JPH07301911A - 水現像性ジアゾ基材平版印刷版 - Google Patents

水現像性ジアゾ基材平版印刷版

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JPH07301911A JP5341434A JP34143493A JPH07301911A JP H07301911 A JPH07301911 A JP H07301911A JP 5341434 A JP5341434 A JP 5341434A JP 34143493 A JP34143493 A JP 34143493A JP H07301911 A JPH07301911 A JP H07301911A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 非露光区域におけるジアゾ化合物を除くため
に淡水で処理しうる平版印刷版を生産するためのジアゾ
基材像形成材料を提供することを目的とする。 【構成】 親水性（共）重合体又は（共）重合体混合物
を含みかつ加水分解したテトラアルキルオルトシリケー
ト架橋剤で硬化した親水性層、ジアゾ樹脂又はジアゾニ
ウム塩を含む感光性層の順序で支持体上に構成される像
形成材料において、１以上のカチオン基を有する有機化
合物を含む中間親水性層が前記親水性層と前記感光性層
の間に設けられていることを特徴とする像形成材料。ま
た、そのような像形成材料を作るための方法及びそれと
ともに平版印刷版を作るための方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は淡水で現像しうるジアゾ
増感平版印刷版に関する。
【０００２】
【従来の技術】平版は、ある区域は平版インクを受け入
れることができるが、他の区域は水で加湿されていると
き平版インクを受け入れない特別に製造した表面から印
刷する方法である。インクを受ける区域は印刷像区域を
形成し、インクを拒絶する区域は背景区域を形成する。
【０００３】写真平版の技術では、写真材料は親水性背
景上の写真露光（ネガティブ作用）又は非露光区域（ポ
ジティブ作用）にオイル状又はグリース状のインクを受
け入れて像に従って作成される。
【０００４】通常の平版印刷版（表面平版又は写真印刷
版とも称せられる）の製造では、水と親和性を有し、化
学的処理によってかかる親和性を得る支持体は写真感光
性組成物の薄い層で被覆されている。そのような目的の
ための被膜にはジアゾ化合物、重クロム酸増感親水性コ
ロイド及び多種の合成感光性重合体を含む感光性重合体
層を含む。
【０００５】特にジアゾ増感したシステムは広く使用さ
れている。これらのシステムは Kosar J. 著「Light −
Sensitive Systems 」、Wiley 、 New York 、１９６
５、Chapter ７において広く検討されている。一般に使
用されているネガティブ作用のジアゾ増感システムは紫
外線及び青色放射線に露光したときに重合体を硬化する
ためのジアゾ化合物の能力に基づいている。それらの硬
化特性に基づいた平版印刷版の製造に使用するジアゾ化
合物は、例えば光分解生成物が重合体（自然コロイド又
は合成樹脂）を直接硬化できるジアゾニウム塩及びジア
ゾニウム重合体である。ジアゾニウム基を含む重合体は
大きな構造を有するが、イオン性ジアゾニウム基の存在
のためそれらは水に溶解しうる状態にある。これらの基
が露光によって破壊されるとき、不溶性樹脂が形成され
る。特に有用なジアゾニウム重合体は、例えばｐ−アミ
ノジフェニルアミンのジアゾニウム塩を有するホルムア
ルデヒドの如きアルデヒドのようなカルボニル化合物の
縮合生成物である。これらの縮合生成物は通常、ジアゾ
樹脂と称せられる。これらのシステムでは、重合体のバ
インダーはジアゾ樹脂被膜に任意に添加される。
【０００６】いくつかのタイプの支持体はジアゾ増感平
版印刷版の製造のために使用することができる。一般的
な支持体はＡｌ又はＺｎのような金属支持体、ポリエス
テルフィルム支持体、及び紙基体である。これらの支持
体が、それ自体親水性が充分でないなら、印刷版の親水
性背景を形成するために最初に親水性層で被覆し、次い
でジアゾ化合物を含む上層を適用する（ＤＥ−Ｐ−１９
００４６９、ＤＥ−Ｐ−２０３０６３４およびＵＳ−Ｐ
−３９７１６６０の実施例参照）。
【０００７】これらのシステムでは、ポリビニルアルコ
ールと加水分解したテトラエチルオルトシリケート、好
ましくは二酸化ケイ素及び／又は二酸化チタンも含む層
を親水性層として使用することが知られており、それら
は、例えばＧＢ−Ｐ−１４１９５１２、ＦＲ−Ｐ−２３
００３５４、ＵＳ−Ｐ−３９７１６６０及び４２８４７
０５に記載されている。この親水性層は重合体バインダ
ー中にジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩を含む感光性層で
上塗りされる。
【０００８】感光性層の像に従った露光において、露光
された像区域は水不溶性になり、非露光区域は水溶性に
なる。次いで版は非露光区域におけるジアゾニウム塩又
はジアゾ樹脂を除くために水で現像される。
【０００９】しかしながら、水の溶解力は非露光区域に
おけるすべてのジアゾ化合物を除くには不充分であるこ
とがわかっている。結果として、非印刷区域中にいくら
かのジアゾ化合物が残り、非印刷区域に望ましくないイ
ンク（スカミング）を受け入れてしまうことになる。Ｅ
Ｐ−Ａ−４５０１９９によると、この問題は例えばホス
フェートの如き耐スカミング剤を親水性層に加えること
によって解決することができる。しかしながら、耐スカ
ミング剤は親水性層の硬化を邪魔し、かかる像形成材料
から得られた印刷版は印刷中スカミングを妨げるために
貢献するインキ溜め溶液（印刷中の給湿液とも称せられ
る）を要求する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、非露
光区域におけるジアゾ化合物を除くために淡水で処理し
うる平版印刷版を生産するためのジアゾ基材像形成材料
を提供することである。
【００１１】本発明の目的は、また前述のジアゾ基材像
形成材料を作るための方法を提供することである。さら
に本発明の目的は、前述のジアゾ基材像形成材料を使用
する平版印刷版を得るための方法を提供することであ
る。
【００１２】他の目的は後述する記載内容から明らかに
なるだろう。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、親水性（共）
重合体又は（共）重合体混合物を含みかつ加水分解した
テトラアルキルオルトシリケート架橋剤で硬化した親水
性層、ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩を含む感光性層の
順序で支持体上に構成される像形成材料であって、１以
上のカチオン基を有する有機化合物を含む中間親水性層
が前記親水性層と前記感光性層の間に設けられているこ
とを特徴とするものである。
【００１４】また、本発明は、下記(1) 〜(3) の段階を
含むジアゾ基材像形成材料を作るための方法を提供す
る。 (1) 親水性（共）重合体又は（共）重合体混合物及び加
水分解したテトラアルキルオルトシリケートを含む親水
性層を支持体上に設ける (2) 前記親水性層を硬化する (3) その上に１以上のカチオン基を有する有機化合物を
含む中間親水性層、及びジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩
を含む感光性層を設ける。
【００１５】本発明はまた前述の像形成材料を像に従っ
て露光し、次いで前記像形成材料を淡水でリンス又は水
洗することによって前記像形成材料の非露光又は不充分
な露光区域における感光性層を除く段階を含む平版印刷
版を得るための方法を提供するものである。
【００１６】親水性層と感光性層の間にカチオン基を有
する有機化合物の中間層を設けることによって、特別な
現像液のかわりに淡水を使って現像しうるジアゾ基材像
形成材料が得られることが判明した。このようにして得
られた印刷版は通常使用されるインキ溜め溶液で印刷す
るために使用することができ、スカミングがない、良好
な印刷耐久性などの優れた印刷特性を有する。
【００１７】本発明に関連して使用するカチオン基を有
する有機化合物は親水性であることが好ましく、低分子
量化合物であることができるが、好ましくは重合体であ
る。好適な化合物は酸性媒体中でアンモニウム基に変換
しうるアミノ基又はアンモニウム基を１以上有する化合
物である。特に好適なタイプの化合物はアンモニウム基
又はアミノ基を含む１以上の基で変性したポリサッカラ
イドである。
【００１８】カチオン基を有する最も好適な化合物はデ
キストラン又はプルランであり、少なくともヒドロキシ
基のいくつかは１以上の下記に示す構造式の基に変性さ
れている。 −Ｏ−Ｒ1 −Ｏ−ＣＯ−Ｒ2
【００１９】式中、Ｒ1 は例えばアミン置換アルキル、
アミン置換アルキルアリールなどのアミノ又はアンモニ
ウム基を含む有機残留物であり、Ｒ2 はＲ1 のために与
えた定義の一つの意味を有するか又は−ＯＲ3 又は−Ｎ
（Ｒ4 ）Ｒ5 を表わし、式中Ｒ3 はＲ1 のために与えた
定義の一つの意味を有し、Ｒ4 及びＲ5 はそれぞれ同じ
であっても異なってもよく、これらもＲ1 のために与え
た定義の一つの意味を有する。
【００２０】プルランは Aureobasidium pullulans タ
イプの微生物（ Pullularia pullulans ）によって生
産されかつα−１，６グリコシド結合によって結合され
る単位を反復するマルトトリオースを含むポリサッカラ
イドである。プルランは一般に部分的に加水分解した澱
粉の醗酵による又はサッカロースの細菌醗酵による工業
規模で生産される。プルランは商業的には例えば Shode
x 、Pharmacosmos から入手できる。
【００２１】本発明に従って使用するのに適したデキス
トラン又はプルランの具体例としては、ヒドロキル基の
いくつかを下記表１に示す基の一つで変性したデキスト
ラン又はプルランが挙げられる。
【００２２】
【００２３】変性したデキストラン又はプルランは、例
えばアルキル化剤、クロロギ酸エステル、酸ハロゲン化
物、カルボン酸などとデキストランの反応によって製造
することができる。
【００２４】本発明によると１以上のカチオン基を有す
る有機化合物は５〜５００ｍｇ／ｍ2 の量、さらに好ま
しくは１０〜２００ｍｇ／ｍ2 の量で与えられる。
【００２５】前記親水性層中の親水性（共）重合体とし
て、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレートの単独重合体及び
共重合体又は無水マレイン酸／ビニルメチルエーテル共
重合体を使用することができる。
【００２６】加水分解したテトラアルキルオルトシリケ
ート架橋剤の例として、加水分解したテトラエチルオル
トシリケート及び加水分解したテトラメチルオルトシリ
ケートが挙げられる。
【００２７】テトラアルキルオルトシリケート架橋剤の
量は親水性（共）重合体の重量部に対して少なくとも
０．２重量部であり、好ましくは０．５〜５重量部、さ
らに好ましくは１．０〜３．０重量部である。
【００２８】本発明に従って使用される像形成材料中の
前記親水性層はまた層の機械的強度や多孔性を増大させ
る物質を含むのが好ましい。このような目的のためにコ
ロイドシリカを使用することができる。使用されるコロ
イドシリカは、例えば４０ｎｍまでの平均粒径（例えば
２０ｎｍ）を有するコロイドシリカの商業的に利用しう
る水分散液の形であることができる。さらに、コロイド
シリカより大きい粒径の不活性粒子を加えることがで
き、例えば J. Colloid and Interface Sci. 、 Vol. ２
６、１９６８、６２〜６９頁に記載されているような S
toeber に従って製造されるシリカ又はアルミナ粒子又
は少なくとも１００ｎｍの平均粒径を有する粒子（二酸
化チタン又は他の重金属酸化物の粒子である）である。
これらの粒子を混入することによって層の表面に顕微鏡
的規模の丘や谷からなる均一で粗いテキスチャーを与
え、それが、背景区域における水の貯蔵場としての役割
を果たす。
【００２９】本発明の材料において親水性層の厚さは
０．２〜２５μｍの範囲で変化することができ、好まし
くは１〜１０μｍである。
【００３０】本発明において使用する低分子量のジアゾ
ニウム塩の例として：ベンジジンテトラゾニウムクロラ
イド、３，３′−ジメチルベンジジンテトラゾニウムク
ロライド、３，３′−ジメトキシベンジジンテトラゾニ
ウムクロライド、４，４′−ジアミノジフェニルアミン
テトラゾニウムクロライド、３，３′−ジエチルベンジ
ジンテトラゾニウムクロライド、４−アミノジフェニル
アミンジアゾニウムサルフェート、４−アミノジフェニ
ルアミンジアゾニウムクロライド、４−ピペリジノアニ
リンジアゾニウムサルフェート、４−ジエチルアミノア
ニリンジアゾニウムサルフェート及びジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒドのオリゴマー縮合生成物が挙
げられる。
【００３１】本発明において有用なジアゾ樹脂の例とし
て感光性物質としての芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物が挙げられる。そのような縮合生成物は例えばドイツ
特許No. １２１４０８６において知られ、記述されてい
る。それらは一般に多核の芳香族ジアゾニウム化合物、
好ましくは強酸媒体中で活性カルボニル化合物（好まし
くはホルムアルデヒド）で置換又は非置換のジフェニル
アミン−４−ジアゾニウム塩の縮合物によって製造する
ことができる。
【００３２】ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩に加えて、
本発明による感光性層は分散性の水不溶性重合体を含む
のが好ましい。水不溶性の前記水性分散液は例えば乳化
剤の結果としてか又は重合体に結合したカチオン又はノ
ニオン基を有することによってかのいずれかのカチオン
又ノニオンであることが好ましい。水不溶性重合体は１
００オングストロームから１ミクロンの範囲の直径を有
する固形粒状物であることが好ましく、３０℃未満で被
膜を形成しない。一般に、カチオン又はノニオン基を担
持するか又はカチオン又はノニオン乳化剤を使用する乳
濁液に配合しうる重合体であればどのようなものでも本
発明に使用することができる。好適な重合体としては、
スチレン、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
ブチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ブチルメタクリレート、ビニルアセテー
ト、ビニルクロライド、ビニリデンクロライド、ブタジ
エン、メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルアミ
ノエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イ
ソプレン、クロロプレン、無水マレイン酸、ポリエチレ
ングリコールアクリレートの如きエチレングリコールア
クリレート、クロロスチレン及びブロモスチレンの如き
ハロゲン化ビニル芳香族、メチルビニルエーテル、ビニ
ルピロリドン、ポリウレタンなどの単独重合体及び共重
合体を挙げることができる。
【００３３】本発明において使用しうるカチオン及びノ
ニオン乳化剤には、ニトロ基に結合したアルキル及び／
又はアリール基を含む置換アミンのアンモニウム塩、ア
ルキル又はアリールスルホニウム塩、アルキル及びアル
キル−アリールポリエーテル、カチオン又はノニオン弗
素界面活性剤及びポリオールがある。
【００３４】本発明の材料における感光性層の厚さは
０．１〜１０μｍの範囲で変化することができ、好まし
くは０．５〜２．５μｍである。
【００３５】本発明に関係する像形成材料はローダミ
ン、スダンブルー、メチレンブルー、エオシンの如き水
溶性染料又はクリスタルバイオレット、ビクトリアピュ
アブルー、マラカイトグリーン、メチルバイオレットの
如きトリフェニルメタン染料又は染料顔料を有意に含
む。これらの着色剤は感光性層及び／又は硬化親水性層
中に混入することができる。
【００３６】親水性層に適用でき、付着する表面を設け
て処理するという条件で、様々な支持体を本発明に従っ
た像形成材料に使用することができる。そのような支持
体の例として、例えばポリエチレンテレフタレートフィ
ルム支持体、セルロースアセテートフィルム、金属層を
有するか又はその上に付着するプラスチック等の写真フ
ィルム基材、アルミニウム及びポリオレフィン（例、ポ
リエチレン）被膜紙（親水性層の付着性を改良するため
ポリオレフィン表面にコロナ放電を受けることができ
る）の如き金属支持体を挙げることができる。
【００３７】本発明の方法によると上述の像形成材料は
親水性（共）重合体又は（共）重合体混合物及び加水分
解したテトラアルキルオルトシリケートを含む親水性層
を支持体上に設けることによって製造することができ
る。前記親水性層は２０〜２００℃の温度にさらすこと
によって硬化される。
【００３８】このようにして得られた硬化した親水性層
に次いで１以上のカチオン基を有する有機化合物を含む
中間親水性層と上述の感光性層が与えられる。
【００３９】本発明と関連する像形成材料の支持体上の
層は、例えばエアナイフ、スライドホッパー又は流し塗
の如き好適な被覆技術のいずれかによって設けることが
できる。またはそれらを一時的な支持体に積層すること
ができる。
【００４０】本発明に従って像形成材料から平版印刷版
を得るために、前記像形成材料は像に従って露光され、
次いで像形成材料の非露光又は不充分露光部分における
ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩を除くために淡水でリン
ス又は水洗される。
【００４１】本発明において使用される像形成材料の露
光は２５０〜５００ｎｍの波長範囲で任意に青色光と組
合せて紫外線で有意に処理される。有意な露光源は高い
又は中程度の圧力ハロゲン水銀灯（例、１０００Ｗ）で
ある。
【００４２】ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩は露光で
（ジアゾニウム基の破壊のために）水溶性から水不溶性
へ変換され、さらにジアゾの光分解生成物は重合体バイ
ンダー又はジアゾ樹脂の架橋のレベルで優位性を示すこ
とができ、それによって像パターンにおいて表面を水溶
性から水不溶性へ選択的に変換する。非露光区域は変化
しないまま、即ち水溶性のまま残る。
【００４３】本発明に関連して使用される中間親水性層
のために、残っているジアゾは淡水で水洗し、リンスす
ることによって像形成材料の非露光又は不充分露光部分
における表面から簡単に除かれる。
【００４４】
【実施例】本発明を下記の実施例により説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。実施例中与え
られる百分率は特に述べない限り重量部を表わす。
【００４５】実施例 １（比較） 平版基材の製造 ２１．５％のＴｉＯ2 （平均粒径０．３〜０．５μｍ）
及び２．５％のポリビニルアルコールを脱イオン水中に
含有する４４０ｇの分散液に、攪拌しながら５％ポリビ
ニルアルコール水溶液２５０ｇ、加水分解した２２％テ
トラメチルオルトシリケート乳濁水溶液１０５ｇ、及び
１０％湿潤剤溶液２２ｇを加えた。次いで、この混合物
に１８３ｇの脱イオン水を加えて、ｐＨをｐＨ＝４に調
整した。
【００４６】このようにして得られた分散液を（親水性
付着層で被覆した）ポリエチレンテレフタレートフィル
ム支持体上に５０ｇ／ｍ2 の未乾燥塗膜厚さで３０℃で
乾燥して被覆し、次いで６０℃の温度で１週間それをさ
らすことによって硬化した。
【００４７】像形成材料の製造 下記に従って感光性組成物を製造した。セチルトリメチ
ルアンモニウムブロマイドで脱イオン水中に安定化した
ポリメチルメタクリレート（粒径６０ｎｍ）の２０％分
散液６３ｇに、攪拌しながら８８％加水分解したポリビ
ニルアセテートの５％水溶液１２０ｇ及び１０％ヘリオ
ジエンブルー（ＢＡＳＦ）水分散液１５ｇを加えた。次
いで、ジフェニルアミンジアゾニウム塩及びホルムアル
デヒドの縮合生成物の１５％水溶液６６ｇをゆっくりと
加えた。最後に１０ｇの湿潤剤と７２６ｍｌの水を加え
た。
【００４８】感光性組成物を平版基材に３５ｇ／ｍ2 の
未乾燥塗膜厚さで適用し、３０℃で乾燥した。
【００４９】平版印刷版の製造 上述のように製造された像形成材料を１０００Ｗの高圧
ハロゲン水銀灯で７０ｃｍの距離で５分間マスクを通し
て露光した。
【００５０】次いで像形成材料を淡水で現像した。得ら
れた印刷版を通常のインキ溜め溶液とグリース状インク
を使用する Heidelberg GTO 印刷機上で印刷するのに
使用した。４００回印刷で非画線部において得られた濃
度は０．０６であった。
【００５１】実施例 ２（比較） 平版基材の製造 ２１．５％のＴｉＯ2 （平均粒径０．３〜０．５μｍ）
及び２．５％のポリビニルアルコールを脱イオン水中に
含有する４４０ｇの分散液に、攪拌しながら５％ポリビ
ニルアルコール水溶液２５０ｇ、加水分解した２２％テ
トラメチルオルトシリケート乳濁水溶液１０５ｇ、及び
１０％湿潤水溶液２２ｇを加えた。次いで、この混合物
にドーマシッド（Dormacid）（前述の表１のNo. ８で変
性したデキストランで、Pfeifer ＆ Langen から入手で
きる）の１０％溶液６ｇ及び脱イオン水１７７ｇを加え
て、ｐＨをｐＨ＝４に調節した。
【００５２】このようにして得られた分散液を（親水性
付着層で被覆した）ポリエチレンテレフタレートフィル
ム支持体上に５０ｇ／ｍ2 の未乾燥塗膜厚さで３０℃で
乾燥して被覆し、次いで６０℃の温度で１週間それをさ
らすことによって硬化した。
【００５３】像形成材料は上述の平版基材を使用した以
外は実施例１と同様にして製造した。次いで、得られた
像形成材料を像に従って露光し、実施例１と同様に処理
した。次いで、得られた印刷版を実施例１と同様に印刷
するのに使用したところ、４００回印刷で非画線部にお
ける濃度は０．０２であることがわかった。
【００５４】実施例 ３（比較） 平版基材を実施例１に記載の如く製造し、次いで、この
基材にポリビニルピロリドン水溶液及び湿潤剤を平方メ
ートルあたり３０ｍｇのポリビニルピロリドンの乾燥被
膜厚さで設けた。得られた材料を６０℃で７日間、加熱
し、次いで実施例１に記載の感光性被膜を実施例１の如
くそれへ適用して像形成材料を得た。
【００５５】得られた像形成材料は実施例１に記載の如
く平版印刷版を製造するのに使用した。次いで、印刷版
を実施例１に記載の如く印刷に使用したところ、４００
回複写の非画線部における濃度は０．０１であった。
【００５６】実施例 ４（比較） ポリビニルピロリドンのかわりに変性していないデキス
トランを使用した以外は実施例３に記載したように像形
成材料を製造した。
【００５７】得られた像形成材料を像に従って露光し、
実施例１に記載した如く処理し、結果として製造される
印刷版を実施例１に記載の如く印刷するのに使用した。
４００回複写の非画線部における濃度は０．０２であっ
た。
【００５８】実施例 ５ ポリビニルピロリドン溶液のかわりにエタノールアミン
の水溶液（ｐＨ＝５）を使用した以外は、像形成材料を
実施例３の如く製造した。
【００５９】得られた像形成材料を像に従って露光し、
実施例１に記載の如く処理し、結果として製造される印
刷版を実施例１に記載の如く印刷するのに使用した。４
００回複写の非画線部における濃度は０．００であっ
た。
【００６０】実施例 ６ ポリビニルピロリドン溶液のかわりにドーマシッド（Do
rmacid）（前述の表１のNo. ８で変性したデキストラン
で、Pfeifer ＆ Langen から入手できる）の水溶液（ｐ
Ｈ＝５）を使用した以外は、像形成材料を実施例３の如
く製造した。
【００６１】得られた像形成材料を像に従って露光し、
実施例１に記載した如く処理し、結果として製造される
印刷版を実施例１に記載の如く印刷するのに使用した。
４００回複写の非画線部における濃度は０．００であっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ディルク・コッケレンベルグ ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ギド・オーキエル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 親水性（共）重合体又は（共）重合体混
    合物を含みかつ加水分解したテトラアルキルオルトシリ
    ケート架橋剤で硬化した親水性層、ジアゾ樹脂又はジア
    ゾニウム塩を含む感光性層の順序で支持体上に構成され
    る像形成材料において、１以上のカチオン基を有する有
    機化合物を含む中間親水性層が前記親水性層と前記感光
    性層の間に設けられていることを特徴とする像形成材
    料。
  2. 【請求項２】 前記有機化合物が１以上のアンモニウム
    基を有する親水性重合体又は１以上のアンモニウム基を
    有する低分子量有機化合物である請求項１記載の像形成
    材料。
  3. 【請求項３】 前記親水性重合体がポリサッカライドで
    ある請求項２記載の像形成材料。
  4. 【請求項４】 前記ポリサッカライドがデキストラン又
    はプルランである請求項３記載の像形成材料。
  5. 【請求項５】 前記有機化合物が前記像形成材料中に５
    〜５００ｍｇ／ｍ2の量で含まれている請求項１〜４の
    いずれか記載の像形成材料。
  6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか記載の像形成材
    料を像に従って露光をし、次いで前記像形成材料を淡水
    でリンス又は水洗する段階を含む平版印刷版を得るため
    の方法。
  7. 【請求項７】 下記(1) 〜(3) の段階を含むジアゾ基材
    像形成材料を作るための方法。 (1) 親水性（共）重合体又は（共）重合体混合物及び加
    水分解したテトラアルキルオルトシリケートを含む親水
    性層を支持体上に設ける (2) 前記親水性層を硬化する (3) その上に１以上のカチオン基を有する有機化合物を
    含む中間親水性層、及びジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩
    を含む感光性層設ける。
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