JPH07301700A - 放射光ビームライン装置 - Google Patents
放射光ビームライン装置Info
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- JPH07301700A JPH07301700A JP9493994A JP9493994A JPH07301700A JP H07301700 A JPH07301700 A JP H07301700A JP 9493994 A JP9493994 A JP 9493994A JP 9493994 A JP9493994 A JP 9493994A JP H07301700 A JPH07301700 A JP H07301700A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 軟Ｘ線と硬Ｘ線の双方を射出できる放射光ビ
ームライン装置。 【構成】 放射光ビームライン本体１１の内部にその基
端側から順に反射ミラー１９、回折格子２０、第１、第
２の各分光結晶２１，２２を配設し、受光面２３が放射
光ビームＳ光軸に対して所定の角度をなし且つビームＳ
が入射し得るように反射ミラー１９を移動可能に支持
し、受光面２４に反射ミラー１９より射出されるビーム
Ｓが入射し得られ且つ放射光ビームライン本体１１の先
端側へ軟Ｘ線が射出されるように回折格子２０を支持
し、受光面２５にビームＳが直接入射し得るように第１
の分光結晶２１を支持し、受光面２６に第１の分光結晶
２１より射出される硬Ｘ線が入射し得られ且つ放射光ビ
ームライン本体１１の先端側へ硬Ｘ線が射出され得るよ
うに第２の分光結晶２２を移動可能に支持している。
ームライン装置。 【構成】 放射光ビームライン本体１１の内部にその基
端側から順に反射ミラー１９、回折格子２０、第１、第
２の各分光結晶２１，２２を配設し、受光面２３が放射
光ビームＳ光軸に対して所定の角度をなし且つビームＳ
が入射し得るように反射ミラー１９を移動可能に支持
し、受光面２４に反射ミラー１９より射出されるビーム
Ｓが入射し得られ且つ放射光ビームライン本体１１の先
端側へ軟Ｘ線が射出されるように回折格子２０を支持
し、受光面２５にビームＳが直接入射し得るように第１
の分光結晶２１を支持し、受光面２６に第１の分光結晶
２１より射出される硬Ｘ線が入射し得られ且つ放射光ビ
ームライン本体１１の先端側へ硬Ｘ線が射出され得るよ
うに第２の分光結晶２２を移動可能に支持している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射光ビームライン装
置に関するものである。
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光と呼ばれる電磁波（光）を放出する。
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光と呼ばれる電磁波（光）を放出する。
【０００３】図４は放射光の発生利用手段の一例を示す
もので、１は線形加速装置（粒子加速器）であり、該線
形加速器１は、電子（荷電粒子）ｅを移送させるための
直管状の加速ダクト２を有している。
もので、１は線形加速装置（粒子加速器）であり、該線
形加速器１は、電子（荷電粒子）ｅを移送させるための
直管状の加速ダクト２を有している。
【０００４】この加速ダクト２は、内部を超高真空に保
持できるように形成され、超高真空状態に保持された加
速ダクト２の内部を移動する電子ｅに高周波ＲＦを付与
して電子ｅを加速する高周波加速装置３が設けられてい
る。
持できるように形成され、超高真空状態に保持された加
速ダクト２の内部を移動する電子ｅに高周波ＲＦを付与
して電子ｅを加速する高周波加速装置３が設けられてい
る。
【０００５】また、前記加速ダクト２の一端には、電子
銃などの電子発生装置４が設けられており、該電子発生
装置４により発生する電子ｅが加速ダクト２の中空部へ
向かって射出されるようになっている。
銃などの電子発生装置４が設けられており、該電子発生
装置４により発生する電子ｅが加速ダクト２の中空部へ
向かって射出されるようになっている。
【０００６】さらに、前記加速ダクト２の他端には、湾
曲管状の偏向ダクト５の一端が接続されており、該偏向
ダクト５の湾曲部には、偏向電磁石６が設けられてい
る。
曲管状の偏向ダクト５の一端が接続されており、該偏向
ダクト５の湾曲部には、偏向電磁石６が設けられてい
る。
【０００７】前記の加速ダクト２から偏向ダクト５へ入
射する電子ｅは、その進行方向を偏向電磁石６の磁場に
より偏向ダクト５に沿って曲げられるようになってい
る。
射する電子ｅは、その進行方向を偏向電磁石６の磁場に
より偏向ダクト５に沿って曲げられるようになってい
る。
【０００８】７はシンクロトロンであり、該シンクロト
ロン７は前記の電子ｅに円軌道を形成させるための円形
ダクト８を有しており、該円形ダクト８の所要箇所に
は、前記の偏向ダクト５の他端が接続されている。前記
の円形ダクト８は、その内部を超高真空に保持できるよ
うに構成されている。
ロン７は前記の電子ｅに円軌道を形成させるための円形
ダクト８を有しており、該円形ダクト８の所要箇所に
は、前記の偏向ダクト５の他端が接続されている。前記
の円形ダクト８は、その内部を超高真空に保持できるよ
うに構成されている。
【０００９】円形ダクト８の湾曲部には、偏向電磁石９
が設けられており、偏向ダクト５から超高真空状態に保
持された円形ダクト８に入射する電子ｅは、その進行方
向を偏向電磁石９の磁場により円形ダクト８の湾曲部に
沿って曲げられて該円形ダクト８の内部を周回するよう
になっている。
が設けられており、偏向ダクト５から超高真空状態に保
持された円形ダクト８に入射する電子ｅは、その進行方
向を偏向電磁石９の磁場により円形ダクト８の湾曲部に
沿って曲げられて該円形ダクト８の内部を周回するよう
になっている。
【００１０】一方、円形ダクト８の所要箇所には、高周
波加速装置１０が設けられており、円形ダクト８の内部
を周回する電子ｅは、前記の高周波加速装置１０から高
周波を付与されて、光速に近い速度まで加速されるよう
になっている。
波加速装置１０が設けられており、円形ダクト８の内部
を周回する電子ｅは、前記の高周波加速装置１０から高
周波を付与されて、光速に近い速度まで加速されるよう
になっている。
【００１１】１１，１４は直線的に延びる放射光ビーム
ライン本体であり、該放射光ビームライン本体１１，１
４の基端部は、前記の円形ダクト８の所要の湾曲部に接
続されている。
ライン本体であり、該放射光ビームライン本体１１，１
４の基端部は、前記の円形ダクト８の所要の湾曲部に接
続されている。
【００１２】この放射光ビームライン本体１１，１４に
は、前記の円形ダクト８の湾曲部を光速に近い速度で移
動する電子ｅの進行方向が偏向電磁石９によって曲げら
れる際に放出される放射光ビームＳがそれぞれ入射する
ようになっている。
は、前記の円形ダクト８の湾曲部を光速に近い速度で移
動する電子ｅの進行方向が偏向電磁石９によって曲げら
れる際に放出される放射光ビームＳがそれぞれ入射する
ようになっている。
【００１３】一方の放射光ビームライン本体１１の先端
部には、回折格子分光器１３を介して軟Ｘ線（波長が約
１０Å以上のＸ線領域の電磁波Ｘ1）を利用する実験を
行なうための実験装置１２が接続されており、これらの
放射光ビームライン本体１１と回折格子分光器１３と実
験装置１２とによって軟Ｘ線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
部には、回折格子分光器１３を介して軟Ｘ線（波長が約
１０Å以上のＸ線領域の電磁波Ｘ1）を利用する実験を
行なうための実験装置１２が接続されており、これらの
放射光ビームライン本体１１と回折格子分光器１３と実
験装置１２とによって軟Ｘ線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
【００１４】上記の回折格子分光器１３は、図５に示す
ような軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を放射光ビームＳから取
り出し、この軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を一方の実験装置
１２に入射させるようになっている。
ような軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を放射光ビームＳから取
り出し、この軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を一方の実験装置
１２に入射させるようになっている。
【００１５】また、他方の放射光ビームライン本体１４
の先端部には、二結晶分光器１６を介して硬Ｘ線（波長
が１０Å未満のＸ線領域の電磁波Ｘ2）を利用する実験
を行なうための実験装置１５が接続されており、これら
の放射光ビームライン本体１４と二結晶分光器１６と実
験装置１５とによって硬Ｘ線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
の先端部には、二結晶分光器１６を介して硬Ｘ線（波長
が１０Å未満のＸ線領域の電磁波Ｘ2）を利用する実験
を行なうための実験装置１５が接続されており、これら
の放射光ビームライン本体１４と二結晶分光器１６と実
験装置１５とによって硬Ｘ線を利用するための放射光ビ
ームライン装置を構成している。
【００１６】上記の二結晶分光器１６は、図５に示すよ
うな硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を放射光ビームＳから取り
出し、この硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を他方の実験装置１
５に入射させるようになっている。
うな硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を放射光ビームＳから取り
出し、この硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を他方の実験装置１
５に入射させるようになっている。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】上述した放射光の発生
利用手段においては、軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を利用す
る実験装置１２と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を利用する実
験装置１５とが別個であるため、初期設備費及び保守点
検費が嵩むとともに、２つの放射光ビームライン装置を
設けるために大きなスペースが必要であるという問題が
あった。
利用手段においては、軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を利用す
る実験装置１２と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を利用する実
験装置１５とが別個であるため、初期設備費及び保守点
検費が嵩むとともに、２つの放射光ビームライン装置を
設けるために大きなスペースが必要であるという問題が
あった。
【００１８】本発明は１つの実験装置で軟Ｘ線領域の電
磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用すること
が可能な放射光ビームライン装置を提供することを目的
としてなしたものである。
磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用すること
が可能な放射光ビームライン装置を提供することを目的
としてなしたものである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は、基端部が放射
光ビームＳを発生する装置に接続され且つ先端部が軟Ｘ
線領域及び硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ1，Ｘ2を利用する実験
装置１２に接続された放射光ビームライン本体１１と、
該放射光ビームライン本体１１の内部に基端側から先端
側へ向って順に配設した反射ミラー１９、回折格子２
０、第１の分光結晶２１及び第２の分光結晶２２を備
え、反射ミラー１９の受光面２３が放射光ビームＳの光
軸に対して所定の角度をなし且つ前記の受光面２３に放
射光ビームＳが入射し得るように反射ミラー１９を移動
可能に支持し、回折格子２０の受光面２４に前記の反射
ミラー１９より射出される放射光ビームＳが入射し得ら
れ且つ前記の受光面２４より放射光ビームライン本体１
１の先端側へ向って放射光ビームＳの光軸と略平行に軟
Ｘ線領域の電磁波Ｘ1が射出されるように回折格子２０
を支持し、第１の分光結晶２１の受光面２５に放射光ビ
ームＳが直接入射し得るように第１の分光結晶２１を支
持し、第２の分光結晶２２の受光面２６に第１の分光結
晶２１より射出される硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が入射し
得られ且つ前記の受光面２６より放射光ビームライン本
体１１の先端側へ向って前記の軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1
の光軸と略同軸に硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が射出され得
るように第２の分光結晶２２を移動可能に支持した構成
としている。
光ビームＳを発生する装置に接続され且つ先端部が軟Ｘ
線領域及び硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ1，Ｘ2を利用する実験
装置１２に接続された放射光ビームライン本体１１と、
該放射光ビームライン本体１１の内部に基端側から先端
側へ向って順に配設した反射ミラー１９、回折格子２
０、第１の分光結晶２１及び第２の分光結晶２２を備
え、反射ミラー１９の受光面２３が放射光ビームＳの光
軸に対して所定の角度をなし且つ前記の受光面２３に放
射光ビームＳが入射し得るように反射ミラー１９を移動
可能に支持し、回折格子２０の受光面２４に前記の反射
ミラー１９より射出される放射光ビームＳが入射し得ら
れ且つ前記の受光面２４より放射光ビームライン本体１
１の先端側へ向って放射光ビームＳの光軸と略平行に軟
Ｘ線領域の電磁波Ｘ1が射出されるように回折格子２０
を支持し、第１の分光結晶２１の受光面２５に放射光ビ
ームＳが直接入射し得るように第１の分光結晶２１を支
持し、第２の分光結晶２２の受光面２６に第１の分光結
晶２１より射出される硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が入射し
得られ且つ前記の受光面２６より放射光ビームライン本
体１１の先端側へ向って前記の軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1
の光軸と略同軸に硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が射出され得
るように第２の分光結晶２２を移動可能に支持した構成
としている。
【００２０】
【作用】本発明では、放射光ビームＳの光軸上に反射ミ
ラー１９を位置させ第２の分光結晶２２を軟Ｘ線領域の
電磁波Ｘ1の光軸上から退避させると、放射光ビームラ
イン本体１１へ入射する放射光ビームＳは反射ミラー１
９の受光面２３へ入射し且つ該受光面２３から回折格子
２０へ射出され、放射光ビームＳが入射する回折格子２
０の受光面２４からは放射光ビームライン本体１１の先
端側へ向って放射光ビームＳの光軸と略平行に軟Ｘ線領
域の電磁波Ｘ1が射出される。
ラー１９を位置させ第２の分光結晶２２を軟Ｘ線領域の
電磁波Ｘ1の光軸上から退避させると、放射光ビームラ
イン本体１１へ入射する放射光ビームＳは反射ミラー１
９の受光面２３へ入射し且つ該受光面２３から回折格子
２０へ射出され、放射光ビームＳが入射する回折格子２
０の受光面２４からは放射光ビームライン本体１１の先
端側へ向って放射光ビームＳの光軸と略平行に軟Ｘ線領
域の電磁波Ｘ1が射出される。
【００２１】また、反射ミラー１９を放射光ビームＳの
光軸上から退避させ第２の分光結晶２２を軟Ｘ線領域の
電磁波Ｘ1の光軸上に位置させると、放射光ビームライ
ン本体１１へ入射する放射光ビームＳは第１の分光結晶
２１の受光面２５へ直接入射し且つ該受光面２５から第
２の分光結晶２２へ射出され、放射光ビームＳが入射す
る第２の分光結晶２２の受光面２６からは放射光ビーム
ライン本体１１の先端側へ向って放射光ビームＳの光軸
と略平行に硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が射出される。
光軸上から退避させ第２の分光結晶２２を軟Ｘ線領域の
電磁波Ｘ1の光軸上に位置させると、放射光ビームライ
ン本体１１へ入射する放射光ビームＳは第１の分光結晶
２１の受光面２５へ直接入射し且つ該受光面２５から第
２の分光結晶２２へ射出され、放射光ビームＳが入射す
る第２の分光結晶２２の受光面２６からは放射光ビーム
ライン本体１１の先端側へ向って放射光ビームＳの光軸
と略平行に硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が射出される。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
明する。
【００２３】図１から図３は本発明の放射光ビームライ
ン装置の一実施例であり、１１は放射光ビームライン本
体を示している。
ン装置の一実施例であり、１１は放射光ビームライン本
体を示している。
【００２４】放射光ビームライン本体１１は、その基端
部（図１のＡ側）が放射光ビームＳを発生する装置に接
続され、且つ先端部（図１のＢ側）が軟Ｘ線領域の電磁
波Ｘ1及び硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を利用する実験装置１
２に接続されている。
部（図１のＡ側）が放射光ビームＳを発生する装置に接
続され、且つ先端部（図１のＢ側）が軟Ｘ線領域の電磁
波Ｘ1及び硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を利用する実験装置１
２に接続されている。
【００２５】放射光ビームライン本体１１の内部には、
その基端側（図１のＡ側）から先端側（図１のＢ側）へ
向って順に、反射ミラー１９、回折格子２０、第１の分
光結晶２１、及び第２の分光結晶２２が配置されてい
る。
その基端側（図１のＡ側）から先端側（図１のＢ側）へ
向って順に、反射ミラー１９、回折格子２０、第１の分
光結晶２１、及び第２の分光結晶２２が配置されてい
る。
【００２６】前記の反射ミラー１９は、その受光面２３
へ放射光ビームＳを発生する装置から入射される放射光
ビームＳを受光することができ、受光した放射光ビーム
Ｓが前記の回折格子２０へ向って射出されるように放射
光ビームＳの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビ
ームライン本体１１の内部の所定位置に配置され、且つ
必要に応じて前記の位置から放射光ビームＳの光軸を外
れる位置まで退避し得るように放射光ビームライン本体
１１の外部から駆動調整し得る制御装置２７によって移
動可能に支持されている。
へ放射光ビームＳを発生する装置から入射される放射光
ビームＳを受光することができ、受光した放射光ビーム
Ｓが前記の回折格子２０へ向って射出されるように放射
光ビームＳの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビ
ームライン本体１１の内部の所定位置に配置され、且つ
必要に応じて前記の位置から放射光ビームＳの光軸を外
れる位置まで退避し得るように放射光ビームライン本体
１１の外部から駆動調整し得る制御装置２７によって移
動可能に支持されている。
【００２７】また、回折格子２０は、その受光面２４へ
前記の反射ミラー１９から射出される放射光ビームＳを
受光することができ、且つ前記の受光面２４から放射光
ビームライン本体１１の先端側へ向って放射光ビームＳ
の光軸と略平行に軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を射出できる
ように放射光ビームＳの光軸に対して所要の角度をなし
て放射光ビームライン本体１１の内部の所定位置に固定
支持されている。
前記の反射ミラー１９から射出される放射光ビームＳを
受光することができ、且つ前記の受光面２４から放射光
ビームライン本体１１の先端側へ向って放射光ビームＳ
の光軸と略平行に軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を射出できる
ように放射光ビームＳの光軸に対して所要の角度をなし
て放射光ビームライン本体１１の内部の所定位置に固定
支持されている。
【００２８】さらに、第１の分光結晶２１は、その受光
面２５へ放射光ビームＳを発生する装置から入射される
放射光ビームＳを受光することができ、受光した放射光
ビームＳに含まれる硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が前記第２
の分光結晶２２へ向って射出されるように放射光ビーム
Ｓの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビームライ
ン本体１１の内部の所定位置に配置され固定されてい
る。
面２５へ放射光ビームＳを発生する装置から入射される
放射光ビームＳを受光することができ、受光した放射光
ビームＳに含まれる硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が前記第２
の分光結晶２２へ向って射出されるように放射光ビーム
Ｓの光軸に対して所要の角度をなして放射光ビームライ
ン本体１１の内部の所定位置に配置され固定されてい
る。
【００２９】またさらに、第２の分光結晶２２は、その
受光面２６へ前記第１の分光結晶２１から入射される硬
Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を受光することができ、受光した
電磁波Ｘ2を前記の受光面２６から放射光ビームライン
本体１１の先端側へ向って前記の電磁波Ｘ1の光軸と略
同軸に射出できるように電磁波Ｘ2の光軸に対して所要
の角度をなして放射光ビームライン本体１１の内部の所
定位置に配置され、且つ必要に応じて前記の位置から電
磁波Ｘ2の光軸を外れる位置まで退避し得るように放射
光ビームライン本体１１の外部から駆動調整し得る制御
装置２８によって移動可能に支持されている。
受光面２６へ前記第１の分光結晶２１から入射される硬
Ｘ線領域の電磁波Ｘ2を受光することができ、受光した
電磁波Ｘ2を前記の受光面２６から放射光ビームライン
本体１１の先端側へ向って前記の電磁波Ｘ1の光軸と略
同軸に射出できるように電磁波Ｘ2の光軸に対して所要
の角度をなして放射光ビームライン本体１１の内部の所
定位置に配置され、且つ必要に応じて前記の位置から電
磁波Ｘ2の光軸を外れる位置まで退避し得るように放射
光ビームライン本体１１の外部から駆動調整し得る制御
装置２８によって移動可能に支持されている。
【００３０】制御装置２７を作動することにより反射ミ
ラー１９を移動して放射光ビームＳの光軸上に位置さ
せ、制御装置２８を作動することにより第２の分光結晶
２２を移動して電磁波Ｘ1の光軸上から退避させると、
図２に示すように、放射光ビームＳを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光ビー
ムＳは、反射ミラー１９の受光面２３へ入射し且つ該受
光面２３から回折格子２０へ射出され、放射光ビームＳ
が入射された前記の回折格子２０の受光面２４は、放射
光ビームライン本体１１の先端側へ向って放射光ビーム
Ｓの光軸と略平行に軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を射出す
る。
ラー１９を移動して放射光ビームＳの光軸上に位置さ
せ、制御装置２８を作動することにより第２の分光結晶
２２を移動して電磁波Ｘ1の光軸上から退避させると、
図２に示すように、放射光ビームＳを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光ビー
ムＳは、反射ミラー１９の受光面２３へ入射し且つ該受
光面２３から回折格子２０へ射出され、放射光ビームＳ
が入射された前記の回折格子２０の受光面２４は、放射
光ビームライン本体１１の先端側へ向って放射光ビーム
Ｓの光軸と略平行に軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1を射出す
る。
【００３１】また、制御装置２７を作動することにより
反射ミラー１９を移動して放射光ビームＳの光軸上から
退避させ、制御装置２８を作動することにより第２の分
光結晶２２を移動して電磁波Ｘ1の光軸上に位置させる
と、図３に示すように、放射光ビームＳを発生させる装
置から放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光
ビームＳは、第１の分光結晶２１の受光面２５へ直接入
射し、該受光面２５に入射した放射光ビームＳから取り
出された硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が前記の受光面２５か
ら第２の分光結晶２２へ射出され、硬Ｘ線領域の電磁波
Ｘ2が入射された前記の第２の分光結晶２２の受光面２
６は、放射光ビームライン本体１１の先端側へ向って前
記の電磁波Ｘ1の光軸と略同軸上に硬Ｘ線領域の電磁波
Ｘ2を射出する。
反射ミラー１９を移動して放射光ビームＳの光軸上から
退避させ、制御装置２８を作動することにより第２の分
光結晶２２を移動して電磁波Ｘ1の光軸上に位置させる
と、図３に示すように、放射光ビームＳを発生させる装
置から放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光
ビームＳは、第１の分光結晶２１の受光面２５へ直接入
射し、該受光面２５に入射した放射光ビームＳから取り
出された硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2が前記の受光面２５か
ら第２の分光結晶２２へ射出され、硬Ｘ線領域の電磁波
Ｘ2が入射された前記の第２の分光結晶２２の受光面２
６は、放射光ビームライン本体１１の先端側へ向って前
記の電磁波Ｘ1の光軸と略同軸上に硬Ｘ線領域の電磁波
Ｘ2を射出する。
【００３２】上述した構成を有する本実施例において
は、反射ミラー１９及び第２の分光結晶２２を移動自在
に配置し、必要に応じて放射光ビームＳの光軸に対する
反射ミラー１９の位置を移動し、或いは又、電磁波Ｘ1
の光軸上に対する第２の分光結晶２２の位置の移動を行
なうことによって、放射光ビームＳを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光ビー
ムＳに含まれる軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1、または硬Ｘ線
領域の電磁波Ｘ2を放射光ビームライン本体１１の先端
側へ射出し得るようにので、１つの実験装置で軟Ｘ線領
域の電磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用す
ることが可能となり、初期設備費及び保守点検費の低減
を図ることができ、放射光ビームライン装置を設けるた
めのスペースを削減することができる。
は、反射ミラー１９及び第２の分光結晶２２を移動自在
に配置し、必要に応じて放射光ビームＳの光軸に対する
反射ミラー１９の位置を移動し、或いは又、電磁波Ｘ1
の光軸上に対する第２の分光結晶２２の位置の移動を行
なうことによって、放射光ビームＳを発生させる装置か
ら放射光ビームライン本体１１へ入射される放射光ビー
ムＳに含まれる軟Ｘ線領域の電磁波Ｘ1、または硬Ｘ線
領域の電磁波Ｘ2を放射光ビームライン本体１１の先端
側へ射出し得るようにので、１つの実験装置で軟Ｘ線領
域の電磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用す
ることが可能となり、初期設備費及び保守点検費の低減
を図ることができ、放射光ビームライン装置を設けるた
めのスペースを削減することができる。
【００３３】なお、本発明は前述の実施例にのみ限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内に
おいて種々変更を加え得ることは勿論である。
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内に
おいて種々変更を加え得ることは勿論である。
【００３４】
【発明の効果】本発明の放射光ビームライン装置によれ
ば、下記のごとき種々の優れた効果を奏し得る。
ば、下記のごとき種々の優れた効果を奏し得る。
【００３５】１）１つの実験装置１２で軟Ｘ線領域の電
磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用すること
ができる。
磁波Ｘ1と硬Ｘ線領域の電磁波Ｘ2の双方を利用すること
ができる。
【００３６】２）従って、初期設備費及び保守点検費の
低減を図ることができ、放射光ビームライン装置を設け
るためのスペースを削減することができる。
低減を図ることができ、放射光ビームライン装置を設け
るためのスペースを削減することができる。
【図１】本発明の放射光ビームライン装置の一実施例の
概略を表す断面図である。
概略を表す断面図である。
【図２】図１に関連する軟Ｘ線領域の電磁波を実験装置
へ入射させる場合の反射ミラー及び第２の分光結晶の位
置を示す配置図である。
へ入射させる場合の反射ミラー及び第２の分光結晶の位
置を示す配置図である。
【図３】図１に関連する硬Ｘ線領域の電磁波を実験装置
へ入射させる場合の反射ミラー及び第２の分光結晶の位
置を示す配置図である。
へ入射させる場合の反射ミラー及び第２の分光結晶の位
置を示す配置図である。
【図４】放射光の発生利用手段の一例の概略を表す構成
図である。
図である。
【図５】図４に関連する軟Ｘ線領域の電磁波及び硬Ｘ線
領域の電磁波を表す線図である。
領域の電磁波を表す線図である。
１１ 放射光ビームライン本体 １２ 実験装置 １９ 反射ミラー ２０ 回折格子 ２１，２２ 分光結晶 ２３，２４，２５，２６ 受光面 Ｓ 放射光ビーム Ｘ1，Ｘ2 電磁波
Claims (1)
- 【請求項１】 基端部が放射光ビーム（Ｓ）を発生する
装置に接続され且つ先端部が軟Ｘ線領域及び硬Ｘ線領域
の電磁波（Ｘ1）（Ｘ2）を利用する実験装置（１２）に
接続された放射光ビームライン本体（１１）と、該放射
光ビームライン本体（１１）の内部に基端側から先端側
へ向って順に配設した反射ミラー（１９）、回折格子
（２０）、第１の分光結晶（２１）及び第２の分光結晶
（２２）とを備え、反射ミラー（１９）の受光面（２
３）が放射光ビーム（Ｓ）の光軸に対して所定の角度を
なし且つ前記の受光面（２３）に放射光ビーム（Ｓ）が
入射し得るように反射ミラー（１９）を移動可能に支持
し、回折格子（２０）の受光面（２４）に前記の反射ミ
ラー（１９）より射出される放射光ビーム（Ｓ）が入射
し得られ且つ前記の受光面（２４）より放射光ビームラ
イン本体（１１）の先端側へ向って放射光ビーム（Ｓ）
の光軸と略平行に軟Ｘ線領域の電磁波（Ｘ1）が射出さ
れるように回折格子（２０）を支持し、第１の分光結晶
（２１）の受光面（２５）に放射光ビーム（Ｓ）が直接
入射し得るように第１の分光結晶（２１）を支持し、第
２の分光結晶（２２）の受光面（２６）に第１の分光結
晶（２１）より射出される硬Ｘ線領域の電磁波（Ｘ2）
が入射し得られ且つ前記の受光面より放射光ビームライ
ン本体（１１）の先端側へ向って前記の軟Ｘ線領域の電
磁波（Ｘ1）の光軸と略同軸に硬Ｘ線領域の電磁波（Ｘ
2）が射出され得るように第２の分光結晶（２２）を移
動可能に支持したことを特徴とする放射光ビームライン
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09493994A JP3271426B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 放射光ビームライン装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09493994A JP3271426B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 放射光ビームライン装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07301700A true JPH07301700A (ja) | 1995-11-14 |
| JP3271426B2 JP3271426B2 (ja) | 2002-04-02 |
Family
ID=14123929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09493994A Expired - Fee Related JP3271426B2 (ja) | 1994-05-09 | 1994-05-09 | 放射光ビームライン装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3271426B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3845891A1 (en) * | 2019-12-30 | 2021-07-07 | Xenocs SAS | X-ray scattering apparatus |
-
1994
- 1994-05-09 JP JP09493994A patent/JP3271426B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3845891A1 (en) * | 2019-12-30 | 2021-07-07 | Xenocs SAS | X-ray scattering apparatus |
| WO2021136771A1 (en) * | 2019-12-30 | 2021-07-08 | Xenocs Sas | X-ray scattering apparatus |
| US11796485B2 (en) | 2019-12-30 | 2023-10-24 | Xenocs Sas | X-ray scattering apparatus |
| US11835474B2 (en) | 2019-12-30 | 2023-12-05 | Xenocs Sas | X-ray scattering apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3271426B2 (ja) | 2002-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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