JPH0731289B2 - テ−パ状光導波路の作製方法 - Google Patents

テ−パ状光導波路の作製方法

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JPH0731289B2
JPH0731289B2 JP61136553A JP13655386A JPH0731289B2 JP H0731289 B2 JPH0731289 B2 JP H0731289B2 JP 61136553 A JP61136553 A JP 61136553A JP 13655386 A JP13655386 A JP 13655386A JP H0731289 B2 JPH0731289 B2 JP H0731289B2
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JP
Japan
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optical waveguide
substrate
acid
tapered optical
light incident
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和久 山本
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はコヒーレント光を使用する光情報処理分野ある
いは光通信,光応用計測制御分野に使用される光導波路
とレーザおよび光ファイバとの高効率結合を可能にする
テーパ状光導波路の作製方法に関するものである。
従来の技術 プロトン交換法によりLiNbO3基板上に光導波路を形成し
TE/TMモードスプリッタや波長変換素子などが作製され
ていた。上記光導波路への結合効率を向上させるため光
入射部の厚みを大きくし光導波部とテーパ部を用いて結
合させるというものである。
従来、テーパ状光導波路の作製方法としてアプライドオ
プティックス(Applied Optics)1979年3月号 Vo118,
No6 900〜902頁のジェー・シー・キャンベル氏(J.C.Co
mpbell)による方法がある。この方法は第3図に示され
るように保護マスク8が形成された基板1′を徐々に硝
酸銀3′の溶液に浸していくことにより拡散深さを変化
させてテーパ状光導波路を形成するというものである。
発明が解決しようとする問題点 上記のような従来の方法では、基板であるLiNbO3基板に
安息香酸などの酸を用いてテーパ状光導波路を作製する
場合、溶液の蒸気のため光入射部以外の部分もプロトン
交換されてしまうという問題があった。また量産性,制
御性を確保するためには装置が大型化,複雑化してしま
うという問題点もあった。
問題点を解決するための手段 LiNbxTa(1-x)O3(0≦x≦1)基板の表面の一端面部分
に、ピロ燐酸を主成分とする酸を塗布する工程と、前記
基板を熱処理し、前記塗布した酸の直下の前記基板に、
光入射部を形成する工程と、前記光入射部を含む基板表
面に、燐酸を主成分とする酸を塗布する工程と、前記基
板を熱処理し、前記塗布した酸の直下の前記基板に、光
導波路を形成する工程とを備え、前記基板に、前記光導
波路とこの光導波路部に比べて厚みが大である光入射部
を形成するという手段を有するものである。
作用 本発明の構成によれば蒸発量が少く液状である酸を用い
ることにより、簡単に制御性良く、しかも蒸気の影響を
受けることなくテーパ状導波路を作製することができ
る。
実 施 例 (実施例1) 本発明のテーパ状光導波路作製方法の第1の実施例を図
面を用いて説明する。第1図は酸としてピロ燐酸,強誘
電体基板としてLiNbO3基板を用いた第1の実施例である
テーパ状光導波路作製方法の工程図である。同図(a)
でLiNbO3基板1の+Z板2の端部2にピロ燐酸3が塗布
されている。同図(b)で230℃,60分熱処理することに
より入射部4が形成される。ピロ燐酸3は温度上昇につ
れて粘度が低下し液面が広がる。このため光入射部4の
前面にテーパ部5が同時に形成される。
次に同図(c)でピロ燐酸3をLiNbO3基板1の+Z板2
の全面に塗布を行う。最後に同図(d)で230℃10分間
熱処理を行い光導波部6を形成する。
以上の工程をLiNbO3基板1の+Z板2上にTaの保護マス
クパターンを形成したものに対して施すことにより三次
元導波路が作製された。光導波部6の厚みは0.5μm,光
入射部4の厚みは1μmであった。He−Neレーザ光(波
長0.633μm)と上記テーパ状光導波路との結合効率は
光導派部だけの値30%に対して、1.5倍の45%が得られ
た。
(実施例2) 本発明のテーパ状光導波路作製方法の第2の実施例の工
程図を第2図に示す。第2図(a)でヒータで加熱され
たAlプレート7上にLiNbO3基板1が置かれている。LiNb
O3基板1の端部にはピロ燐酸3が塗布されている。ピロ
燐酸3はAlプレート7が傾けられているので広がらな
い。ピロ燐酸3直下に入射部4が形成される。次に同図
(b)のようにAlプレート7の端8を端9に対して水平
またはやや下に向けることによりピロ燐酸3が全面に流
れ同波部6が形成される。こののような方法を採ると一
度の塗布でプロトン交換を行える。また傾き角を制御す
ることでテーパ部5を制御することも可能である。
なお実施例ではピロ燐酸を用いたが蒸発量が少く基板表
面に塗布可能であれば他の酸を用いることもできる。ま
たLiNbO3基板だけでなくLiTaO3基板などにも有効であ
る。
また、本発明の酸による塗布を用いると、基板1として
+Z板又は−Z板(Z軸に垂直な面を有する板)を用い
ると表面の荒れが生じない。
発明の効果 本発明のテーパ状光導波路の作製方法によれば、LiNbxT
a(1-x)O(0≦x≦1)基板表面に、ピロ燐酸を主成分
とする酸を部分的に塗布し、この基板を熱処理すること
で、酸を塗布した領域の直下に入射部を形成できるの
で、簡単に制御良くテーパ状光導波路が作製できる。し
かも導波部が蒸気の影響を受けることはない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のテーパ状光導波路作製方法の一実施例
を示す工程図、第2図は本発明のテーパ状光導波路作製
方法の第2の実施例を示す工程図、第3図は従来のテー
パ状光導波路作製方法を示す工程図である。 1……LiNbO3基板、3……ピロ燐酸、4……光入射部、
5……テーパ部、6……光導波部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】LiNbxTa(1-x)O3(0≦x≦1)基板の表面
    の一端面部分に、ピロ燐酸を主成分とする酸を塗布する
    工程と、 前記基板を熱処理し、前記塗布した酸の直下の前記基板
    に、光入射部を形成する工程と、 前記光入射部を含む基板表面に、燐酸を主成分とする酸
    を塗布する工程と、 前記基板を熱処理し、前記塗布した酸の直下の前記基板
    に、光導波路を形成する工程とを備え、 前記基板に、前記光導波路部とこの光導波路部に比べて
    厚みが大である光入射部を形成するテーパ状光導波路の
    作製方法。
  2. 【請求項2】LiNbxTa(1-x)O3(0≦x≦1)基板が+z
    板または−z板である特許請求の範囲第1項記載のテー
    パ状光導波路の作製方法。
JP61136553A 1986-06-12 1986-06-12 テ−パ状光導波路の作製方法 Expired - Fee Related JPH0731289B2 (ja)

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JPS607403A (ja) * 1983-06-28 1985-01-16 Canon Inc 薄膜光導波路の作成方法
JPS60133405A (ja) * 1983-12-22 1985-07-16 Canon Inc パタ−ン形成法
JPS6170541A (ja) * 1984-09-14 1986-04-11 Canon Inc 薄膜型光学素子およびその作製方法

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