を行うことができ、かつ従来よりも光学部品の劣化が少
なくなり長寿命化を図ることができるものである。
も高圧であり、しかも酸素が極めて少ないドライエアー
（窒素純度９４％〜９９．５％）であるから、光路カバ
ー１１の火災事故やベンドミラー９等の光学部品の保護
を行うことができ、かつ従来よりも光学部品の劣化が少
なくなり長寿命化を図ることができるものである。
【００３０】ところで、上記説明は、光路カバー１１内
へ窒素リッチガスを単に導入して光路系１３の保護を行
う場合について説明した。しかし、ベンドミラー９へド
ライエアーを直接噴射してベンドミラー９の保護，清掃
を行うことも考えられるので、念のために図２（Ａ）に
示すごとき試験を行った。
へ窒素リッチガスを単に導入して光路系１３の保護を行
う場合について説明した。しかし、ベンドミラー９へド
ライエアーを直接噴射してベンドミラー９の保護，清掃
を行うことも考えられるので、念のために図２（Ａ）に
示すごとき試験を行った。
【００３１】図２（Ａ）の構成は、大気中に放置したミ
ラー２５と前記分離装置１５の第１出口１５ｂに接続し
た前記導管２３に代えて接続した接続管２７の端部２７
Ｅとの間隔を約５０mmに保持し、かつ外部の空中の流入
を防止するために円錐形状のカバー２９を接続管２７の
端部付近に取付けた構成である。
ラー２５と前記分離装置１５の第１出口１５ｂに接続し
た前記導管２３に代えて接続した接続管２７の端部２７
Ｅとの間隔を約５０mmに保持し、かつ外部の空中の流入
を防止するために円錐形状のカバー２９を接続管２７の
端部付近に取付けた構成である。
【００３２】上記構成においてミラー２５へ窒素リッチ
ガスを直接噴射したところ、６時間後にミラー２５の表
面にオイルミスト３１の付着が表われた。
ガスを直接噴射したところ、６時間後にミラー２５の表
面にオイルミスト３１の付着が表われた。
【００３３】したがって、窒素リッチガス中に微量のオ
イルミストが存在するものであり、前記ベンドミラー９
へ窒素リッチガスを直接噴射して常に清掃する構成とし
た場合、短時間使用でベンドミラー９の劣化は生じない
ものの、長時間（６時間以上）の使用の場合にはベンド
ミラー９の劣化が生じる虞れが大きい。
イルミストが存在するものであり、前記ベンドミラー９
へ窒素リッチガスを直接噴射して常に清掃する構成とし
た場合、短時間使用でベンドミラー９の劣化は生じない
ものの、長時間（６時間以上）の使用の場合にはベンド
ミラー９の劣化が生じる虞れが大きい。
【００３４】したがって、次に図２（Ｂ）に示すよう
に、接続管２７に活性炭入りフィルタ３３を接続し、同
一条件の下で同一試験を行ったところ、４００時間後に
おいてもオイルミストの付着は表われなかった。すなわ
ち、活性炭入りのフィルタ３３はオイルミストの除去に
極めて有効であることが理解できる。
に、接続管２７に活性炭入りフィルタ３３を接続し、同
一条件の下で同一試験を行ったところ、４００時間後に
おいてもオイルミストの付着は表われなかった。すなわ
ち、活性炭入りのフィルタ３３はオイルミストの除去に
極めて有効であることが理解できる。
【００３５】そこで、図１の構成において、微量に残留
するオイルミストを確実に除去するために、導管２３に
活性炭入りフィルタ３３を接続することが望ましいもの
である。
するオイルミストを確実に除去するために、導管２３に
活性炭入りフィルタ３３を接続することが望ましいもの
である。
【００３６】ところで、既に理解されるように、上記活
性炭入りフィルタ３３を前記フィルタ１９と分離装置１
５の入口１５Ａとの間に接続することも可能である。し
かし、この場合には、分離装置１５へ供給される圧縮空
気の全量について処理しなければならないので、フィル
タ３３の寿命を考慮すると、処理量の少ない前記導管２
３側に接続する方が有利であることが理解されよう。
性炭入りフィルタ３３を前記フィルタ１９と分離装置１
５の入口１５Ａとの間に接続することも可能である。し
かし、この場合には、分離装置１５へ供給される圧縮空
気の全量について処理しなければならないので、フィル
タ３３の寿命を考慮すると、処理量の少ない前記導管２
３側に接続する方が有利であることが理解されよう。
【００３７】前記光学系１３における光路カバー１１内
の圧力は、例えば光路カバー１１の接続部などの適宜の
間隙から内部の窒素リッチガスの１部が外部へ流出する
構成として光路カバー１１内を大気圧（外気圧）より高
圧に保持することができる。
の圧力は、例えば光路カバー１１の接続部などの適宜の
間隙から内部の窒素リッチガスの１部が外部へ流出する
構成として光路カバー１１内を大気圧（外気圧）より高
圧に保持することができる。
【００３８】しかし、本実施例においては、光路カバー
１１内の圧力を一定に安定した状態に保持するために、
光路カバー１１の１部に排気口３４を設け、この排気口
３４にリリーフ弁３５を接続してある。
１１内の圧力を一定に安定した状態に保持するために、
光路カバー１１の１部に排気口３４を設け、この排気口
３４にリリーフ弁３５を接続してある。
【００３９】したがって、光路カバー１１内の圧力はリ
リーフ弁３５によって調節設定される圧力に保持される
ものであって、例えばレーザ加工ヘッド７の移動によっ
て光路カバー１１内の体積が縮小し圧力が上昇する傾向
にある場合あっても、常に一定に保持されるものであ
り、圧力変動によってベンドミラー９に微小歪み等の悪
影響を付与するようなことがないものである。
リーフ弁３５によって調節設定される圧力に保持される
ものであって、例えばレーザ加工ヘッド７の移動によっ
て光路カバー１１内の体積が縮小し圧力が上昇する傾向
にある場合あっても、常に一定に保持されるものであ
り、圧力変動によってベンドミラー９に微小歪み等の悪
影響を付与するようなことがないものである。
【００４０】また、本実施例においては、窒素リッチガ
スの有効利用を図るために、前記排出口３４とレーザ加
工ヘッド７は開閉弁３７を配置した導管３９を介して接
続してある。
スの有効利用を図るために、前記排出口３４とレーザ加
工ヘッド７は開閉弁３７を配置した導管３９を介して接
続してある。
【００４１】したがって、必要によっては光路カバー１
１内の窒素リッチガスをアシストガスとして使用するこ
とができ、窒素リッチガスを有効に利用することができ
るものである。
１内の窒素リッチガスをアシストガスとして使用するこ
とができ、窒素リッチガスを有効に利用することができ
るものである。
【００４２】なお、前記導管２３から分岐した分岐管４
１を設け、この分岐管４１の可変に絞り弁４３を接続
し、かつレーザ加工ヘッド４１に接続する構成とするこ
ともでき、望ましいものである。
１を設け、この分岐管４１の可変に絞り弁４３を接続
し、かつレーザ加工ヘッド４１に接続する構成とするこ
ともでき、望ましいものである。
【００４３】この場合は、導管２３内の窒素リッチガス
が充分であることにより、光路カバー１１内の圧力に影
響を与えることなく、窒素リッチガスをアシストガスと
して充分に使用することができる。
が充分であることにより、光路カバー１１内の圧力に影
響を与えることなく、窒素リッチガスをアシストガスと
して充分に使用することができる。
【００４４】
【発明の効果】以上のごとき実施例の説明より理解され
るように、本発明の光路系の保護方法は、空気中の窒素
と酸素とを分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する
（ａ）工程と；上記分離装置によって分離された窒素リ
ッチガスを、レーザ加工機における光路カバー内へ導入
し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
（ｂ）工程とよりなる保護方法であるから、光路カバー
内の酸素，水分の量が極めて少なく窒素が多いので、火
災故事防止に有効であると共に、光学部品の酸化等によ
る劣化を防止できるものである。
るように、本発明の光路系の保護方法は、空気中の窒素
と酸素とを分離可能な分離装置へ圧縮空気を供給する
（ａ）工程と；上記分離装置によって分離された窒素リ
ッチガスを、レーザ加工機における光路カバー内へ導入
し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
（ｂ）工程とよりなる保護方法であるから、光路カバー
内の酸素，水分の量が極めて少なく窒素が多いので、火
災故事防止に有効であると共に、光学部品の酸化等によ
る劣化を防止できるものである。
【００４５】また、レーザ加工機における光路系の保護
方法として、空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装
置へ圧縮空気を供給する工程と；上記分離装置によって
分離された窒素リッチガスを、オイルミストを除去する
フィルタを介してレーザ加工機における光路カバー内へ
導入し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
工程とよりなるものであるから、前述のごとき効果を奏
すると共に、オイルミストが光学部品に付着するような
ことがなく、光学部品へ窒素リッチガスを直接噴射する
ことが可能である。
方法として、空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装
置へ圧縮空気を供給する工程と；上記分離装置によって
分離された窒素リッチガスを、オイルミストを除去する
フィルタを介してレーザ加工機における光路カバー内へ
導入し、上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する
工程とよりなるものであるから、前述のごとき効果を奏
すると共に、オイルミストが光学部品に付着するような
ことがなく、光学部品へ窒素リッチガスを直接噴射する
ことが可能である。
【００４６】また、本発明は、レーザ加工機における光
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなることを特徴
とするものであるから、光路カバー内の酸素，水分の含
有量を極めて少なくでき、光学部品の劣化の防止を図る
ことができるものである。
路系の保護を行う装置にして、圧縮空気中の塵埃を除去
するフィルタと、このフィルタを通過した後の空気中の
窒素と酸素とを分離する分離装置と、上記分離装置によ
って分離された窒素リッチガスを、レーザ加工機におけ
る光路カバー内へ導く導管と、を備えてなることを特徴
とするものであるから、光路カバー内の酸素，水分の含
有量を極めて少なくでき、光学部品の劣化の防止を図る
ことができるものである。
【００４７】また、さらに、窒素リッチガスをレーザ加
工における光路カバー内へ導く導管に、窒素リッチガス
中のオイルミストの除去を行うフィルタを設けてなるも
のであるから、オイルミストの除去を確実に行うことが
でき、光学部品への付着がなく、長寿命化を図ることが
できる。
工における光路カバー内へ導く導管に、窒素リッチガス
中のオイルミストの除去を行うフィルタを設けてなるも
のであるから、オイルミストの除去を確実に行うことが
でき、光学部品への付着がなく、長寿命化を図ることが
できる。
【００４８】さらに、圧縮空中の塵埃を除去するフィル
タと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸素
とを分離する分離装置と、上記分離装置によって分離さ
れた窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバー
内へ導く第１の導管と、前記光路カバー内の窒素リッチ
ガスを、レーザ加工機における加工ヘッドへ導く第２の
導管と、を備えてなるものであるから、光路カバー内の
窒素リッチガスをアシストガスとして有効利用すること
ができる。
タと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸素
とを分離する分離装置と、上記分離装置によって分離さ
れた窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバー
内へ導く第１の導管と、前記光路カバー内の窒素リッチ
ガスを、レーザ加工機における加工ヘッドへ導く第２の
導管と、を備えてなるものであるから、光路カバー内の
窒素リッチガスをアシストガスとして有効利用すること
ができる。
【００４９】また、第１の導管に、窒素リッチガス内の
オイルミストを除去するフィルタを設けてなるものであ
るから、オイルミストの除去を確実に行うことができる
ものである。
オイルミストを除去するフィルタを設けてなるものであ
るから、オイルミストの除去を確実に行うことができる
ものである。
【００５０】さらに、圧縮空気中の塵埃を除去するフィ
ルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸
素とを分離する分離装置と、この分離装置によって分離
された窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導く導管と、上記窒素リッチガスをレーザ加工機
の加工ヘッドへ導くべく前記導管から分岐した分岐管
と、を備えてなるものであるから、窒素リッチガスをア
シストガスとして充分に使用することができるものであ
る。
ルタと、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸
素とを分離する分離装置と、この分離装置によって分離
された窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバ
ー内へ導く導管と、上記窒素リッチガスをレーザ加工機
の加工ヘッドへ導くべく前記導管から分岐した分岐管
と、を備えてなるものであるから、窒素リッチガスをア
シストガスとして充分に使用することができるものであ
る。
【図１】本発明の実施例に係る装置を概略的に示した説
明図である。
明図である。
【図２】オイルミストの付着試験の状態を示す説明図で
ある。
ある。
３ レーザ発振器 ７ レーザ加工ヘッド １１ 光路カバー １５ 分離装置 ２３ 導管
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザ加工機における光路系の保護方法
にして、次の各工程よりなることを特徴とする方法。 （ａ） 空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装置へ
圧縮空気を供給する工程、 （ｂ） 上記分離装置によって分離された窒素リッチガ
スを、レーザ加工機における光路カバー内へ導入し、上
記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する工程。 - 【請求項２】 レーザ加工機における光路系の保護方法
として、次の各工程よりなることを特徴とする方法。 （ａ） 空気中の窒素と酸素とを分離可能な分離装置へ
圧縮空気を供給する工程。 （ｂ） 上記分離装置によって分離された窒素リッチガ
スを、オイルミストを除去するフィルタを介してレーザ
加工機における光路カバー内へ導入し、 上記光路カバー内を外気圧より高圧に保持する工程。 - 【請求項３】 レーザ加工機における光路系の保護を行
う装置として、圧縮空気中の塵埃を除去するフィルタ
と、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸素と
を分離する分離装置と、上記分離装置によって分離され
た窒素リッチガスを、レーザ加工機における光路カバー
内へ導く導管と、を備えてなることを特徴とするレーザ
加工機における光路系保護装置。 - 【請求項４】 窒素リッチガスをレーザ加工における光
路カバー内へ導く導管に、窒素リッチガス中のオイルミ
ストの除去を行うフィルタを設けてなることを特徴とす
る請求項３に記載のレーザ加工機における光路系保護装
置。 - 【請求項５】 圧縮空気中の塵埃を除去するフィルタ
と、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸素と
を分離する分離装置と、上記分離装置によって分離され
た窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバー内
へ導く第１の導管と、前記光路カバー内の窒素リッチガ
スを、レーザ加工機における加工ヘッドへ導く第２の導
管と、を備えてなることを特徴とするレーザ加工機。 - 【請求項６】 第１の導管に、窒素リッチガス内のオイ
ルミストを除去するフィルタを設けてなることを特徴と
する請求項５に記載のレーザ加工機。 - 【請求項７】 圧縮空気中の塵埃を除去するフィルタ
と、このフィルタを通過した後の空気中の窒素と酸素と
を分離する分離装置と、この分離装置によって分離され
た窒素リッチガスをレーザ加工機における光路カバー内
へ導く導管と、上記窒素リッチガスをレーザ加工機の加
工ヘッドへ導くべく前記導管から分岐した分岐管と、を
備えてなることを特徴とするレーザ加工機。 - 【請求項８】 導管に、窒素リッチガス内のオイルミス
トを除去するフィルタを設けてなることを特徴とする請
求項７に記載のレーザ加工機。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12354694A JP3305499B2 (ja) | 1994-06-06 | 1994-06-06 | レーザ加工機 |
| EP95920246A EP0712346B2 (en) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | laser beam machine |
| CN95190522A CN1107570C (zh) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | 向激光束机提供气态氮的方法和设备及一种激光束机 |
| DE0712346T DE712346T1 (de) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | Verfahren und vorrichtung zur zufuhr von stickstoff zu einer laserstrahlmaschine |
| KR1019960700493A KR100370875B1 (ko) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | 레이저빔 기계에 가스상태의 질소를 공급하기 위한 방법과 장치 |
| PCT/JP1995/001090 WO1995033594A1 (en) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | Method and apparatus for supplying gaseous nitrogen to a laser beam machine |
| DE69507575T DE69507575T3 (de) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | Verfahren und Vorrichtung zur Zufuhr von Stickstoff zu einer Laserstrahlmaschine |
| US08/578,543 US5763855A (en) | 1994-06-06 | 1995-06-02 | Method and apparatus for supplying gaseous nitrogen to a laser beam machine |
| TW084105811A TW274645B (ja) | 1994-06-06 | 1995-06-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12354694A JP3305499B2 (ja) | 1994-06-06 | 1994-06-06 | レーザ加工機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07328784A true JPH07328784A (ja) | 1995-12-19 |
| JP3305499B2 JP3305499B2 (ja) | 2002-07-22 |
Family
ID=14863280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12354694A Expired - Fee Related JP3305499B2 (ja) | 1994-06-06 | 1994-06-06 | レーザ加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3305499B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1579944A3 (de) * | 1998-09-08 | 2006-06-07 | Hell Gravure Systems GmbH | Laserstrahlungsquelle |
| WO2013157414A1 (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-24 | 株式会社 アマダ | ファイバレーザ発振器、ファイバレーザ加工装置、及びファイバレーザ発振器の除湿方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61150794A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-09 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ加工機 |
| JPS63202494U (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-27 | ||
| JPH01105087U (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-14 | ||
| JPH0584590A (ja) * | 1991-09-26 | 1993-04-06 | Amada Co Ltd | レーザ加工用アシストガス供給装置 |
| JPH05183218A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-23 | Nidek Co Ltd | エキシマレ−ザ加工機 |
-
1994
- 1994-06-06 JP JP12354694A patent/JP3305499B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61150794A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-09 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ加工機 |
| JPS63202494U (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-27 | ||
| JPH01105087U (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-14 | ||
| JPH0584590A (ja) * | 1991-09-26 | 1993-04-06 | Amada Co Ltd | レーザ加工用アシストガス供給装置 |
| JPH05183218A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-23 | Nidek Co Ltd | エキシマレ−ザ加工機 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1579944A3 (de) * | 1998-09-08 | 2006-06-07 | Hell Gravure Systems GmbH | Laserstrahlungsquelle |
| WO2013157414A1 (ja) * | 2012-04-16 | 2013-10-24 | 株式会社 アマダ | ファイバレーザ発振器、ファイバレーザ加工装置、及びファイバレーザ発振器の除湿方法 |
| JP2013239696A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-11-28 | Amada Co Ltd | ファイバレーザ発振器，ファイバレーザ加工装置，及びファイバレーザ発振器の除湿方法 |
| EP2840670A4 (en) * | 2012-04-16 | 2016-02-24 | Amada Co Ltd | FIBER LASER LASER AND FIBER LASER PROCESSING AND DEHUMIDIFICATION METHOD FOR A FIBER LASER LASER |
| US9548583B2 (en) | 2012-04-16 | 2017-01-17 | Amada Company, Limited | Fiber laser oscillator, fiber laser processing device, and fiber laser oscillator dehumidification method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3305499B2 (ja) | 2002-07-22 |
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